JP6825113B2 - 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 - Google Patents
機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6825113B2 JP6825113B2 JP2019539449A JP2019539449A JP6825113B2 JP 6825113 B2 JP6825113 B2 JP 6825113B2 JP 2019539449 A JP2019539449 A JP 2019539449A JP 2019539449 A JP2019539449 A JP 2019539449A JP 6825113 B2 JP6825113 B2 JP 6825113B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- printing plate
- image recording
- recording layer
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 265
- 238000011161 development Methods 0.000 title claims description 59
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 141
- -1 alkylene diphosphonic acid Chemical compound 0.000 claims description 121
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 94
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 91
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 81
- 238000007665 sagging Methods 0.000 claims description 53
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 35
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 30
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 28
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 26
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 20
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 18
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 13
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 claims description 13
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 10
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 claims description 10
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 claims description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 8
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 6
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 6
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- XPIQJMUYUKAKNX-VOTSOKGWSA-N 3-[(2e)-octa-2,7-dienyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound C=CCCC\C=C\CC1CC(=O)OC1=O XPIQJMUYUKAKNX-VOTSOKGWSA-N 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N butylphosphonic acid Chemical compound CCCCP(O)(O)=O UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical group [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N hexylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCP(O)(O)=O GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 5
- FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N octadecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N octylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCP(O)(O)=O NJGCRMAPOWGWMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 5
- NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound CCCP(O)(O)=O NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical group [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 5
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 4
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 claims description 4
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 claims description 3
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 2
- CUYTYLVEYFUAAX-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 CUYTYLVEYFUAAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MGJJRXIEFROZLZ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCOP(O)=O Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(O)=O MGJJRXIEFROZLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 258
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 171
- 238000000034 method Methods 0.000 description 71
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 68
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 54
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 49
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 43
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 39
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 37
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 29
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 27
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 20
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 20
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 17
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 17
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 17
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 16
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 16
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 15
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 15
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 15
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 15
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 10
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 10
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 10
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 9
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 8
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 8
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 7
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 7
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 7
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 5
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 5
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004028 organic sulfates Chemical class 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Natural products NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 description 3
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 description 3
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 3
- WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910018879 Pt—Pd Inorganic materials 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical group C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005341 metaphosphate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Chemical group CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical group OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical group 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N tris(4-chlorophenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N (2,4-diethoxyphenyl)-(4-hexoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(OCC)C=C1OCC LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N (2e,6e)-2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C\C=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)C\C1=C/C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N 0.000 description 1
- DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N (4-hexoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(CC(C)C)C=C1 UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical group SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C(C)=C DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical group O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- SEHJHHHUIGULEI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethylphosphonic acid Chemical compound OCCP(O)(O)=O SEHJHHHUIGULEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanethioic s-acid Chemical compound SC(=O)CC1=CC=CC=C1 IXOFPUCWZCAFJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFJHXXPYPMNRPK-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethylazaniumyl)propane-1-sulfonate Chemical compound C[N+](C)(C)CCCS([O-])(=O)=O WFJHXXPYPMNRPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-1-ium-1-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+]1=CC=CC=C1 REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXSUJSPQKZRKHH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCOCCOCCOCCCCS(O)(=O)=O OXSUJSPQKZRKHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHLVDMOPQNBKBZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-hexoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCOCCOCCOCCCCS(O)(=O)=O XHLVDMOPQNBKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethoxy]butane-1-sulfonic acid Chemical group CCCCC(CC)COCCOCCOCCCCS(O)(=O)=O WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULUPAWKAWBVCAI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzenesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ULUPAWKAWBVCAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HZCIICWWFDFEAL-UHFFFAOYSA-N COC(C1=CC=CC(C(OC)=O)=C1)=O.S Chemical group COC(C1=CC=CC(C(OC)=O)=C1)=O.S HZCIICWWFDFEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical group CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical class OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000221561 Ustilaginales Species 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZKGLGIVGQYOTG-UHFFFAOYSA-N [F].[Au] Chemical compound [F].[Au] KZKGLGIVGQYOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBDVBAABEUKEGA-UHFFFAOYSA-N [Si].[Si].[Si].[Si].[K] Chemical compound [Si].[Si].[Si].[Si].[K] WBDVBAABEUKEGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dimethyl-octylazanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052626 biotite Inorganic materials 0.000 description 1
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-phenylsulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=CC=C1 JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N bis[2-(6-fluoro-3,4-dihydro-2h-chromen-2-yl)-2-hydroxyethyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C1CC2=CC(F)=CC=C2OC1C(O)CNCC(O)C1OC2=CC=C(F)C=C2CC1 JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000005591 charge neutralization Effects 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCC[NH+](C)C JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O.CCC[NH+](C)C ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N diphosphonic acid Chemical compound OP(=O)OP(O)=O XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N dodecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O SVMUEEINWGBIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCC.COC(=O)C(C)=C DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMNZHEHSKZSQLM-UHFFFAOYSA-N ethyl(methoxy)phosphinic acid Chemical compound CCP(O)(=O)OC SMNZHEHSKZSQLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical class C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L isophthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC(C([O-])=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical class CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052629 lepidolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- 239000005267 main chain polymer Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- DWHMMGGJCLDORC-UHFFFAOYSA-N methoxy(methyl)phosphinic acid Chemical compound COP(C)(O)=O DWHMMGGJCLDORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005527 methyl sulfate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;methanesulfonic acid Chemical compound C[NH+](C)C.CS([O-])(=O)=O GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical group C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHLKTZLXKDYVQB-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2,7-disulfonate;triphenyl(9-triphenylphosphaniumylnonyl)phosphanium Chemical compound C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21.C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CCCCCCCCC[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JHLKTZLXKDYVQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910001737 paragonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Chemical group 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007767 slide coating Methods 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)CS([O-])(=O)=O KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OGBAKVHUIYJANY-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-[2-(2-decoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O OGBAKVHUIYJANY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M sodium;4-hydroxynaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(O)=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M sodium;butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCS([O-])(=O)=O XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M sodium;cyclohexanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1CCCCC1 DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M sodium;hexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCS([O-])(=O)=O QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M sodium;octane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCS([O-])(=O)=O HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid group Chemical class S(N)(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000005424 tosyloxy group Chemical group S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)O* 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N trimethylazanium;acetate Chemical compound CN(C)C.CC(O)=O KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IKHOAKVBRQJKCN-UHFFFAOYSA-N tris(2,4-dichlorophenyl)sulfanium Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C(=CC(Cl)=CC=1)Cl)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl IKHOAKVBRQJKCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,2,3-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(S([O-])(=O)=O)C(S(=O)(=O)[O-])=CC2=C1 RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
