JP6683688B2 - 投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ - Google Patents

Description

本出願は、引用によって本明細書にその内容が組み込まれているドイツ特許出願ＤＥ１０ ２０１４ ２１７ ６１０．７の優先権を主張するものである。

本発明は、投影リソグラフィのための照明光学アセンブリに関する。本発明は、更に、そのような照明光学アセンブリを含む光学系、そのような照明光学アセンブリを含む照明系、そのような光学系を含む投影露光装置、微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及び本方法によって生成される構成要素に関する。

伝達光学アセンブリと下流に変位された少なくとも１つの照明事前定義ファセットミラーとを含む照明光学アセンブリは、ＷＯ ２０１０／０９９８０７ Ａ１及びＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１から公知である。

ＷＯ ２０１０／０９９８０７ Ａ１ ＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１

本発明の目的は、照明光学アセンブリの事前定義瞳セクションの可能な限り均一な照明が達成されるように冒頭に言及したタイプの照明光学アセンブリを発展させることである。

この目的は、当初請求項１に記載の特徴を含む照明光学アセンブリを用いた第１の態様、及び当初請求項２に記載の特徴を含む照明光学アセンブリを用いた第２の態様により、本発明によって達成される。
［当初請求項１］
物体視野（８）を通って物体変位方向（ｙ）に投影露光中に変位される結像すべき物体（１２）が配置可能である該物体視野（８）を照明するための投影リソグラフィのための照明系の一部としての照明光学アセンブリであって、
照明光（３）の反射案内のための第１のファセット（２１）を有する第１のファセットミラー（６）を含み、
前記物体視野（８）に向けての、前記第１のファセットミラー（６）によって反射された前記照明光（３）の反射案内のための第２のファセットミラー（７）を含み、
前記第２のファセットミラー（７）は、それぞれの照明光部分ビーム（３ _i ）を前記物体視野（８）内に案内するための第２のファセット（２５）を有し、
前記第２のファセットミラー（７）は、照明光学アセンブリ（１１）の瞳平面（１２ｂ）から距離を置かれ、
照明光学アセンブリ（１１）が、前記照明光部分ビーム（３ _i ）を生成するためのＥＵＶ光源（２）を使用して前記瞳平面（１２ｂ）内の入射瞳（１２ａ）が、複数の第２のファセット（２５）を通じて前記照明光（３）がその上に入射する少なくとも１つの拡張された照明される瞳領域を有し、該照明される瞳領域内で該瞳領域の１０％よりも小さい区域が、該瞳領域上に入射する平均照明強度の１０％未満である限界照明強度によって入射されるように具現化される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ。
［当初請求項２］
照明光（３）の反射案内のための第１のファセット（２１）を有する第１のファセットミラー（６）を含み、
物体視野（８）に向けての、前記第１のファセットミラー（６）によって反射された前記照明光（３）の反射案内のための第２のファセットミラー（７）を含み、
前記第２のファセットミラー（７）が、それぞれの照明光部分ビーム（３ _i ）を前記物体視野（８）内に案内するための第２のファセット（２５）を有し、
前記第２のファセットミラー（７）が、該第２のファセットミラー（７）に最も近い（ｃｌｏｓｅｓｔ ａｄｊａｃｅｎｔ）照明光学アセンブリ（１１）の瞳平面（１２ｂ）から瞳距離（ＰＡ）にある、
物体変位方向（ｙ）に沿って走査長（ｙ ₀ ）を有する前記物体視野（８）を通って該物体変位方向（ｙ）に投影露光中に変位される結像すべき物体（１２）が配置可能である該物体視野（８）を照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ（１１）であって、
前記第２のファセット（２５）は、格子（ｇｒｉｄ：グリッド）に配置され、該格子の少なくとも１つの格子定数（ｄ；ｄ _x ，ｄ _y ）が、前記瞳距離（ＰＡ）によって、そして前記走査長（ｙ ₀ ）によって事前定義される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ（１１）。

本発明により、指定された限界値に則した瞳照明が入射瞳の照明瞳領域の特に良好な均一化をもたらすことが認識された。照明瞳領域は、瞳領域上に入射する平均照明強度の少なくとも１０％である限界照明強度で全面的に、すなわち、間隙（ｇａｐｓ）なく入射を受けることができる。この下限値は、１０％よりも大きく、例えば、２０％、３０％、４０％、又は５０％とすることができる。平均照明強度の１０％よりも低い限界照明強度による入射を受ける間隙が照明瞳領域内に残る限り、これらの間隙は、照明瞳領域の１０％よりも有意に小さいとすることができ、例えば、８％、５％、３％、２％、又は１％とすることができる。照明される物体に対して走査積分方式でもたらされる入射瞳の照明強度分布は、１よりも多い第２のファセットを通して（ｖｉａ ｍｏｒｅ ｔｈａｎ ｏｎｅ ｓｅｃｏｎｄ ｆａｃｅｔ）、例えば、２つの第２のファセット又は３つの第２のファセットを通して照明される瞳領域を有することができる。これも、入射瞳の照明瞳領域の均一化に寄与する。照明光学アセンブリ及び対応する光源を使用することで、走査積分方式で事前定義値から許容値末端だけ外れる照明される事前定義瞳領域にわたる照明光による均一な照明をもたらす照明系を生成することができる。

当初請求項２に記載の照明光学アセンブリは、リソグラフィ投影露光に特に適している。この照明光学アセンブリの利点は、上述したものに対応する。第１に第２のファセットミラーとそれに隣接する瞳平面の間の瞳距離に依存し、第２に走査長（ｓｃａｎ ｌｅｎｇｔｈ）、すなわち、物体変位方向の物体視野の広がりに依存する第２のファセットミラーの第２のファセットのファセット配置の格子定数は、瞳平面内の照明均一性の最適化をもたらす。その結果は、投影露光中に構造分解能に対して正の影響を有する相応に改善された物体照明である。この場合に、各場合に照明光部分ビームを案内する２つのファセットミラーのファセットを通して事前定義される照明チャネルに沿った照明光部分ビームに対する異なる空間ビーム案内幾何学形状に起因する光学境界条件を考慮するために、配置の格子定数は厳密に一定というわけではない。瞳距離と走査長とに依存する格子定数の選択は、物体視野を通じた物体点の変位に起因する１つの照明光部分ビームから別の照明光部分ビームへの物体点の照明中の移行に起因する照明不均一性の低減をもたらす。従って、物体点が物体視野を通じたその変位中に１つの同じ照明方向から異なる照明光部分ビームによって照明される場合であっても均一化が達成される。従って、異なる照明光部分ビームによる部分視野照明は、物体視野全体にわたる照明均一性を達成する時に問題とはならない。瞳距離は、一方で瞳平面に配置された入射瞳と他方で第２のファセットミラーとの間の光路の測定量を表している。

