JP6657897B2 - ミラー部材の加工方法 - Google Patents

Description

本発明は、ミラー部材の加工方法に関する。

従来、光源から対象物に光を照射し、その反射光をミラーユニットを介して受光部により受光して対象物との距離を測定する距離測定装置としてレーザレーダ装置が知られている。レーザレーダ装置では、光パルス飛行時間法により、光源から出た光が対象物で反射して受光部に届くまでの光の飛行時間（遅れ時間）と光の速度とから対象物までの距離を測定する。

＜ガラス製の反射鏡の課題＞
レーザレーダ装置用の光偏向器としては、従来、反射鏡（ミラー部材）を別体の回転部材に固定した構造が知られており、反射鏡としては、一般に硝材に金属蒸着膜を形成した所謂ガラス製の反射鏡が用いられる。
しかし、ガラス製の反射鏡の固定構造では、鏡面の平面度を維持することと、反射鏡を回転部材に対して大きな固定力で保持することとがトレードオフの関係にあり、２つを両立させることが困難である。即ち、固定力を優先して回転部材に対して強く固定すれば鏡面が歪み、平面度の維持を優先して固定力を低下させれば、外部からの振動衝撃に対して十分な固定力が得られず車載部品などに用いる場合には外乱振動／衝撃に対する信頼性を確保できなくなる。いずれにしても硝材からなる反射鏡を回転部材に取り付ける構造には課題が残る。
このような従来例としては、特許文献１、特許文献２がある。

＜金属製の反射鏡の課題＞
一方、電子写真式の画像形成装置において感光体上に静電潜像を形成するために使用される光走査装置では、鏡面切削加工によりアルミ合金に直接、反射面を形成した光偏向器が用いられている。この光偏向器では、反射鏡（回転多面鏡）と軸とが一体化され、さらに反射面の内側にモータ部が構成され、外周側面に高精度な鏡面が形成されている。
このような反射鏡では、鏡面切削加工により反射面を形成する際、反射面と直交する２つの加工基準面を設け、各加工基準面を保持治具により両側から挟むように押さえて切削加工する。加工基準面と保持治具との接触摩擦力を利用して保持するため、切削加工時のバイトの切り込みで反射鏡が回転することが無いよう、加工基準面はその面積をできるだけ大きくすることが望ましい。従来の回転多面鏡は回転軸方向の反射面の長さ（ミラー部材の厚さ）に比べて回転中心軸から反射面までの距離が大きいため、加工基準面を比較的大きく確保することができ、加工切削力に対抗する十分な保持力が得られていた（例えば、特許文献３）。
しかし、特許文献３の回転多面鏡と同様の構成をレーザレーダ用の光偏向器に適用して製作し、試験を行なったところ、繰り返し光偏向器に振動が加わった際の信頼性、耐久性という観点において、改善の余地があることが明らかになった。

本発明は上記に鑑みてなされたものであり、薄型化したミラー部材の加工精度を高めることを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明は、回転軸の軸方向と平行な反射面を有して回転するミラー部材の加工方法であって、ミラー部材は、金属部材に反射面を形成するものであり、回転軸の回転中心から反射面までの距離の２倍の長さが、反射面の回転軸方向の長さよりも小さく、回転軸と平行な方向を上下方向、前記回転軸と直交する方向を左右方向と定義すると、ミラー部材における前記回転軸の軸方向両端側面である上面と下面には、前記回転軸を中心とした同心円弧状の凸面である加工基準面が夫々形成され、前記ミラー部材における前記回転軸の軸方向と直交する方向に位置し、且つ前記回転軸の軸方向と平行であって前記反射面と接する左右側面には、当接面が夫々形成され、前記加工基準面と前記当接面に、夫々他部材を当接させることで前記ミラー部材を保持し、鏡面切削加工により前記反射面を形成することを特徴とする。

本発明によれば、薄型化したミラー部材の加工精度を高めることができる。

（ａ）及び（ｂ）は本発明の第一実施形態に係る光偏向器を用いたレーザレーダ装置の平面図、及び要部縦断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は本実施形態に係る光偏向器の平面図、及びＡ−Ａ断面図である。 ミラー部材の鏡面加工のための装置構成を示す説明図である。 （ａ）はカッターホルダーの平面図であり、（ｂ）はカッターホルダーの正面構造を保持治具の断面図と共に示す図である。 （ａ）は保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。 （ａ）は本発明の第二実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。 （ａ）は本発明の第三実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。 （ａ）は本発明の第四実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は回転軸方向の反射面の長さ（ミラー部材の厚さ）に比べて回転中心軸から反射面までの距離を大きくしたミラー部材（比較例）の構成を示す平面図、及びＡ−Ａ断面図である。 光偏向器の回転軸と直交する平面でのミラー部材の外接円直径の比較を示す図である。 （ａ−１）（ａ−２）、及び（ｂ−１）（ｂ−２）は、本発明のミラー部材と従来のミラー部材を夫々装備したレーザレーダ装置の構成の比較を示す略図である。

以下、本発明を図面に示した実施の形態により詳細に説明する。
［第一実施形態］
図１（ａ）及び（ｂ）は本発明の第一実施形態に係る光偏向器、及びそれを用いたレーザレーダ装置の平面図（天板を除いた平面図）、及び要部縦断面図である。
レーザレーダ装置は、一例として車両に搭載され、対象物としての他の車両に光を照射し、その反射光を受光して該他の車両との距離を短時間に測定する装置である。
なお、本発明のレーザレーダ装置は、車両以外の静止物体及び移動物体に搭載されて用いられても良いし、単体で用いられても良い。
また、「対象物」には、車両以外の静止物体及び移動物体も含まれる。

レーザレーダ装置１は、図１に示されるように、光源装置１０、光偏向器２０、受光手段３０、測定処理装置（不図示）、これらを包囲するカバー４２などを備えている。
ここでは、距離測定装置が搭載されている車両の移動方向に直交する方向をＺ軸方向とするＸＹＺ３次元直交座標系が設定されている。