- B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
- B41N1/14—Lithographic printing foils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
分の単位面積当たりの含有量が、上記領域A以外の領域における親水化成分の単位面積当たりの含有量より10mg/m2以上多い平版印刷版原版の積層体が提案されている。
しかしながら、平版印刷版原版の端部領域に、親水化成分を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すと、親水化処理を施した端部領域において画像形成性が低下するという現象が生じることが分かった。このことは、親水化処理を施すことにより、画像記録層の機械的強度が低下すること、及び、画像記録層と支持体との密着力が低下することに起因して、機上現像時に、端部領域における画像記録層が保持されず、非画像部と共に除去されることが原因と考えられる。
[1]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じであり、上記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスホン酸、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i−プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、並びにクエン酸の少なくとも一つである機上現像型平版印刷版原版。
[2]
上記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸又はホスフィン酸である[1]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[3]
上記化合物の含有量が10〜150mg/m 2 である[1]又は[2]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[4]
上記ダレ形状が、ダレ量Xが25〜150μm、ダレ幅Yが70〜300μmである[1]〜[3]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[5]
上記平版印刷版原版のダレ幅Yに相当する領域の上記陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が10%以下である[4]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[6]
上記クラックの面積率が6%以下である[5]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[7]
上記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する[1]〜[6]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[8]
上記ポリマー粒子が、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子である[7]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[9]
上記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤及び重合性化合物を含有する[1]〜[8]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[10]
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じであり、上記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスホン酸、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i−プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、並びにクエン酸の少なくとも一つであり、上記平版印刷版原版の断面をSTEM−EDSによって、深さ方向に線分析した際に、上記アルミニウム支持体と上記画像記録層の界面から画像記録層側のいずれかの深さに支持体吸着性基に由来する元素が0.5質量%以上存在する機上現像型平版印刷版原版。
[11]
上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のCIEL * a * b * 表色系における明度L * の値が70〜100である[1]〜[10]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[12]
上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面における、波長0.2〜2μmの成分の急峻度a45が30%以下である[1]〜[11]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[13]
上記陽極酸化皮膜表面にマイクロポアを有し、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径が10〜100nmである[1]〜[12]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[14]
上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径の5〜80%である[13]に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[15]
[1]〜[14]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより、画像記録層の未露光部分を除去する工程とを含む平版印刷版の作製方法。
本発明は、上記[1]〜[15]に係る発明であるが、以下、それ以外の事項(例えば、下記(1)〜(17))についても記載している。
(1) 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版。
(2) 上記化合物がオキソ酸である(1)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(3) 上記化合物が下記式1で表わされる化合物である(1)又は(2)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(4) 上記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸又はホスフィン酸である(1)〜(3)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(5) 上記化合物の含有量が10〜150mg/m2である(1)〜(4)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(6) 上記ダレ形状が、ダレ量Xが25〜150μm、ダレ幅Yが70〜300μmである(1)〜(5)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(7) 上記平版印刷版原版のダレ幅Yに相当する領域の上記陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が10%以下である(6)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(8) 上記クラックの面積率が6%以下である(7)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(9) 上記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する(1)〜(8)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(10) 上記ポリマー粒子が、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子である(9)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(11) 上記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤及び重合性化合物を含有する(1)〜(10)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(12) 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じであり、上記平版印刷版原版の断面をSTEM−EDSによって、深さ方向に線分析した際に、上記アルミニウム支持体と上記画像記録層の界面から画像記録層側のいずれかの深さに 支持体吸着性基に由来する元素が0.5質量%以上存在する機上現像型平版印刷版原版。
(13) 上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のCIEL*a*b*表色系における明度L*の値が70〜100である(1)〜(12)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(14) 上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面における、波長0.2〜2μmの成分の急度a45が30%以下である(1)〜(13)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(15) 上記陽極酸化皮膜表面にマイクロポアを有し、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径が10〜100nmである(1)〜(14)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(16) 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径の5〜80%である(15)に記載の機上現像型平版印刷版原版。
(17) (1)〜(16)のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより、画像記録層の未露光部分を除去する工程とを含む平版印刷版の作製方法。
本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」の用語は「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」を意味する。「(メタ)アクリロイル基」、「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリル樹脂」等も同様である。
本発明に係る機上現像型平版印刷版原版は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体と画像記録層とから少なくとも構成され、平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、画像記録層が支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下の化合物を含有し、上記化合物は不飽和二重結合基を有さず、上記化合物の含有量が画像記録層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版である。
機上現像型平版印刷版原版を構成する陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体について記載する。
アルミニウム板の厚さは、0.1〜0.6mm程度が好ましい。
平版印刷版の印刷工程においては、通常、版を印刷機に取り付ける前に目的通りの画像記録がなされているかを確認する目的で、検版作業が行われる。機上現像型平版印刷版原版においては、画像露光された段階で画像を確認することが必要となるため、画像露光部にいわゆる焼き出し画像を生じさせる手段が適用される。
画像露光された機上現像型平版印刷版原版の画像部の見易さ(画像視認性)を定量的に評価する方法として、画像露光部の明度と未露光部の明度を測定し、両者の差を求める方法が挙げられる。ここで、明度としては、CIEL*a*b*表色系における明度L*の値を用いることができ、測定は、色彩色差計(Spectro Eye、エックスライト(株)製)を用いて行うことができる。測定により得られた画像露光部の明度と未露光部の明度との差が大きい程、画像部が見易いこととなる。
画像露光部の明度と未露光部の明度との差を大きくするためには、陽極酸化皮膜表面のCIEL*a*b*表色系における明度L*の値が大きいことが有効であることが判明した。即ち、明度L*の値は70〜100であることが好ましい。
波長0.2〜2μmの成分の急峻度a45は、陽極酸化皮膜の表面形状を表すファクターの一つであり、陽極酸化皮膜表面を原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)を用いて測定して得られる3次元データから、波長0.2〜2μmの成分を抽出し、この成分において傾斜度が45度以上の部分の面積率を表す。
(1)表面形状の測定及び3次元データの取得
原子間力顕微鏡により、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面形状を測定し、3次元データを得る。
具体的には、アルミニウム支持体を1cm角の大きさに切り取って試料とし、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、XY方向について150μm、Z方向について10μm走査可能なものを使用する。カンチレバーは共振周波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/mのもの(SI−DF20、NANOPROBE社製)を用い、DFMモード(Dynamic Force Mode)で測定する。得られた3次元データを最小二乗近似することにより試料のわずかな傾きを補正し基準面を求める。