当初請求項３から当初請求項８に記載の格子配置は、特に適切であることが見出されている。当初請求項４に記載の配置の場合に、特に格子定数の半分のシフトを実施することができ、それによって特に良好な均一化がもたらされる。当初請求項６に記載のデカルト格子（Ｃａｒｔｅｓｉａｎ ｇｒｉｄ）については、隣接行（ａｄｊａｃｅｎｔ ｌｉｎｅｓ）を互いに対して格子定数の半分だけシフトすることができる。隣接行はまた、例えば、格子定数の３分の１、又は半分よりも小さい異なる分量だけ互いに対してシフトすることができる。当初請求項８に記載の１よりも多い格子定数は、物体視野を像視野に結像する投影光学アセンブリの異なる結像走査を考慮することができる。
［当初請求項３］
前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その行（Ｚ）及び列が、前記物体変位方向に対して垂直（ｘ）及び平行（ｙ）に延びることを特徴とする当初請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
［当初請求項４］
前記物体変位方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）に延びる前記第２のファセット（２５）のそれぞれ隣接する行が、前記格子定数（ｄ）の約数だけ互いに対してシフトされることを特徴とする当初請求項３に記載の照明光学アセンブリ。
［当初請求項５］
前記第２のファセット（２５）は、六角格子に配置されることを特徴とする当初請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
［当初請求項６］
前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その行及び列が、前記物体変位方向（ｙ）に対して１０°と８０°の間の角度で延びることを特徴とする当初請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
［当初請求項７］
前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その前記行及び列は、前記物体変位方向（ｙ）に対して４５°の角度で延びることを特徴とする当初請求項６に記載の照明光学アセンブリ。
［当初請求項８］
前記格子は、１よりも多い格子定数（ｄ _x ，ｄ _y ）を有することを特徴とする当初請求項２から当初請求項７のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリ。

上記で記述した両方の態様の照明光学アセンブリの特徴は、あらゆる望ましい手法で互いに組み合わせることができる。

当初請求項９に記載の照明系、当初請求項１０に記載の光学系、当初請求項１１に記載の投影露光装置、当初請求項１２に記載の生成方法、及び当初請求項１３に記載の微細又はナノ構造化構成要素の利点は、照明光学アセンブリに関して上述したものに対応する。
［当初請求項９］
当初請求項１から当初請求項８のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリと、
光源（２）と、
を含むことを特徴とする照明系。
［当初請求項１０］
当初請求項１から当初請求項８のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリと、
物体視野（８）を像視野（１７）内に結像するための投影光学アセンブリ（１０）と、 を含むことを特徴とする光学系。
［当初請求項１１］
当初請求項１０に記載の光学系と、
光源（２）と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。
［当初請求項１２］
微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル（１２）を与える段階と、
照明光（３）に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ（１９）を与える段階と、
当初請求項１１に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１２）の少なくとも１つのセクションを前記ウェーハ（１９）の上に投影する段階と、
前記ウェーハ（１９）上で前記照明光（３）によって露光された前記感光層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
［当初請求項１３］
当初請求項１２に記載の方法に従って生成された構成要素。

生成される構成要素は、半導体素子、特にマイクロチップ、特にメモリチップとすることができる。

図面を参照して本発明の例示的実施形態を下記でより詳細に説明する。

光源と、照明光学アセンブリと、投影光学アセンブリとを含むＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置を非常に概略的に示す子午断面図である。 中間フォーカスから進んで投影光学アセンブリの物体平面内の照明視野又は物体視野の領域に配置されたレチクルに至る図１に記載の照明光学アセンブリの瞳照明ユニット内の代表的な個々の光線のビーム経路を略例示する類似の子午断面図である。 視野平面に配置された結像光学アセンブリの伝達ファセットミラーの平面図である。 ２つのファセットミラーを通してｘ二重極（ｘ−ｄｉｐｏｌｅ）照明設定が設定される場合の個々のミラーブロックへの伝達ファセットミラーの再分割を示し、照明光学アセンブリ内で下流に配置された照明事前定義ファセットミラーの照明事前定義ファセットが割り当てられる仮想ファセット群又は個々のミラー群を構成する照明されるセクションの伝達ファセットミラー上での割り当てを強調した図である。 照明光学アセンブリの瞳平面から距離を置いて配置された照明光学アセンブリの照明事前定義ファセットミラーの平面図である。 照明光学アセンブリの瞳平面から距離を置いて配置された照明事前定義ファセットミラーを有する図１及び図２に記載の照明光学アセンブリの使用によるｙ二重極（ｙ−ｄｉｐｏｌｅ）照明設定の場合の走査積分瞳強度分布の概略平面図である。 図６に記載の照明設定の場合に照明事前定義ファセットを通して照明される物体視野からの略抜粋図である。 照明事前定義ファセットが六角配置される場合の図５に記載の照明事前定義ファセットミラーのファセット配置からの拡大抜粋図である。 照明事前定義ファセットを行毎に異なる破線を用いて強調表示した図８に記載の照明事前定義ファセットの配置を示す拡大図である。 図８及び図９に記載の照明事前定義ファセットの配置を用いた場合の走査積分瞳強度分布からの抜粋図である。 デカルト配置の行の照明事前定義ファセットが各場合にこの配置の隣接行に関する照明事前定義ファセットに対してデカルト配置の格子定数の半分だけシフトしたデカルトシフト配置で照明事前定義ファセットが存在する照明事前定義ファセットミラーの更に別の実施形態のファセット配置からの拡大抜粋図である。 照明事前定義ファセットを行毎に異なる破線で強調表示した図１１に記載の照明事前定義ファセットの配置の拡大図である。 図１１及び図１２に記載の照明事前定義ファセットの配置を用いた場合の走査積分瞳強度分布からの抜粋図である。 照明事前定義ファセットが物体変位方向に４５°回転されたデカルト配置で存在する照明事前定義ファセットミラーの更に別の実施形態のファセット配置からの拡大抜粋図である。 照明事前定義ファセットを行毎に異なる破線で強調表示した図１４に記載の照明事前定義ファセットの配置の拡大図である。 図１４及び図１５に記載の照明事前定義ファセットの配置を用いた場合の走査積分瞳強度分布からの抜粋図である。 照明事前定義ファセットが物体変位方向に対する回転のないデカルト配置で存在する照明事前定義ファセットミラーの更に別の実施形態のファセット配置からの拡大抜粋図である。 １よりも多い格子定数、すなわち、２つの格子定数を有する照明事前定義ファセットミラーの更に別の実施形態の照明事前定義ファセットのデカルト配置の例を示す図である。 １よりも多い格子定数、すなわち、２つの格子定数を有する照明事前定義ファセットミラーの更に別の実施形態の照明事前定義ファセットのデカルト配置の例を示す図である。

