JP6756320B2 - 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 - Google Patents
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Description
曲線を持つ図形を多角形図形に近似し、この多角形図形を複数の台形に分割して描画データを作成することができる。例えば、図2に示す曲線を持つ図形は、図4に示すように、横方向に連結された複数の細長い台形T1〜T11で近似できる。描画データでは、各頂点の位置が、隣接する頂点からみた縦方向の変位及び横方向の変位で定義される。
10 描画部
12 電子ビーム鏡筒
14 電子銃
16 照明レンズ
18 アパーチャ部材
20 ブランキングプレート
22 縮小レンズ
24 制限アパーチャ部材
26 対物レンズ
28 偏向器
30 描画室
32 XYステージ
34 マスクブランク
36 ミラー
50 制御部
52 制御計算機
54、56 偏向制御回路
58 ステージ位置検出器
70 変換装置
80 パターン検査装置
Claims (6)
- マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない曲線を算出し、
前記図形を表現する、前記曲線と対になる線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない線を算出し、
前記曲線の複数の制御点における第1制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第2制御点の位置を、前記第1制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現し、前記線の複数の制御点における第3制御点と前記線の進行方向において隣接する第4制御点の位置を、前記第3制御点からの前記線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成方法。 - 前記複数の制御点は、前記進行方向において一定間隔で位置することを特徴とする請求項1に記載の描画データ生成方法。
- 前記複数の制御点のうち、前記進行方向において両端に位置する制御点は、前記図形の曲線部の端点と一致しないことを特徴とする請求項1に記載の描画データ生成方法。
- マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない曲線を算出するステップと、
前記図形を表現する、前記曲線と対になる線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない線を算出するステップと、
前記曲線の複数の制御点における第1制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第2制御点の位置を、前記第1制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現し、前記線の複数の制御点における第3制御点と前記線の進行方向において隣接する第4制御点の位置を、前記第3制御点からの前記線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成するステップと、
を前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 - 複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン/オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない曲線を算出し、前記図形を表現する、前記曲線と対になる線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない線を算出し、前記曲線の複数の制御点における第1制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第2制御点の位置を、前記第1制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現し、前記線の複数の制御点における第3制御点と前記線の進行方向において隣接する第4制御点の位置を、前記第3制御点からの前記線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。 - 設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない曲線を算出し、前記図形を表現する、前記曲線と対になる線であって、複数の制御点で定義され、一定の進行方向を持ち、該進行方向に対し90°以上折れ曲がらない線を算出し、前記曲線の複数の制御点における第1制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第2制御点の位置を、前記第1制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現し、前記線の複数の制御点における第3制御点と前記線の進行方向において隣接する第4制御点の位置を、前記第3制御点からの前記線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して第1描画データを生成する変換部と、
前記第1描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第2描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、
を備えるパターン検査装置。
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