測定は、試料表面の25×25μmの範囲において512×512点で行い、XY方向の分解能は1.9μm、Z方向の分解能は1nm、スキャン速度は60μm/secとする。
抽出は、上記(1)で得られた3次元データを高速フーリエ変換して周波数分布を求め、次いで、波長0.2〜2μmの成分を選択した後、フーリエ逆変換をすることにより行う。
この抽出により、平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体のような深い凹凸を有する表面をAFMの探針で走査した場合に、探針が凸部のエッジ部分に当たって跳ねたり、深い凹部の壁面に探針の尖端以外の部分が接触したりして生じるノイズを除去することができる。
上記(2)で得られた3次元データ(f(x,y))を用いて、隣り合う3点を抽出し、その3点で形成される微小三角形と基準面とのなす角を全データについて算出し、傾斜度分布曲線を得る。一方、微小三角形の面積の総和を求めて実面積とする。傾斜度分布曲線より、実面積に対する傾斜度45度以上の部分の面積の割合である急峻度a45(単位%)を算出する。
アルミニウム支持体の製造方法は、特に限定されるものではない。アルミニウム支持体の製造方法の好ましい態様としては、アルミニウム板に粗面化処理を施す工程(粗面化処理工程)、粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程(陽極酸化処理工程)、陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程(ポアワイド処理工程)を含む方法が挙げられる。
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、実施しなくてもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すのが好ましい。
機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭50−40047号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
また、化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
また、アルカリ剤は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液の濃度は、0.01質量%以上であるのが好ましく、3質量%以上であるのがより好ましく、また、30質量%以下であるのが好ましく、25質量%以下であるのがより好ましい。
更に、アルカリ溶液の温度は室温以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、80℃以下であるのが好ましく、75℃以下であるのがより好ましい。
また、処理時間は、エッチング量に対応して2秒〜5分であるのが好ましく、生産性向上の点から2〜10秒であるのがより好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、1〜50質量%であるのが好ましい。また、酸性溶液の温度は、20〜80℃であるのが好ましい。酸性溶液の濃度および温度がこの範囲であると、アルミニウム支持体を用いた平版印刷版の耐ポツ状汚れ性がより向上する。
電気化学的粗面化処理は、硝酸または塩酸を主体とする水溶液中で、直流または交流を用いて行われる。
また、電気化学的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を行わない場合においても、スマットを効率よく除去するため、デスマット処理を行うのが好ましい。
陽極酸化処理工程は、上記粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板表面に深さ方向(厚み方向)にのびるマイクロポアを有するアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。この陽極酸化処理によりアルミニウム板の表面に、マイクロポアを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜が形成される。
更に、陽極酸化処理に引き続いて下記のポアワイド処理を行い、その後再度陽極酸化処理を行うこともできる。この場合、第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行うこととなる。
深さ方向(厚み方向)に向かって径が不連続で小さくなる形状のマイクロポアとしては、具体的には、陽極酸化皮膜表面から深さ方向に延びる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に延びる小径孔部とから構成されるマイクロポアが挙げられる。このような形状のマイクロポアを形成するためには、上記の第1陽極酸化処理、ポアワイド処理、第2陽極酸化処理を行う方法が利用できる。
大径孔部は陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に10〜1000nmのびる孔部である。上記深さは、10〜200nmが好ましい。
大径孔部の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に10〜1000nmに位置する。
大径孔部の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、および、深さ方向(厚み方向)に向かって径が連続的に小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
小径孔部の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましく、11nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、通常8nm以上である。
小径孔部の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、および、深さ方向(厚み方向)に向かって径が連続的に小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
ポアワイド処理工程は、上記陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。このポアワイド処理により、マイクロポアの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成される。
ポアワイド処理工程は支持体上の一部の領域(端部)でのみ実施されることも好ましい。上記のようにポアワイド処理を支持体の全面ではなく、一部の領域で実施することにより、耐キズ性の低下を防止することができる。
アルミニウム支持体の製造方法は、上記ポアワイド処理工程の後、親水化処理を施す親水化処理工程を有していてもよい。親水化処理としては、特開2005−254638号公報の段落0109〜0114に開示される公知の方法が使用できる。
機上現像型平版印刷版原版を構成する画像記録層について記載する。
特定低分子量化合物は、機上現像時に効率よくクラックに吸着し、クラックを親水化する特性を有しており、エッジ汚れの防止に寄与する。
即ち、試験化合物を易溶性溶媒(例えば、水)に溶解した溶液を調製する。この溶液を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に塗布し乾燥させる。次に試験化合物を塗布したアルミニウム支持体を、上記易溶性溶媒を用いて洗浄と乾燥を5回繰り返した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定する。残存量の測定は、残存する試験化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量してもよい。試験化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定などで実施することができる。
残存量が、1mg/m2以上であれば、試験化合物は、支持体吸着性を有すると判定される。
式1におけるアルキレンオキシド基は、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜10個有するアルキレンオキシド基が好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜5個有するアルキレンオキシド基がより好ましく、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜3個有するアルキレンオキシド基が更に好ましい。
特定低分子量化合物の含有量は、10〜150mg/m2が好ましく、30〜100mg/m2がより好ましく、50〜100mg/m2が更に好ましい。
本発明においては、特定低分子量化合物の含有量が画像記録層の面内において実質的に同じである。ここで、「特定低分子量化合物の含有量が画像記録層の面内において実質的に同じである」とは、特定低分子量化合物が画像記録層の面内においてほぼ均一に存在し、平版印刷版原版の中央部と端部において、特定低分子量化合物の含有量に実質的な差がないことを意味する。即ち、画像記録層を塗布した際に通常発生し得る画像記録層面内における特定低分子量化合物の含有量差以外には、含有量差がないことを意味する。
従って、本発明は、平版印刷版原版の端部のみに、意図的に特定低分子量化合物を適用して、端部における特定低分子量化合物の含有量を端部以外の領域における特定低分子量化合物の含有量より多くする状態を形成することとは異なる。
画像記録層は、ポリマー粒子を含有することが好ましい。ポリマー粒子は、機上現像性の向上に寄与する。ポリマー粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できるポリマー粒子であることが好ましい。ポリマー粒子は、疎水性熱可塑性ポリマー粒子、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋ポリマー粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。
疎水性熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルが挙げられる。疎水性熱可塑性ポリマー粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。
マイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましく、0.05〜2.0μmがより好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
ポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全固形分中、5〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がより好ましく、10〜75質量%が更に好ましい。
重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であり、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などから適宜選択して用いることができる。
重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤が好ましい。また、重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましい。ラジカル重合開始剤は、2種以上を併用してもよい。
電子受容性重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、メタロセン化合物、アジド化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、及び、オニウム塩化合物が挙げられる。
カルボニル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等が挙げられる。
有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
アジド化合物としては、例えば、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61−166544号、特開2002−328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落0028〜0030に記載の化合物が好ましい。
電子受容性重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜30質量%がより好ましく、0.8〜20質量%が更に好ましい。
電子供与性重合開始剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版の耐刷性向上に寄与する。電子供与性重合開始剤としては、例えば、以下の5種類が挙げられる。
(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物等が挙げられる。
(ii)アミノ酢酸化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシ基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、N−フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもよい。)、N−フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)等が挙げられる。
(iii)含硫黄化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。具体的には、フェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもよい。)等が挙げられる。
(iv)含錫化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等が挙げられる。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、アルカリ金属イオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はテトラブチルアンモニウムイオンがより好ましい。
電子供与性重合開始剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01〜30質量%が好ましく、0.05〜25質量%がより好ましく、0.1〜20質量%が更に好ましい。