非常に概略的に図１の子午断面図に示すマイクロリソグラフィのための投影露光装置１は、照明光３のための光源２を有する。光源は、５ｍｍと３０ｍｍの間の波長領域の光を生成するＥＵＶ光源である。ＥＵＶ光源は、ＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）光源、ＤＰＰ（放電生成プラズマ）光源、又はシンクロトロン放射線を利用する光源、例えば、自由電子レーザ（ＦＥＬ）とすることができる。

光源２から発する照明光３を案内するために、伝達光学アセンブリ４が使用される。伝達光学アセンブリ４は、図１には反射効果に関してしか例示していないコレクター５と、下記で更に詳細に記載し、第１のファセットミラー又は視野ファセットミラーとも表示する伝達ファセットミラー６とを有する。コレクター５と伝達ファセットミラー６の間には照明光３の中間フォーカス５ａが配置される。中間フォーカス５ａの領域内の照明光３の開口数は、例えば、ＮＡ＝０．１８２である。伝達ファセットミラー６の下流、従って、伝達光学アセンブリ４の下流には、第２のファセットミラー、又は更に別のファセットミラーとも表示し、同じく下記で更に詳細に説明する照明事前定義ファセットミラー７が配置される。光学構成要素５から７は、投影露光装置１の照明光学アセンブリ１１の一部である。

伝達ファセットミラー６は、照明光学アセンブリ１１の視野平面に配置される。

照明光学アセンブリ１１の照明事前定義ファセットミラー７は、照明光学アセンブリ１１の瞳平面から距離を置いて配置される。そのような配置を鏡面反射器とも表示する。

照明事前定義ファセットミラー７の下流の照明光３のビーム経路にはレチクル１２が配置され、このレチクルは、下流にある投影露光装置１の投影光学アセンブリ１０の物体平面９に配置される。投影光学アセンブリ１０は投影レンズである。照明光学アセンブリ１１は、物体平面９内のレチクル１２上の物体視野８を定められた方式で照明するために使用される。物体視野８は、同時に照明光学アセンブリ１１の照明視野を構成する。一般的には、物体視野８を照明視野に配置することができるように照明視野が形成されるということができる。

伝達ファセットミラー６と同様に、照明事前定義ファセットミラー７は、照明光学アセンブリ１１の瞳照明ユニットの一部であり、投影光学アセンブリ１０の瞳平面１２ｂ内の入射瞳１２ａを事前定義された瞳強度分布を有する照明光３で照明するように機能する。投影光学アセンブリ１０の入射瞳１２ａは、物体視野８の上流又は他に物体視野８の下流の照明ビーム経路に配置することができる。図１は、入射瞳１２ａが物体視野８の下流の照明ビーム経路に配置される場合を示している。この場合に、第２のファセットミラー７と瞳平面１２ｂの間で、瞳距離ＰＡは、第２のファセットミラー７と物体平面９の間のｚ距離ＰＡ１と、物体平面９と瞳平面１２ｂの間のｚ距離ＰＡ２との和としてもたらされる。従って、ＰＡ＝ＰＡ１＋ＰＡ２が成り立つ。瞳距離ＰＡは、ビーム方向に測定される。瞳距離の測定量は、各場合に物体平面９（ｚ＝０）から進行する第１に以下でｚＥＰと表示する入射瞳１２ａのｚ座標ｚＥＰと、以下でｚＳＲと表示する第２のファセットミラー７のｚ座標とである。

位置関係の提示を容易にするために、以下ではデカルトｘｙｚ座標系を使用する。図１では、ｘ方向は作図面と垂直にその中に延びる。ｙ方向は、図１の右に延びる。ｚ方向は、図１内で下向きに延びる。図面に使用する座標系は、各場合に互いに平行に延びるｘ軸を有する。この座標系のｚ軸の進路は、それぞれ着目する図内で照明光３のそれぞれの主方向を辿る。

物体視野８は、円弧形又は部分的に円形の形状を有し、互いに平行な２つの円弧と、ｙ方向に長さｙ₀を有するように延び、ｘ方向に互いから距離ｘ_oにある２つの真っ直ぐな側縁とによって境界が定められる。アスペクト比ｘ₀／ｙ₀は、１３対１（１３ ｔｏ １）である。図１内の挿入図は、正確な縮尺のものではない物体視野８の平面図を示している。境界形状８ａは円弧形である。別の同じく可能な物体視野８では、その境界形状は、同じくアスペクト比ｘ₀／ｙ₀を有する矩形である。

図１には、投影光学アセンブリ１０を部分的かつ非常に概略的にしか示していない。投影光学アセンブリ１０の物体視野側開口数１３及び像視野側開口数１４を示している。例えば、照明光３に対して反射性を有するミラーとして具現化することができる構成要素である、投影光学アセンブリ１０の図示の光学構成要素１５、１６の間には、これらの光学構成要素１５、１６の間で照明光３を案内するために、投影光学アセンブリ１０の図１には示していない更に別の光学構成要素が置かれる。

投影光学アセンブリ１０は、レチクル１２と同じくホルダ（具体的な詳細を示していない）によって支持される（ｃａｒｒｉｅｄ）ウェーハ１９上の像平面１８の像視野１７上に物体視野８を結像する。レチクルホルダとウェーハホルダの両方は、対応する変位デバイスを用いてｘ方向とｙ方向の両方に変位可能である。図１には、ウェーハホルダの構造的空間要件を２０の矩形のボックスとして例示している。構造的空間要件２０は、そこに含まれる構成要素に依存するｘ方向、ｙ方向、及びｙ方向の広がりを有する矩形である。構造的空間要件２０は、例えば、像視野１７の中心から進んでｘ方向及びｙ方向に１ｍの広がりを有する。ｚ方向にも、構造的空間要件２０は、像平面１８から進んで例えば１ｍの広がりを有する。照明光３は、照明光学アセンブリ１１及び投影光学アセンブリ１０内で各場合に構造的空間要件２０のそばを通過するように案内しなければならない。

伝達ファセットミラー６は、第１のファセットとも表示する複数の伝達ファセット２１を有する。伝達ファセットミラー６は、ＭＥＭＳミラーとして具現化することができる。伝達ファセット２１は、少なくとも２つの傾斜位置の間で切換可能であるマイクロミラーとして具現化された個々のミラーである。伝達ファセット２１は、互いに垂直な２つの回転軸の周りに従動方式で傾斜可能なマイクロミラーとして具現化することができる。