図１（ａ）では筐体の内部が平面視で示され、図１（ｂ）では光偏向器２０の回転軸を含むＸ軸、及びＺ軸と平行な断面で切断された断面図が示されている。
光源装置１０は、光源１１と、光源駆動回路、及び受光手段の回路を含む回路基板１２と、カップリングレンズ１３を有している。
光源１１は、回路基板１２に実装されており、１つの発光部としての半導体レーザ（端面発光レーザ）を有している。光源１１は、射出方向がＹ軸に平行となるように配置され、＋Ｙ側にレーザ光ＬＢを射出する。
光源駆動回路は、光源１１を断続的に駆動（パルス駆動）する。光源１１の１パルス当たりの発光時間は、一例として数ｎ秒〜１００ｎ秒程度とされている。光源１１の発光周期は、３μ秒以上とすることが望ましい。
この発光周期が短すぎると、対象物からのレーザ光の反射光が１つ前の発光の対象物からの反射光と干渉し、これら２つ反射光の信号を分離できなくなるおそれがあるからである。

これを、以下により詳細に説明する。
光源１１から光パルスを送出した時間と該光パルスの反射光を検出した時間との差をΔｔ、光速をＣとすると、対象物までの距離Ｌは、Ｌ＝Δｔ×Ｃ÷２で与えられる。
例えば、Δｔが３μ秒のとき、Ｌは４５０ｍとなる。
一般に、距離測定装置では、検出可能な距離は、最大２００ｍ程度であり、仮に４５０ｍ先から反射光が戻ってきたとしてもその光強度は十分に小さいため、連続して送出された２つの光パルスの２つの反射光が干渉してもほとんど影響はない。

また、一般に、距離測定装置では、光パルスの発光周波数は１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚ程度に設定され、これを発光周期に換算すると１０μ秒〜１００μ秒になる。
検出範囲を近距離に限定し、光出力を適正光量に設定すれば、遠距離からの反射光と干渉することはないので、さらに発光周期は短縮可能である。
図１において、カップリングレンズ１３としては平凸レンズが採用されている。カップリングレンズ１３は、光源１１の＋Ｙ側、すなわち光源１１からのレーザ光の光路上に配置されている。カップリングレンズ１３は光源１１からの発散光束をほぼ平行光束、若しくは、わずかに発散する発散光束に変換する。

光偏向器２０は、回転軸２２の軸線がＺ軸に平行で、本例では光源装置１０の＋Ｙ側に配置されている。光偏向器２０の回転体は、モータ等を含む駆動装置によりその軸線周りに所定の回転速度で回転駆動される。なお、回転体としてのミラー部材（偏向ミラー、反射鏡）２１は、一例として図の矢印の方向に回転される。
光偏向器２０は、扁平構造のミラー部材２１を有し、互いに平行に対向配置された第１反射面２１ａ、第２反射面２１ｂを有している。
各反射面は、回転軸２２周りの異なる位置に配置され、回転軸の軸線に対して平行に（非直交状、非交差状に）形成されている。ここでは、第１反射面２１ａを基準にすると、第２反射面２１ｂは回転軸を中心として１８０°回転した位置に形成されている。
各反射面２１ａ、２１ｂは、レーザ光を反射することで偏向する偏向面となっている。

光源装置１０から射出されたレーザ光ＬＢは、ミラー部材２１に入射する。ミラー部材２１に入射したレーザ光ＬＢは第１反射面２１ａで反射され、Ｘ軸と平行な方向に射出される。ここでは、一例として、光源装置１０及びミラー部材２１は、対象物としての他の車両（例えば自動車）の照射領域とほぼ同じ高さに配置されている。
回転軸２２が回転されると、第１反射面２１ａ及び第２反射面２１ｂは、回転軸と共に該回転軸の軸線周りに回転し、それぞれの反射面が光源装置１０に互いに異なるタイミングで（交互に）対向する。
この場合、光源装置１０からのレーザ光ＬＢが第１反射面２１ａに入射するタイミングと、光源装置１０からのレーザ光が第２反射面２１ｂに入射するタイミングとは異なる。
第１反射面２１ａまたは第２反射面２１ｂに入射されたレーザ光ＬＢは、カバー４２の前面（透光性部分）を透過し、他の車両に向けて投光される。

また、レーザ光ＬＢは、光源装置１０と対向した第１反射面２１ａまたは第２反射面２１ｂで反射される際、回転軸の軸線周りの位置（回転位置）に応じて、＋Ｚ方向から見てＸＹ平面に平行な所定方向に反射される。
なお、発散光束の場合、ミラー部材２１での反射光は、徐々に拡散して他の車両に照射されるため、各照射領域のＺ軸方向の長さは回転軸と該照射領域との距離に依存し、この距離が長いほど長くなる。

他の車両の各照射領域に照射され反射されたレーザ光の一部は、元の光路を徐々に拡散しながら戻る。
第１反射面２１ａで偏向され他の車両の照射領域で反射されたレーザ光の一部は、第１反射面２１ａに入射される。第１反射面２１ａに入射された車両からの反射光は折り返しミラー４３により折り返されて受光手段３０に入射する。
同様に、第２反射面２１ｂで偏向され他の車両の照射領域で反射されたレーザ光の一部は、第２反射面２１ｂに入射される。第２反射面２１ｂに入射された車両からの反射光は、折り返しミラー４３により折り返され、受光手段３０に入射する。

受光手段３０は、集光レンズ３１、受光素子３２などを有している。集光レンズ３１は、一例として、平凸レンズであり、ミラー部材２１で反射されたレーザ光の光路上に配置されている。より詳細には、集光レンズ３１は、折り返しミラー４３の−Ｘ側に配置されている（図１参照）。
受光素子３２は、一例として、フォトダイオードであり、集光レンズ３１を介したレーザ光の光路上に配置されている。物体からの反射光は微弱なため、高感度なフォトダイオードが用いられ、例えば、アバランシェフォトダイオードが用いられる。
なお、受光素子３２は、その小型化を図る観点から、集光レンズ３１の焦点位置近傍に配置されることが好ましい。
この場合、第１反射面２１ａの偏向面が折り返しミラー４３を挟んで光源装置１０に対向しているときに、第１反射面２１ａの偏向面が折り返しミラー４３を挟んで集光レンズ３１にも対向する。この結果、第１反射面２１ａで偏向され照射領域で反射されたレーザ光は、第１反射面２１ａ、折り返しミラー４３、及び集光レンズ３１を介して受光素子３２に入射する。

