JP6818901B2 - 印刷版原版、印刷版の製造方法、印刷方法 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 278
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 123
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 45
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 216
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 191
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 182
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 108
- -1 phosphoric acid compound Chemical class 0.000 claims description 93
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 90
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 81
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 37
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 21
- 238000007665 sagging Methods 0.000 claims description 20
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 17
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 16
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 12
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 10
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 6
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 claims description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 239
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 103
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 102
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 97
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 96
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 75
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 68
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 61
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 45
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 42
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 36
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 33
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 33
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 description 29
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 26
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 25
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 23
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 22
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 21
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 21
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 238000011161 development Methods 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 17
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 16
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 15
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 15
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 14
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 14
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical group C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 13
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 10
- 125000002270 phosphoric acid ester group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 9
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 238000010571 fourier transform-infrared absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 5
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 5
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 4
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 4
- 150000004804 polysaccharides Chemical class 0.000 description 4
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 3
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 3
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(O)COCCO OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]-1-methoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(O)COCCOCCO COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 2
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 2
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 2
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 2
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 2
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007601 warm air drying Methods 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIZFXWMQYNTTDO-UHFFFAOYSA-N (prop-2-enoylamino)methylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CNC(=O)C=C UIZFXWMQYNTTDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRSKHRZDYSMQQX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl(methoxy)phosphinic acid Chemical compound COP(O)(=O)CCO QRSKHRZDYSMQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPIQJMUYUKAKNX-VOTSOKGWSA-N 3-[(2e)-octa-2,7-dienyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound C=CCCC\C=C\CC1CC(=O)OC1=O XPIQJMUYUKAKNX-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNYWRRLHDUIGOL-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCOC(=O)C=C WNYWRRLHDUIGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002907 Guar gum Polymers 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000161 Locust bean gum Polymers 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002070 Pluronic® P 84 Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000001785 acacia senegal l. willd gum Substances 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006598 aminocarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004657 aryl sulfonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 150000001602 bicycloalkyls Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N butylphosphonic acid Chemical compound CCCCP(O)(O)=O UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 230000005591 charge neutralization Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N dodecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- RSZWWUXNEOINMQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxy(ethyl)phosphinic acid Chemical compound CCP(O)(=O)OC=C RSZWWUXNEOINMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMNZHEHSKZSQLM-UHFFFAOYSA-N ethyl(methoxy)phosphinic acid Chemical compound CCP(O)(=O)OC SMNZHEHSKZSQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 235000010417 guar gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000665 guar gum Substances 0.000 description 1
- 229960002154 guar gum Drugs 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N hexylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCP(O)(O)=O GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010420 locust bean gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000711 locust bean gum Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N octadecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N octylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCP(O)(O)=O NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical group O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005328 phosphinyl group Chemical group [PH2](=O)* 0.000 description 1