これらの個々のミラー又は伝達ファセット２１から合計で９つの伝達ファセット２１を有する行（ｌｉｎｅ）を図２に記載のｙｚ断面図に略示しており、図２ではこれらの伝達ファセットを左から右に２１₁から２１₉で添字表示している。実際には、伝達ファセットミラー６は有意に多数の伝達ファセット２１を有する。伝達ファセット２１は、図２にはそれ程具体的な詳細を示していない複数の伝達ファセット群にグループ分けされる（この点に関しては特に図４を参照されたい）。これらの伝達ファセット群を仮想視野ファセット又は仮想ファセット群とも表示する。

伝達ファセット群の各々は、物体視野８の部分照明又は完全照明のために照明光３の一部分を照明チャネルを通して案内する。この照明チャネル及びそれを通して案内される照明光部分ビーム３_i（例えば、図８を参照されたい）を通して、照明事前定義ファセットミラー７の正確に１つの照明事前定義ファセット２５が、各場合に個々のミラー群又は伝達ファセット群のうちの１つに割り当てられる。原理的には、照明事前定義ファセット２５の各々自体も、複数の個々のミラーから構成することができる。以下では、照明事前定義ファセット２５を第２のファセットとも表示する。

伝達ファセットミラー６及び投影光学アセンブリ１０の可能な実施形態の更なる詳細に関しては、ＷＯ ２０１０／０９９ ８０７ Ａを参照されたい。

照明事前定義ファセット２５の少なくとも一部は、物体視野８の部分ゾーン又は部分視野のみを照明することができる。これらの部分視野は非常に個別的に成形されたものであり、更に、物体視野８内の望ましい照明方向分布（瞳形状）、すなわち、照明設定に依存する。従って、照明事前定義ファセット２５は、照明されるそれぞれの部分視野の形状に厳密に対応する形状を有する非常に別様に成形された仮想視野ファセットによって照明される。更に、各照明事前定義ファセット２５は、物体視野８内の場所に依存して異なる瞳領域に寄与する。

照明事前定義ファセットミラー７は、特に照明事前定義ファセット２５の各々が複数の個々のミラーから構成される場合にＭＥＭＳミラーとして具現化することができる。照明事前定義ファセット２５は、少なくとも２つの傾斜位置の間で切換可能なマイクロミラーである。照明事前定義ファセット２５は、２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに連続的に独立して従動方式で傾斜可能であるすなわち、複数の異なる傾斜位置に配置することができるマイクロミラーとして具現化することができる。

図２には、照明事前定義ファセット２５への個々の伝達ファセット２１の事前定義された割り当ての一例を示している。伝達ファセット２１₁から２１₉にそれぞれ割り当てられた照明事前定義ファセット２５をこの割り当てに従って添字表示している。照明事前定義ファセット２５は、この割り当てに基づいて左から右に２５₆、２５₈、２５₃、２５₄、２５₁、２５₇、２５₅、２５₂、及び２５₉の順序で照明される。

ファセット２１、２５の添字６、８、及び３は、図２で左から右に番号を振った３つの物体視野点ＯＦ１、ＯＦ２、ＯＦ３を第１の照明方向から照明する３つの照明チャネルＶＩ、ＶＩＩＩ、及びＩＩＩを含む。ファセット２１、２５の添字４、１、及び７は、３つの物体視野点ＯＦ１からＯＦ３を第２の照明方向から照明する３つの更に別の照明チャネルＩＶ、Ｉ、ＶＩＩに属する。ファセット２１、２５の添字５、２、及び９は、３つの物体視野点ＯＦ１からＯＦ３を第３の照明方向から照明する３つの更に別の照明チャネルＶ、ＩＩ、及びＩＸに属する。

以下の照明チャネルに割り当てられた照明方向は、各場合に同一である。
−照明チャネルＶＩ、ＶＩＩＩ、ＩＩＩ、
−照明チャネルＩＶ、Ｉ、ＶＩＩ、及び
−照明チャネルＶ、ＩＩ、ＩＸ。
従って、照明事前定義ファセット２５への伝達ファセット２１の割り当ては、絵画的に示す照明例の場合に物体視野８のテレセントリック照明がもたらされるようなものである。

伝達ファセットミラー６及び照明事前定義ファセットミラー７を通じた物体視野８の照明は、鏡面反射器方式に実施することができる。鏡面反射器の原理は、ＵＳ ２００６／０１３２７４７ Ａ１から公知である。

図３は、伝達ファセットミラー６の平面図を示している。伝達ファセットミラー６上の伝達ファセット２１の個数は非常に多く、従って、図３では個々の伝達ファセット２１を識別することができない。伝達ファセット２１は、照明光３の遠視野２７ａ（図１を参照されたい）で照明される２つのほぼ半円形のファセット領域２６、２７内でブロックで配置される。

図４は、各々が平行四辺形の形態にある縁部輪郭を有する複数の個々のミラーブロック２７ｂへの伝達ファセットミラー６の再分割を図３からの抜粋図に示している。個々のミラーブロック２７ｂの各々は、約４０×４０個の個々のミラー２１を有する。更に、図４は、伝達ファセット群２８、すなわち、仮想視野ファセットへの伝達ファセット２１の割り当てを強調表示している。伝達ファセット群又は個々のミラー群２８への伝達ファセットミラー６の伝達ファセット又は個々のミラー２１のグループ分けは、事前定義傾斜位置へのこれらの個々のミラー２１の共通の傾斜によって実施される。正確に１つの個々のミラー群２８の個々のミラーの傾斜位置は、一般的に互いに非常に似通っており、他の個々のミラー群２８に属する隣接する個々のミラー２１の傾斜位置とは一般的にかなり異なる。伝達ファセット群２８は、各場合に照明事前定義ファセットミラー７を通して物体視野８に結像される。伝達ファセット群２８のそれぞれのものの全ての伝達ファセット２１が、１つの同じ照明事前定義ファセット２５を照明する。

図４に記載の伝達ファセット群２８による伝達ファセットミラー６の占有は、特定の照明設定、すなわち、照明瞳内の照明光の特定の事前定義強度分布を有する照明光学アセンブリ１１の照明瞳に向けて設計されたものである。

そのような照明設定の一例は二重極（ｄｉｐｏｌｅ）照明設定である。そのような照明設定の場合に、照明光学アセンブリ１１の瞳平面には、瞳座標σ_x/y内で互いから分離した２つの照明瞳領域が存在する。