赤外線吸収剤は、赤外線により励起して重合開始剤等に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。また、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有する。赤外線吸収剤は、750〜1,400nmの波長域に極大吸収を有することが好ましい。赤外線吸収剤としては、染料又は顔料が挙げられ、染料が好ましく用いられる。
染料のうち、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩が好ましく、シアニン色素がより好ましく、インドレニンシアニン色素が特に好ましい。
また、特開平5−5005号公報の段落0008〜0009、特開2001−222101号公報の段落0022〜0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008−195018号公報の段落0072〜0076に記載の化合物が好ましい。
赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.05〜30質量%が好ましく、0.1〜20質量%がより好ましく、0.2〜10質量%が更に好ましい。
重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物が好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物がより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、即ち、2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態を持つことができる。
CH2=C(RM4)COOCH2CH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
重合性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、1〜50質量%が好ましく、3〜30質量%がより好ましく、5〜20質量%が更に好ましい。
バインダーポリマーとしては、皮膜性を有するポリマーが好ましく、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられる。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキサイド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキサイド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキサイド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキサイド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ(アルキレンオキサイド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位におけるアルキレンオキサイドの繰返し数は2〜120が好ましく、2〜70がより好ましく、2〜50が更に好ましい。
アルキレンオキサイドの繰返し数が120以下であれば、摩耗による耐刷性、インキ受容性による耐刷性の両方が低下することがなく好ましい。
一価の有機基としては、炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
式(AO)において、yは2〜70が好ましく、2〜50がより好ましい。R1は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。R2は水素原子又はメチル基が特に好ましい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又は−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
アミド残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)及び−CH2CH2−OCO−CH=CH2が挙げられる。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分中、1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がより好ましい。
連鎖移動剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.01〜50質量%が好ましく、0.05〜40質量%がより好ましく、0.1〜30質量%が更に好ましい。
低分子親水性化合物は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版の耐刷性を低下させることなく、平版印刷版原版の機上現像性の向上に寄与する。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全固形分中、0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、2〜10質量%が更に好ましい。
感脂化剤は、平版印刷版原版から作製される平版印刷版におけるインキの着肉性(以下、単に「着肉性」ともいう)の向上に寄与する。感脂化剤としては、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどが挙げられる。特に、平版印刷版原版が保護層に無機層状化合物を含有する場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制する機能を有する。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
画像記録層は、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落0114〜0159に記載の各成分を用いることができる。
画像記録層のもう一つの形態によれば、画像記録層は、赤外線吸収剤、熱融着性粒子、及び、バインダーポリマーを含有する。
画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落0142〜0143に記載のように、必要な上記各成分を適宜公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3〜3.0g/m2程度が好ましい。
画像記録層下層用塗布液は、特定低分子量化合物以外に、上記画像記録層成分を含んでいてもよい。
当該機上現像型平版印刷版原版は、端部の画像形成性、機上現像性などの特性を低下させることなく、エッジ汚れが防止された機上現像型平版印刷版原版である。
上記画像記録層中に含まれる特定低分子量化合物の支持体吸着性基に由来する元素量は、エッジ汚れ防止性の観点から、0.8質量%以上が好ましい。
下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO3H2、−OPO3H2、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、当該極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層に用いられるポリマーの質量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましい。
保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号公報及び特開2006−259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2−5D4O10(OH,F,O)2〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
図1において、平版印刷版原版1はその端部にダレ2を有している。平版印刷版原版1の端面1cの上端(ダレ2と端面1cとの境界点)と、画像記録層面(保護層が形成されている場合には保護層面)1aの延長線との距離Xを「ダレ量」といい、平版印刷版原版1の画像記録層面1aがダレ始める点と端面1cの延長線上との距離Yを「ダレ幅」という。
通常、平版印刷版原版1の端部において、画像記録層と支持体との境界B、及び、支持体面1bも、画像記録層面1aと同様に、ダレが発生している。
具体的には、平版印刷版原版の裁断時に使用するスリッター装置における上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量、刃先角度などを調整することにより行うことができる。
例えば、図2は、スリッター装置の裁断部を示す概念図である。スリッター装置には、上下一対の裁断刃10、20が左右に配置されている。裁断刃10、20は円板上の丸刃からなり、上側裁断刃10a及び10bは回転軸11に、下側裁断刃20a及び20bは回転軸21に、それぞれ同軸上に支持されている。上側裁断刃10a及び10bと下側裁断刃20a及び20bとは、相反する方向に回転される。平版印刷版原版30は、上側裁断刃10a、10bと下側裁断刃20a,20bとの間を通されて所定の幅に裁断される。スリッター装置の裁断部の上側裁断刃10aと下側裁断刃20aとの隙間及び上側裁断刃10bと下側裁断刃20bとの隙間を調整することによりダレ形状を有する端部を形成することができる。
ここで、ダレ幅Yに相当する領域とは、上記図1における画像記録層面(保護層が形成されている場合には保護層面)1aの延長線と端面1cの延長線との交点から1aの延長線が画像記録層面(保護層が形成されている場合には保護層面)の接するまでの領域を意味する。
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactorPR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、Pt−Pd膜を3nm蒸着して導電処理して試料を作成する。この試料を、(株)日立ハイテクノロジーズ製S−4800型電界放出形走査電子顕微鏡(FE−SEM)を用いて、加速電圧30kVでSEM観察を行い、観察倍率1,500倍で端部から中央部に向かって連続写真を取得し、150×50μmの画像を得る。この画像に対して、画像処理ソフト「ImageJ」により、クラック部と陽極酸化皮膜層表面の輝度差を利用してクラック形状を抽出、2値化処理を行い、150×50μm範囲におけるクラックの割合を算出し、クラックの面積率とする。
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactor PR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、蛍光X線分析装置((株)リガク製ZSX PrimusII)で測定し、別途作成した検量線を用いて陽極酸化皮膜の陽極酸化皮膜量(g/m2)を算出する。検量線は蛍光X線分析装置から得られるコンプトン散乱線強度とメイソン法で算出した陽極酸化皮膜量の関係から作成した。メイソン法の測定精度を上げるため、メイソン液は全て新液を用いた。蛍光X線分析の条件は以下のとおりである。X線管球:Rh、測定スペクトル:RhLα、管電圧:50kV、管電流:60mA、スリット:S2、分光結晶:Ge、検出器:PC、分析面積:30mmφ、ピーク位置(2θ):89.510deg.、バックグランド(2θ):87.000deg.及び92.000deg.、積算時間:60秒/sample
平版印刷版原版の構成層(下塗り層、画像記録層、保護層)を、ヤマト科学(株)製PlasmaReactorPR300を用いて除去する。露出したアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜の表面を、カーボン又はPt−Pd膜を3nm蒸着して導電処理して試料を作成する。この試料を、(株)日立ハイテクノロジーズ製S−4800型電界放出形走査電子顕微鏡(FE−SEM)を用いて、観察倍率150,000倍で端部から中央部に向かって連続写真を取得し、400×600nmの画像を4枚得る。この4枚の画像に存在するマイクロポア90個の直径を測定し、平均してマイクロポアの平均径とする。なお、マイクロポアの形状が円形でない場合には、マイクロポアの投影面積と同じ投影面積を持つ円を想定し、その円の直径をマイクロポアの直径とする。
マイクロポアが大径孔部と小径孔部を有する場合には、大径孔部表面および小径孔部表面を倍率15万倍のFE−SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400×600nm2の範囲に存在するマイクロポア(大径孔部および小径孔部)の径を測定し、平均して各マイクロポアの平均径とする。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し後、上記操作を行う。
更に、本発明に係る機上現像型平版印刷版原版においては、端部に、水溶性化合物を含有する塗布液を塗布するなどの親水化処理を施すことなく、エッジ汚れの発生を防止することができるという特徴を有する。
本発明に係る平版印刷版の作製方法は、本発明に係る平版印刷版原版を画像露光する工程(露光工程)、及び、画像露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方により、画像記録層の未露光部を除去する工程(機上現像工程)を含む。
画像露光は、デジタルデータを赤外線レーザー等により走査露光する方法により行うことが好ましい。
露光光源の波長は、750〜1,400nmが好ましく用いられる。750〜1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。
露光工程はプレートセッターなどにより公知の方法で行うことができる。また、露光装置を備えた印刷機を用いて、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で露光を行ってもよい。
機上現像工程においては、画像露光後の平版印刷版原版に何らの現像処理を施すことなく、印刷機上において印刷インキ及び湿し水を供給して印刷を開始すると、印刷途上の初期の段階で平版印刷版原版の未露光部分が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出し非画像部が形成される。印刷インキ及び湿し水としては、公知の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が用いられる。最初に平版印刷版原版表面に供給されるのは、印刷インキでも湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質JIS 1052)に、カセイソーダ濃度25質量%、アルミニウムイオン濃度100g/L、温度60℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施す面のエッチング量は、3g/m2であった。
