JP7071436B2 - Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 - Google Patents
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- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims description 192
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title claims description 9
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 191
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 62
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 52
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 28
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 4
- 239000003574 free electron Substances 0.000 claims description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 210000000887 face Anatomy 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B5/09—Multifaceted or polygonal mirrors, e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
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Description
[当初請求項1]
下流結像光学ユニット(6)の物体視野(3)が配置され、該物体視野(3)には、次に、物体変位方向(y)に変位可能な物体(5)が配置可能である照明視野をEUV光源(2)の照明光(9)を用いて照明するためのEUV投影リソグラフィのための照明光学ユニットであって、
互いに並んで配置された複数の鏡面ファセット(13)を含み、かつ前記物体視野(3)への前記EUV照明光(9)のビームの部分ビーム(9i)の反射重ね合わせ誘導のために機能する鏡面ファセットミラー(14)を含み、
前記鏡面ファセットミラー(14)は、前記物体視野(3)の上流で前記照明光(9)を案内するための該照明光(9)のビーム経路内の最後の構成要素を構成し、
前記鏡面ファセットミラー(14)は、
前記鏡面ファセットミラー(14)上のそれぞれの前記鏡面ファセット(13)の位置と、該ファセットミラー(14)のそれぞれの該鏡面ファセット(13)上の照明光部分ビーム(9i)の入射領域(16)とが、前記物体視野(3)の視野点に対する照明方向を予め定め、
前記鏡面ファセットミラー(14)のそれぞれの前記鏡面ファセット(13)上の前記照明光部分ビーム(9i)の前記入射領域(16)の縁部輪郭が、前記物体視野(3)の視野形状を予め定める、
ように配置され、
前記鏡面ファセット(13)の各々が、連続静止反射面(15)を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット。
[当初請求項2]
前記鏡面ファセット(13)は、完全入射時に、それらのそれぞれの縁部輪郭とそれらのそれぞれの反射面(15)の形状とにより、それらが各視野点に対する前記照明方向と前記物体視野(3)に対する前記視野形状との両方を予め定めるように各場合に成形されることを特徴とする当初請求項1に記載の照明光学ユニット。
[当初請求項3]
前記鏡面ファセット(13)の縁部輪郭が、前記物体変位方向に沿う第1の寸法yとそれに対して垂直な第2の寸法xとの前記物体視野(3)の対応する寸法のアスペクト比y/xよりも小さいアスペクト比y/xを有することを特徴とする当初請求項1又は当初請求項2に記載の照明光学ユニット。
[当初請求項4]
前記鏡面ファセット(13)は、どの2つの鏡面ファセット(13)も前記物体変位方向(y)に沿って互いに重ならないように前記鏡面ファセットミラー(14)上に配置されることを特徴とする当初請求項1から当初請求項3のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
[当初請求項5]
前記鏡面ファセットミラー(14)の上流に配置され、かつ該下流鏡面ファセットミラー(14)の前記鏡面ファセット(13)上に入射する前記部分ビーム(9i)の反射誘導のための複数の伝達ファセット(12)を含み、それによって物体視野照明チャネルが、該伝達ファセット(12)と該反射ビーム誘導を通じて割り当てられた該下流鏡面ファセット(13)とを通じて予め定められ、この物体視野照明チャネルを通じて、物体視野(3)全体が、前記照明光(9)によって各場合に照明可能であり、この物体視野照明チャネルには、該伝達ファセットミラー(11)の正確に1つの伝達ファセット(12)と、該下流鏡面ファセットミラー(14)の正確に1つの鏡面ファセット(13)とが各場合に割り当てられる伝達ファセットミラー(11)を特徴とする当初請求項1から当初請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
[当初請求項6]
それぞれの前記ファセット(13)上の前記照明光部分ビーム(9i)の入射角の2°よりも小さい局所角度帯域幅を特徴とする当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
[当初請求項7]
当初請求項1から当初請求項6のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含み、
結像される物体(5)が、物体視野(3)に配置可能であり、
前記物体視野(3)を基板(8)が配置可能である像視野(7)内に結像するための投影光学ユニット(6)を含む、
ことを特徴とする光学系。
[当初請求項8]
前記投影光学ユニット(6)の入射瞳(17)が、前記物体視野(3)の下流のビーム経路に位置することを特徴とする当初請求項7に記載の光学系。
[当初請求項9]