また、第２反射面２１ｂの偏向面が折り返しミラー４３を挟んで光源装置１０に対向しているときに、第２反射面２１ｂの偏向面が折り返しミラー４３を挟んで集光レンズ３１にも対向する。この結果、第２反射面２１ｂで偏向され照射領域で反射されたレーザ光は、第２反射面２１ｂ、折り返しミラー４３、及び集光レンズ３１を介して受光素子３２に入射する。
第１反射面２１ａで偏向され他の車両の照射領域で反射されたレーザ光の一部は、集光レンズ３１を通過後、受光素子３２に集光され、その集光時に受光素子３２から受光信号Ｓ１が測定処理装置に出力される。
同様に第２反射面２１ｂで偏向され他の車両の照射領域で反射されたレーザ光の一部は、集光レンズ３１を通過後、受光素子３２に集光され、その集光時に受光素子３２から受光信号Ｓ２が測定処理装置に出力される。

測定処理装置は、光源１１から第１反射面２１ａに各光パルスを送出したタイミングと、該パルスに対応する受光信号を受信したタイミングとの時間差に基づいて照射領域との距離を算出する。
同様に、測定処理装置は、光源１１から第２反射面２１ｂに各光パルスを送出したタイミングと、該パルスに対応する受光信号を受信したタイミングとの時間差に基づいて照射領域との距離を算出する。
光偏向器のミラー部材２１（回転体）が定速回転状態にあるとき、第１反射面２１ａまたは第２反射面２１ｂの反射面位置を特定するために、同期検出手段が設けられている。

図１（ａ）ではＸ軸に対し−１２０°近傍位置に投光されたときに、ミラー部材２１で反射した光束が同期検出素子であるフォトダイオード（ＰＤ）４４に入射し、同期検出信号が出力される。破線で示す−７０°の位置から発光が開始され、等間隔でパルス発光され、＋７０°の位置で発光が終了する。
光偏向器２０のミラー部材２１は一定の回転数で定速回転するため、−１２０°で出力される同期検出信号を基準にして、−７０°〜＋７０°まで所定の間隔でパルス発光することで、時系列に投光、取得された測定データを投光角度に対応した物体検出データとすることができる。
光偏向器の回転数は、数１００ｒｐｍ〜数１０００ｒｐｍの範囲で一定の回転数に設定される。
レーザの発光間隔は光偏向器の回転数と、投光角度分解能によって変わる。
回転数が高くなるほど、あるいは、投光角度分解能が小さくなるほど発光間隔は短くなる。

一例として、光偏向器の回転数が５００ｒｐｍ、投光角度分解能が１°のとき、発光間隔は３３３μｓｅｃ、発光周波数は３ｋＨｚである。図１のように、−７０°〜＋７０°の範囲を走査し、３３３μｓｅｃ毎に発光させれば、１°毎に１４１個の測定データが得られる。
別の一例として、光偏向器の回転数が６０００ｒｐｍ、投光角度分解能が０．２５°のとき、発光間隔は６．９μｓｅｃ、発光周波数は１４４ｋＨｚである。図１のように、−７０°〜＋７０°まで走査し、６．９μｓｅｃ毎に発光させれば、０．２５°毎に５６１個の測定データが得られる。
回転数、投光角度分解能は用途に適した条件に、適宜設定することができる。

図２（ａ）及び（ｂ）は本実施形態に係る光偏向器の平面図、及びＡ−Ａ断面図であり、同図に基づいて光偏向器の構成について詳細に説明する。
光偏向器２０は、対向する両側面に第１反射面２１ａと第２反射面２１ｂが形成されたミラー部材２１と、ミラー部材のＸ方向（長手方向）中心部にＺ軸方向へ貫通して形成された軸孔２１ｃ内に焼き嵌めにより一体化された回転軸（軸）２２と、ミラー部材の下方に配置された回路基板２８と、回路基板２８により機械的に保持され円筒状の凸部２４ａをミラー部材の下面凹所２１ｄ内に配置させたハウジング２４と、ハウジング２４の円筒状の凸部２４ａ内に固定配置されて内周面で軸２２を回転自在に軸支する軸受部材２３と、軸受部材の下方において軸２２に固定された抜け防止部材２５ａ、２５ｂと、ハウジングの円筒状の凸部と軸２２との間をシールするシール部材２５ｃと、サブハウジング２４ｂと軸２２の下端部との間に配置されたスラスト軸受部材２６と、モータ部２７と、を備えている。
ミラー部材２１の第１反射面２１ａと第２反射面２１ｂは回転中心軸２０ａの軸方向に対して平行に形成されている。ここで「軸方向に対して平行」とは、軸方向と交差（直交）しない方向であることを意味する。

ミラー部材２１は、金属部材、例えばアルミニウム合金を基材として、超精密切削加工により第１反射面２１ａと第２反射面２１ｂが形成され、反射面には透明保護膜が形成されている。
モータ部２７は、ミラー部材２１の下面に固定された筒状のフランジ部２１ｅに固定配置されたロータ磁石２７ａと、ロータ磁石と対向するハウジング２４の外周面に配置されたステータコア２７ｂと、ステータコアに配置された巻線コイル２７ｃと、を備えている。

軸受部材２３は含油動圧軸受であり、軸受隙間は直径で１０μｍ程度に設定されている。回転での安定性を確保するためラジアル軸受は、図示しない動圧発生溝を設けても良い。その場合、動圧溝は回転軸２２の外周面または軸受部材２３の内周面に設けるが、加工性が良好な焼結部材からなる軸受部材２３の内周に施すのが好適である。回転軸２２の素材としては、焼入れが可能で表面硬度を高くでき、耐磨耗性が良好なマルテンサイト系のステンレス鋼（例えばＳＵＳ４２０Ｊ２）が好適である。ロータ磁石２７ａはフランジ２１の下部内面に固定され、ハウジング２４に固定されたステータコア２７ｂ（巻線コイル２７ｃ）とともにアウターロータ型のブラシレスモータを構成している。ロータ磁石２７ａは樹脂をバインダーに使用したボンド磁石であり、ロータ磁石２７ａの外径部が保持部であるフランジ部２１ｅにより保持されている。スラスト方向の軸受は、回転軸２２の下端面に形成された凸曲面２２ａと、その対向面にスラスト軸受部材２６を接触させるピボット軸受である。スラスト軸受部材２６はサブハウジング２４ｂの上面の凹所内に収納され、樹脂材料等を用いて潤滑性を良好にしている。
軸受部材２３とスラスト軸受部材２６はハウジング２４とサブハウジング２４ｂに夫々収納され、シール部材２５により油の流出が防止されている。