アルミニウム板に、温度35℃の硫酸水溶液(濃度300g/L)をスプレー管から5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
アルミニウム板を、1質量%塩酸水溶液に塩化アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lとした電解液(液温35℃)を用い、60Hzの交流電源を用いて、フラットセル型の電解槽を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。交流電源の波形は、正弦波を用いた。電気化学的粗面化処理において、交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時の電流密度は、30A/dm2であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量総和とカソード反応時の電気量総和との比は0.95であった。電気量はアルミニウム板のアノード時の電気量総和で480C/dm2であった。電解液はポンプを用いて液を循環させることで、電解槽内の撹拌を行った。
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度5g/L、温度35℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、エッチング処理を行った。アルミニウム板の電気化学的粗面化処理を施した面のエッチング量は、0.05g/m2であった。
アルミニウム板に、硫酸濃度300g/L、アルミニウムイオン濃度5g/L、液温35℃の水溶液をスプレー管から5秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。
15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)の電解液を用い、40℃、電流密度15A/dm2の条件で厚さ1,000nmの直流陽極酸化皮膜を設けた。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板を、NaOH5%水溶液を用い30℃で2秒間アルカリ処理して支持体(1)を作製した。支持体(1)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は15nmであった。陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は先に記載した方法に従って算出した数値である(以下同様)。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は80、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、陽極酸化処理の時間を調整して、陽極酸化皮膜の厚さを750nmとする他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(2)を作製した。支持体(2)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は15nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は80、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、陽極酸化処理の時間を調整して、陽極酸化皮膜の厚さを500nmとする他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(3)を作製した。支持体(3)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は15nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は80、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更し、(g)ポアワイド処理を行わなかった他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(4)を作製した。支持体(4)の陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は35nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は83、急峻度a45は23%であった。
22質量%リン酸水溶液の電解液を用い、38℃、電流密度15A/dm2の条件で厚さ500nmの直流陽極酸化皮膜を設けた。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布し、100℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が1.0g/m2の画像記録層(1)を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
・バインダーポリマー(1)〔下記構造〕 0.240部
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.245部
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造〕 0.046部
・ボレート化合物 0.010部
TPB〔下記構造〕
・重合性化合物 0.192部
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステル A−9300、新中村化学(株)製)
・低分子親水性化合物 0.062部
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050部
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008部
・特定低分子量化合物又は比較化合物〔表1に記載の化合物〕
〔表1に記載の量〕
・2−ブタノン 1.091部
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609部
・ミクロゲル(1) 2.640部
・蒸留水 2.425部
<多価イソシアネート化合物(1)の調製>
イソホロンジイソシアネート17.78g(80mmol)と下記多価フェノール化合物(1)7.35g(20mmol)との酢酸エチル(25.31g)懸濁溶液に、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)(ネオスタン U−600、日東化成(株)製)43mgを加えて攪拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間攪拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間攪拌後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン−オクチル酸塩(U−CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分攪拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲル(1)の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
(成分1)酢酸エチル:12.0g
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル)とキシレンジイソシアネート(18モル)を付加させ、これにメチル辺末端ポリオキシエチレン(1モル、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76g
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0g
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR−399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54g
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA−41−C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42g
支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、94℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量0.85g/m2の画像記録層を形成した。
・重合性化合物1*1 0.325部
・グラフトコポリマー1*2 0.060部
・グラフトコポリマー2*3 0.198部
・メルカプト−3−トリアゾール*4 0.180部
・Irgacure250*5 0.032部
・赤外線吸収剤1(下記) 0.007部
・テトラフェニルホウ酸ナトリウム(下記) 0.040部
・Klucel 99M*6 0.007部
・Byk 336*7 0.015部
・特定低分子量化合物〔表1に記載の化合物〕 〔表1に記載の量〕
・n−プロパノール 7.470部
・水 1.868部
*2:グラフトコポリマー1は、ポリ(オキシ−1,2−エタンジイル),α−(2−メチル−1−オキソ−2−プロペニル)−ω−メトキシ−,エテニルベンゼンでグラフトされたポリマーであり、これを、80%n−プロパノール/20%水の溶剤中25%の分散物である。
*3:グラフトコポリマー2は、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート/スチレン/アクリロニトリル=10:9:81のグラフトコポリマーのポリマー粒子であり、これを、n−プロパノール/水の質量比が80/20である溶媒中に、24質量%含有している分散物である。ポリマー粒子の体積平均粒径は193nmである。
*4:メルカプト−3−トリアゾールは、PCAS社(フランス)から入手可能な3−メルカプト−1H,2,4−トリアゾールである。
*5:Irgacure 250は、Ciba Specialty Chemicals社から入手可能な、ヨードニウム (4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヘキサフルオロホスフェートの75%プロピレンカーボネート溶液である。
*6:Klucel 99Mは、Hercules社から入手可能な、ヒドロキシプロピルセルロース増粘剤の1%水溶液である。
*7:Byk 336は、Byk Chemie社から入手可能な、変性ジメチルポリシロキサンコポリマーの25%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液である。
画像記録層上に、下記組成の保護層塗布液をバー塗布し、120℃で60秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版を作製した。
・無機層状化合物分散液(1)〔下記〕 1.5部
・ポリビニルアルコール(CKS50、日本合成化学工業(株)製、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55部
・ポリビニルアルコール(PVA−405、(株)クラレ製、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03部
・界面活性剤(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)1質量%水溶液 0.86部
・イオン交換水 6.0部
イオン交換水193.6gに合成雲母(ソマシフME−100、コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
上記支持体及び画像記録層を表1に記載のように組み合わせて平版印刷版原版を作製した。なお、画像記録層(1)の上には上記保護層を形成したが、画像記録層(2)の上には保護層は形成しなかった。
比較例1及び2の平版印刷版原版においては、画像記録層を塗布した後乾燥せずに、特定低分子量化合物の水溶液を、塗布装置として兵神装置(株)製2NL04を用いて塗布した。即ち、塗布装置のクリアランスを0.3mmに固定し、送液量を調整することにより、表1に記載の特定低分子量化合物の含有量となるように、端部から3cmの位置に6mmの幅で特定低分子量化合物の水溶液を塗布した。その後、100℃で60秒間オーブン乾燥した。
比較例3の平版印刷版原版の画像記録層に用いたホスマーPEは、ユニケミカル(株)のアシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート(オキシエチレンの繰り返し数:4〜5)である。
平版印刷版原版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、ダレ量50μm及びダレ幅150μmを有するダレ形状を形成した。なお、比較例の平版印刷版原版については、6mm幅の特定低分子量化合物の水溶液が塗布された領域の中心で裁断を行い、端部に3mm幅の特定低分子量化合物塗布領域を有する平版印刷版原版を得た。
ダレ幅Yに相当する部分の陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率を先に記載した方法に従って算出したところ、支持体(1)は、13%、支持体(2)は、8%、支持体(3)及び(4)は、6%であった。
平版印刷版原版について、エッジ汚れ防止性、端部の画像形成性、及び機上現像性を以下のように評価した。
平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxcel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1,000rpm、レーザー出力70%、解像度2,4000dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像、50%網点、非画像部を含むチャートを用いた。