図４に記載の占有の場合に、伝達ファセット群２８は、その大部分が矩形である。

個々のミラー群２８は、伝達ファセットミラー６の場所でＥＵＶ照明光３の遠視野２７ａを８０％よりも大きく覆っている。８５％よりも高い、９０％よりも高い、又はそれよりも更に高いカバレージが可能である。

図４では、伝達ファセット２１は、個々のミラーブロック２７ｂと同じく走査方向と垂直に剪断された平行四辺形の形状を有する。伝達ファセット２１は、個々のミラーブロック２７ｂを形成するファセット支持体構成要素（ｆａｃｅｔ ｃａｒｒｉｅｒ ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ）上に着座される。図４の水平及び斜方の向きには、これらの個々のミラーブロック２７ｂのブロック間隙２８ａを伝達ファセット２１のない幅広白色棒線として識別することができる。これらのブロック間隙２８ａは、個々のミラーブロック２７ｂのうちの１つの中に互いに横並びに隣接して置かれた２つの個々のミラー２１の間のミラー間隙よりも大きい広がりを有する。伝達ファセット群２８は、多角形推移の進路を有する境界線によって識別される。通常、これらの伝達ファセット群２８は、複数の個々のミラーブロック２７ｂにわたって延びる。この事前定義照明設定に関して、伝達ファセット群２８は、その大部分がほぼ矩形又は不等辺四辺形のものであり、隣接伝達ファセット群２８の間に不使用の個々のミラー２１の非常に小さい間隙のみを有する。図４では、個々の伝達ファセット群２８の間の間隙を比例サイズよりも大きく例示している。全体のファセット支持体構成要素の面積に対するこれらの間隙の面積比率は１０％未満である。

伝達ファセット群２８は、矩形の物体視野８を照明するように機能する。照明事前定義ファセット２５は、物体視野８に向けた照明光３の部分ビームの反射重ね合わせ案内に寄与する。照明事前定義ファセットミラー７上でのそれぞれの照明事前定義ファセット２５の位置は、物体視野８の視野点に対する照明方向を事前定義する。伝達ファセット群２８のｘ広がりは、それぞれの伝達ファセット群２８の像が、ｘ方向に物体視野全体８を最大に覆うようなものである。伝達ファセット群２８のｙ広がりに関して相応に同じことが成り立つ。図４に記載の拡大抜粋図から推察することができるように、最大限可能なｘ広がりよりも小さいｘ広がりを有する多くの伝達ファセット群２８が存在し、従って、物体視野８内のこれらの伝達ファセット群２８の像は、ｘ座標軸に物体視野８の一部しか照明しない。

照明光学アセンブリ１１を用いて事前定義される照明設定に基づいて、各照明事前定義ファセット２５に対して、すなわち、各照明チャネルに対して、事前定義される照明設定内に含まれる方向から与えられた照明チャネルによって照明することができる物体視野８の最大の部分ゾーン又は部分視野が存在する。この最大部分視野サイズは、物体視野全体８のサイズに達することができるが、特にｘ方向に物体視野８のｘ広がりよりも小さいとすることができる。

図５は、照明事前定義ファセットミラー７の平面図を示している。照明事前定義ファセット２５は丸形であり、照明事前定義ファセットミラー７の支持体（ｃａｒｒｉｅｒ）（具体的な詳細を示していない）上に六角最密充填方式で配置される。照明事前定義ファセットミラー７の支持体上の照明事前定義ファセット２５のこの配置の縁部輪郭は円形形状から逸脱し、例えば、スタジアム形である。

図６は、投影光学アセンブリ１０の入射瞳と一致し、かつ物体視野８の下流の照明光３のビーム経路にある瞳平面１２ｂ内に相応に配置された照明光学アセンブリ１１の照明瞳１２ａ（図１を参照されたい）の典型的な照明を示している。瞳１２ａは、物体視野座標軸ｘ，ｙに割り当てられた瞳座標軸σ_x，σ_yによって張られる。

図６は、照明極３１、３２を有するｙ二重極照明設定を示している。瞳１２ａの充填度は、２つの照明極３１、３２の区域から構成される瞳１２ａの合計面積の比率によって与えられる。この場合に、それぞれの照明極３１、３２の縁部３３によって境界が定められる区域は、それぞれの照明極３１、３２の区域として使用される。照明極３１、３２の各々は、瞳１２ａの中心σ_x座標の領域内に最大σ_y広がりΣ_yを有する両凸レンズ形断面を有する。この最大広がりΣ_yの領域内では、σ_y座標軸に沿って互いに横並びに配置された約５つの瞳ロッド３４、すなわち、照明光３による瞳１２ａのそれぞれのロッド形照明が物体視野照明に寄与する。従って、物体視野点は、走査積分方式で、瞳１２ａ内の割り当て瞳ロッド３４の位置に対応する照明方向からの照明光３を「見る」。

図６は、照明極３１、３２の範囲の走査積分照明強度を示している。ここで、物体視野８を通ってｙ方向に進行するレチクル１２の走査中にレチクル１２上の特定の点上に入射する照明強度に着目する。ｙ方向を走査方向又は物体変位方向とも表示する。この走査積分照明強度は、瞳１２ａ内で瞳座標軸σ_xよりも瞳座標軸σ_yに大きい広がりを有する瞳ロッド３４の形態にある瞳部分構造又は部分瞳の間で分配される。瞳座標軸σ_yにおける瞳ロッド３４の広がりは、第１に入射瞳１２ａのｚ座標の逆数値と、第２に第２のファセットミラー７のｚ座標の逆数値との間の差に依存し、すなわち、ファクタ（１／ｚＥＰ−１／ｚＳＲ）に依存する。従って、上記で記述した変数ＰＡ１及びＰＡ２は、このファクタに影響を及ぼす。更に、瞳座標軸σ_yにおける瞳ロッド３４の広がりは、物体視野のｙ広がり、すなわち、走査長ｙ₀に依存する。

正確に１つの視野高さの方向、すなわち、物体視野８の正確に１つのｘ座標の方向から見た場合に、瞳ロッド３４の間では、照明光３は瞳１２ａ上に入射しない。図６には、この瞳１２ａに関してｘ座標が固定された状態で物体視野をｙ方向に通じて走査される物体視野点に入射する走査積分照明強度を示している。走査直交方向ｘに沿う物体視野点に関しては、瞳座標軸σ_xにおける瞳ロッド３４の移動がもたらされる。ｙ座標が固定された状態における物体視野８におけるｘ方向に沿う仮定上の移動中の瞳１２ａに着目すると、この場合に、第１に物体視野８におけるｘ移動速度、第２に照明事前定義ファセットミラー７と瞳平面の間の距離に依存する移動速度を有する瞳ロッド３４のσ_x移動がもたらされる。この場合に、瞳ロッド３４のそのような「σ_x移動（σ _x −ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）」が発生しない配置を見つけることができる。そのような「σ _x 移動（σ _x −ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）」が発生する限り、物体視野の照明は、σ_x照明強度分布に関して全てのｘ物体座標に対して同一ではない。