本実施形態例におけるモータ方式は、径方向に磁気ギャップを有し、ステータコア２７ｂの外径部にロータ磁石２７ａがレイアウトされるアウターロータ型といわれる方式である。回転駆動は、ロータ磁石２７ａの磁界により回路基板２８に実装されているホール素子（不図示）から出力される信号を位置信号として参照し、駆動ＩＣ（不図示）により巻線コイル２７ｃの励磁切り替えを行い回転する。ロータ磁石２７ａは回転方向に複数極で径方向に着磁されており、ステータコア２７ｂの外周との協働で回転トルクを発生し回転する。回路基板２８には不図示のハーネスが接続され、本体からの電力供給とモータの起動停止、回転数等の制御信号の入出力が行われる。
ロータ磁石２７ａは周方向１２極（６極対）に着磁され、ステータコアには周方向に９つのコイルが配置された、１２極９スロット型のブラシレスモータとなっている。図示しないホール素子は、ロータ磁石２７ａの１２極の着磁に対応して、ＮＳの磁極境界を検出する位置検出信号を出力すると共に、１回転当たり６パルス速度検出信号として利用さている。このホール素子信号から波形整形した速度検出信号と不図示のコントローラより供給される基準クロック信号の位相を比較する、いわゆる位相比較制御（ＰＬＬ制御）により、一定の速度で回転するように制御されている。

＜ミラー部材の鏡面切削加工＞
次に、ミラー部材の鏡面切削加工の為の装置構成等について説明する。
図３はミラー部材の鏡面加工のための装置構成を示す説明図であり、図４（ａ）はカッターホルダーの平面図であり、（ｂ）はカッターホルダーの正面構造を保持治具の断面図と共に示す図であり、図５（ａ）は保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。

図３、図４に示すように、スピンドル５０の回転主軸５１にはカッターホルダー５２の中心部が固定されている。スピンドル５０の前方には、その回転主軸５１と直交する方向に移動可能なステージ５３が配置され、スピンドル５０の回転主軸５１が回転してカッターホルダー５２が一体回転している時に、ミラー部材２１としてのミラー部材２１を載せたステージ５３が図３の右から左へ移動することで、ミラー部材２１の反射面に対する鏡面切削加工が行なわれる。
図４によりカッターホルダー５２の詳細を説明する。カッターホルダー５２の前面には回転中心からの距離が異なる位置に、粗加工バイト５４と仕上げ加工バイト５５が取り付けられている。カッターホルダー５２が回転し、ステージ５３上に固定された保持治具６０により保持されたミラー部材２１が移動することで、ミラー部材の一方の反射面が回転中心から半径Ｒ１に配置された粗加工バイト５４により数十μｍ削られた後に、半径Ｒ２（Ｒ１＞Ｒ２）に配置された仕上げ加工バイト５５によって数μｍ程度削られて、鏡面に仕上げられる。

保持治具６０は、不図示の自動分割角度盤上に固定され、任意の角度でステージ移動方向と平行な回転軸上で、任意の角度で回転できるようになっている。図４の状態で第１面の反射面を加工した後で、自動分割角度盤の可動部を１８０度回転させて第２面の反射面をカッターホルダー５２側に向けて加工することで２面の加工が行なわれる。

次に、図５により、ワーク５６（＝ミラー部材２１）を保持する保持治具６０の詳細を説明する。図５の保持治具６０の配置は、図４における配置方向に対して、反時計回りに９０°回転している。
ワーク５６としてのミラー部材２１は、反射面２１ａ、２１ｂの回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸２２の回転中心から一方の反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材となっている。図２において説明したようにミラー部材２１の軸孔２１ｃには、回転軸２２が焼き嵌めされている。
焼き嵌めは、周知のように軸孔側を加熱膨張させて内径を拡げ、この状態で回転軸を嵌め込んでから冷却することにより、軸孔の収縮により両部材を結合する手法である。本来であれば回転軸を挿入できない程度に小径の軸孔内に軸を挿入して固着する手法である。

鏡面切削加工により反射面を形成する加工工程では、ミラー部材２１の保持方法として、２方向（図５（ｂ）の上下方向、左右方向）から保持力（挟圧力）を発生させるようにしている。
なお、ミラー部材２１の下面と上面（回転軸２２の軸方向両端側面）には、回転軸２２の中心部を中心とした同心円弧状の凸面である加工基準面（被保持部）５６ａ、５６ｂが夫々形成されている。ワークの左右側面（回転軸２２の軸方向と直交する方向に位置し、且つ軸方向と平行な面）には当接面（被保持部）５６ｃ、及び押え面（当接面、被保持部）５６ｄが夫々形成されている。
加工基準面５６ａ、５６ｂは、回転軸２２を中心として外径方向等距離の位置に配置された突起であり、夫々の先端面は平坦面となっている。後述する比較例（図９）のようにミラー部材の上下両面が充分に広い面積を揺する場合には加工基準面を完全なリング状に構成することができるが、本例のようにミラー部材を扁平化した場合には上下両面が狭くなるので各加工基準面は円形の一部である円弧状となる。

第１の保持力は、保持治具６０のベース（他部材）６１に対してミラー部材２１の一方の加工基準面５６ａが接触し、且つミラー部材２１の他の加工基準面である押え面５６ｂが押え部材（他部材）６２、及び弾性部材６２ａにより上から押えられることにより生成される。一例として実施例ではＬ１が２８ｍｍ、Ｌ２が６ｍｍで厚みとなる２倍長さは１２ｍｍと扁平な形状となっている。実施例のようにＬ２が小さい構成では、上下方向に挟み込んで押えるだけでは十分な保持力が得られず、鏡面切削加工時に切削バイトが切り込む時に加わる力で、ワークに回転する力が働き最初に保持した状態から動いてしまう恐れがあり、加工することが出来ない。