当初請求項1から当初請求項5のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含み、
照明光(9)を生成するためのEUV光源(2)を含む、
ことを特徴とする照明系(1)。
[当初請求項10]
EUV投影リソグラフィのための照明系(1)であって、
下流結像光学ユニット(6)の物体視野(3)が配置され、この物体視野(3)には、次に、物体変位方向(y)に変位可能な物体(5)が配置可能である照明視野をEUV光源(2)の照明光(9)を用いて照明するための照明光学ユニット(10、23、24)を含み、
FELとして具現化された前記照明光(9)を生成するための光源(2)を含み、
前記照明光学ユニットは、
前記EUV照明光(9)のビームの部分ビーム(9i)の反射誘導のための複数の視野ファセット(23a)を含む視野ファセットミラー(23)と、
複数の瞳ファセット(25)を含む瞳ファセットミラー(24)であって、前記照明光(9)を用いて照明される瞳ファセット(25)の場所分布が、前記物体視野(3)における該照明光(9)の照明角度分布を予め定める前記瞳ファセットミラー(24)と、
を含み、
前記視野ファセット(23a)は、前記瞳ファセット(25)を通じて互いの上に重ね合わされる方式で前記物体視野(3)内に結像され、
前記瞳ファセット(25)は、互いから1つの瞳ファセットの直径(d)よりも大きく互いから空間的に分離される方式で配置された前記瞳ファセットミラー(24)上の場所領域(26、27、28)に配置される、
ことを特徴とする照明系(1)。
[当初請求項11]
前記場所領域の少なくとも1つ(27、28)が、前記瞳ファセットミラー(24)上のリングとして配置されることを特徴とする当初請求項10又は当初請求項11に記載の照明系。
[当初請求項12]
当初請求項1から当初請求項6のいずれか1項に記載の照明光学ユニットに、当初請求項7及び当初請求項8のいずれか1項に記載の光学系に、又は当初請求項9から当初請求項11のいずれか1項に記載の照明系に使用するための瞳ファセットミラー(24)であって、
100よりも少ない瞳ファセット(25)、
を特徴とする瞳ファセットミラー(24)。
[当初請求項13]
当初請求項9又は当初請求項10に記載の照明系を含み、
物体視野(3)を基板(8)が配置可能である像視野(7)内に結像するための投影光学ユニット(6)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置(4)。
[当初請求項14]
構造化構成要素を生成する方法であって、
当初請求項13に記載の投影露光装置(4)を与える段階と、
レチクル(5)を与える段階と、
前記レチクル(5)の物体視野(3)に配置された面をウェーハ(8)の感光層上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
[当初請求項15]
当初請求項14に記載の方法によって生成された構成要素。
d<rmi-rzかつ
d<rai-rma
4 EUV投影露光装置
9 EUV照明光
12 伝達ファセット
14 鏡面ファセットミラー
Claims (15)
- EUV投影リソグラフィのための照明系(1)であって、
下流結像光学ユニット(6)の物体視野(3)が配置され、この物体視野(3)には、次に、物体変位方向(y)に変位可能な物体(5)が配置可能である照明視野をEUV光源(2)の照明光(9)を用いて照明するための照明光学ユニット(10、23、24)を含み、
自由電子レーザ(FEL)として具現化された前記照明光(9)を生成するための光源(2)を含み、
前記照明光学ユニットは、
前記EUV照明光(9)のビームの部分ビーム(9i)の反射誘導のための複数の視野ファセット(23a)を含む視野ファセットミラー(23)と、
複数の瞳ファセット(25)を含む瞳ファセットミラー(24)であって、前記照明光(9)を用いて照明される瞳ファセット(25)の場所分布が、前記物体視野(3)における該照明光(9)の照明角度分布を予め定める前記瞳ファセットミラー(24)と、
を含み、
前記視野ファセット(23a)は、前記瞳ファセット(25)を通じて互いの上に重ね合わされる方式で前記物体視野(3)内に結像され、
前記瞳ファセット(25)は、互いから1つの瞳ファセットの直径(d)よりも大きく互いから空間的に分離される方式で配置された前記瞳ファセットミラー(24)上の場所領域(26、27、28)に配置される、
ことを特徴とする照明系(1)。 - 前記場所領域の少なくとも1つ(27、28)が、前記瞳ファセットミラー(24)上のリングとして配置されることを特徴とする請求項1に記載の照明系。
- 結像される物体(5)が、前記物体視野(3)に配置可能であり、
前記物体視野(3)を基板(8)が配置可能である像視野(7)内に結像するための投影光学ユニット(6)を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載の照明系。 - 前記投影光学ユニット(6)の入射瞳(17)が、前記物体視野(3)の下流のビーム経路に位置することを特徴とする請求項3に記載の光学系。
- 視野ファセットミラー(23)の上流の照明光(9)のビーム経路にビーム成形デバイス(10)が配置されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記場所領域のうちの1つは、瞳ファセットミラー(24)上で中心に配置されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明系。
- 中心場所領域は、隣接場所領域から、該中心場所領域全体の直径よりも大きい距離だけ空間的に離れていることを特徴とする、請求項6に記載の照明系。
- リング形状場所領域が、隣接場所領域への、該リング形状場所領域の半径方向リング厚よりも大きい距離に配置されることを特徴とする、請求項2から請求項7のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記瞳ファセットミラーの外縁に少なくとも1つのリング形場所領域が配置されることを特徴とする、請求項2から請求項8のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記瞳ファセットミラーの外縁と中心領域の間に、少なくとも1つのリング形場所領域が配置されることを特徴とする、請求項2から請求項9のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記視野ファセットミラーが20個よりも少ない視野ファセットを有することを特徴とする、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記瞳ファセットミラーが100個よりも少ない瞳ファセットを有することを特徴とする、請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の照明系。