- 125000001918 phosphonic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylphosphonic acid Chemical compound CC(C)P(O)(O)=O ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound CCCP(O)(O)=O NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- VWDWKYIASSYTQR-YTBWXGASSA-N sodium;dioxido(oxo)azanium Chemical compound [Na+].[O-][15N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-YTBWXGASSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 1
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
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Description
例えば、特許文献1においては、親水化剤を含む塗布液を用いて平版印刷版原版を製造する方法が開示されている。
一方で、近年、エッジ汚れの防止性のより一層の向上が求められており、特許文献1に記載の態様では必ずしもその要望を満たすものではなかった。
また、印刷版には、放置払い性が優れることも要求される。なお、放置払い性が優れるとは、印刷を一時停止して放置した後、印刷を再開したときに、印刷紙に汚れが生じにくいことを表す。
また、本発明は、印刷版の製造方法、および、印刷方法を提供することも目的とする。
アルミニウム支持体上に配置された、画像記録層および非感光性層からなる群から選択される機能層と、を含む印刷版原版であって、
アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
陽極酸化皮膜がアルミニウム板よりも機能層側に位置し、
陽極酸化皮膜は、機能層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が13〜100nmであり、
印刷版原版の対向する2つの端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に親水化剤を含み、
領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量が、領域以外の領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量より、10mg/m2以上多い、印刷版原版。
(2) 領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量が、領域以外の領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量より、10〜2000mg/m2多い、(1)に記載の印刷版原版。
(3) 印刷版原版の端部が、ダレ量が25〜150μmであり、ダレ幅が70〜300μmであるダレ形状を有する、(1)または(2)に記載の印刷版原版。
(4) マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が13〜30nmであり、
マイクロポアの内部の最大径が40〜300nmである、(1)〜(3)のいずれかに記載の印刷版原版。
(5) マイクロポアが、陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nmの位置までのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が15〜100nmであり、
小径孔部の連通位置における平均径が13nm以下である、(1)〜(3)のいずれかに記載の印刷版原版。
(6) 親水化剤が、水溶性化合物である、(1)〜(5)のいずれかに記載の印刷版原版。
(7) 親水化剤が、リン酸化合物およびホスホン酸化合物からなる群から選択される少なくとも1つを含む、(1)〜(6)のいずれかに記載の印刷版原版。
(8) リン酸化合物およびホスホン酸化合物が、高分子化合物である、(7)に記載の印刷版原版。
(9) 親水化剤が、水溶性樹脂を含む、(1)〜(8)のいずれかに記載の印刷版原版。
(10) 親水化剤が、アニオン性界面活性剤または非イオン性界面活性剤を含む、(1)〜(9)のいずれかに記載の印刷版原版。
(11) 機能層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、および、高分子化合物を含む画像記録層である、(1)〜(10)のいずれかに記載の印刷版原版。
(12) 画像記録層に含まれる高分子化合物が、疎水性主鎖を有し、
疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および、親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する繰り返し単位の両方を含む、(11)に記載の印刷版原版。
(13) 機能層が、赤外線吸収剤、および、熱可塑性ポリマー粒子を含む画像記録層である、(1)〜(10)のいずれかに記載の印刷版原版。
(14) (11)〜(13)のいずれかに記載の印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、印刷版の製造方法。
(15) (11)〜(13)のいずれかに記載の印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
また、本発明によれば、印刷版の製造方法、および、印刷方法を提供できる。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換または無置換を記していない場合、その基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、その基は、無置換の基のみならず、置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。
同図に示す印刷版原版10aは、アルミニウム支持体12aと、下塗り層14と、機能層16とを含む。
図2は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも機能層16側に位置する。つまり、印刷版原版10aは、アルミニウム板18、陽極酸化皮膜20a、下塗り層14、および、機能層16をこの順で含む。
陽極酸化皮膜20aは、その表面からアルミニウム板18側に向かってのびるマイクロポア22aを有する。なお、ここではマイクロポアという用語は、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
なお、後段で詳述するように、下塗り層14は必須の構成ではなく、必要に応じて配置される層である。
親水化剤の含有量の差(含有量A−含有量B)は、エッジ汚れ防止性、および、放置払い性の少なくとも1つがより優れる点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、50mg/m2以上が好ましく、200mg/m2以上がより好ましく、700mg/m2以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、5000mg/m2以下が好ましく、3000mg/m2以下がより好ましく、セッターおよびベンダー内の汚れがより抑制される点で、2000mg/m2以下がさらに好ましい。
つまり、印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に含まれる親水化剤量とは、印刷版原版の端部から内側に5mmまで領域におけるアルミニウム支持体の上部にある親水化剤量を意図する。図1において、印刷版原版10aの端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に含まれる親水化剤量とは、印刷版原版10aの端部から内側に5mmまでの領域A中のアルミニウム支持体12aの上部にある親水化剤量を意図する。例えば、領域A内のアルミニウム支持体12aと下塗り層14との間に親水化剤が配置される場合は、その親水化剤は領域A内にある親水化剤に該当する。また、他の例としては、領域A内の下塗り層14と機能層16との間に親水化剤が配置される場合も、その親水化剤は領域A内にある親水化剤に該当する。
(1)アルミニウム支持体、親水化剤を含む層、機能層
(2)アルミニウム支持体、親水化剤を含む層、下塗り層、機能層
(3)アルミニウム支持体、親水化剤を含む層、機能層、保護層
(4)アルミニウム支持体、親水化剤を含む層、下塗り層、機能層、保護層
(5)アルミニウム支持体、機能層、親水化剤を含む層
(6)アルミニウム支持体、下塗り層、機能層、親水化剤を含む層
(7)アルミニウム支持体、下塗り層、機能層、親水化剤を含む層、保護層
(8)アルミニウム支持体、下塗り層、機能層、保護層、親水化剤を含む層
端部領域およびその他の領域における単位面積当たりの親水化剤の含有量は、公知方法により算出でき、例えば、走査型X線光電分光分析装置、フーリエ変換赤外吸収スペクトル(FT−IR)測定装置、および、コロナ荷電化粒子検出器(Corona CAD、Thermo Fisher Scientific社製)など公知の装置を用いることができる。
例えば、親水化剤がリン原子を含む場合には、印刷版原版の端部領域を幅2mm、0.1°の角度で斜め切削してサンプルAを得る。一方、印刷版原版のその他の領域においても、同様に斜め切削してサンプルBを得る。
サンプルAおよびサンプルBの斜め切削面を、0.5mm×0.5mm角の視野で、走査型X線光電分光分析装置(PHI Quantera2000、ULVAC−PHI(株)製)を用いてP−Ox結合を定量し、単位面積(m2)当たりに換算することにより、単位面積当たりの親水化剤の含有量を求めることができる。
また、例えば、親水化剤が硫黄原子を含む場合には、上記と同様にしてS−Ox結合を定量し、単位面積当たりの親水化剤の含有量を定めることができる。
また、例えば、親水化剤が界面活性剤(例えば、アニオン性界面活性剤または非イオン性界面活性剤)である場合には、印刷版原版の端部領域およびその他の領域に該当する試料を準備し、各試料についてアルミニウム支持体上の全塗布膜を水、有機溶剤またはこれらの混合物などの溶媒を用いて脱膜する。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)(Prominence、(株)島津製作所製)により脱膜溶液中の界面活性剤を分離し、コロナ荷電化粒子検出器(Corona CAD、Thermo Fisher Scientific社製)で定量し、単位面積(m2)当たりに換算することにより単位面積当たりの界面活性剤の含有量を決定できる。
単位面積当たりの水溶性樹脂の含有量の差(mg/m2)=(A)×(Xa)
アルミニウム板18(アルミニウム支持体)は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。アルミニウム板18としては、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウム(合金)がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムもしくは紙が挙げられる。
アルミニウム板18としては、その組成が制限されるものではなく、公知公用の素材のもの(例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、および、JIS A 3005)を適宜利用できる。
陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に一般的に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、機能層16側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
平均径が13nm未満の場合、エッジ汚れ防止性が劣る。また、平均径が100nm超の場合、放置払い性が劣る。
マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE−SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nm2の範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を測定し、平均した値である。
なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
このようなマイクロポアの形状は、後述する陽極酸化処理の際にリン酸を用いることにより形成される。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
上記明度L*の測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
上記急峻度a45とは、表面形状を表すファクターの一つであり、以下の(1)〜(3)の手順に従って求めた値である。
まず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)により、アルミニウム支持体12aの陽極酸化皮膜20a側の表面形状を測定し、3次元データを求める。
測定は、例えば、以下の条件で行う。具体的には、アルミニウム支持体12aを1cm角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、XY方向について150μm、Z方向について10μm、走査可能なものを使用する。カンチレバーは共振周波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/mのもの(SI−DF20、NANOPROBE社製)を用い、DFMモード(Dynamic Force Mode)で測定する。また、求めた3次元データを最小二乗近似することにより試料のわずかな傾きを補正し基準面を求める。
計測の際は、表面の25×25μmを512×512点測定する。XY方向の分解能は1.9μm、Z方向の分解能は1nm、スキャン速度は60μm/secとする。
急峻度a45の算出には、上記(1)で求められた3次元データから波長0.2〜2μmの成分を選択する補正をしたものを用いる。この補正により、印刷版原版に用いるアルミニウム支持体のような深い凹凸を有する表面をAFMの探針で走査した場合に、探針が凸部のエッジ部分に当たって跳ねたり、深い凹部の壁面に探針の尖端以外の部分が接触したりして生じるノイズを除去できる。
補正は、上記(1)で求められた3次元データを高速フーリエ変換して周波数分布を求め、次いで、波長0.2〜2μmの成分を選択した後、フーリエ逆変換をすることにより行う。
上記(2)で補正して得られた3次元データ(f(x,y))を用い、隣り合う3点を抽出し、その3点で形成される微小三角形と基準面とのなす角を全データについて算出し、傾斜度分布曲線を求める。一方で、微小三角形の面積の総和を求めて実面積とする。傾斜度分布曲線より、実面積に対する傾斜度45度以上の部分の面積の割合である急峻度a45(単位%)を算出する。
ΔS=(Sx−S0)/S0×100(%)・・・(i)
次に、上記で求められた3次元データ(f(x,y))を用い、隣り合う3点を抽出し、その3点で形成される微小三角形の面積の総和を求め、実面積Sxとする。比表面積ΔSは、得られた実面積Sxと幾何学的測定面積S0とから、上記式(i)により求められる。
下塗り層14は、アルミニウム支持体12aと機能層16との間に配置される層であり、両者の密着性を向上させる。なお、上述したように、下塗り層14は、必要に応じて設けられる層であり、印刷版原版に含まれていなくてもよい。
まず、ベタイン構造とは、少なくとも1つのカチオンと少なくとも1つのアニオンとを有する構造をいう。なお、通常、カチオンの数とアニオンの数とは等しく、全体として中性であるが、本発明では、カチオンの数とアニオンの数とが等しくない場合は、電荷を打ち消すために、必要な量のカウンターイオンを有することも、ベタイン構造とする。
ベタイン構造は、次に示す式(1)で表される構造、式(2)で表される構造、および、式(3)で表される構造のいずれかであることが好ましい。
A−は、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、および、ホスフィナート等のアニオンを有する構造を表すことが好ましく、B+は、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、および、スルホニウム等のカチオンを有する構造を表すことが好ましい。
上記連結基は、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下の連結基であることが好ましい。
上記連結基の具体例としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10)、並びに、フェニレン基およびキシリレン基等のアリーレン基(好ましくは炭素数5〜15、より好ましくは炭素数6〜10)が挙げられる。
置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、および、ジアリールアミノ基が挙げられる。
環構造は、酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。環構造としては、5〜10員環が好ましく、5または6員環がより好ましい。
R1およびR2中の炭素数は、1〜30が好ましく、1〜20がより好ましい。
R1およびR2として、本発明の効果がより優れる点で、水素原子、メチル基、または、エチル基が好ましい。
L1としては、炭素数3〜5の直鎖アルキレン基が好ましい。
具体的には、以下の構造が挙げられる。
B+は、カチオンを有する構造を表し、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、または、スルホニウムを有する構造が好ましい。中でも、アンモニウムまたはホスホニウムを有する構造が好ましく、アンモニウムを有する構造がより好ましい。
カチオンを有する構造としては、例えば、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N−メチルイミダゾリオ基、N−アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、および、トリフェニルホスホニオ基が挙げられる。
A−は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましく、その詳細および好ましい例は、式(i)におけるA−と同様である。
R3〜R7は、それぞれ独立に、水素原子または置換基(好ましくは炭素数1〜30)を表し、R3〜R7の少なくとも1つは、連結部位を表す。
連結部位であるR3〜R7の少なくとも1つは、R3〜R7の少なくとも1つとしての置換基を介して化合物中の他の部位へ連結してもよいし、単結合により化合物中の他の部位へ直結してもよい。
二価の連結基としては、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
L1:−CO−O−二価の脂肪族基−
L2:−CO−O−二価の芳香族基−
L3:−CO−NH−二価の脂肪族基−
L4:−CO−NH−二価の芳香族基−
L5:−CO−二価の脂肪族基−
L6:−CO−二価の芳香族基−
L7:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の脂肪族基−
L8:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の脂肪族基−
L9:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の脂肪族基−
L10:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の脂肪族基−
L11:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の芳香族基−
L12:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の芳香族基−
L13:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の芳香族基−
L14:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の芳香族基−
L15:−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−
L16:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−
二価の芳香族基としては、アリール基が挙げられ、フェニレン基またはナフチレン基が好ましい。
特に、式(A1)においては、LはL1またはL3であり、Xは式(i)で表される構造であり、式(i)中のA−がスルホナート基である組み合わせが好ましい。
特定高分子は、アルミニウム支持体12aの表面と相互作用する構造(以後、単に「相互作用構造」とも称する)を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
相互作用構造としては、例えば、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、リン酸エステル塩構造、β−ジケトン構造、および、フェノール性水酸基が挙げられ、例えば、下記に示す式で表される構造が挙げられる。中でも、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、または、リン酸エステル塩構造が好ましい。
Lは、単結合、または、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
組み合わせからなるLの具体例としては、上記式(A1)と同じもの、および、下記L17およびL18が挙げられる。
L17:−CO−NH−
L18:−CO−O−
L1〜L18の中では、L1〜L4、L17、または、L18が好ましい。
Qは相互作用構造を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。
ラジカル重合性基としては、付加重合可能な不飽和結合基(例えば、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリルアミド基、(メタ)アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、および、アルキニル基)、および、連鎖移動が可能な官能基(メルカプト基等)が挙げられる。
ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子は、特開2001−312068号公報に記載の方法でラジカル重合性基を導入することで得ることができる。ラジカル重合性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子を用いることにより、未露光部では優れた現像性を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑制され、アルミニウム支持体12aと機能層16との間の接着性および密着性がさらに向上する。
例えば、下塗り層は、親水性基を有する化合物を含む形態であってもよい。親水性基としては、カルボン酸基およびスルホン酸基等が挙げられる。
親水性基を有する化合物は、さらに、ラジカル重合性基を有していてもよい。
機能層16としては、画像記録層および非感光性層が挙げられる。以下、それぞれの層について説明する。
画像記録層としては、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層であることが好ましい。画像記録層は、感光性層であることが好ましい。
以下、画像記録層の各構成成分について説明する。
画像記録層は、赤外線吸収剤を含むことが好ましい。
赤外線吸収剤は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有することが好ましい。特に、機上現像型の印刷版原版では、白灯下の印刷機で機上現像される場合があるため、白灯の影響の受けにくい750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤を用いることにより、現像性に優れた印刷版原版を得ることができる。
赤外線吸収剤としては、染料または顔料が好ましい。
染料としては、例えば、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、および、インドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素またはインドレニンシアニン色素が好ましく、シアニン色素がより好ましく、下記式(a)で表されるシアニン色素がさらに好ましい。
X2は酸素原子または硫黄原子を表し、L1はヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を含んでいてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。
Xa −は後述するZa −と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、また、ハロゲン原子を表す。
Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、置換基(例えば、アルキル基)を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基またはナフタレン環基が好ましい。
Y1およびY2は、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素数12個以下のジアルキルメチレン基を表す。
R3およびR4は、それぞれ独立に、置換基(例えば、アルコキシ基)を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を表す。
R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数12個以下の炭化水素基を表す。
また、Za−は、対アニオンを表す。ただし、式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa−は必要ない。Za−としては、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、および、スルホン酸イオンが挙げられ、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、または、アリールスルホン酸イオンが好ましい。
画像記録層は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光、熱またはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始する化合物(いわゆる、ラジカル重合開始剤)が好ましい。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤としては、具体的には、特開2009−255434号公報の段落[0115]〜[0141]に記載される重合開始剤が使用できる。
なお、重合開始剤として、反応性および安定性の点から、オキシムエステル化合物、または、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、および、スルホニウム塩等のオニウム塩が好ましい
画像記録層は、重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物が好ましい。中でも、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個(好ましくは2個)以上有する化合物がより好ましい。いわゆる、ラジカル重合性化合物がより好ましい。
重合性化合物としては、例えば、特開2009−255434号公報の段落[0142]〜[0163]に例示される重合性化合物が挙げられる。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
画像記録層は、高分子化合物を含むことが好ましい。
高分子化合物としては、具体的には、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、および、天然ゴムが挙げられる。
高分子化合物は、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。高分子化合物に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
高分子化合物としては、例えば、特開2009−255434号公報の段落[0164]〜[0172]に開示される高分子化合物(バインダーポリマー)を使用できる。
ペンダントシアノ基を有する繰り返し単位としては、―[CH2CH(C≡N)]−および[CH2C(CH3)(C≡N)]−が挙げられる。
ペンダントシアノ基を有する繰り返し単位は、エチレン系不飽和モノマー(例えば、アクリロニトリルおよびメタクリロニトリル)、または、これらの組み合わせから誘導できる。
ポリ(アルキレンオキシド)セグメントは、例えば、アルキレンオキシド単位からなるブロックを含むオリゴマーまたはポリマーである。アルキレンオキシド単位としては、炭素数1〜6のアルキレンオキシド基が挙げられ、炭素数1〜3のアルキレンオキシド基が好ましい。
ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含むペンダント基の好適態様としては、以下の式で表される基が挙げられる。
−C(=O)O−[(CH2)xO−]yR
上記式中、xは1〜3であり、yは5〜150であり、Rはアルキル基である。
画像記録層は、熱可塑性ポリマー粒子を含んでいてもよい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーとしては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート、および、ポリアルキレン構造を有するメタクリレート等のモノマーのホモポリマー若しくはコポリマーまたはそれらの混合物が挙げられる。中でも、ポリスチレン、スチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体、または、ポリメタクリル酸メチルが好ましい。
熱可塑性ポリマー粒子の平均径は、0.01〜3.0μmが好ましい。