瞳ロッド３４のσ_x広がりは、光源２又は中間フォーカス５ａの一般的なサイズによって与えられる。レチクル１２上の固定点は、ｘ方向に第２のファセット２５上の２次光源のｘ広がりを「見る（ｓｅｅｓ）」。ｙ方向には、レチクル１２上の固定点は、走査方向ｙに沿う瞳移動を表す矩形関数を有する理想的な場合に、ｙ方向のこれらの２次光源の広がりの畳み込みを見る。走査方向ｙの瞳移動のこのサイズは、入射瞳１２ａの望ましい照明領域内で得られる瞳ロッド３４の間に可能な限り小さい間隙しかもたらされないように、第２のファセット２５の配置の対応する調整を用いて考慮される。その結果は、特に、レチクル１２上の異なるｘ座標に関する小さい瞳変化である。ｙ走査中の入射瞳１２ａ内の照明光３の強度分布のｘ方向移動の効果は、入射瞳１２ａのこの均一化に起因して減衰するか又は完全に抑止されることさえもある。

瞳ロッド３４の各々は、正確に１つの伝達ファセット群２８及び正確に１つの照明事前定義ファセット２５が属する厳密に１つの照明光照明チャネルを通して照明される。瞳１２ａ内の瞳ロッド３４のσ_x／σ_y格子配置は、照明事前定義ファセットミラー７上の照明事前定義ファセット２５のｘ／ｙ格子配置に対応する。

図６に記載の瞳１２ａの照明の場合に、照明極３１、３２の縁部３３の近くの瞳ロッド３４を除き、σ_y座標の方向にある全ての瞳ロッド３４は同じ長さのものである。

図７は、瞳ロッド３４のうちの厳密に１つのものの照明チャネルを通して照明される部分視野３５を略示している。図７には、物体視野８を一点鎖線形式に示している。物体視野８内の部分視野３５の境界を破線形式で例示している。部分視野３５は、ｘ_F1のｘ広がり及びｙ_F1のｙ広がりを有する。ｘ_F1＜ｘ₀及びｙ_F1＝ｙ₀が成り立つ。従って、ｘ広がりでは、部分視野３５は、物体視野８よりも小さい広がりを有する。部分視野３５の走査方向ｙの広がりは、物体視野８の広がりに対応する。これに代えて、ｘ_F1＝ｘ₀及び／又はｙ_F1＜ｙ₀が成り立つことも可能である。

縁部３３の近くで他の瞳ロッド３４よりも小さいσ_y広がりを有する瞳ロッド３４は、少なくとも照明部分視野の一部のセクションに関して物体視野８のｙ広がりｙ₀よりも小さいｙ広がりを有する部分視野を物体視野８内で照明する照明チャネルに属する。

図８は、第２のファセットミラー７の第２のファセット２５の六角配置からの拡大抜粋図を示している。第２のファセット２５のこの配置は、隣接する第２のファセット２５の間の距離に対応する格子定数を有する六角格子におけるものである。最密六角充填を有するので、この格子定数は、円形の第２のファセット２５の外径ｄに等しい。第２のファセットミラー７の第２のファセット２５の配置は、格子定数が全体の第２のファセットミラー７にわたって厳密に一定ではないようなものである。平均格子定数からの局所格子定数の偏差は、照明光部分ビームに対する異なる空間ビーム案内幾何学形状に起因する光学境界条件を考慮するように機能する。

第２のファセット２５の六角配置格子の格子定数ｄは、第２のファセットミラー７の位置ｚＳＲと、入射瞳の位置ｚＥＰと、走査長ｙ₀、すなわち、物体視野８のｙ広がりとによって事前定義される。

次式が成り立つ。

（１）
この場合に、ｚＥＰ及びｚＳＲは、第１に瞳平面１２ｂのｚ座標であり、第２に第２のファセットミラー７のｚ座標である。

この場合に、ｎは、個々の瞳ロッド３４が互いにどの程度重なるかを示している。ｎ＝１の場合に、同一ｘ座標の場所でｙ方向に隣接する瞳ロッド３４は互いに正確に当接する。この場合に、光源２の有限の広がりにのみ起因して隣接瞳ロッド３４の間の重ね合わせが存在する。ｎ＝２では、瞳ロッド３４のそれぞれが、同一ｘ座標を有するそのそれぞれの隣接瞳ロッド３４にｙ方向に半分だけ重なる。

図９は、図８と類似の図に第２のファセット２５の六角配置を示している。図９では、第２のファセット２５を異なる破線境界線を用いて行毎に別様に強調表示している。図９では、この区別を第２のファセット２５の行毎のタイプ分類Ｉ、ＩＩ．．．で再現している。全体的に、第２のファセット２５の４つの異なるタイプ２５_Iから２５_IVの間で区別がつけられる。

図１０は、ある事前定義照明設定の場合の走査積分瞳強度分布を図６と類似の図に示している。この事前定義照明設定は、第２のファセット２５_Iから２５_IVを通してそれぞれの部分ビーム及び照明光３によって照明される瞳ロッド３４_Iから３４_IVをもたらす。瞳ロッドタイプ３４_Iから３４_IVの破線は、それぞれの照明チャネルを通してこれらの瞳ロッドに割り当てられた第２のファセットのタイプ２５_Iから２５_IVの破線に対応する。

瞳ロッド３４は、σ_x方向にｄｋの広がりをσ_y方向にｄｋｙの広がりを有する。

瞳ロッド３４_Iから３４_IVは、図１０に示す入射瞳１２ａからの抜粋分を間隙なく覆い、入射瞳１２ａからのこの照明抜粋分にわたって均一化された強度分布をもたらす。従って、１つの特定の第２のファセット２５に割り当てられた１つの照明光部分ビームから別の第２のファセット２５に割り当てられた別の照明光部分ビームへの物体視野８を通じた物体点の走査変位に起因する物体点の照明中の移行に起因する照明不均一性が低減されるか又は完全に回避される。