- 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明系に使用するための瞳ファセットミラー(24)。
- 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明系を含み、
物体視野(3)を基板(8)が配置可能である像視野(7)内に結像するための投影光学ユニット(6)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置(4)。 - 構造化構成要素を生成する方法であって、
請求項14に記載の投影露光装置(4)を与える段階と、
レチクル(5)を与える段階と、
前記レチクル(5)の物体視野(3)に配置された面をウェーハ(8)の感光層上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102013218131.0 | 2013-09-11 | ||
DE201310218131 DE102013218131A1 (de) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | Beleuchtungsoptik sowie Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016541865A Division JP6703944B2 (ja) | 2013-09-11 | 2014-08-25 | Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020122989A JP2020122989A (ja) | 2020-08-13 |
JP7071436B2 true JP7071436B2 (ja) | 2022-05-18 |
Family
ID=51542327
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016541865A Active JP6703944B2 (ja) | 2013-09-11 | 2014-08-25 | Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 |
JP2020083202A Active JP7071436B2 (ja) | 2013-09-11 | 2020-05-11 | Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016541865A Active JP6703944B2 (ja) | 2013-09-11 | 2014-08-25 | Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9915874B2 (ja) |
JP (2) | JP6703944B2 (ja) |
KR (1) | KR102343801B1 (ja) |
CN (1) | CN105706003B (ja) |
DE (1) | DE102013218131A1 (ja) |
WO (1) | WO2015036226A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2013
- 2013-09-11 DE DE201310218131 patent/DE102013218131A1/de not_active Ceased
-
2014
- 2014-08-25 JP JP2016541865A patent/JP6703944B2/ja active Active
- 2014-08-25 WO PCT/EP2014/067961 patent/WO2015036226A1/de active Application Filing
- 2014-08-25 CN CN201480060611.3A patent/CN105706003B/zh active Active
- 2014-08-25 KR KR1020167009359A patent/KR102343801B1/ko active IP Right Grant
-
2016
- 2016-03-04 US US15/061,048 patent/US9915874B2/en active Active
-
2020
- 2020-05-11 JP JP2020083202A patent/JP7071436B2/ja active Active
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JP2012522358A5 (ja) | 2009-03-27 | 2016-09-15 | ||
JP2012244184A (ja) | 2011-05-19 | 2012-12-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9915874B2 (en) | 2018-03-13 |
JP6703944B2 (ja) | 2020-06-03 |
KR102343801B1 (ko) | 2021-12-28 |
JP2020122989A (ja) | 2020-08-13 |
DE102013218131A1 (de) | 2015-03-12 |
CN105706003A (zh) | 2016-06-22 |
KR20160054579A (ko) | 2016-05-16 |
WO2015036226A1 (de) | 2015-03-19 |
JP2016535313A (ja) | 2016-11-10 |
US20160187784A1 (en) | 2016-06-30 |
CN105706003B (zh) | 2019-06-28 |
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|
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