JP6862882B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
このように従来では、ノズルの先端の処理液が乾燥して正常な吐出ができない、あるいは液の吐出が不要なときに吐出する(ボタ落ち)といった、ノズルからの処理液の吐出の不具合が起こる懸念があった。
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備え、
前記処理液ノズルは共通のアーム部に複数設けられ、
前記封止治具は、各処理液ノズル毎に個別に設けられたことを特徴とする。
また本発明の液処理装置は、カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成されたカップモジュールと、
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐための封止部材と、前記着脱機構の一部を含み、前記処理液ノズルの基端の周囲を囲む環状体と、前記封止部材を前記環状体に固定する支持部材と、を備えた封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする。
さらに本発明の液処理装置は、カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成されたカップモジュールと、
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備え、
前記着脱機構は、前記アーム部又は処理液ノズルに設けられた電磁石と、封止治具に設けられた磁性体とを含み、電磁石の磁力の発生消失を切り替えて、封止治具を着脱することを特徴とする。
前記基板に処理液を供給するための、共通のアーム部に複数設けられた処理液ノズルを、前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ各処理液ノズル毎に個別に設けられた封止治具をすべての処理液ノズルに装着した状態で、治具保持部に位置させる工程と、
次いで治具保持部にて封止治具を着脱する着脱機構により、複数の封止治具の内、前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルに装着された封止治具を選択的に取り外す工程と、
続いて前記処理液ノズルを基板の上方に移動し、当該処理液ノズルから基板に処理液を吐出して、液処理を行う工程と、
さらに前記処理液ノズルを治具保持部に移動させて前記着脱機構により
前記封止治具を取り外す工程にて取り外した封止治具を、処理液を吐出した処理液ノズルに装着する工程と、を含むことを特徴とする。
さらに本発明の液処理方法は、カップ体の中に、基板保持部を設けて構成された複数のカップモジュールの前記基板保持部に基板を水平に保持する工程と、
前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルを、前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具を装着した状態で、各カップモジュール毎に個別に設けられた治具保持部の内、液処理を行うカップモジュールに対応した治具保持部に位置させる工程と、
次いで治具保持部にて封止治具を着脱する着脱機構により、当該カップモジュールにて液処理を行うための処理液ノズルに装着された封止治具を取り外す工程と、
続いて前記処理液ノズルを基板の上方に移動し、当該処理液ノズルから基板に処理液を吐出して、液処理を行う工程と、
さらに前記処理液ノズルを治具保持部に移動させて前記着脱機構により前記封止治具を装着する工程と、
前記封止治具を装着する工程に次いで、処理液ノズルを次に液処理を行うカップモジュールに対応した治具保持部に位置させる工程と、を含むことを特徴とする。
また封止治具4の各支柱41には、封止治具4の外側に向かって突出した係止部をなす爪部43が設けられている。この爪部43は後述するようにノズルバス6に封止治具4を保持させたときに、封止治具4がノズルバス6内に落ちることを規制する保持部であり、ノズルバス6の縁部に各封止部材4の爪部43を係止することによりリング部材42の高さ位置を揃うように構成されている。
各洗浄液吐出ノズル62は、洗浄液供給路63を介して洗浄液供給部64に接続され、各孔部61内に洗浄液を供給するように構成されている。
次いで図5に示すようにノズルユニット5を例えば待機位置からノズルバス6の位置に移動する。なおノズルユニット5をノズルバスから外れた位置に待機させていてもよい。続いてノズルユニット5を下降させて、各々封止治具4を装着したレジスト液ノズル3a〜3cをノズルバス6の各孔部61に挿入する。この時図6に示すように各封止治具4に設けられた爪部43が各孔部61の開口縁に係止される。そしてこの状態にて、ウエハWに供給するレジスト液を吐出するレジスト液ノズル、例えばレジスト液ノズル3aに対応するスイッチ部46をオフにして、電磁石44への給電を停止する。これによりレジスト液ノズル3aを封止する封止治具4と電磁石44との間の磁力が消失する。
その後ウエハWへのレジスト液の塗布を行った後、外部の搬送アームによりウエハWを搬出する。そして続いて他のウエハWにレジスト液を供給するにあたっては、ノズルバス6にて、当該ウエハWに供給するレジスト液に応じたレジスト液ノズル3a〜3cに装着した封止治具4を取り外し、同様にレジスト液を供給する。この時例えばレジスト液ノズル3bを使用する場合には、レジスト液ノズル3bに装着した封止治具4を取り外し、他の2本のレジスト液ノズル3a、3cに封止治具4を装着した状態で、既述の例と同様にレジスト液の供給を行う。
また処理液の粘度が例えば10cP〜500cPと高い場合や、溶媒の揮発性及び固形成分の種類など、詰まりレジスト液種次第では、レジスト液が乾燥しやすく固着しやすい。そのため本発明の液処理装置を適用することで、より大きな効果を得ることができる。