図１０は、複数の第２のファセット２５を通して照明光３が入射する入射瞳１２ａの拡張された照明される瞳領域（照明瞳領域）を示している。この照明瞳領域内では、瞳ロッド３４による間隙のないカバレージに起因して、この瞳領域の１０％よりも小さい面積のみが、この瞳領域上に入射する平均照明強度の１０％よりも低い限界照明強度による入射を受ける。実際には、図１０に記載の照明瞳領域内では、この瞳領域の全面積は、平均照明強度の少なくとも１０％であり、更に平均照明強度の１０％よりも有意に高い照明強度による入射を受ける。瞳ロッド３４による照明瞳領域の別の占有の場合に、これらのロッドの間に小さい間隙が発生する可能性もあるが、平均照明強度の１０％よりも低い照明強度で照明されるこれらの間隙の合計面積は、いずれにしても全照明瞳領域の１０％よりも小さい。

隣接瞳ロッド３４の間の重ね合わせ領域内では、走査積分方式での結果として、これらの瞳領域は１よりも多い第２のファセット２５による照明を受ける。実際には、図１０に示す入射瞳１２ａの照明瞳領域の占有の場合に、２よりも多い瞳ロッド３４の重ね合わせ領域が存在し、これらの重ね合わせ領域は、相応に同じく２よりも多い第２のファセット２５、すなわち、３つの第２のファセット２５を通して走査積分方式で照明される。

照明光部分ビームが各場合に第２のファセット２５を通して案内されないような第２のファセット２５の漸増的遮蔽の場合に、１よりも多い第２のファセットを通して走査積分方式で照明される瞳領域、すなわち、複数の瞳ロッド３４が走査積分方式で重なる領域は、走査積分照明強度の段階的低減を示し、すなわち、遮蔽された第２のファセット２５の瞳ロッド３４に対応する部分領域内で走査積分照明強度は、直ちに０に降下するデジタル挙動を示さない。

瞳ロッド３４_Iから３４_IVによる照明瞳１２ａのセクションのこの占有に起因して、照明光部分ビーム３_iを生成するためのＥＵＶ光源２を使用する場合に、第２のファセット２５上の強度及びその断面は事前定義許容値よりも小さく変化し、照明光３を用いて照明されるようにそれぞれ事前定義される瞳領域にわたる均一な照明が走査積分方式でもたらされる。この均一照明は、照明される瞳領域にわたって、事前定義値から事前定義許容値末端だけ外れる照明強度をもたらす。

図１１から図１３は、第２のファセット２５の別の格子配置を有する第２のファセットミラー７の使用の場合の条件を図８から図１０に相応に示している。図１から図１０、特に図８から図１０を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に説明することはしない。

図１１から図１３に記載の第２のファセットミラー７の実施形態の場合に、第２のファセット２５は、ここでもまた、第２のファセット２５の外径に対応する格子定数ｄを有するデカルト格子に配置される。ｘ方向に延びる第２のファセット２５のそれぞれ隣接する行Ｚ_i、Ｚ_i+1は、互いに対して格子定数の半分、すなわち、ｄ／２だけシフトされる。従って、図１１及び図１２は、デカルト配置にある第２のファセット２５の隣接行Ｚ_i、Ｚ_i+1の格子定数ｄの約数（ｓｕｂｍｕｌｔｉｐｌｅ）分のシフトの一例であって、この約数が２である例を示している。

図１２は、図９と同様に、この場合にも第２のファセット２５_Iから２５_IVのタイプ分類を示しており、図１３は、図１０と同様に、相応にタイプ分類された瞳ロッド３４_Iから３４_IVによって入射瞳１２ａのセクションにわたって得られる照明強度分布を示している。

図１１及び図１２に記載の配置の格子定数ｄの走査長ｙ₀と、入射瞳１２ａの位置と、第２のファセットミラー７の位置とへの依存性に関して次式が成り立つ。

（２）
図１４から図１６は、第２のファセット２５の別の格子配置を有する第２のファセットミラー７の使用の場合の条件を図８から図１０に相応に示している。図１から図１３、特に図８から図１３を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に説明することはしない。

図１４から図１６に記載の実施形態の場合に、第２のファセット２５は、物体変位方向ｙに対して４５°の角度を延びる行（ｌｉｎｅｓ）と列（ｃｏｌｕｍｎｓ）とを有するデカルト格子に配置される。従って、このデカルト格子は、互いに対してシフトしていない行と列とを有する回転デカルト格子である。この場合にも格子定数ｄは、第２のファセット２５の外径に等しい。図１４及び図１５に記載の実施形態における回転角４５°とは異なる回転角、特に１０°と８０°の間の範囲の回転角も可能である。

図１５は、図９と同様に、この場合にも第２のファセット２５_Iから２５_IVのタイプ分類を示しており、図１６は、図１０と同様に、相応にタイプ分類された瞳ロッド３４_Iから３４_IVによって入射瞳１２ａのセクションにわたって得られる照明強度分布を示している。

図１５及び図１６に記載の配置の格子定数ｄの走査長ｙ₀と、入射瞳１２ａの位置と、第２のファセットミラー７の位置とへの依存性に関して次式が成り立つ。

（３）

図１７から図１９は、第２のファセットミラー７の更に別の実施形態による第２のファセット２５の更に可能な格子配置を示している。図１から図１６、特に図８から図１６を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図１７は、ここでもまた、第２のファセット２５の外径に対応する格子定数ｄを有する第２のファセット２５の非回転デカルト配置を示している。この非回転配置の場合に、行はｘ方向と平行に位置合わせされ、列はｙ方向と平行に位置合わせされる。従って、このデカルト格子の行及び列は、物体変位方向ｙに対して垂直及び平行に延びる。隣接行は、ｘ方向に互いに対して格子定数の半分ｄ／２だけオフセットされる。

図１８は、ｘ方向及びｙ方向それぞれに異なる２つの格子定数ｄ_x及びｄ_yを有する第２のファセット２５のデカルト配置の一例を示している。この場合に、格子定数ｄ_yは、ここでもまた、丸形の第２のファセット２５の外径に等しい。格子定数ｄ_x の大きさ（ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）は、格子定数ｄ_yの大きさの１．５倍である。０．２と５の間の範囲にある他の比率係数ｄ_x／ｄ_yも可能である。隣接行は、ｘ方向に互いに対して格子定数ｄ_x／２の半分だけオフセットされる。

図１９に記載の第２のファセット２５の配置変形は、図１８に記載の実施形態と同じ格子定数比ｄ_x／ｄ_yを有する。図１８の実施形態とは対照的に、図１９に記載の配置の第２のファセット２５は、ｘ方向に長半軸を有し、ｙ方向に短半軸を有して楕円的に具現化される。図１９に記載の楕円形の第２のファセット２５のｘ広がりは、大きい方の格子定数ｄ_xと正確に同じ大きさのものである。楕円形の第２のファセット２５のｙ方向の広がりは、格子定数ｄ_yに等しい。隣接行は、ｘ方向に互いに対して格子定数の半分ｄ_x／２だけオフセット（ｏｆｆｓｅｔ）される。