画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製 ソイビーKKST−S(紅)、湿し水として、東洋インキ(株)製東洋ALKYを用いて、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、地汚れ解消の水目盛から1.5倍の水目盛で、1,000枚目の印刷物をサンプリングし、平版印刷版原版の端部に起因する線状汚れの程度を下記の基準で評価した。
5:全く汚れていない
4:5と3の中間レベル
3:うっすらと汚れているが許容レベル
2:3と1の中間レベル(許容レベル)
1:はっきりと汚れており非許容レベル
上記エッジ汚れ防止性の評価と同様にして画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST−S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN−1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷し、1,000、10,000、50,000、100,000枚目の印刷物をサンプリングし、平版印刷版原版の端部から内側に1mmまでの領域における画像形成性を以下の基準で評価した。
5:100,000枚印刷後も画像が印刷できている。
4:50,000枚印刷後も画像が印刷できている。
3:10,000枚印刷後も画像が印刷できている。
2:1,000枚印刷後も画像が印刷できている。
1:1,000枚印刷後では画像が印刷できていない。
上記エッジ汚れ防止性の評価と同様にして画像露光した平版印刷版原版を、(株)東京機械製作所製オフセット輪転印刷機に装着し、新聞用印刷インキとして、インクテック(株)製ソイビーKKST−S(紅)、湿し水としてサカタインクス(株)製エコセブンN−1を用い、新聞用紙に100,000枚/時のスピードで印刷した。平版印刷版原版の端部から内側に50mmまでの領域において、画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した新聞用紙の枚数を機上現像枚数として計測し、以下の基準で評価した。
5:機上現像枚数25枚以下
4:機上現像枚数26〜30枚
3:機上現像枚数31〜35枚
2:機上現像枚数36〜40枚
1:機上現像枚数100枚以上であり非許容レベル
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理及び(g)ポアワイド処理を以下のように変更した他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(5)を作製した。
15質量%硫酸水溶液を電解液として用い、50℃、電流密度30A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板を、NaOH5%水溶液を用い40℃で3秒間アルカリ処理した。その後、スプレーによる水洗を行った。
15質量%硫酸水溶液を電解液として用い、50℃、電流密度30A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(5)の陽極酸化皮膜の厚さは、1,000nmであった。支持体(5)における陽極酸化皮膜のマイクロポアは大径孔部と小径孔部から構成されており、大径孔部の深さ、大径孔部の平均径、小径孔部の深さ、小径孔部の連通位置における平均径は、各々100nm、30nm、900nm、10nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は82、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更し、(g)ポアワイド処理を行わなかった他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(6)を作製した。
13質量%リン酸水溶液を電解液として用い、35℃、電流密度4.5A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
13質量%リン酸水溶液を電解液として用い、35℃、電流密度4.5A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(6)の陽極酸化皮膜の厚さは1000nm、陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は40nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は83、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更し、(g)ポアワイド処理を行わなかった他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(7)を作製した。
13質量%リン酸水溶液を電解液として用い、35℃、電流密度4.5A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
15質量%硫酸水溶液を電解液として用い、50℃、電流密度13A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(7)の陽極酸化皮膜の厚さは1000nm、陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は40nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は83、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理及び(g)ポアワイド処理を以下のように変更した他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(8)を作製した。
3質量%硫酸水溶液を電解液として用い、20℃、電流密度15A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板を、NaOH5%水溶液を用い30℃で7秒間アルカリ処理した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(8)の陽極酸化皮膜の厚さは1000nm、陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は60nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は85、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更し、(g)ポアワイド処理を行わなかった他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(9)を作製した。
18質量%リン酸水溶液を電解液として用い、38℃、電流密度5A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(9)の陽極酸化皮膜の厚さは1000nm、陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は15nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は83、急峻度a45は23%であった。
支持体(1)の作製において、(f)陽極酸化処理を以下のように変更し、(g)ポアワイド処理を行わなかった他は、支持体(1)の作製と同様にして、支持体(10)を作製した。
18質量%リン酸水溶液を電解液として用い、38℃、電流密度30A/dm2の条件で陽極酸化処理を実施した。その後、スプレーによる水洗を行った。
支持体(10)の陽極酸化皮膜の厚さは1000nm、陽極酸化皮膜のマイクロポアの平均径は60nmであった。陽極酸化皮膜表面の明度L*の値は87、急峻度a45は23%であった。
支持体上に、下記組成の画像記録層下層塗布液をバー塗布し、100℃で30秒間オーブン乾燥して、特定低分子量化合物の塗布量が90mg/m2の画像記録層下層を形成した。
・特定低分子量化合物 〔表2に記載の化合物〕 〔表2に記載の量〕
・ポリマー(P) 〔下記構造〕 10部
・キレート剤 (キレスト3EAF、キレスト(株)製) 5部
・キレート剤 (キレスト400、キレスト(株)製) 5部
・界面活性剤 (エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
3部
・水 3000部
上記画像記録層(1)の形成において、感光液(1)における特定低分子量化合物又は比較化合物を用いない他は、画像記録層(1)の形成と同様にして画像記録層上層(1)を形成した。
上記画像記録層(2)の形成において、特定低分子量化合物を用いない他は、画像記録層(2)の形成と同様にして画像記録層上層(2)を形成した。
上記支持体、画像記録層下層、画像記録層上層を表2に記載のように組み合わせて平版印刷版原版を作製した。なお、画像記録層上層(1)の上には上記保護層を形成したが、画像記録層上層(2)の上には保護層は形成しなかった。
比較例32の平版印刷版原版においては、画像記録層下層を塗布した後乾燥せずに、特定低分子量化合物の水溶液を、塗布装置として兵神装置(株)製2NL04を用いて塗布した。即ち、塗布装置のクリアランスを0.3mmに固定し、送液量を調整することにより、表2に記載の特定低分子量化合物の含有量となるように、端部から3cmの位置に6mmの幅で特定低分子量化合物の水溶液を塗布した。その後、100℃で60秒間オーブン乾燥した。
平版印刷版原版を、図2に示すような回転刃を用いて、上側裁断刃と下側裁断刃の隙間、噛み込み量及び刃先角度を調整して裁断し、端部に表2に記載のダレ量及びダレ幅を有するダレ形状を形成した。なお、比較例32の平版印刷版原版については、6mm幅の特定低分子量化合物の水溶液が塗布された領域の中心で裁断を行い、端部に3mm幅の特定低分子量化合物塗布領域を有する平版印刷版原版を得た。
平版印刷版原版について、エッジ汚れ防止性、端部の画像形成性、及び機上現像性を実施例1と同様にして評価した。
本出願は、2017年8月30日出願の日本特許出願(特願2017−165908)、2018年5月2日出願の日本特許出願(特願2018−88781)、2018年7月30日出願の日本特許出願(特願2018−142869)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
1a 画像記録層面
1b 支持体面
1c 端面
2 ダレ
X ダレ量
Y ダレ幅
B 画像記録層面と支持体との境界
10 裁断刃
10a 上側裁断刃
10b 上側裁断刃
11 回転軸
20 裁断刃
20a 下側裁断刃
20b 下側裁断刃
21 回転軸
Claims (15)
- 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、前記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、前記画像記録層が、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、前記化合物の含有量が前記画像記録層の面内において実質的に同じであり、前記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスホン酸、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i−プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、並びにクエン酸の少なくとも一つである機上現像型平版印刷版原版。
- 前記化合物がリン酸、ポリリン酸、ホスホン酸又はホスフィン酸である請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記化合物の含有量が10〜150mg/m2である請求項1又は2に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記ダレ形状が、ダレ量Xが25〜150μm、ダレ幅Yが70〜300μmである請求項1〜3のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記平版印刷版原版のダレ幅Yに相当する領域の前記陽極酸化皮膜の表面に存在するクラックの面積率が10%以下である請求項4に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記クラックの面積率が6%以下である請求項5に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記画像記録層が、ポリマー粒子を含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記ポリマー粒子が、スチレン化合物に由来するモノマー単位、及び/又は、(メタ)アクリロニトリル化合物に由来するモノマー単位を含むポリマーの粒子である請求項7に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記画像記録層が、重合開始剤、赤外線吸収剤及び重合性化合物を含有する請求項1〜8のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、前記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、前記画像記録層が、支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、前記化合物の含有量が前記画像記録層の面内において実質的に同じであり、前記化合物が、リン酸、ポリリン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸一水素ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ホスホン酸、ホスフィン酸、エチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、i−プロピルホスホン酸、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、オクチルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、2-ヒドロキシエチルホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキルホスホン酸モノアルキルエステル及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、アルキレンジホスホン酸及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩、ポリビニルホスホン酸、p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホフタル酸、並びにクエン酸の少なくとも一つであり、前記平版印刷版原版の断面をSTEM−EDSによって、深さ方向に線分析した際に、前記アルミニウム支持体と前記画像記録層の界面から画像記録層側のいずれかの深さに支持体吸着性基に由来する元素が0.5質量%以上存在する機上現像型平版印刷版原版。