そこで、反射面と直交（交差）する加工基準面５６ａとその押え面（加工基準面）５６ｂに加えて、回転軸２２の軸方向と平行な当接面５６ｃとそれに対向する押え面（当接面）５６ｄが設けられ、保持治具の回転規制部材（他部材）６３と当接押え部材（他部材）６４に挟まれて、第２の保持力を発生させる構成となっている。
回転軸２２を基準にすると、当接面５６ｃは加工基準面５６ｂよりも遠方（離間位置）に形成されている。鏡面切削加工時には各加工基準面５６ａ、５６ｂがベース６１、及び押え部材６２により上下から挟むように押さえられると同時に、当接面５６ｃが回転規制部材６３に当接され、反対側から当接押え部材６４とで弾性的に押さえられて保持される。
押え部材６２は外枠６６との間に配置された弾性部材６２ａにより弾性付勢され、当接押え部材６４は外枠６６との間に配置された弾性部材６４ａにより弾性付勢される。

上記のように、上下、左右の２方向から挟み込むように保持することで、それぞれの接触摩擦力が小さくても、切削加工時のバイトの切り込みでミラー部材が動かされる恐れがないため、扁平なミラー部材でも鏡面切削加工により直接反射面を形成することができる。回転軸を基準にすると、当接面５６ｃ、５６ｄは加工基準面５６ａ、５６ｂよりも離間した位置に形成されている。言い換えれば、回転軸２２と各加工基準面５６ａ、５６ｂとの距離よりも、回転軸と各当接面５６ｃ、５６ｄとの距離が大きくなっているので、当接面を押さえる力は小さくても加工時に動かされることは無く、しかも弾性部材６２ａ、６４ａによって柔軟に押えることで反射面の変形を小さくして、高精度な鏡面を形成できる。
言い換えれば、鏡面の平面度を維持することと、ミラー部材の切削加工時に大きな固定力で保持することとはトレードオフの関係にあるが、本発明によればこの２つを両立させることができる。即ち、当接面を押さえる力を大きくすることなく加工時におけるミラー部材の動きを封じて加工精度を高めることができる。

上記の構成により、アルミニウム合金のような金属材料からなり、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材であっても、鏡面切削加工により反射面を形成することができ、ロータが軽量化され、外部振動や衝撃に対するスラスト軸受部材の耐久性が向上する。
以上の作用、効果は以下の各実施形態においても同様に当てはまる。

［第二実施形態］
図６（ａ）は本発明の第二実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。
第一実施形態とは光偏向器のミラー部材の構成と保持治具の構成が異なるだけであるため、相違点を中心として説明する。また、同一部分には同一符号を付して説明する。
回転軸２２と直交する断面において、当接面５６ｃ（５６ｄ）にはＶ溝状（Ｖ字凹状）の凹所５７が形成され、扁平なミラー部材がさらに軽量化されている。鏡面切削加工時にはＶ溝内に円柱状の回転規制部材（他部材）７３が当接され、保持治具６０に固定されて加工される。
図６により、ワーク５６（＝ミラー部材２１）を保持する保持治具６０の詳細を説明する。図６の保持治具６０の配置は、図４における配置方向に対して反時計回りに９０°回転している。

ミラー部材２１は、反射面の回転軸２２の軸方向に沿った長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材となっている。ミラー部材２１には、その左右方向中心部に軸２２が焼き嵌めされている。
鏡面切削加工により反射面を形成する加工工程では、ミラー部材２１の保持は上下左右の２方向から保持力を発生させる構成としている。
第１の保持力は、保持治具６０のベース（他部材）６１にミラー部材２１の下側の加工基準面５６ａを接触させ、且つ、ミラー部材２１の上側の押え面（加工基準面、被保持部）５６ｂが押え部材（他部材）６２により上から押えられることにより生成される。一例として実施例ではＬ１が２８ｍｍ、Ｌ２が６ｍｍ程度の扁平な形状となっている。実施例のようにＬ２が小さい構成では、上下方向に挟み込んで押えるだけでは十分な保持力が得られず、鏡面切削加工時に切削バイトが切り込む時に加わる力で、ワークに回転する力が働き最初に保持した状態から動いてしまう恐れがあり、加工することが出来ない。

そこで、本実施形態では、反射面と直交する加工基準面（被保持部）５６ａ、５６ｂに加えて、回転軸の軸方向と平行な当接面（被保持部）５６ｃとそれに対向する押え面（当接面、被保持部）５６ｄが設けられ、回転規制部材（他部材）７３と当接押え部材（他部材）６４に挟まれて、第２の保持力を発生させる構成となっている。回転軸２２を基準にした位置関係では、当接面５６ｃは加工基準面５６ｂよりも遠方に形成されている。鏡面切削加工時には加工基準面が保持治具により上下から挟むように押さえられると同時に、当接面が回転規制部材７３に当接され、反対側から当接押え部材（他部材）６４とで弾性的に押さえられて保持される。

本実施形態の特徴的な構成は、少なくとも一方の当接面、本例では当接面５６ｃと押え面５６ｄに夫々Ｖ溝状の凹所５７が形成され、回転規制部材７３を凹所５７の内壁面（当接面）５７ａに当接させることにより左右方向からの強固な保持力（ミラー部材の固定力）を得るようにしている点にある。内壁面５７ａは、回転軸２２の軸方向と平行な方向へ延びるが反射面とは直交せず、反射面に対して所定の角度で交差している。
当接面は、第一実施形態のように平坦面であってもよいが、本例のように複数の平面が交差した多面状の内壁面であってもよい。

上記のように、２方向から挟み込むように保持することで、それぞれの接触摩擦力が小さくても、切削加工時のバイトの切り込みでミラー部材が動かされる恐れがないため、扁平なミラー部材でも鏡面切削加工により直接反射面を形成することができる。回転軸を基準にした位置関係では、当接面は加工基準面よりも遠方に形成されているので、当接面を押さえる力は小さくても加工時に動かされることは無く、柔軟に押えることで反射面の変形を小さくして、高精度な鏡面を形成できる。

上記の構成により、アルミニウム合金のような金属材料からなり、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材でも、鏡面切削加工により反射面を形成することができ、ロータが軽量化され、外部振動や衝撃に対するスラスト軸受部材の耐久性が向上する。

［第三実施形態］
図７（ａ）は本発明の第三実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。
第一実施形態とは光偏向器のミラー部材の構成と保持治具の構成が異なるだけであるため、その他の構成については説明を省略する。
回転軸２２と直交する断面において、当接面（被保持部）５６ｃ（５６ｄ）には四角い溝状（コ字凹状）の凹所５８が形成され、扁平なミラー部材がさらに軽量化されている。鏡面切削加工時には凹所５８内に円柱状の回転規制部材（他部材）８３が当接され、保持治具６０に固定されて加工される。