照明光学アセンブリ１１の構成中に、最初に、物体視野寸法、特に、走査長ｙ₀と、第２のファセットミラー７と入射瞳１２ａの間の瞳距離ＰＡとを含む照明光学アセンブリ１１の設計が事前定義される。そこから進めて、第２のファセットミラー７の第２のファセット２５の配置の格子タイプが選択され、この場合に、傾斜アクチュエータの統合に関する態様、並びに熱態様も重要項目とすることができる。最後に、選択された格子配置の少なくとも１つの格子定数ｄが上述の式に従って計算され、第２のファセットミラー７が、サイズ及びグリッド配置に従って第２のファセット２５を用いて構成される。

投影露光装置１を用いて微細構造化構成要素、特に高集積半導体構成要素、例えばメモリチップを生成するために、最初にレチクル１２及びウェーハ１９が与えられる。その後に、投影露光装置１の投影光学アセンブリを用いてレチクル１２上の構造がウェーハ１９上の感光層の上に投影される。次いで、感光層の現像（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）により、ウェーハ１９上に微細構造が生成され、そこから微細又はナノ構造化構成要素が生成される。

１ 投影露光装置
６ 第１のファセットミラー
１１ 照明光学アセンブリ
ＰＡ１ 第２のファセットミラーと物体平面の間のｚ距離
ｙ₀ 走査長

Claims (12)

1. 物体視野（８）を通って物体変位方向（ｙ）に投影露光中に変位される結像すべき物体（１２）が配置可能である該物体視野（８）を照明するための投影リソグラフィのための照明系の一部としての照明光学アセンブリであって、
   照明光（３）の反射案内のための第１のファセット（２１）を有する第１のファセットミラー（６）を含み、
   前記物体視野（８）に向けての、前記第１のファセットミラー（６）によって反射された前記照明光（３）の反射案内のための第２のファセットミラー（７）を含み、
   前記第２のファセットミラー（７）は、それぞれの照明光部分ビーム（３_i）を前記物体視野（８）内に案内するための第２のファセット（２５）を有し、
   前記第２のファセットミラー（７）は、前記照明光学アセンブリ（１１）の瞳平面（１２ｂ）から距離を置かれ、
   前記照明光学アセンブリ（１１）が、前記照明光部分ビーム（３_i）を生成するためのＥＵＶ光源（２）を使用して前記瞳平面（１２ｂ）内の入射瞳（１２ａ）が、複数の第２のファセット（２５）を通じて前記照明光（３）がその上に入射する少なくとも１つの拡張された照明される瞳領域を有し、該照明される瞳領域内で該瞳領域の１０％よりも小さい区域が、該瞳領域上に入射する平均照明強度の１０％未満である限界照明強度によって入射されるように具現化され、
   前記瞳領域は、前記物体視野（８）を通った前記物体変位方向（ｙ）の前記物体（１２）の変位中に該物体視野（８）上の特定の点上に入射すると考えられる照明強度で照明され、
   前記照明強度は、前記物体変位方向（ｙ）に対応する瞳寸法内でそれに対して垂直な方向（ｘ）に対応する瞳寸法内よりも大きい広がりを有する瞳ロッド（３４）の形態にある瞳部分構造の間で前記瞳（１２ａ）内に分配され、
   前記瞳ロッド（３４）の各々が、第１のファセットの厳密に１つのグループと厳密に１つの第２のファセットとが属する正確に１つの照明光照明チャネルを通じて照明される、
   ことを特徴とする照明光学アセンブリ。
2. 照明光（３）の反射案内のための第１のファセット（２１）を有する第１のファセットミラー（６）を含み、
   物体視野（８）に向けての、前記第１のファセットミラー（６）によって反射された前記照明光（３）の反射案内のための第２のファセットミラー（７）を含み、
   前記第２のファセットミラー（７）が、それぞれの照明光部分ビーム（３_i）を前記物体視野（８）内に案内するための第２のファセット（２５）を有し、
   前記第２のファセットミラー（７）が、該第２のファセットミラー（７）に最も近い照明光学アセンブリ（１１）の瞳平面（１２ｂ）から瞳距離（ＰＡ）にある、
   物体変位方向（ｙ）に沿って走査長（ｙ₀）を有する前記物体視野（８）を通って該物体変位方向（ｙ）に投影露光中に変位される結像すべき物体（１２）が配置可能である該物体視野（８）を照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ（１１）であって、
   前記第２のファセット（２５）は、格子（ｇｒｉｄ：グリッド）に配置され、該格子の少なくとも１つの格子定数（ｄ；ｄ_x，ｄ_y）が、前記瞳距離（ＰＡ）によって、そして前記走査長（ｙ₀）によって事前定義される、
   ことを特徴とする照明光学アセンブリ（１１）。
3. 前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その行（Ｚ）及び列が、前記物体変位方向に対して垂直（ｘ）及び平行（ｙ）に延びることを特徴とする請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
4. 前記物体変位方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）に延びる前記第２のファセット（２５）のそれぞれ隣接する行が、前記格子定数（ｄ）の約数だけ互いに対してシフトされることを特徴とする請求項３に記載の照明光学アセンブリ。
5. 前記第２のファセット（２５）は、六角格子に配置されることを特徴とする請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
6. 前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その行及び列が、前記物体変位方向（ｙ）に対して１０°と８０°の間の角度で延びることを特徴とする請求項２に記載の照明光学アセンブリ。
7. 前記第２のファセット（２５）は、デカルト格子に配置され、その前記行及び列は、前記物体変位方向（ｙ）に対して４５°の角度で延びることを特徴とする請求項６に記載の照明光学アセンブリ。
8. 前記格子は、１よりも多い格子定数（ｄ_x，ｄ_y）を有することを特徴とする請求項２から請求項７のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリ。
9. 請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリと、
   光源（２）と、
   を含むことを特徴とする照明系。
10. 請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学アセンブリと、
    物体視野（８）を像視野（１７）内に結像するための投影光学アセンブリ（１０）と、 を含むことを特徴とする光学系。
11. 請求項１０に記載の光学系と、
    光源（２）と、
    を含むことを特徴とする投影露光装置。
12. 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（１２）を与える段階と、
    照明光（３）に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ（１９）を与える段階と、
    請求項１１に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１２）の少なくとも１つのセクションを前記ウェーハ（１９）の上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１９）上で前記照明光（３）によって露光された前記感光層を現像する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。

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