JP6767970B2 - 投影露光装置のための照明光学アセンブリ - Google Patents
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Description
[当初請求項1]
投影露光装置(1)のための照明光学アセンブリ(11)であって、
1.1.異なる変位位置へと変位可能である複数の第1のファセット(21 i )を有する第1のファセット要素(6)と、
1.2.複数の第2のファセット(25 i )を有する第2のファセット要素(7)と、 を含み、
1.3.照明放射線(3)を用いて物体視野(8)を照明するための照明チャネルが、前記第2のファセット(25 i )のうちのそれぞれの1つへの前記第1のファセット(21 i )のうちのそれぞれの1つの割り当てによって定められ、
1.4.前記第1のファセット(21 i )は、各場合に複数の変位可能な個々のミラー(31)によって形成され、
1.4.1.前記第1のファセット(21 i )の前記個々のミラー(31)の各々が、前記それぞれ割り当てられた第2のファセット(25 i )上に中間フォーカス(ZF)の像を各場合に生成するように変位可能であり、
1.5.前記第1のファセット(21 i )の前記個々のミラー(31)の前記変位位置は、前記中間フォーカス(ZF)内の前記照明放射線(2)の予め定められた強度分布(36)の場合に、前記第2のファセット要素(7)の前記ファセット(25 i )の領域内の該照明放射線(2)が、
1.5.1.最大で予め定められた最大強度(I max )に等しいか、又は
1.5.2.強度分布(37)の平均値(M)よりも最大で予め定められたファクター(因子または係数)又は絶対値によって大きくなった、
最大値を備えた前記強度分布(37)を有するように選択される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項2]
前記第2のファセット要素(7)は、複数のモジュール式マルチミラー要素(34)を有するマルチミラーアレイ(33)を含み、該マルチミラー要素(34)は、各場合に該第2のファセット要素(7)の領域内の前記中間フォーカス(ZF)の前記像の寸法に少なくとも等しい寸法を有することを特徴とする当初請求項1に記載の照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項3]
与えられた第1のファセット(21 i )の前記個々のミラー(31)のうちの複数のものの前記変位位置は、それらが前記それぞれ割り当てられた第2のファセット(25 i )上に互いに対して最小絶対値だけオフセットされた最大値を有する前記中間フォーカス(ZF)の像を生成するように選択されることを特徴とする当初請求項2に記載の照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項4]
前記第1のファセット(21 i )のうちの少なくとも1つの前記個々のミラー(31)は、前記中間フォーカス(ZF)内の与えられた強度分布の場合に、対応する第2のファセット(25 i )上の該中間フォーカス(ZF)の前記像の前記強度分布(36)が該中間フォーカス(ZF)内の該強度分布(37)の照明光学アセンブリ(11)の結像スケールによってスケーリングされた半値全幅よりも少なくとも10%大きい半値全幅を有するように変位されることを特徴とする当初請求項1から当初請求項3のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項5]
前記第1のファセット(21 i )の前記個々のミラー(31)は、瞳の領域内の照明チャネルが走査方向に対して垂直な方向において該走査方向のそれらの位置に依存する距離にあるように変位されることを特徴とする当初請求項1から当初請求項4のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項6]
当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)を設定する方法であって、
6.1.当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)を与える段階と、
6.2.中間フォーカス(ZF)内の強度分布(36)を予め定める段階と、
6.3.照明チャネルを形成するために第2のファセット(25 i )の少なくとも1つの部分集合への第1のファセット(21 i )の少なくとも1つの部分集合の割り当てを予め定める段階と、
6.4.前記第2のファセット(25 i )上に入射することが許される最大強度(I max )を予め定める段階と、
6.5.前記与えられた割り当ての場合に前記第2のファセット(25 i )上に入射する強度(I(σ))の分布を決定する段階と、
6.6.前記第1のファセット(21 i )の個々のミラー(31)の部分集合を前記第2のファセット(25 i )上の前記強度(I(σ))が最大でI max に等しいように変位させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。
[当初請求項7]
前記個々のミラー(31)の前記変位後に前記第2のファセット(25 i )によって得られる最小伝達率(T min )が予め定められることを特徴とする当初請求項6に記載の方法。
[当初請求項8]
前記第2のファセット(25 i )のサイズが、反射される電力、及び/又は熱負荷、及び/又は予め定められる最小伝達率(T min )に依存して選択されることを特徴とする当初請求項6及び当初請求項7のいずれか1項に記載の方法。
[当初請求項9]
投影露光装置(1)の照明光学アセンブリ(11)のためのファセットミラー(7)であって、
複数の変位可能な個々のミラー(35)を有するマルチミラーアレイ(MMA)、
を含み、
前記マルチミラーアレイ(33)の前記個々のミラー(35)の個数及び配置が、仮想ファセット(25 i )を形成するためのそのグループ分けの可能性が可約表現を有するように選択される、
ことを特徴とするファセットミラー(7)。
[当初請求項10]
10.1.当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)と、
10.2.放射線源(2)と、
を含むことを特徴とする照明系(20)。
[当初請求項11]
11.1.当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)と、
11.2.投影光学アセンブリ(10)と、
を含むことを特徴とする光学系。
[当初請求項12]
12.1.当初請求項11に記載の光学系と、
12.2.放射線源(2)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置(1)。
[当初請求項13]
微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(12)を与える段階と、
照明放射線(3)に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ(19)を与える段階と、
当初請求項12に記載の投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(12)の少なくとも1つのセクションを前記ウェーハ(19)の上に投影する段階と、
前記ウェーハ(19)上で前記照明放射線(3)によって露光された前記感光層を現像(developing)する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