図７（ａ）により、ワーク５６（＝ミラー部材２１）を保持する保持治具６０の詳細を説明する。図７の保持治具６０の配置は、図４における配置方向に対して反時計回りに９０°回転している。
ワーク５６（＝ミラー部材２１）は、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材となっている。ミラー部材２１には、軸２２が焼き嵌めされている。
鏡面切削加工により反射面を形成する加工工程では、ミラー部材２１の保持は２方向から保持力を発生させる構成としている。
第１の保持力は、保持治具６０のベース（他部材）６１にミラー部材２１の加工基準面（被保持部）５６ａを接触させると共に、ミラー部材２１の押え面（加工基準面、被保持部）５６ｂを押え部材（他部材）６２により上から押えることにより生成される。一例として実施例ではＬ１が２８ｍｍ、Ｌ２が６ｍｍ程度の扁平な形状となっている。実施例のようにＬ２が小さい構成では、上下方向に挟み込んで押えるだけでは十分な保持力が得られず、鏡面切削加工時に切削バイトが切り込む時に加わる力で、ミラー部材に回転する力が働き最初に保持した状態から動いてしまう恐れがあり、加工することが出来ない。

そこで、反射面と直交する加工基準面５６ａとその押え面５６ｂに加えて、回転軸の軸方向と平行な当接面５６ｃとそれに対向する押え面（当接面）５６ｄが設けられ、円柱状の回転規制部材（他部材）８３と当接押え部材（他部材）６４に挟まれて、第２の保持力を発生させる構成となっている。

本実施形態の特徴的な構成は、当接面５６ｃと押え面（当接面）５６ｄに四角い溝状（コ字凹状）の凹所５８を形成して回転規制部材８３を凹所５８の内壁面５８ａ、５８ｂに当接させることにより左右方向からの強固な保持力（ミラー部材の固定力）を得るようにしている点にある。
回転規制部材８３は円柱状である必要は無く、凹所の内壁面、特に回転軸寄りの内面５８ｂと接してこれを回転軸に向けて押圧できる構成であれば多角柱、その他の任意の形状であってもよい。
内壁面（当接面）５８ｂは、回転軸２２と平行な方向へ延び、且つ反射面とは直交状態で交差している。
当接面は、第一実施形態のように全面が平坦面であってもよいが、本例のように平坦面の一部、又は全部が凹所となっており、且つ凹所内面が複数の平面が交差した多面状の内壁面である場合に、複数の平面のうちの一面が当接面（回転規制部材が当接する面）であってもよい。或いは当接面は曲面状の凹所の内壁面であってもよい。
回転軸２２を基準にすると、凹所５８の回転軸寄りの内壁面（当接面）５８ｂは加工基準面５６ａ、５６ｂよりも遠方に形成されている。鏡面切削加工時には各加工基準面が保持治具により上下から挟むように押さえられると同時に、当接面５８ｂが当接部材８３に当接され、反対側から当接押え部材６４とで弾性的に押さえられて保持される。

上記のように、上下左右の２方向から挟み込むように保持することで、各接触部位の接触摩擦力が小さくても、切削加工時のバイトの切り込みでミラー部材が動かされる恐れがないため、扁平なミラー部材でも鏡面切削加工により直接反射面を形成することができる。回転軸を基準にすると、当接面は加工基準面よりも遠方に形成されているので、当接面を押さえる力は小さくても加工時に動かされることは無く、柔軟に押えることで反射面の変形を小さくして、高精度な鏡面を形成できる。

上記の構成により、アルミニウム合金のような金属材料からなり、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材でも、鏡面切削加工により反射面を形成することができ、ロータが軽量化され、外部振動や衝撃に対するスラスト軸受部材の耐久性が向上する。

［第四実施形態］
図８（ａ）は本発明の第四実施形態に係る保持治具の構成をワークと共に示す要部平面図であり、（ｂ）はワークを保持した保持治具の構成を示す縦断面図である。
第一実施形態とは光偏向器のミラー部材の構成と保持治具の構成が異なるだけであるため、その他の構成については説明を省略する。
回転軸と直交する断面において、当接面（被保持部）５６ｃ（５６ｄ）寄りのミラー部材内部には円筒状の貫通穴５９が形成され、扁平なミラー部材がさらに軽量化されている。鏡面切削加工時には貫通穴５９内に円柱状の回転規制部材（他部材）９３が挿入（嵌合）されることにより保持治具６０に固定されて加工される。
即ち、回転軸の軸方向と平行な当接面は円筒状に形成された貫通穴５９の内壁面５９ａとして形成されている。鏡面切削加工時には円柱状の回転規制部材９３に貫通穴が挿し込まれて保持治具に固定され、ロータとして軽量化されている。

ミラー部材２１は、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材となっている。ミラー部材２１には、軸２２が焼き嵌めされている。
鏡面切削加工により反射面を形成する加工工程では、ミラー部材２１の保持は２方向から保持力を発生させる構成としている。
第１の保持力は、保持治具６０のベース（他部材）６１にミラー部材２１の加工基準面５６ａを接触させつつ、ミラー部材２１の押え面（加工基準面、被保持部）５６ｂを押え部材（他部材）６２により上から押えることにより得られる。一例として実施例ではＬ１が２８ｍｍ、Ｌ２が６ｍｍ程度の扁平な形状となっている。実施例のようにＬ２が小さい構成では、上下方向に挟み込んで押えるだけでは十分な保持力が得られず、鏡面切削加工時に切削バイトが切り込む時に加わる力で、ミラー部材に回転する力が働き最初に保持した状態から動いてしまう恐れがあり、加工することが出来ない。

そこで、反射面と直交する加工基準面５６ａとその押え面５６ｂへの加圧に加えて、回転軸の軸方向と平行な当接面５９ａとそれに対向する押え面（当接面）５６ｄが設けられ、回転規制部材９３と当接押え部材（他部材）６４により挟むことにより第２の保持力を発生させる構成となっている。
回転軸２２を基準にすると、当接面５９ａは加工基準面５６ａ、５６ｂよりも遠方に形成されている。鏡面切削加工時には加工基準面が保持治具により上下から挟むように押さえられると同時に、当接面が回転規制部材９３に当接され、反対側から当接押え部材６４とで弾性的に押さえられて保持される。
なお、本例では当接面５９ａは貫通穴５９の内壁であり、内壁面のうちの回転軸２２寄りの部分が当接面５９ａとして有効に機能する。