画像記録層は、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、および、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤としては、例えば、特開2009−255434号公報の段落[0175]〜[0179]に開示される界面活性剤を使用できる。
他の化合物としては、特開2009−255434号公報の段落[0181]〜[0190]に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、および、低分子親水性化合物等が挙げられる。
また、他の化合物としては、特開2012−187907号公報の段落[0191]〜[0217]に開示される、疎水化前駆体(熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子)、低分子親水性化合物、感脂化剤(例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー)、および、連鎖移動剤も挙げられる。
非感光性層は、印刷機上で酸性〜アルカリ性の湿し水および印刷インキの少なくとも一方により除去され得る層である。
非感光性層は、高分子化合物を含んでいてもよい。高分子化合物としては、上記画像記録層に含まれていてもよい高分子化合物が例示される。
高分子化合物の他の好適態様としては、ポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物が挙げられる。ポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物を非感光性層が含むことにより、湿し水の浸透性が促進され、機上現像性が向上する。
ポリオキシアルキレン鎖におけるアルキレンオキサイドとしては、炭素数2〜6のアルキレンオキサイドが好ましく、エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドがより好ましい。
R22としては、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基、またはアリール基が好ましい。中でも、エステル基、アミド基、または、置換基を有してよいフェニル基が好ましい。フェニル基の置換基としては、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、および、アセトキシメチル基が挙げられる。
非感光性層は、低分子親水性化合物、可塑剤、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、共増感剤、および、連鎖移動剤等を含んでいてもよい。
非感光性層の態様としては、特開2017−065184号公報の段落[0078]〜[0116]に記載の態様が挙げられる。
本発明の印刷版原版は、上述したアルミニウム支持体12a、下塗り層14、および、機能層16以外の他の層を含んでいてもよい。
例えば、機能層16における傷等の発生防止、酸素遮断、および、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、機能層16の上に保護層を含んでいてもよい。
保護層に用いられる材料としては、例えば、特開2009-255434号公報の段落[0213]〜[0227]等に記載される材料(水溶性高分子化合物、無機質の層状化合物等)が挙げられる。
図3は、印刷版原版の断面形状の一例を示す拡大図である
図3において、印刷版原版10bはその端部にダレ形状30を有している。印刷版原版10bの端面32の上端(ダレ形状30と端面32との境界点)と、機能層面(保護層が形成されている場合には保護層面)34の延長線との距離Xを「ダレ量」といい、印刷版原版10の機能層面34がダレ始める点と端面32の延長線上との距離Yを「ダレ幅」という。
印刷版原版における端部のダレ量は20μm以上が好ましく、40μm以上がより好ましい。ダレ量の上限は、端部表面状態の悪化による機上現像性の劣化を防止する点から、150μmが好ましい。
ダレ幅は、クラックの発生が抑制される点で、70〜300μmが好ましく、80〜250μmがより好ましい。
下塗り層を設けない場合、アルミニウム支持体上に親水化処理を施した後、機能層を形成してもよい。
親水化処理としては、特開2005−254638号公報の段落[0109]〜[0114]に開示される公知の方法が挙げられる。中でも、ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法、または、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法により、親水化処理を行うのが好ましい。
ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
本発明の印刷版原版は、端部領域がその他の領域に比べて高い含有量にて親水化剤を含む構成を有し、かつ、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が13〜100nmであることが特徴である。このような構成を有する印刷版原版が得られる限り、印刷版原版の製造方法は特に限定されるものではない。
以下に、本発明の印刷版原版の製造方法を例示する。
アルミニウム支持体の製造方法としては、例えば、図1に記載のアルミニウム支持体の製造方法としては、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
(粗面化処理工程)アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
(陽極酸化処理工程)粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
(ポアワイド処理工程)陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸または塩酸を主体とする水溶液中で、直流または交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭50−40047号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングおよびアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、および、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、20〜80℃が好ましい。
(2)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
(10)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(11)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(12)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(13)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(14)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
A態様における第2電気化学的粗面化処理およびB態様における第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1〜100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0〜30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、および、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、および、塩化アンモニウム等の塩酸イオンをさらに添加してもよい。
図4は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図4において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1〜10msecが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1〜20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3〜20、アノード反応時間taが5〜1000msec、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10〜200A/dm2が好ましい。Ic/Iaは、0.3〜20が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、25〜1000C/dm2が好ましい。
図5は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図5において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53aおよび53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53aおよび53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53aおよび53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
酸性水溶液の酸の濃度は、0.5〜60質量%が好ましい。
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、および、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100〜300g/Lが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5〜70℃(好ましくは10〜60℃)、電流密度0.5〜60A/dm2(好ましくは5〜60A/dm2)、電圧1〜100V(好ましくは5〜50V)、電解時間1〜100秒(好ましくは5〜60秒)、および、皮膜量0.1〜5g/m2(好ましくは0.2〜3g/m2)が挙げられる。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法およびスプレー法が挙げられる。
印刷版原版の裁断は、親水化剤を含む塗布液を印刷版原版の端部領域に適用する前に行ってもよく、後に行ってもよい。
すなわち、印刷版原版の構成層を形成する工程において、親水化剤を含む塗布液を印刷版原版の端部領域に対応する位置に適用した後で、印刷版原版の端部領域が形成されるように裁断してもよいし、印刷版原版の構成層を形成する工程を経て製造された印刷版原版を裁断した後で、親水化剤を含む塗布液を印刷版原版の端部領域に適用してもよい。ここで、端部領域に対応する位置とは、裁断後の印刷版原版において、端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域を形成し得る位置を意味する。従って、端部領域に対応する位置は、印刷版原版の製造過程においては、印刷版原版の端付近の位置であっても、印刷版原版の中央付近の位置であってもよい。後者の場合、親水化剤塗布領域に従って端部領域が形成されるように裁断することにより、端部領域を有する印刷版原版が得られる。
機能層を形成する工程a、
親水化剤を含む塗布液を、上記工程aで形成される上記機能層の一部の領域と重なるように塗布する工程b、および、
塗布液を塗布した領域が、裁断後の印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の範囲にあるように裁断する工程cを、
アルミニウム支持体上に、上記工程aおよび上記工程bの順で行うか、または、上記工程bおよび上記工程aの順で行い、その後上記工程cを行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
また、工程aの後、工程cの前に、保護層を形成する工程eを行ってもよい。
機能層を形成する工程a、
親水化剤を含む塗布液を、上記工程aで形成される上記機能層の一部の領域と重なるように塗布する工程b、
塗布液を塗布した領域が、裁断後の印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の範囲にあるように裁断する工程c、および、
下塗り層を形成する工程dを、
アルミニウム支持体上に、上記工程b、上記工程dおよび上記工程aの順で行うか、上記工程d、上記工程bおよび上記工程aの順で行うか、または、上記工程d、上記工程aおよび上記工程bの順で行い、その後上記工程cを行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
機能層を形成する工程a、
親水化剤を含む塗布液を、上記工程aで形成される上記機能層の一部の領域と重なるように塗布する工程b、
塗布液を塗布した領域が、裁断後の印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の範囲にあるように裁断する工程c、
下塗り層を形成する工程d、および、
保護層を形成する工程eを、
アルミニウム支持体上に、上記工程b、上記工程d、上記工程aおよび上記工程eの順で行うか、上記工程d、上記工程b、上記工程aおよび上記工程eの順で行うか、上記工程d、上記工程a、上記工程bおよび上記工程eの順で行うか、または、上記工程d、上記工程a、上記工程eおよび上記工程bの順で行い、その後上記工程cを行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
機能層を形成する工程a、および、
親水化剤を含む塗布液を、印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に塗布する工程fを、
アルミニウム支持体上に、上記工程aおよび上記工程fの順で行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
また、工程aの後、工程fの前に、保護層を形成する工程eを上記機能層上に行ってもよい。
機能層を形成する工程a、
親水化剤を含む塗布液を、印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に塗布する工程f、および、
下塗り層を形成する工程dを、
アルミニウム支持体上に、上記工程d、上記工程a、および、上記工程fの順で行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
機能層を形成する工程a、
親水化剤を含む塗布液を、印刷版原版の端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に塗布する工程f、
下塗り層を形成する工程d、および、
保護層を形成する工程eを、
アルミニウム支持体上に、上記工程d、上記工程a、上記工程eおよび上記工程fの順で行う印刷版原版の製造方法が挙げられる。
また、機能層が画像記録層である場合、上記親水化剤を含む塗布液を塗布する工程は、露光処理後または現像後に実施してもよい。中でも、現像後に上記工程を実施すると、エッジ汚れ防止性がより優れる。
親水化剤の種類は特に制限されないが、水性性の化合物が好ましい。親水化剤としては、20℃の水100gに0.5g以上溶解する化合物が好ましく、2g以上溶解する化合物がよりに好ましい。
リン酸化合物は、リン酸、その塩、および、そのエステル等を含む。例えば、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、および、ヘキサメタリン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、または、ヘキサメタリン酸ナトリウムが好ましい。
リン酸エステル基を有する高分子化合物としては、分子内にリン酸エステル基を有する単量体の1種以上からなる重合体、または、リン酸エステル基を含む1種以上の単量体およびリン酸エステル基を含まない1種以上の単量体との共重合体、並びに、リン酸エステル基を有さない高分子にポリマー反応によりリン酸エステル基を導入した高分子等が挙げられる。
例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ(オキシエチレン)メタクリレート、N−イソプロピルアクリルアミド、および、アクリルアミドが挙げられる。
リン酸エステル基を有する高分子化合物の質量平均分子量は、5,000〜1,000,000が好ましく、7,000〜700,000がより好ましく、10,000〜500,000がさらに好ましい。
ホスホン酸化合物は、ホスホン酸、その塩、および、そのエステルを含む。例えば、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2−ヒドロキシエチルホスホン酸およびこれらのナトリウム塩またはカリウム塩、メチルホスホン酸メチル、エチルホスホン酸メチル、および、2−ヒドロキシエチルホスホン酸メチル等のアルキルホスホン酸モノアルキルエステルおよびこれらのナトリウム塩またはカリウム塩、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸等のアルキレンジホスホン酸およびこれらのナトリウム塩またはカリウム塩、並びに、ポリビニルホスホン酸が挙げられる。
ホスホン酸化合物として好ましい高分子化合物としては、ポリビニルホスホン酸、分子内にホスホン酸基またはホスホン酸モノエステル基を有する1種以上の単量体からなる重合体、並びに、ホスホン酸基またはホスホン酸モノエステル基を有する1種以上の単量体およびホスホン酸基およびホスホン酸モノエステル基をいずれも含まない1種以上の単量体との共重合体が挙げられる。
ホスホン酸基またはその塩を含む単量体としては、ビニルホスホン酸、エチルホスホン酸モノビニルエステル、(メタ)アクリロイルアミノメチルホスホン酸、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスホン酸、および、これらのホスホン酸残基の塩が挙げられる。
上記共重合体におけるホスホン酸エステル基を有さない単量体としては、親水性基を有する単量体が好ましい。親水性基を有する単量体としては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリ(オキシエチレン)メタクリレート、N−イソプロピルアクリルアミド、および、アクリルアミドが挙げられる。
ホスホン酸エステル基を有する高分子化合物の質量平均分子量は、5,000〜1,000,000が好ましく、7,000〜700,000がより好ましく、10,000〜500,000がさらに好ましい。
水溶性樹脂としては、多糖類として分類される水溶性樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびその共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、並びに、スチレン/無水マレイン酸共重合体が挙げられる。
多糖類としては、澱粉誘導体(例えば、デキストリン、酵素分解デキストリン、ヒドロキシプロピル化澱粉、カルボキシメチル化澱粉、リン酸エステル化澱粉、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉、および、サイクロデキストリン)、セルロース類(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、および、メチルプロピルセルロース)、カラギーナン、アルギン酸、グァーガム、ローカストビーンガム、キサンタンガム、アラビアガム、並びに、大豆多糖類が挙げられる。
水溶性樹脂としては、デキストリン、ポリオキシアルキレングラフト化澱粉等の澱粉誘導体、アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、または、大豆多糖類が好ましい。
アニオン性界面活性剤としては、特開2014−104631号公報の番号[0022]に記載のものが挙げられ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
アニオン性界面活性剤としては、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩類、または、アルキルナフタレンスルホン酸塩類が好ましい。
アニオン性界面活性剤としては、一般式(I−A)で表されるアニオン性界面活性剤または一般式(I−B)で表されるアニオン性界面活性剤が好ましい。
一般式(I−B)中、R2は直鎖または分岐鎖の炭素数1〜20のアルキル基を表し、mは0、1または2を表し、Ar2は炭素数6〜10のアリール基を表し、Yは単結合または炭素数1〜10のアルキレン基を表し、R3は直鎖または分岐鎖の炭素数1〜5のアルキレン基を表し、nは1〜100の整数を表し、M2 +は、Na+、K+、Li+またはNH4 +を表す。mが2の場合、複数存在するR2は互いに同じでも異なっていてもよく、nが2以上の場合、複数存在するR3は互いに同じでも異なっていてもよい。
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアリールエーテル類、および、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロック共重合体類が好ましい。
非イオン性界面活性剤としては、一般式(II−A)で表される非イオン性界面活性剤が好ましい。
ミクロゲルは、水性媒体に分散された反応性または非反応性の樹脂粒子である。ミクロゲルは、その粒子中または粒子表面に、粒子表面に重合性基を有することが好ましい。
親水化剤を含む塗布液における親水化剤の含有量は、塗布液全質量に対して、0.05〜50質量%が好ましく、0.1〜30質量%がより好ましい。
親水化剤を含む塗布液の粘度は、25℃において、0.5〜1000mPa・sが好ましく、1〜100mPa・sがよりに好ましい。
親水化剤を含む塗布液の表面張力は、25℃において、25〜70mN/mが好ましく、40〜65mN/mがより好ましい。
親水化剤を含む塗布液は、親水化剤以外にも、有機溶媒、可塑剤、防腐剤、消泡剤、並びに、硝酸塩および硫酸塩等の無機塩、を含んでいてもよい。
親水化剤を含む塗布液の塗布方法としては、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、インクジェット法、ディスペンサー法、および、スプレー法が挙げられる。
裁断後に親水化剤を含む塗布液を塗布する態様では、上記塗布方法に加えて、親水化剤を含む塗布液を含浸させた布またはモルトンロールを用いる塗布方法も挙げられる。
下塗り層形成工程は、アルミニウム支持体上に下塗り層を形成する工程である。
下塗り層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の化合物(例えば、ベタイン構造を有する化合物)を含む下塗り層形成用塗布液をアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上に塗布する方法が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液の塗布方法としては、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、および、ロール塗布が挙げられる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2が好ましく、1〜50mg/m2がより好ましい。
機能層形成工程は、機能層を形成する工程である。
機能層の形成方法は特に制限されず、例えば、所定の成分(上述した、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物等)を含む機能層形成用塗布液をアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上または下塗り層上に塗布する方法が挙げられる。
機能層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
機能層形成用塗布液の塗布方法は、下塗り層形成用塗布液の塗布方法として例示した方法が挙げられる。
機能層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。
機能層上に保護層を設ける場合、保護層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の成分を含む保護層形成用塗布液を機能層上に塗布する方法が挙げられる。
裁断は、公知の裁断方法を利用できる。好ましくは、特開平8−58257号公報、特開平9−211843号公報、特開平10−100556号公報、特開平11−52579号公報に記載の方法が使用できる。
裁断においては、印刷版原版の裁断時に使用するスリッター装置における上側裁断刃と下側裁断刃との隙間、噛み込み量、および、刃先角度等を適宜調整する。特に、ダレ形状を形成する際には、上記条件を適宜調整する。
図6は、スリッター装置の裁断部を示す断面図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃40、42が左右に配置されている。裁断刃40、42は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃40aおよび40bは回転軸44に、下側裁断刃42aおよび42bは回転軸46に、それぞれ同軸上に支持されている。上側裁断刃40aおよび40bと下側裁断刃42aおよび42bとは、相反する方向に回転される。印刷版原版10cは、上側裁断刃40a、40bと下側裁断刃42a、42bとの間を通されて所定の幅に裁断される。スリッター装置の裁断部の上側裁断刃40aと下側裁断刃42aとの隙間および上側裁断刃40bと下側裁断刃42bとの隙間を調整することによりダレ形状を有する端部を形成できる。
上記実施形態において、陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aが略直管状の形態について述べたが、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が所定の範囲内であれば、マイクロポアは他の構造であってもよい。
例えば、図7に示すように、アルミニウム支持体12bが、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む形態であってもよい。
陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nm(深さD:図7参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置からさらに深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
以下に、大径孔部24と小径孔部26について詳述する。
大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部24の深さを測定し、平均した値である。
小径孔部26の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましい。中でも、11nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、5nm以上の場合が多い。
なお、小径孔部26の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(5万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
(粗面化処理工程)アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
(第1陽極酸化処理工程)粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
(ポアワイド処理工程)第1陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
(第2陽極酸化処理工程)ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
各工程の手順は、公知の方法を参照できる。
次に、画像記録層を有する印刷版原版を用いて印刷版を製造する方法について記載する。
印刷版の製造方法は、通常、画像記録層を有する印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、画像様露光された印刷版原版の未露光部を除去する工程とを有する。
より具体的には、印刷版の製造方法の一つの態様は、画像記録層を有する印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、pH2〜12の現像液により印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む印刷版の製造方法が挙げられる。
また、印刷版の製造方法の他の一つの態様は、画像記録層を有する印刷版原版を画像様に露光(画像露光)し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された印刷版原版の未露光部を除去する機上現像工程と、を含む印刷版の製造方法が挙げられる。
以下、これらの態様について詳述する。
光源の波長は、750〜1400nmが好ましい。波長750〜1400nmの光を出射する光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含む画像記録層が好ましく用いられる。
波長750〜1400nmの光を出射する光源としては、赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーが挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上が好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内が好ましく、照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2が好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、および、フラットベッド方式のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッター等を用いて常法により行うことができる。なお、後述する機上現像方式の場合には、印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で印刷版原版の画像露光を行ってもよい。
現像液処理方式においては、画像露光された印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて印刷版が製造される。
現像液としては、リン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも1つ以上の酸基と、1つ以上のカルボキシル基とを有する化合物(特定化合物)を含み、pHが5〜10である現像液が好ましい。
従来の現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ性現像液により現像を行い、その後、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。
なお、現像およびガム引きを1液で同時に行うこともできる。ガムとしては、ポリマーが好ましく、水溶性高分子化合物、および、界面活性剤がより好ましい。
さらに、前水洗工程も行うことなく、保護層の除去、現像およびガム引きを1液で同時に行うことが好ましい。また、現像およびガム引きの後に、スクイズローラを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
浸漬は、現像液が溜まった現像液槽中に露光済みの印刷版原版をくぐらせてもよいし、露光済みの印刷版原版の版面上にスプレー等から現像液を吹き付けてもよい。
なお、現像液に2回以上浸漬する場合であっても、同じ現像液、または、現像液と現像処理により画像記録層の成分の溶解または分散した現像液(疲労液)とを用いて2回以上浸漬する場合は、1液での現像処理(1液処理)という。
現像処理は、常法に従って、好ましくは0〜60℃、より好ましくは15〜40℃の温度で、例えば、露光処理した印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る、または、外部のタンクに仕込んだ処理液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。これらの現像処理は、複数回続けて行うこともできる。例えば、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦った後に、再度スプレーノズルから現像液を吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量の増大により現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させることが好ましい。
機上現像方式においては、画像露光された印刷版原版は、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給することにより、非画像部の画像記録層が除去されて印刷版が製造される。
即ち、印刷版原版を画像露光後、なんらの現像液処理を施すことなく、そのまま印刷機に装着するか、または、印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された印刷インキおよび/または湿し水によって、未露光部の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、印刷インキでもよく、湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。つまり、本発明の印刷方法の一態様としては、印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程とを有する印刷方法が挙げられる。
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム板(アルミニウム合金板)に対し、下記(A)〜(D)のいずれかの処理を施し、アルミニウム支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
(A−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%およびアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、および、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は112.5C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いた酸性水溶液としては、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/Lおよびアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液)を用いた。その液温は、30℃であった。
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。表1に示す「第1陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
なお、陽極酸化処理装置610において、アルミニウム板616は、図8中矢印で示すように搬送される。電解液618が貯溜された給電槽612にてアルミニウム板616は給電電極620によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板616は、給電槽612においてローラ622によって上方に搬送され、ニップローラ624によって下方に方向転換された後、電解液626が貯溜された電解処理槽614に向けて搬送され、ローラ628によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板616は、電解電極630によって(−)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽614を出たアルミニウム板616は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置610において、ローラ622、ニップローラ624およびローラ628によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板616は、給電槽612と電解処理槽614との槽間部において、ローラ622、ニップローラ624およびローラ628により、山型および逆U字型に搬送される。給電電極620と電解電極630とは、直流電源634に接続されている。
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、表1に示す温度で、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に表1に示す時間条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%およびアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、5g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度150g/Lの水溶液を用いた。その液温は30℃であった。
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、および、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は112.5C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度45℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いた酸性水溶液としては、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/Lおよびアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液)を用いた。その液温は、30℃であった。
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第1段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す「第1陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度40℃、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に表1に示す時間条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第2段階の陽極酸化処理を行った。表1に示す「第2陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
(C−a)アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度25質量%およびアルミニウムイオン濃度100質量%のカセイソーダ水溶液を、温度60℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、3g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度300g/Lの水溶液を用いた。その液温は35℃であった。
1質量%塩酸水溶液に塩化アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lとした電解液(液温35℃)を用いて、アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を行った。電気化学的粗面化処理の際には、60Hzの交流電源を用い、フラットセル型の電解槽を用いた。交流電源の波形は、正弦波を用いた。
電気化学的粗面化処理において、交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時の電流密度は、30A/dm2であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量総和とカソード反応時の電気量総和との比は0.95であった。電気量はアルミニウム板のアノード時の電気量総和で480C/dm2とした。電解液はポンプを用いて液を循環させることで、電解槽内の撹拌を行った。
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度35℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は、0.05g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いた酸性水溶液としては、硫酸濃度300g/Lおよびアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液を用いた。その液温は、35℃であった。
上記粗面化処理を行ったアルミニウム板に対し、リン酸水溶液(リン酸濃度220g/L)を電解液として、処理温度38℃および電流密度15A/dm2にて陽極酸化処理を実施した。
その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は1.5g/m2であった。
(D−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図9に示したような装置を使って、パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図9において、1はアルミニウム板、2および4はローラ状ブラシ(本実施例において、束植ブラシ)、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。
機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は、300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%およびアルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図4に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図5に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度27質量%およびアルミニウムイオン濃度2.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。なお、アルミニウム溶解量は、3.5g/m2であった。
次に、硫酸水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、硫酸水溶液をアルミニウム板にスプレーにて3秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度170g/Lおよびアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液を用いた。その液温は、30℃であった。
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した、液温35℃の電解液を用いた。交流電源波形は図4に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間tpが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図5に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度60℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.2g/m2であった。
次に、硫酸水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、硫酸水溶液をアルミニウム板にスプレーにて4秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸濃度170g/Lおよびアルミニウムイオン濃度5g/Lの水溶液)を用いた。その液温は、35℃であった。
図8に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。表1に示す「第1陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度40℃、カセイソーダ濃度5質量%およびアルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液に3秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて50℃で7秒間にわたって得られたアルミニウム板をディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は8.5mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
なお、マイクロポアの平均径は、表面を倍率15万倍のFE−SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nm2の範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を測定し、平均した値である。
なお、マイクロポアの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
また、実施例1〜34で得られた陽極酸化皮膜中のマイクロポアの深さは、10〜3000nm程度であった。
大径孔部の平均径:30nm
大径孔部の深さ:100nm
小径孔部の平均径:8nm
小径孔部の深さ:900nm
なお、マイクロポアの平均径(大径孔部および小径孔部の平均径)は、大径孔部表面および小径孔部表面を倍率15万倍のFE−SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nm2の範囲に存在するマイクロポア(大径孔部および小径孔部)の径を測定し、平均した値である。
なお、マイクロポアの深さ(大径孔部および小径孔部の深さ)は、支持体(陽極酸化皮膜)の断面をFE−SEMで観察し(大径孔部深さ観察:15万倍、小径孔部深さ観察:5万倍)、得られた画像において、任意のマイクロポア25個の深さを測定し、平均した値である。
表1に示すように、各実施例および比較例において、上述した処理により製造されたアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜表面に対して、処理A〜Cのいずれかを実施した。
アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液1を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
(下塗り層形成用塗布液1)
・下塗り層用化合物(UC−1)(下記構造) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.03g
・水 28.0g
アルミニウム支持体を、4g/Lのポリビニルホスホン酸を含む40℃の水溶液(pH=1.9)に10秒間浸漬した。その後、アルミニウム支持体を取り出して、20℃のカルシウムイオンを含む脱塩水で2秒間洗浄し、乾燥した。処理後、アルミニウム支持体上のP量およびCa量は、それぞれ25mg/m2および1.9mg/m2であった。
アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液2を乾燥塗布量が10mg/m2になるようワイヤーバーにて塗布して、90℃で30秒間乾燥して、下塗り層を形成した。
・高分子化合物A(下記構造)(質量平均分子量:3万) 0.05g
・メタノール 27g
・イオン交換水 3g
表1に示すように、各実施例および比較例において、<下塗り層形成処理>が施されたアルミニウム支持体上に、画像記録層A〜C、Eおよび非感光性層Dのいずれかを形成した。
各画像記録層の形成方法は以下の通りである。
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Aをバー塗布した後、70℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層Aを形成した。
・ポリマー粒子水分散液(下記) 20.0g
・赤外線吸収剤(2)(下記構造) 0.2g
・重合開始剤(Irgacure250、チバスペシャリティケミカルズ社製)
0.4g
・重合開始剤(2)(下記構造) 0.15g
・重合性化合物 SR−399(サートマー社製) 1.50g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・Byk336(Byk Chemie社製) 0.4g
・Klucel M(Hercules社製) 4.8g
・ELVACITE 4026(Ineos Acrylics社製) 2.5g
・アニオン性界面活性剤1(下記構造) 0.15g
・n−プロパノール 55.0g
・2−ブタノン 17.0g
・IRGACURE 250:(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート(75質量%プロピレンカーボナート溶液)
・SR−399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・Byk 336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体(25質量%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液)
・Klucel M:ヒドロキシプロピルセルロース(2質量%水溶液)
・ELVACITE 4026:高分岐ポリメチルメタクリレート(10質量%2−ブタノン溶液)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管および還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA、エチレングリコールの平均の繰返し単位数:20)(10g)、蒸留水(200g)およびn−プロパノール(200g)をフラスコ内に加えて内温が70℃となるまで加熱した。
次に、予め混合されたスチレン(St)(10g)、アクリロニトリル(AN)(80g)および2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(0.8g)の混合物を1時間かけて、フラスコ内に滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(0.4g)フラスコ内にさらに添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、さらに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(0.5g)を6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=10/10/80の熱可塑性ポリマー粒子水分散液が得られた。このポリマー粒子の粒径分布は、体積平均粒子径150nmに極大値を有していた。
ここで、粒径分布は、ポリマー粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上でポリマー粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Bを塗布した後、50℃にて60秒間乾燥し、画像記録層Bを形成した。
画像記録層形成用塗布液Bは、熱可塑性ポリマー粒子、赤外線吸収剤IR−01、および、ポリアクリル酸を含み、pHが3.6であった。
熱可塑性ポリマー粒子:スチレン/アクリロニトリル共重合体(モル比50/50、Tg99℃)、体積平均粒子径60nm
赤外線吸収剤IR−01:下記構造の赤外線吸収剤
熱可塑性ポリマー粒子:0.7(g/m2)
赤外線吸収剤IR−01:1.20×10―4(mol/m2)
ポリアクリル酸:0.09(g/m2)
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Cをバー塗布した後、100℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層Cを形成した。
画像記録層形成用塗布液Cは、下記感光液(1)およびミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。
・バインダーポリマー(1)(下記構造、Mw:55,000、n(エチレンオキサイド(EO)繰り返し単位数):2):0.240質量部
・赤外線吸収剤(1)(下記構造):0.020質量部
・ボレート化合物(テトラフェニルホウ酸ナトリウム):0.010質量部
・重合開始剤(1)(下記構造):0.162質量部
・重合性化合物(トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、NKエステルA−9300、新中村化学工業(株)製):0.192質量部
・アニオン性界面活性剤1(上記構造):0.050質量部
・フッ素系界面活性剤(1)(下記構造):0.008質量部
・2−ブタノン:1.091質量部
・1−メトキシ−2−プロパノール:8.609質量部
ミクロゲル液(1)の調製法を以下に示す。
イソホロンジイソシアネート(17.78質量部、80モル当量)と下記多価フェノール化合物(1)(7.35質量部、20モル当量)との酢酸エチル(25.31質量部)懸濁溶液に、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)(ネオスタン U−600、日東化成(株)製)(0.043質量部)を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
(成分1)酢酸エチル:12.0質量部
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76質量部
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0質量部
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR−399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54質量部
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA−41−C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42質量部
蒸留水:46.87質量部
画像記録層形成用塗布液Cから赤外線吸収剤(1)および重合開始剤(1)を除いて形成される非感光性層形成用塗布液Dを用いた以外は、(画像記録層C形成方法)と同様の手順に従って、非感光性層を形成した。
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Eをワイヤーバー塗布した後、115℃にて34秒間で温風式乾燥装置にて乾燥し、乾燥塗布量1.4g/m2の画像記録層Eを形成した。
・赤外線吸収剤(IR−1)(下記構造) 0.074g
・重合開始剤(OS−12)(下記構造) 0.280g
・添加剤(PM−1)(下記構造) 0.151g
・重合性化合物(AM−1)(下記構造) 1.00g
・バインダーポリマー(BT−1)(下記構造) 1.00g
・エチルバイオレット(C−1)(下記構造) 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.015g
(メガファックF−780−F DIC(株)製、メチルイソブチルケトン30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 10.4g
・メタノール 4.83g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10.4g
表1に示すように、<画像記録層または非感光性層の形成>が施されたアルミニウム支持体上に、保護層Aまたは保護層Bを形成した。
各保護層の形成方法は以下の通りである。
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層形成用塗布液Aをバーコーター塗布した後、120℃にて60秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成し、印刷版原版を作製した。
(保護層形成用塗布液A)
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・親水性ポリマー(1)(下記構造、Mw:30,000)(固形分) 0.03g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.1g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
イオン交換水(193.6g)に合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)(6.4g)を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒子径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層形成用塗布液Bをワイヤーバー塗布した後、125℃にて75秒間で温風式乾燥装置にて乾燥し、乾燥塗布量1.6g/m2の保護層を形成し、印刷版原版を作製した。
(保護層形成用塗布液B)
・合成雲母(ソマシフME−100、8%水分散液、コープケミカル(株)製) 94g
・ポリビニルアルコール(CKS−50:ケン化度99モル%、重合度300、日本合成化学工業(株)製) 58g
・カルボキシメチルセルロース(セロゲンPR、第一工業製薬(株)製) 24g
・界面活性剤−1(プルロニックP−84、BASF社製) 2.5g
・界面活性剤−2(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 5g
・純水 1364g
表1に示すように、各実施例および比較例において以下に示す親水化剤を含む塗布液(親水化塗布液)A〜Cのいずれかを用いた。
純水に下記式の化合物(Mw:100,000)が2.5質量%、ミクロゲル微粒子が0.5質量%になるように、攪拌添加して親水化塗布液Aを調製した。
なお、以下の式中の「15」および「85」は、化合物中の全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位のモル%を表す。また、M3およびM4は、水素原子またはナトリウム原子を表す。
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD−110N)(10g)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)(3.15g)およびアルキルベンゼンスルホン酸塩(竹本油脂(株)製、パイオニンA−41C)(0.1g)を酢酸エチル(17g)に溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製、PVA−205)の4質量%水溶液(40g)を調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水(25g)に添加し、室温で30分撹拌後、50℃で3時間撹拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、ミクロゲルを含むミクロゲル液を作製した。光散乱法により測定したミクロゲルの平均粒子径は0.2μmであった。
親水化塗布液Bとしては、国際公開第2015/119089号の段落[0233]に記載の親水化塗布液Bを用いた。
親水化塗布液Bには、親水化剤として、1−ナフタレンスルホン酸Naおよびリン酸二水素Naが含まれていた。
親水化塗布液Cとしては、特開2011−177983号公報の段落[0173]の処理液1を用いた。
親水化塗布液Cには、親水化剤として、アラビアガムが含まれていた。
調製した親水化塗布液は、表1に記載のタイミングで塗布を行った。なお、表1中の「処理タイミング」欄の1〜8は、それぞれ以下の手順で処理を実施したことを表す。なお、以下の記載中、「S1」は上記<下塗り層形成処理>、「S2」は上記<画像記録層または非感光性層の形成>、「S3」は上記<保護層の形成>のそれぞれの処理を表す。
「1」:エッジ処理→S1→S2→S3→スリット→露光
「2」:S1→エッジ処理→S2→S3→スリット→露光
「3」:S1→S2→エッジ処理→S3→スリット→露光
「4」:S1→S2→S3→エッジ処理→スリット→露光
「5」:S1→S2→S3→スリット→エッジ処理→露光
「6」:S1→S2→S3→スリット→露光→エッジ処理
「7」:S1→エッジ処理→S2→S3→スリット
「8」:S1→S2→S3→スリット→エッジ処理
上記処理によって、印刷版原版の対向する2つの端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域において親水化剤が付与された。
塗布装置として、兵神装備(株)製2NL04を使用した。
各実施例および比較例においては、クリアランス0.3mmで送液量5cc/分で搬送速度を調整し、所定の固形分塗布量になるように塗布した。
図6に示したような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃との隙間、噛み込み量および刃先角度を調整して、表1に示すダレ量およびダレ幅を有する端部のダレ形状となるように裁断した。ダレ幅は150μmとした。
作製した印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,400dpiの条件で露光した。露光画像には、ベタ画像および50%網点チャートを含むようにした。
ただし、画像記録層Eを使用した実施例に関しては、以下の現像処理を行ったあとに、後述する印刷版原版の評価を実施した。
画像露光された印刷版原版を、富士フイルム(株)製自動現像機LP−1310HIIを用い搬送速度(ライン速度)2m/分、現像温度30℃で現像処理した。現像液は富士フイルム(株)社製HN−Dの1:4水希釈液、現像補充液は富士フイルム(株)社製HN−DRの1:1.4水希釈液、フィニッシャーは富士フイルム(株)製HN−GVの1:1水希釈液をそれぞれ用いた。
(エッジ汚れ防止性の評価)
上記のように露光した印刷版原版を、オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST−S(紅)とサカタインクス(株)製エコセブンN−1湿し水を用いて、100,000枚/時のスピードで印刷し、1,000枚目の印刷物をサンプリングし、端部(エッジ部)の線状汚れの程度を下記の基準で評価した。このとき、湿し水量を標準量から30%減らして、標準よりも過酷な条件で印刷評価を行った。
5:全く汚れていない
4:5と3の中間レベル
3:うっすらと汚れているが許容レベル
2:3と1の中間レベルで、非許容レベル
1:はっきりと汚れており非許容レベル
なし:搬送用ベルトおよびローラに版材成分の付着がなく、実用上問題ない。
あり:搬送用ベルトまたはローラに版材成分の付着があり、実用上問題がある。
上記のように露光した印刷版原版を、オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST−S(紅)とサカタインクス(株)製エコセブンN−1湿し水を用いて、100,000枚/時のスピードで印刷し、30,000枚印刷を行った。そして、印刷を一旦停止し、温度25℃、湿度50%の部屋において、印刷機上で印刷版を4時間放置して、再度、200枚印刷を実施した。200枚目の印刷紙の汚れの状況を以下の基準に沿って判断した。
5:全く汚れていない
4:5と3の中間レベル
3:うっすらと汚れているが許容レベル
2:3と1の中間レベルで、非許容レベル
1:はっきりと汚れており非許容レベル
得られた印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、および、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および20μmドットFM(Frequency Modulation)スクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
さらに、印刷を続け、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を評価した。
「平均径」欄は、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径を表す。
「下塗り層形成処理」欄は、<下塗り層形成処理>で実施した処理(処理A〜C)を表す。
「含有量差(mg/m2)」欄は、印刷版原版の対向する2つの端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量Aと、上記領域以外の領域における親水化剤の単位面積当たりの含有量Bとの差(含有量A−含有量B)を表す。
中でも、実施例1〜10の比較から、平均径が15〜80nm(好ましくは20〜50nm、より好ましく25〜40nm)である場合、エッジ汚れ防止性および耐刷性のバランスが優れていた。
実施例5、11〜13の比較より、含有量差が700mg/m2以上の場合、エッジ汚れ防止性がより優れていた。
実施例17、19〜20の比較より、親水化剤がリン酸化合物およびホスホン酸化合物からなる群から選択される少なくとも1つを含む場合、エッジ防止性がより優れていた。
実施例5、21〜22の比較より、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの形状が所定の構造である場合、耐刷性がより優れていた。
実施例12と34との比較より、含有量差が2000mg/m2以下の場合、セッターおよびベンダー内の汚れがより抑えられた。
2,4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5,6,7,8 支持ローラ
ta アノード反応時間
tc カソード反応時間
tp 電流が0からピークに達するまでの時間
Ia アノードサイクル側のピーク時の電流
Ic カソードサイクル側のピーク時の電流
10a,10b,10c 印刷版原版
12a,12b アルミニウム支持体
14 下塗り層
16 画像記録層
20a,20b 陽極酸化皮膜
22a,22b マイクロポア
24 大径孔部
26 小径孔部
30 ダレ形状
32 端面
34 機能層面
40,42 裁断刃
40a,40b 上側裁断刃
42a,42b 下側裁断刃
44,46 回転軸
50 主電解槽
51 交流電源
52 ラジアルドラムローラ
53a,53b 主極
54 電解液供給口
55 電解液
56 補助陽極
60 補助陽極槽
W アルミニウム板
610 陽極酸化処理装置
612 給電槽
614 電解処理槽
616 アルミニウム板
618,626 電解液
620 給電電極
622,628 ローラ
624 ニップローラ
630 電解電極
632 槽壁
634 直流電源
Claims (14)
- アルミニウム支持体と、
アルミニウム支持体上に配置された、画像記録層および非感光性層からなる群から選択される機能層と、を含む印刷版原版であって、
前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
前記アルミニウム支持体の機能層側の表面のL * a * b * 表色系における明度L * の値が、75〜100であり、
前記陽極酸化皮膜が前記アルミニウム板よりも前記機能層側に位置し、
前記陽極酸化皮膜は、前記機能層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が13〜100nmであり、
前記印刷版原版の対向する2つの端部から内側に5mmまでの機能層側版面の領域に親水化剤を含み、
前記領域における前記親水化剤の単位面積当たりの含有量が、前記領域以外の領域における前記親水化剤の単位面積当たりの含有量より、10mg/m2以上多い、印刷版原版。 - 前記印刷版原版の前記端部が、ダレ量が25〜150μmであり、ダレ幅が70〜300μmであるダレ形状を有する、請求項1に記載の印刷版原版。
- 前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が13〜30nmであり、
前記マイクロポアの内部の最大径が40〜300nmである、請求項1または2に記載の印刷版原版。 - 前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が15〜100nmであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が13nm以下である、請求項1または2に記載の印刷版原版。 - 前記親水化剤が、水溶性化合物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 前記親水化剤が、リン酸化合物およびホスホン酸化合物からなる群から選択される少なくとも1つを含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 前記リン酸化合物および前記ホスホン酸化合物が、高分子化合物である、請求項6に記載の印刷版原版。
- 前記親水化剤が、水溶性樹脂を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 前記親水化剤が、アニオン性界面活性剤または非イオン性界面活性剤を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 前記機能層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、および、高分子化合物を含む画像記録層である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 前記画像記録層に含まれる高分子化合物が、疎水性主鎖を有し、
前記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する繰り返し単位、および、親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する繰り返し単位の両方を含む、請求項10に記載の印刷版原版。 - 前記機能層が、赤外線吸収剤、および、熱可塑性ポリマー粒子を含む画像記録層である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の印刷版原版。
- 請求項10〜12のいずれか1項に記載の印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された前記印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、印刷版の製造方法。 - 請求項10〜12のいずれか1項に記載の印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された前記印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017189962 | 2017-09-29 | ||
JP2017189962 | 2017-09-29 | ||
PCT/JP2018/020511 WO2019064694A1 (ja) | 2017-09-29 | 2018-05-29 | 印刷版原版、印刷版の製造方法、印刷方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019064694A1 JPWO2019064694A1 (ja) | 2020-07-02 |
JP6818901B2 true JP6818901B2 (ja) | 2021-01-27 |
Family
ID=65901216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019544242A Active JP6818901B2 (ja) | 2017-09-29 | 2018-05-29 | 印刷版原版、印刷版の製造方法、印刷方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200223215A1 (ja) |
JP (1) | JP6818901B2 (ja) |
WO (1) | WO2019064694A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3991988A4 (en) * | 2019-06-28 | 2022-09-14 | FUJIFILM Corporation | LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRODUCTION METHOD AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4423140A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Hoechst Ag | Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
JPH08123014A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Mitsubishi Chem Corp | 感光性印刷版 |
US7442491B2 (en) * | 2005-03-17 | 2008-10-28 | Fujifilm Corporation | Aluminum alloy blank for lithographic printing plate and support for lithographic printing plate |
CN105082725B (zh) * | 2009-09-24 | 2018-05-04 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5498371B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、平版印刷版用支持体の製造方法、および平版印刷版原版 |
WO2014017640A1 (ja) * | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版 |
EP2871057B1 (en) * | 2013-11-07 | 2016-09-14 | Agfa Graphics Nv | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
JP2016155271A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版原版 |
JP2017019206A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の積層体、及び、その製造方法 |
-
2018
- 2018-05-29 JP JP2019544242A patent/JP6818901B2/ja active Active
- 2018-05-29 WO PCT/JP2018/020511 patent/WO2019064694A1/ja active Application Filing
-
2020
- 2020-03-25 US US16/828,969 patent/US20200223215A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019064694A1 (ja) | 2020-07-02 |
WO2019064694A1 (ja) | 2019-04-04 |
US20200223215A1 (en) | 2020-07-16 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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