さらにレジスト液ノズル3a〜3cの先端の乾燥を防ぐために、レジスト液ノズル3a〜3cの先端にシンナーを吸引させる必要がないため、シンナー消費量を削減することができる。またレジスト液ノズル3a〜3c内のレジスト液がシンナー雰囲気に曝されることによる膜厚低下を防ぐことができる。さらにレジスト液ノズル3a〜3c内の先端の乾燥を防ぐためにダミーディスペンスを高頻度で行う必要もない。また処理液ノズルが一本であってもよい。
さらに着脱機構は、例えば真空吸引の吸引力により封止治具4を処理液ノズルに固定する構成でも良い。このような例では、例えば真空ポンプにより吸引を行い。吸引力の発生と消失とを切り替えることにより、封止治具4を着脱することができる。また既述の実施の形態では、アーム部に電磁石44を設けた構成としているが、電磁石44は処理液ノズルに設けてもよい。
次いで図15に示すようにレジスト液ノズル3を、封止治具4を保持するノズルバス6Aに戻し、封止治具4を装着する。続いて図16に示すように封止治具4を装着したレジスト液ノズル3を、次にレジスト液を供給するカップモジュール2Bに対応するノズルバス6Bに移動する。
またレジスト液ノズル3が、ノズルバス6A〜6Cの間を移動するときにレジスト液ノズル3の先端を封止することができるため、レジスト液ノズル3内のレジスト液の乾燥を防ぐことができる。
3a〜3c レジスト液ノズル
4 封止治具
5 ノズルユニット
6(6A〜6C) ノズルバス
10 制御部
30 吐出口
40 封止部材
42 リング部材
44 電磁石
W ウエハ
Claims (9)
- カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成されたカップモジュールと、
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備え、
前記処理液ノズルは共通のアーム部に複数設けられ、
前記封止治具は、各処理液ノズル毎に個別に設けられたことを特徴とする液処理装置。 - カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成されたカップモジュールと、
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐための封止部材と、前記着脱機構の一部を含み、前記処理液ノズルの基端の周囲を囲む環状体と、前記封止部材を前記環状体に固定する支持部材と、を備えた封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成されたカップモジュールと、
アーム部に設けられ、前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具と、
前記封止治具を処理液ノズルに着脱するための着脱機構と、
前記アーム部を介して、処理液ノズルを移動させる移動機構と、を備え、
前記着脱機構は、前記アーム部又は処理液ノズルに設けられた電磁石と、封止治具に設けられた磁性体とを含み、電磁石の磁力の発生消失を切り替えて、封止治具を着脱することを特徴とする液処理装置。 - 前記カップ体の外部に設けられ、処理液ノズルから取り外した封止治具を保持する治具保持部を備え、
前記移動機構は、前記処理液ノズルを基板に処理液を供給する供給位置と、治具保持部との間で移動させることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記カップモジュールが複数設けられ、
前記治具保持部は、各カップモジュール毎に個別に設けられたことを特徴とする請求項4に記載の液処理装置。 - 前記治具保持部は、処理液のダミーディスペンスを行うノズルバスに設けられたことを特徴とする請求項4または5に記載の液処理装置。
- カップ体の中に、基板保持部を設けて構成されたカップモジュールの前記基板保持部に基板を水平に保持する工程と、
前記基板に処理液を供給するための、共通のアーム部に複数設けられた処理液ノズルを、前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ各処理液ノズル毎に個別に設けられた封止治具をすべての処理液ノズルに装着した状態で、治具保持部に位置させる工程と、
次いで治具保持部にて封止治具を着脱する着脱機構により、複数の封止治具の内、前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルに装着された封止治具を選択的に取り外す工程と、
続いて前記処理液ノズルを基板の上方に移動し、当該処理液ノズルから基板に処理液を吐出して、液処理を行う工程と、
さらに前記処理液ノズルを治具保持部に移動させて前記着脱機構により
前記封止治具を取り外す工程にて取り外した封止治具を、処理液を吐出した処理液ノズルに装着する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - カップ体の中に、基板保持部を設けて構成された複数のカップモジュールの前記基板保持部に基板を水平に保持する工程と、
前記基板に処理液を供給するための処理液ノズルを、前記処理液ノズルの吐出口を塞ぐ封止治具を装着した状態で、各カップモジュール毎に個別に設けられた治具保持部の内、液処理を行うカップモジュールに対応した治具保持部に位置させる工程と、
次いで治具保持部にて封止治具を着脱する着脱機構により、当該カップモジュールにて液処理を行うための処理液ノズルに装着された封止治具を取り外す工程と、
続いて前記処理液ノズルを基板の上方に移動し、当該処理液ノズルから基板に処理液を吐出して、液処理を行う工程と、
さらに前記処理液ノズルを治具保持部に移動させて前記着脱機構により前記封止治具を装着する工程と、
前記封止治具を装着する工程に次いで、処理液ノズルを次に液処理を行うカップモジュールに対応した治具保持部に位置させる工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 前記複数のカップモジュール及び前記複数の治具保持部は一列に並べて配置され、
前記処理液ノズルは、一の治具保持部の位置から他の治具保持部の位置に移動するときに前記基板保持部に保持された基板の上方を横切るように移動することを特徴とする請求項8に記載の液処理方法。
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