[当初請求項14]
当初請求項13に記載の方法に従って生成された構成要素。
図1内の挿入図は、正確な縮尺のものではない物体視野8の平面図を示している。境界線形状8aは円弧形である。別の同じく可能な物体視野8では、その境界線形状は、同じくアスペクト比x0/y0を有する矩形である。
6 第1のファセットミラー
11 照明光学アセンブリ
32、33 マルチミラーアレイ
ZF 中間フォーカス
Claims (13)
- 投影露光装置(1)のための照明光学アセンブリ(11)であって、
1.1.異なる変位位置へと変位可能である複数の第1のファセット(21i)を有する第1のファセット要素(6)と、
1.2.複数の第2のファセット(25i)を有する第2のファセット要素(7)と、 を含み、
1.3.照明放射線(3)を用いて物体視野(8)を照明するための照明チャネルが、前記第2のファセット(25i)のうちのそれぞれの1つへの前記第1のファセット(21i)のうちのそれぞれの1つの割り当てによって定められ、
1.4.前記第1のファセット(21i)は、各場合に複数の変位可能な個々のミラー(31)によって形成され、
1.4.1.前記第1のファセット(21i)の前記個々のミラー(31)の各々が、前記それぞれ割り当てられた第2のファセット(25i)上に中間フォーカス(ZF)の像を各場合に生成するように変位可能であり、
1.5.前記第1のファセット(21i)の前記個々のミラー(31)の前記変位位置は、前記中間フォーカス(ZF)内の前記照明放射線(2)の予め定められた強度分布(36)の場合に、前記第2のファセット要素(7)の前記ファセット(25i)の領域内の該照明放射線(2)が、
1.5.1.最大で予め定められた許容最大値(Imax)に等しいか、又は
1.5.2.最大で、
i)強度分布(37)の平均値(M)に所定の係数を乗じた値、又は
ii)前記平均値(M)に、所定の絶対値を加えた値
であるような最大値を備えた前記強度分布(37)を有するように選択される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。 - 前記第2のファセット要素(7)は、複数のモジュール式マルチミラー要素(34)を有するマルチミラーアレイ(33)を含み、該マルチミラー要素(34)は、各場合に該第2のファセット要素(7)の領域内の前記中間フォーカス(ZF)の前記像の寸法に少なくとも等しい寸法を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学アセンブリ(11)。
- 与えられた第1のファセット(21i)の前記個々のミラー(31)のうちの複数のものの前記変位位置は、それらが前記それぞれ割り当てられた第2のファセット(25i)上に互いに対して最小絶対値だけオフセットされた最大値を有する前記中間フォーカス(ZF)の像を生成するように選択されることを特徴とする請求項2に記載の照明光学アセンブリ(11)。
- 前記第1のファセット(21i)のうちの少なくとも1つの前記個々のミラー(31)は、前記中間フォーカス(ZF)内の与えられた強度分布の場合に、対応する第2のファセット(25i)上の該中間フォーカス(ZF)の前記像の前記強度分布(36)が該中間フォーカス(ZF)内の該強度分布(37)の照明光学アセンブリ(11)の結像スケールによってスケーリングされた半値全幅よりも少なくとも10%大きい半値全幅を有するように変位されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)。
- 前記第1のファセット(21i)の前記個々のミラー(31)は、瞳の領域内の照明チャネルが走査方向に対して垂直な方向において該走査方向のそれらの位置に依存する距離にあるように変位されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)。
- 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)を設定する方法であって、
6.1.請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)を与える段階と、
6.2.中間フォーカス(ZF)内の強度分布(36)を予め定める段階と、
6.3.照明チャネルを形成するために第2のファセット(25i)の少なくとも1つの部分集合への第1のファセット(21i)の少なくとも1つの部分集合の割り当てを予め定める段階と、
6.4.前記第2のファセット(25i)上に入射することが許される許容最大値(Imax)を予め定める段階と、
6.5.前記与えられた割り当ての場合に前記第2のファセット(25i)上に入射する強度(I(σ))の分布を決定する段階と、
6.6.前記第1のファセット(21i)の個々のミラー(31)の部分集合を前記第2のファセット(25i)上の前記強度(I(σ))が最大でImaxに等しいように変位させる段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記個々のミラー(31)の前記変位後に前記第2のファセット(25i)によって得られる最小伝達率(Tmin)が予め定められることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記第2のファセット(25i)のサイズが、反射される電力、及び/又は熱負荷、及び/又は予め定められる最小伝達率(Tmin)に依存して選択されることを特徴とする請求項6及び請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)であって、前記第2のファセット要素(7)が、
複数の変位可能な個々のミラー(35)を有するマルチミラーアレイ(MMA)、
を含み、
前記マルチミラーアレイ(33)の前記個々のミラー(35)の個数及び配置が、仮想ファセット(25i)を形成するためのそのグループ分けの可能性が可約表現を有するように選択される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。 - 10.1.請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)と、
10.2.放射線源(2)と、
を含むことを特徴とする照明系(20)。 - 11.1.請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)と、
11.2.投影光学アセンブリ(10)と、
を含むことを特徴とする光学系。 - 12.1.請求項11に記載の光学系と、
12.2.放射線源(2)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(12)を与える段階と、
照明放射線(3)に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ(19)を与える段階と、
請求項12に記載の投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(12)の少なくとも1つのセクションを前記ウェーハ(19)の上に投影する段階と、
前記ウェーハ(19)上で前記照明放射線(3)によって露光された前記感光層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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