曲面状の当接面５９ａは、回転軸２２と平行な方向へ延びるが反射面とは直交せず、反射面に対して所定の角度で交差している。
貫通穴５９は円筒状である必要はなく、楕円形、長円形、或いは三角形、四角形、その他の多角柱状であってもよい。貫通穴を楕円形、長円形、或いは多角形状とする場合にはこの貫通穴に挿通される回転規制部材９３は貫通穴と同様の形状を有した柱状体とするのが好ましい。当接面５９ａと回転規制部材とを面接触させつつ押圧力を伝えることができるからである。ミラー部材を円柱状にくり貫いて貫通穴５９を形成することで、ミラー部材が軽量化される。円柱状の内壁面は高精度に加工することも容易である。

上記のように、２方向から挟み込むように保持することで、それぞれの接触摩擦力が小さくても、切削加工時のバイトの切り込みでミラー部材が動かされる恐れがないため、扁平なミラー部材であっても鏡面切削加工により直接反射面を形成することができる。回転軸を基準にすると、当接面は加工基準面よりも遠方に形成されているので、当接面を押さえる力は小さくても加工時に動かされることは無く、柔軟に押えることで反射面の変形を小さくして、高精度な鏡面を形成できる。

上記の構成により、アルミニウム合金のような金属材料からなり、反射面の回転軸方向の長さＬ１に比較して、回転軸の回転中心から反射面までの距離Ｌ２が小さい扁平なミラー部材でも、鏡面切削加工により反射面を形成することができ、ロータが軽量化され、外部振動や衝撃に対するスラスト軸受部材の耐久性が向上する。

［他の実施形態］
なお、上記実施形態では、対向する２つの反射面を有した２面のミラー部材を例示したが、これは一例に過ぎず、１面、或いは３面以上の反射面を有したミラー部材であっても良い。

［比較例］
次に、図９に示した比較例の光偏向器１２０について説明する。
即ち、図９（ａ）（ｂ）は回転軸方向の反射面の長さに比べて回転中心軸から反射面までの距離を大きくしたミラー部材（比較例）の構成を示す平面図、及びＡ−Ａ断面図である。
比較例に係る光偏向器１２０は、対向配置された２つの鏡面１２１ａ、１２１ｂ、及び加工基準面１２１ｃを有した反射鏡（ミラ−部材）１２１と、反射鏡の中心孔１２１ｄ内に固定した回転軸１３０と、反射鏡の下面凹所の内壁に固定したロータ磁石１３１と、回路基板１４０に固定したハウジング１４１により支持されたステータコア１４２、及び巻線コイル１４３と、ハウジングにより支持されて回転軸１３０の一部を回転自在に軸支する軸受部材１４４と、回転軸１３０の先端部を軸支するスラスト軸受部材１４５と、抜け止め部材１４６と、を備えている。ロータ磁石１３１、ステータコア１４２、及び巻線コイル１４３はモータ部を構成している。

本構成において、鏡面１２１ａ、１２１ｂを切削加工する時のバイトの切り込みで反射鏡１２１が回転することが無いように押さえるための加工基準面１２１ｃを図示のように大型のリング状に構成すると、反射面の長さが回転軸方向に大きいので、必然的にロータ磁石１３１の質量が大きくなる。外乱振動によりロータ磁石が振動し、繰り返しスラスト軸受部材１４５に加わる衝撃力がロータ磁石の質量増加に比例して大きくなることから、スラスト軸受部材１４５の耐久性に影響し、信頼性が低下する。
本比較例では、反射面の軸方向長Ｌ１が２８ｍｍであり、回転軸中心から反射面までの距離Ｌ２が１６ｍｍ、Ｌ２の２倍が３２ｍｍとなるように製作し、ロータ磁石１３１、モータ部をミラー部材１２１の下部凹所内部に収納する構成としている。
反射鏡を小型化（薄型化）して上記の如き不具合を解決するために、反射面が互いに平行に対向配置された反射鏡において、反射面の回転軸方向の長さよりも回転軸中心から反射面までの距離が小さい扁平構造とすることが考えられる。しかし、この場合には扁平構造の反射鏡の上下左右側面を保持治具によって固定しながら反射面をバイトを用いた切削により鏡面加工する際に反射面と直交する加工基準面の面積が狭くなるためにこの部分を保持治具によって保持する際に十分な保持力が得られなくなり、加工中に反射鏡が回転してしまい精度の高い鏡面切削加工を実施できず、光偏向器として実現することができなかった。

そこで第１乃至第４の実施形態に係る本発明のミラー部材の保持のための構成を採用することにより、図９の比較例に対し、Ｌ２の長さを１／２〜１／３程度に小型化することができるため、ミラー部材の質量を１／２〜１／３程度に低減することができる。その結果、ロータの質量が低減され、外乱振動によりロータが振動し、繰り返しスラスト軸受部材に加わる衝撃力が低減され、スラスト軸受部材の耐久性、信頼性が向上する。
また、本発明の各実施形態では、図９の比較例に対し、Ｌ２の長さを１／２〜１／３程度に薄型に構成できるため、光学設計上も有利となる。
即ち、ミラー部材２１を回転させることで、反射された光ビームが各像高を走査することになる。ミラーの内接円半径を小さくすると、この各像高における光ビームのミラー部材への入射位置（反射点）の差（これをサグと定義する）が小さくなる。サグが小さくなることによって、特に広い画角で光ビームを走査しようとするときに、回転するミラーでの光ビームのけられが少なくなり、より効率的に、光ビームを検出領域に照射でき、かつ、検出領域からはね返ってきた光ビームを取り込むことが可能となる。

図１０は、光偏向器の回転軸と直交する平面でのミラー部材の外接円直径の比較を示す。この図から明らかなように、比較例に比べ本発明の実施形態に係るミラー部材の小型化できる。

図１１（ａ−１）（ａ−２）、及び（ｂ−１）（ｂ−２）は、本発明のミラー部材と従来のミラー部材を夫々装備したレーザレーダ装置の構成の比較を示す略図である。（ｂ−１）（ｂ−２）に示した比較例ではミラー部材１２１の外接円直径が大きいためにカバー１４２の位置が外側に拡張した状態となり、光源装置のレイアウトの小型化が困難となる。一方、（ａ−１）（ａ−２）に示したミラー部材の外接円直径が小さい本発明のレーザレーダ装置では、ミラー部材２１の外接円直径を大幅に小さくできるので、カバー４２の位置を比較例のカバー１４２の位置よりも内側に配置することが可能となり、本発明の実施形態に係るレーダレーザ装置の方が小型化できることが明かである。

［本発明の構成、作用、効果のまとめ］
第１の本発明は、回転軸２２の軸方向と平行な反射面を有して回転するミラー部材２１の加工方法であって、ミラー部材は、金属部材に反射面を形成するものであり、回転軸の回転中心から反射面までの距離の２倍の長さ（内接円直径）が、反射面の回転軸方向の長さよりも小さく、回転軸と平行な方向を上下方向、回転軸と直交する方向を左右方向と定義すると、ミラー部材における回転軸の軸方向両端側面である上面と下面には、回転軸を中心とした同心円弧状の凸面である加工基準面５６ａ、５６ｂが夫々形成され、ミラー部材における回転軸の軸方向と直交する方向に位置し、且つ回転軸の軸方向と平行であって反射面と接する左右側面には、当接面５６ｃ、５６ｄが夫々形成され、加工基準面と当接面に、夫々他部材６２、６４を当接させることでミラー部材を保持し、鏡面切削加工により反射面を形成することを特徴とする。

第２の本発明に係る加工方法は、加工基準面５６ａ、５６ｂは、回転軸２２を中心として外径方向等距離の位置に配置された突起であり、夫々の先端面は平坦面となっていることを特徴とする。

第３の本発明に係る加工方法は、他部材６２、６４が、弾性部材６２ａ、６４ａにより弾性付勢されることで、加工基準面５６ｂと当接面５６ｄに、夫々当接されることを特徴とする。

第４の本発明に係る加工方法は、当接面にはＶ溝状の凹所５７が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材７３を凹所へ当接させることを特徴とする。

第５の本発明に係る加工方法は、当接面には四角い溝状の凹所５８が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材８３を凹所へ当接させることを特徴とする。

第６の本発明に係る加工方法は、ミラー部材には内部を上下方向に貫通する貫通孔（貫通穴５９）が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材９３を貫通孔へ挿入することを特徴とする。

１…レーザレーダ装置、１０…光源装置、１１…光源、１２…回路基板、１３…カップリングレンズ、２０ａ…回転中心軸、２０…光偏向器、２１…ミラー部材（反射鏡）、２１ａ…反射面、２１ｂ…反射面、２１ｃ…軸孔、２１ｄ…下面凹所、２１ｅ…フランジ部、２２…回転軸、２２ａ…凸曲面、２３…軸受部材、２４…ハウジング、２４ａ…凸部、２４ｂ…サブハウジング、２５…シール部材、２５ａ…抜け防止部材、２５ｃ…シール部材、２６…スラスト軸受部材、２７…モータ部、２７ａ…ロータ磁石、２７ｂ…ステータコア、２７ｃ…巻線コイル、２８…回路基板、３０…受光手段、３１…集光レンズ、３２…受光素子、４２…カバー、４３…ミラー、５０…スピンドル、５１…回転主軸、５２…カッターホルダー、５３…ステージ、５４…粗加工バイト、５５…加工バイト、５６…ワーク、５６ａ、５６ｂ…加工基準面（被保持部）、５６ｃ…当接面（被保持部）、５６ｄ…押え面（当接面、被保持部）、５７…凹所、５８…凹所、５８ａ…内壁面、５８ｂ…当接面（被保持部）、５９…貫通穴、５９ａ…当接面（被保持部）、６０…保持治具、６１…ベース（他部材）、６２…押え部材（他部材）、６２ａ…弾性部材、６３…回転規制部材（他部材）、６４…当接押え部材（他部材）、６４ａ…弾性部材、６６…外枠、７３…回転規制部材（他部材）、８３…回転規制部材（他部材）、９３…回転規制部材（他部材）、１２０…光偏向器、１２１…ミラー部材（反射鏡）、１２１ａ…鏡面、１２１ｃ…加工基準面、１２１ｄ…中心孔、１３０…回転軸、１３１…ロータ磁石、１４０…回路基板、１４１…ハウジング、１４２…カバー、１４３…巻線コイル、１４４…軸受部材、１４５…スラスト軸受部材、１４６…抜け止め部材。

特開２０１３−１７０９６２公報 特表２０１３−５４６００９公報 特開２００１−２２８４３２公報

Claims (6)

1. 回転軸の軸方向と平行な反射面を有して回転するミラー部材の加工方法であって、
   前記ミラー部材は、金属部材に前記反射面を形成するものであり、
   前記回転軸の回転中心から前記反射面までの距離の２倍の長さが、前記反射面の回転軸方向の長さよりも小さく、
   前記回転軸と平行な方向を上下方向、前記回転軸と直交する方向を左右方向と定義すると、
   前記ミラー部材における前記回転軸の軸方向両端側面である上面と下面には、前記回転軸を中心とした同心円弧状の凸面である加工基準面が夫々形成され、
   前記ミラー部材における前記回転軸の軸方向と直交する方向に位置し、且つ前記回転軸の軸方向と平行であって前記反射面と接する左右側面には、当接面が夫々形成され、
   前記加工基準面と前記当接面に、夫々他部材を当接させることで前記ミラー部材を保持し、鏡面切削加工により前記反射面を形成することを特徴とする加工方法。
2. 前記加工基準面は、前記回転軸を中心として外径方向等距離の位置に配置された突起であり、夫々の先端面は平坦面となっていることを特徴とする請求項１に記載の加工方法。
3. 前記他部材は、弾性部材により弾性付勢されることで、前記加工基準面と前記当接面に、夫々当接させることを特徴とする請求項１又は２に記載の加工方法。
4. 前記当接面にはＶ溝状の凹所が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材を前記凹所へ当接させることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の加工方法。
5. 前記当接面には四角い溝状の凹所が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材を前記凹所へ当接させることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の加工方法。
6. 前記ミラー部材には内部を上下方向に貫通する貫通孔が形成され、鏡面切削加工する際に、回転規制部材を前記貫通孔へ挿入することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の加工方法。

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