- 前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面のCIEL*a*b*表色系における明度L*の値が70〜100である請求項1〜10のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面における、波長0.2〜2μmの成分の急峻度a45が30%以下である請求項1〜11のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記陽極酸化皮膜表面にマイクロポアを有し、前記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径が10〜100nmである請求項1〜12のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ10〜1000nmの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20〜2000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、前記小径孔部の平均径が、前記大径孔部の平均径の5〜80%である請求項13に記載の機上現像型平版印刷版原版。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水から選ばれる少なくとも1つにより、画像記録層の未露光部分を除去する工程とを含む平版印刷版の作製方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017165908 | 2017-08-30 | ||
JP2017165908 | 2017-08-30 | ||
JP2018088781 | 2018-05-02 | ||
JP2018088781 | 2018-05-02 | ||
JP2018142869 | 2018-07-30 | ||
JP2018142869 | 2018-07-30 | ||
PCT/JP2018/031360 WO2019044700A1 (ja) | 2017-08-30 | 2018-08-24 | 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019044700A1 JPWO2019044700A1 (ja) | 2020-03-26 |
JP6825113B2 true JP6825113B2 (ja) | 2021-02-03 |
Family
ID=65525700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019539449A Active JP6825113B2 (ja) | 2017-08-30 | 2018-08-24 | 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11560010B2 (ja) |
JP (1) | JP6825113B2 (ja) |
CN (1) | CN111051073B (ja) |
WO (1) | WO2019044700A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7413394B2 (ja) * | 2019-09-30 | 2024-01-15 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型印刷用原版、印刷版の作製方法、及び構造体 |
EP4082804B1 (en) * | 2019-12-27 | 2024-02-14 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of producing lithographic printing plate, and printing method |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6132934A (en) * | 1998-02-09 | 2000-10-17 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat-sensitive imaging material for making lithographic printing plates requiring no processing |
JP3738940B2 (ja) * | 1998-04-02 | 2006-01-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 校正用平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
JP4252272B2 (ja) * | 2002-09-10 | 2009-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
CN102616049B (zh) * | 2011-01-31 | 2015-04-01 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版载体和预制感光版 |
JP5205480B2 (ja) * | 2011-01-31 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版 |
EP2839968B1 (en) * | 2012-03-29 | 2018-07-11 | FUJIFILM Corporation | Original plate for lithographic printing plate, and method for printing same |
JP5894905B2 (ja) | 2012-11-26 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法 |
JP6301971B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2018-03-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版の製版方法、並びに、印刷方法 |
JP6427555B2 (ja) * | 2014-02-26 | 2018-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版の処理方法及び印刷方法 |
BR112017006147A2 (pt) | 2014-09-26 | 2017-12-26 | Fujifilm Corp | precursor de placa de impressão planográfica, método de produzir o mesmo, e método de impressão usando o mesmo |
JP6205502B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2017-09-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製造方法、及びそれを用いる印刷方法 |
CN107206827B (zh) * | 2015-01-29 | 2020-01-21 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、其制造方法及利用其的印刷方法 |
JP6486741B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2019-03-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、印刷方法 |
JP2017019206A (ja) | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の積層体、及び、その製造方法 |
US20180157176A1 (en) * | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and use |
CN110997343A (zh) * | 2017-07-31 | 2020-04-10 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法 |
-
2018
- 2018-08-24 JP JP2019539449A patent/JP6825113B2/ja active Active
- 2018-08-24 CN CN201880055552.9A patent/CN111051073B/zh active Active
- 2018-08-24 WO PCT/JP2018/031360 patent/WO2019044700A1/ja active Application Filing
-
2020
- 2020-02-26 US US16/802,458 patent/US11560010B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019044700A1 (ja) | 2019-03-07 |
US11560010B2 (en) | 2023-01-24 |
JPWO2019044700A1 (ja) | 2020-03-26 |
US20200189305A1 (en) | 2020-06-18 |
CN111051073B (zh) | 2021-06-29 |
CN111051073A (zh) | 2020-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6865757B2 (ja) | 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物 | |
JP5894905B2 (ja) | 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法 | |
JP6301971B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版の製版方法、並びに、印刷方法 | |
WO2019044087A1 (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法 | |
JP5433460B2 (ja) | 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法 | |
JP6832427B2 (ja) | 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 | |
JP5789448B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
JP6427555B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版の処理方法及び印刷方法 | |
WO2019087516A1 (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法およびアルミニウム支持体の製造方法 | |
JP5651554B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法 | |
JP5244987B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
JP6608093B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 | |
JP6825113B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 | |
JP2012176606A (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
JP2019194274A (ja) | 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物 | |
JP2010228356A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP7055821B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、機上現像型平版印刷版ダミー版、及び印刷方法 | |
JP2017047564A (ja) | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 | |
CN114845883A (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制造方法及印刷方法 | |
JPWO2019064694A1 (ja) | 印刷版原版、印刷版の製造方法、印刷方法 | |
WO2021153517A1 (ja) | 機上現像型印刷用原版、印刷版の作製方法、及び印刷方法 | |
WO2023032992A1 (ja) | 平版印刷版用支持体、平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法 | |
JP2012071557A (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷方法、及び、有機粘土複合体 | |
JP2023098447A (ja) | 平版印刷版原版、及び印刷版の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210113 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6825113 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |