JP2008175919A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光ビームの光利用効率を向上する。
【解決手段】アパーチャ部材12に設けられた開口の主走査方向の大きさに対する、アパーチャ部材12の開口に入射する光ビームの主走査方向の大きさ、及び、アパーチャ部材12に設けられた開口の主走査方向に直交する副走査方向の大きさに対する、アパーチャ部材12の開口に入射する光ビームの副走査方向の大きさのうちの、少なくとも小さい方の値が、1以上で2以下となるように、走査光学系の特性を設定する。これにより、被走査面上に形成される光ビームのスポット径のばらつきを抑制しつつ、光源から射出される光ビームの光利用効率を向上させることが可能となる。
【選択図】図7

Description

本発明は、光走査装置及び画像形成装置に係り、更に詳しくは、光ビームにより被走査面を走査する光走査装置、及び該光走査装置を備える画像形成装置に関する。
従来から、カールソンプロセスを用いて画像を形成する画像形成装置として、例えば、回転する感光ドラムの表面に、ポリゴンミラーを介して光ビームを走査することにより感光ドラム表面に潜像を形成し、この潜像を可視化して得られたトナー像を、記録媒体としての用紙上に定着させることにより、画像を形成する画像形成装置が知られている。近年、この種の画像形成装置は、オンデマンドプリンティングシステムとして簡易印刷によく用いられるようになり、画像の高密度化及び画像出力の高速化への要求が一層高まっている。
一般に、画像出力の高速化を図る方法としては、光ビームを偏向させるポリゴンミラーの回転数と感光ドラムの回転数を高くして、プリント速度を増加させることが考えられる。しかしながら、ポリゴンミラーの回転数を高くすると、その駆動系からの騒音や振動が増加するとともに消費電力も増大し、装置の耐久性が低下してしまう。また、画像出力の高速化は、画像の高密度化に対しトレードオフの関係になっているため、ポリゴンミラーの回転数を高くしていくと、それにともなって画質が低下するという不都合もある。
そこで、画像の高密度化及び画像出力の高速化を同時に両立する方法として、光源をマルチビーム化し、一度に複数本の光ビームにより感光ドラムを走査する方法が提案されている(例えば、特許文献1、及び特許文献2参照)。特許文献1及び特許文献2に記載の方法は、光ビームの光源として、複数の発光点を有する面発光型レーザアレイ(VCSEL: vertical cavity surface emitting laser)からの発散光を、カップリングレンズを用いてカップリングした状態で、一括してポリゴンミラーにより偏向させることにより、感光ドラム上を同時に複数本の光ビームで走査することが可能な方法である。
光源をマルチビーム化するには、例えば特許文献1及び特許文献2に記載の方法以外に、光源として複数の端面発光型LDを用いる方法や、1次元又は2次元の端面発光型レーザアレイなどを用いる方法も考えられる。光源として端面発光型LDを用いる場合には、汎用のLD(1ビームのみを射出するLD)を使用することができるため、製品のコストダウンをすることができるが、LDとカップリングレンズとの位置関係を、複数のLD間で安定的に維持するのが困難であり、走査線間隔の不均一性を招きやすくなるため、画像の高密度化を達成するのは難しい。また、配置するLDの個数も制限されるため、画像の高密度化及び画像出力の高速化を同時に両立するのは困難である。
また、光源として、発光点が1次元的に配置された端面発光型レーザアレイを用いる場合には、光ビームによる走査線間隔を均一にすることができるが、光源の消費電力が大きくなってしまうことや、ビーム数を多くしすぎると、光学系を構成する光学素子の光軸からの光ビームのずれ量が大きくなってしまい、装置の光学特性が劣化するという不都合がある。
一方、面発光型レーザは、その基板に対し垂直方向に光ビームを出射する半導体レーザであるため、発光点の2次元集積が容易であるとともに、消費電力も端面発光型の素子に比べて、1桁程度小さくすることが可能である。このため、画像の超高密度化及び画像出力の高速化を実現するうえで非常に有利である。
しかしながら、面発光レーザ素子は、活性層の体積が小さいという性質上、光ビームの高出力化が困難であるという大きな課題がある。例えば、画像形成装置の光走査装置で一般的に用いられる端面発光型の半導体レーザの出力が7〜10mW程度であるのに対して、現在の面発光レーザでは1〜2mW程度である。したがって、面発光レーザを用いて画像出力の高速化を実現するためには、光ビームを、端面発光型の光源を用いる場合に比べて、より有効に利用することが必要となる。
具体的には、面発光レーザを含む半導体レーザは、レーザ素子ごとに発散角のばらつきがある。このばらつきは、光走査装置内の光学系における実効的な開口数(NA)の変化を引き起こし、被走査面上において、ビームスポット径のばらつきや、ビームスポット径の増大を招く。この問題を回避するため、アパーチャ部材を用いて、レーザ素子から射出される光束のうち、像面に導く光束幅を規制している。しかしながら、アパーチャ部材を用いると、光利用効率(光源から射出される光量のうち、像面に到達する光量)が低下するため、光源として面発光レーザを用いる際には、この光利用効率を向上させることが必要となる。
特開2005−250319号公報 特開2004−287292号公報
本発明は、係る事情の下になされたもので、その第1の目的は、光ビームの光利用効率を向上させることが可能な光走査装置を提供することにある。
また、本発明の第2の目的は、精度よく画像を形成することが可能な画像形成装置を提供することにある。
本発明は、第1の観点からすると、光源から射出され、アパーチャ部材に設けられた開口を通過した光ビームを、主走査方向へ偏向して、被走査面を走査する光走査装置において、前記開口の前記主走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記主走査方向の大きさ、及び、前記開口の前記主走査方向に直交する副走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記副走査方向の大きさのうちの、少なくとも小さい方の値が、1以上で2以下となることを特徴とする光走査装置である。
これによれば、アパーチャ部材の開口の主走査方向の大きさに対する、アパーチャ部材の開口に入射する前記光ビームの主走査方向の大きさ、及び、アパーチャ部材の開口の主走査方向に直交する副走査方向の大きさに対する、アパーチャ部材の開口に入射する光ビームの副走査方向の大きさのうちの、少なくとも小さい方の値が、1以上で2以下となっている。このため、被走査面上に形成される光ビームのスポット径のばらつきを抑制しつつ、光源から射出される光ビームの光利用効率を向上させることが可能となる。
本発明は、第2の観点からすると、光源から射出され、アパーチャ部材に設けられた開口を通過した光ビームを、主走査方向へ偏向して、被走査面を走査する光走査装置において、前記アパーチャ部材は、前記光ビームの進行方向及び該進行方向に直交する方向のいずれかの方向に調整されていることを特徴とする光走査装置である。
これによれば、アパーチャ部材は光ビームの進行方向、及び該進行方向に直交する方向のいずれかの方向に調整されている。光ビームとアパーチャ部材との位置関係の調整(以下、単に位置調整ともいう)を行う場合には、光源ユニット又は光学系等の調整を行う方法もあるが、この方法よりも、アパーチャ部材の位置を光ビームの進行方向、及び該進行方向に直交する方向へ移動させて調整する方が簡単に行うことができる。したがって、光源ユニット又は光学系等を調整する場合に比べて簡単な機構で、かつ短時間に位置調整を行うことができ、結果的に、光ビームの光利用効率の向上を容易に実現することが可能となる。
本発明は、第3の観点からすると、画像に関する情報から得られる潜像に基づいて形成されたトナー像を、記録媒体に定着させることにより、画像を形成する画像形成装置であって、本発明の光走査装置と;前記光走査装置により潜像が形成される感光体と;前記感光体の被走査面に形成された潜像を顕像化する現像手段と;前記現像手段により顕像化されたトナー像を前記記録媒体に定着させる転写手段と;を備える画像形成装置である。
これによれば、画像形成装置は本発明の光走査装置を備えている。したがって、光源から射出される光ビームの光利用効率が向上し、記録媒体に精度よく画像を形成することが可能となる。
本発明は、第4の観点からすると、多色画像に関する情報から得られる各色ごとの潜像に基づいて形成されたトナー像を、記録媒体に重ね合わせて定着させることにより、多色画像を形成する画像形成装置であって、本発明の光走査装置と;前記光走査装置により各色に応じた潜像がそれぞれ形成される複数の感光体と;前記複数の感光体の被走査面にそれぞれ形成された潜像を顕像化する現像手段と;前記現像手段により顕像化された各色ごとのトナー像を前記記録媒体に重ね合わせて定着させる転写手段と;を備える画像形成装置である。
これによれば、画像形成装置は本発明の光走査装置を備えている。したがって、光源から射出される光ビームの光利用効率が向上し、記録媒体に精度よく多色画像を形成することが可能となる。
以下、本発明の一実施形態を図1〜図10に基づいて説明する。図1には、本実施形態に係る画像形成装置200の概略構成が示されている。
画像形成装置200は、カールソンプロセスを用いて、トナー像を普通紙(用紙)上に転写することにより、画像を印刷するプリンタである。この画像形成装置200は、図1に示されるように、光走査装置100、感光ドラム201、帯電チャージャ202、トナーカートリッジ204、クリーニングケース205、給紙トレイ206、給紙コロ207、レジストローラ対208、転写チャージャ211、定着ローラ209、排紙ローラ212、排紙トレイ210、及びこれらを収容するハウジング215などを備えている。
前記ハウジング215は略直方体状で、+X側及び−X側の側壁に、内部空間と連通する開口が形成されている。
前記光走査装置100は、ハウジング215の内部上方に配置され、画像情報に基づいて変調した光ビームを主走査方向(図1におけるY軸方向)へ偏向することにより、感光ドラム201の表面を走査する。なお、光走査装置100の構成については後述する。
前記感光ドラム201は、その表面に、光ビームが照射されると、その部分が導電性となる性質をもつ感光層が形成された円柱状の部材であり、光走査装置100の下方にY軸方向を長手方向として配置され、不図示の回転機構により図1における時計回り(図1の矢印に示される方向)に回転されている。そして、その周囲には、図1における12時(上側)の位置に帯電チャージャ202が配置され、2時の位置にトナーカートリッジ204が配置され、6時の位置に転写チャージャ211が配置され、10時の位置にクリーニングケース205が配置されている。
前記帯電チャージャ202は、感光ドラム201の表面に対し所定のクリアランスを介して配置され、感光ドラム201の表面を所定の電圧で帯電させる。
前記トナーカートリッジ204は、トナーが充填されたカートリッジ本体と、感光ドラム201とは逆極性の電圧によって帯電された現像ローラなどを備え、カートリッジ本体に充填されたトナーを現像ローラを介して感光ドラム201の表面に供給する。
前記クリーニングケース205は、Y軸方向を長手方向とする長方形状のクリーニングブレードを備え、該クリーニングブレードの一端が感光ドラム201の表面に接するように配置されている。感光ドラム201の表面に吸着されたトナーは、感光ドラム201の回転に伴いクリーニングブレードにより剥離され、クリーニングケース205の内部に回収される。
前記転写チャージャ211は、感光ドラム201の表面に対し所定のクリアランスを介して配置され、帯電チャージャ202とは逆極性の電圧が印加されている。
前記給紙トレイ206は、ハウジング215の+X側の側壁に形成された開口から+X側端が突出した状態で配置され、外部から供給される用紙213を複数枚収容することが可能となっている。
前記給紙コロ207は、給紙トレイ206から用紙213を1枚ずつ取り出し、1対の回転ローラから構成されるレジストローラ対208を介して、感光ドラム201と転写チャージャ211によって形成される隙間に導出する。
前記定着ローラ209は、1対の回転ローラから構成され、用紙61を過熱するとともに加圧し、排紙ローラ212へ導出する。
前記排紙ローラ212は、1対の回転ローラなどから構成され、ハウジング215の−X側の側壁に形成された開口から−X側端が突出した状態で配置された排紙トレイ210に対し、定着ローラ209から送られる用紙213を順次スタックする。
次に、光走査装置100の構成について説明する。図2は光走査装置100の概略構成を示す図である。図2に示されるように、光走査装置100は、光源10と、光源10から左斜め下約60度の方向に順次配列された、カップリングレンズ11、アパーチャ部材12、線像形成レンズ13、及びポリゴンミラー15と、該ポリゴンミラー15の+X側に順次配置された第1走査レンズ16、及び第2走査レンズ17と、第2走査レンズ17を通過した光ビームを反射して感光ドラム201へ導く反射ミラー18とを備えている。以下、カップリングレンズ11、アパーチャ部材12、線像形成レンズ13、及びポリゴンミラー15の配列方向をx軸方向とする座標系を定義し、適宜この座標系に基づく説明を行う。
前記光源10は、発光点として例えばVCSELが2次元配置された面発光型半導体レーザアレイであり、図3に示されるように、発光面(−x側の面)上に、40のVCSELが、y軸と角度θ1をなす直線L1と平行な方向を行方向とし、z軸と平行な方向を列方向とする4行10列のマトリクス状に配置されている。また、行間隔Dzは44.4μmで、列間隔Dyは30μmとなっており、各VCSELのZ軸方向(副走査方向)に関し隣り合う発光点の間隔dzは4.4μm(=Dz/10)となっている。
なお、素子間隔Dy,Dzは、光源の動作時に他の素子からの熱干渉の影響を考慮して決定する必要がある。また、副走査方向での高密度化に影響のない主走査方向の素子間隔を広げているので、各素子間の熱干渉の影響や、各素子の配線を通すために必要なスペースを確保することができる。
図4は、VCSELの断面構造を示す概略図であり、図5は、図4における活性層周辺の拡大図である。各VCSELは780nm帯のVCSELであり、図4及び図5を総合するとわかるように、n側電極20が形成されたn―GaAs基板21上に、Al0.12Ga0.88Asからなる量子井戸層24aとAl0.3Ga0.7Asとからなる障壁層24bを含む活性層24を含み、活性層24及びAl0.6Ga0.4Asからなるスペーサ層23,25からなる1波長光学厚さの共振器領域を、各層λ/4の光学厚さで40.5ペアのn−Al0.3Ga0.7As高屈折率層と、n−Al0.9Ga0.1Asの低屈折率層からなる下部反射鏡22と、24ペアのp−Al0.3Ga0.7As高屈折率層とp−Al0.9Ga0.1As低屈折率層からなる上部反射鏡27とではさんだ構成となっている。そして、AlxOy電流狭窄層26に囲まれたAlAs被選択酸化層30が共振器領域からλ/4離れた上部反射鏡27に設けられている。反射鏡22,27の各層間には抵抗値の低減のために組成が徐々に変わる不図示の組成傾斜層が含まれている。
ここで、前記光源10に設けられたVCSELの形成方法について説明する。まず、上記各層を有機金属気相成長法(MOCVD法)あるいは分子線結晶成長法(MBE法)を用いた結晶成長によって作成する。
次に、ドライエッチング法により素子領域となる領域の周囲に、例えば深さ4.5μmの溝を形成することによりメサ形状を形成する。エッチング底面は少なくともAlAs被選択酸化層30を超えたところに設けるのが一般的である。
次に、エッチングによる溝形成工程により側面が露出したAlAs被選択酸化層30を、水蒸気中で熱処理し周辺を酸化させAlの絶縁物層に変え、素子駆動電流の経路を中心部の酸化されていないAlAs領域だけに制限する電流狭窄構造を形成する。
次に、各素子領域上の上部電極31が形成される領域及び光出射部32を除いて、例えば厚さ150nmのSiO保護層(不図示)を設け、さらにポリイミド29でエッチング部を埋め込んで平坦化する。
次に、各素子領域におけるpコンタクト層28と光出射部のある上部反射鏡上のポリイミドとSiO保護層(不図示)を除去し、pコンタクト層28上の光射出部32以外にP側個別電極31を形成し、n―GaAs基板21の下面にn側電極を形成する。
本実施形態の場合、ドライエッチング法により形成されたメサ部が各面発光レーザ素子となる。光源10の発光点の配置を形成する方法は、本発明の発光点の配置に沿ったフォトマスクを形成し、通常のフォトリソグラフ工程によりエッチング用マスクを形成し、エッチングすることで形成できる。アレイの各素子の電気的空間的分離のために素子と素子の間の溝は4〜5μm程度以上は設けることが好ましい。あまり狭いとエッチングの制御が難しくなるからである。また、メサ部は本実施形態のような円形の他に、楕円形や、正方形、長方形の矩形など任意の形状とすることができる。また、大きさ(直径など)は10μm程度以上設けることが好ましい。あまり小さいと素子動作時に熱がこもり特性が悪くなるからである。
なお、前述した780nm帯の面発光型のレーザは、別の材料でも作製できる。図6には別材料で作成した活性層周辺の拡大図が示されている。図6に示されるように活性層は、圧縮歪組成であってバンドギャップ波長が780nmとなる3層のGaInPAs量子井戸活性層24cと格子整合する4層の引っ張り歪みを有するGa0.6In0.4P障壁層24dとから構成し、電子を閉じ込めるためのクラッド層23,25(本実施形態ではスペーサ層)としてワイドバンドギャップである(Al0.7Ga0.30.5In0.5Pを用いている。キャリア閉じ込めのクラッド層をAlGaAs系で形成した場合に比べて、クラッド層と量子井戸活性層とのバンドギャップ差を極めて大きく取ることができる。
次表1には、AlGaAs(スペーサ層)/AlGaAs(量子井戸活性層)系780nm,850nm面発光型半導体レーザ、さらに、AlGaInP(スペーサ層)/GaInPAs(量子井戸活性層)系780nm面発光型半導体レーザの典型的な材料組成でのスペーサ層と井戸層、及び障壁層と井戸層とのバンドギャップ差が示されている。なお、スペーサ層とは、通常構成の場合には活性層と反射鏡の間にあたる層のことであって、キャリアを閉じ込めるためのクラッド層としての機能を有している層を指している。
次表1に示されるように、AlGaInP(スペーサ層)/GaInPAs(量子井戸活性層)系780nm面発光型半導体レーザによれば、AlGaAs/AlGaAs系780nm面発光型半導体レーザはもとより、AlGaAs/AlGaAs系850nm面発光型半導体レーザよりもバンドギャップ差を大きく取れることがわかる。具体的にクラッド層と活性層とのバンドギャップ差は、クラッド層をAlGaAsで形成した場合の466meV(Al組成0.6の場合)に比べて、767meVであり極めて大きい。障壁層と活性層とのバンドギャップ差も同様に優位差があり、良好なキャリア閉じ込めとなる。
Figure 2008175919
また、活性層が圧縮歪を有しているので、ヘビーホールとライトホールのバンド分離により利得の増加が大きくなった。これらにより高利得となるので、低閾値で高出力であった。なお、この効果は、GaAs基板とほぼ同じ格子定数を有するAlGaAs系で作製した波長が780nmや850nmの面発光型のレーザでは得られない。さらには、キャリア閉じ込め向上、歪量子井戸活性層による高利得化によって低閾値化することで、光取り出し側DBRの反射率低減が可能となり、さらに高出力化することができる。
また、活性層と障壁層は、Alを含んでいない材料から構成されており、Alフリー活性領域(量子井戸活性層、及びそれに隣接する層)としているので、酸素の取り込みが低減することで非発光再結合センターの形成を抑えることができ、長寿命化を図ることができる。これにより、書込みユニットもしくは光源ユニットの再利用が可能となる。
図2に戻り、前記カップリングレンズ11は、焦点距離が47.7mmのレンズであり、光源10からの光ビームを略平行光に成形する。
前記アパーチャ部材12は、y軸方向(主走査方向)の大きさが5.44mm、z軸方向(副走査方向)の大きさが2.10mmの矩形状の開口を有し、該開口中心がカップリングレンズ11の焦点位置近傍に位置するように配置されている。
前記線像形成レンズ13は、焦点距離が107.0mmのレンズで、例えば第1面(入射面)がZ軸方向(副走査方向)に屈折力を有し、第2面(射出面)がY軸方向(主走査方向)に屈折力を有するシリンドリカルレンズであり、アパーチャ部材12を通過した光ビームを、ポリゴンミラー15の反射面近傍で副走査方向に関して結像させる。
前記ポリゴンミラー15は、上面が半径7mmの円に内接する正方形である4角柱状の部材である。このポリゴンミラー15の4つの側面には偏向面が形成され、不図示の回転機構により、Z軸に平行な軸回りに一定の角速度で回転している。これにより、ポリゴンミラー15に入射した光ビームはY軸方向に偏向(走査)される。
前記第1走査レンズ16、及び前記第2走査レンズ17は、それぞれ中心(光軸上)の肉厚が13.5mm、及び3.5mmの、例えば樹脂製の走査レンズであり、これらの光学面形状は、次式(1)、及び次式(2)で示される関数で表される。ただし、Yは光軸位置を原点とする主走査方向の座標であり、Rmはレンズの曲率半径であり、a00,a01,a02,…は主走査形状の非球面係数であり、RS0は副走査方向の光軸上の曲率であり、b00,b01,b02,…は副走査形状の非球面係数である。また、各係数の値は次表2に示される通りである。
Figure 2008175919
Figure 2008175919
Figure 2008175919
上述した光走査装置100では、光走査装置100全体としての副走査横倍率が2.18倍で、ポリゴンミラー15以降の光学系(走査光学系)の副走査横倍率が0.97倍となっている。また、走査光学系の主走査方向の焦点距離は237.8mm、副走査方向の焦点距離は71.4mmとなっており、感光ドラム201への書込み幅は±161.5mmとなっている。そして、感光ドラム201の表面上における光ビームのスポット径の狙いとしては主走査方向で52μm、副走査方向で55μmである。また、図2に示されるように、光源ユニット10及び各素子間の光学的距離d1、d3、d4、d6、d7、d9、d11、及び各素子の光軸方向の大きさd2、d5、d8、d10は、一例として次表3に示される通りである。
Figure 2008175919
次に、上述のように構成された画像形成装置200の動作について説明する。上位装置から画像情報を受信すると、画像情報に基づく変調データにより光走査装置100が駆動され、光源ユニット70からは、画像情報に基づいて変調された40本の光ビームが射出される。これらの光ビームは、カップリングレンズ11によって略平行光に成形された後に、アパーチャ部材12を通過する。光走査装置100では、アパーチャ部材12を通過する前の光ビームのビーム径を1/eと定義すると、9.58mm×9.58mmの円形(直径)に設定されており、これらの光ビームはアパーチャ部材12を通過することで、スポット径がそれぞれ調整される。
アパーチャ部材12を通過した各光ビームは、線像形成レンズ13によりポリゴンミラー15の偏向面に集光されると、ポリゴンミラー15によってY軸方向に偏向され、第1走査レンズ16及び第2走査レンズ17によって光ビームのスポットの主走査方向の移動速度等が調整されたのち、反射ミラー18を介して感光ドラム201の表面に集光される。
感光ドラム201の表面は、帯電チャージャ202によって所定の電圧で帯電されることにより、電荷が一定の電荷密度で分布している。そして、ポリゴンミラー15により偏向された光ビームにより、感光ドラム201が走査されると、光ビームを照射したところの感光層においてキャリア(電荷)が生成され、その部分では電荷移動がおこり電位が低下する。したがって、図1の矢印の方向に回転している感光ドラム201が、画像情報に基づいて変調された光ビームにより走査されることにより、表面に電荷の分布により規定される静電潜像が形成される。
感光ドラム201の表面に静電潜像が形成されると、トナーカートリッジ203の現像ローラにより、感光ドラム201それぞれの表面にトナーが供給される。このときトナーカートリッジ203の現像ローラは感光ドラム201と逆極性の電圧により帯電しているため、現像ローラに付着したトナーは感光ドラム201と同極性に帯電されている。したがって、感光ドラム201の表面のうち電荷が分布している部分にはトナーが付着せず、走査された部分にのみトナーが付着することにより、感光ドラム201の表面に静電潜像が可視化されたトナー像が形成される。そして、このトナー像は転写チャージャにより用紙213に付着された後、定着ローラ209により定着されることで、用紙上に画像として形成される。このようにして画像が形成された用紙213は、排紙ローラ212により排紙され、順次排紙トレイ210にスタックされる。
本実施形態に係る光走査装置100によると、アパーチャ部材12に設けられた開口は、主走査方向の大きさが5.44mm、副走査方向の大きさが2.10mmとなっており、それに対し、アパーチャ部材12へ入射する光ビームのビーム径(1/eで定義する直径)は、主走査方向及び副走査方向の大きさともに9.58mmとなっている。ここで、アパーチャ部材12に設けられた開口の、主走査方向及び副走査方向の大きさを、それぞれam及びasとし、アパーチャ部材12を通過する光ビームのビーム径の、主走査方向及び副走査方向の大きさを、それぞれwm及びwsと定義する。このとき、主走査方向及び副走査方向における、am及びasに対するwm及びwsの大きさCm(=wm/am)及びCs(=ws/as)は、それぞれCmが1.76(=9.58/5.44)となりCsが4.56(=9.58/2.10)となり、Cm及びCsうちの小さいほうの値(1.76)は1以上で2以下となっている。したがって、光源10から射出した各光ビームはアパーチャ部材12を通過することで、スポット径のばらつきが抑えられ、光ビームの光利用効率を向上させることが可能となる。以下、その理由について図7に示される特性曲線を参照しつつ詳述する。
いま、アパーチャ部材12を通過した均一強度の光ビームを結像することを考える。なお、均一強度の光ビームとは、主走査方向及び副走査方向の大きさ(wm,ws)が無限大の光ビームをいい、以下、単に均一光と表現するものとする。
均一光がアパーチャ部材に入射したときに、レンズの焦点位置上に形成される均一光のスポット径を1とすると、アパーチャ部材上における、アパーチャ部材の開口の主走査方向及び副走査方向の大きさに対する、均一光のスポット径の比(以下、Cとする)と、レンズ焦点位置上における均一光のスポット径(以下、規格化ビームスポット径という)との関係は、図6中の黒丸で規定された曲線で示される。また、比Cと、アパーチャ部材の透過率との関係は、図6中の白丸で規定された曲線で示される。
図6に示されるように、比Cが1より小さくなると、規格ビームスポット径に関する曲線の傾きが急峻に変化するようになっている。これは、光源の発散角にばらつきがある場合や、アパーチャ部材へ入射する光ビームのスポット径にばらつきがある場合などには、レンズの焦点位置における光ビームのスポット径が大きくばらつくことを示している。このレンズの焦点位置での光ビームのスポット径のばらつきは、画像形成装置における出力画像の劣化を引き起してしまう。
一方、比Cが2より大きいところでは、比Cの変化に対して規格化ビームスポット径の変化がほぼ0になっている。これは、光源の発散角がばらついても、レンズの焦点位置でのビームスポット径がほとんど変化しないことを示しており望ましいが、比Cの値が大きくなると、アパーチャ部材の透過率が非常に小さくなることによって、光量不足が発生してしまい、高速且つ高密度な光走査が実現できない。比Cを2より大きくしても、アパーチャ部材を設けることの効果(光源の発散角がばらついても、レンズの焦点位置でのビームスポット径が変化しにくい)はほとんど良くならないので、比Cは2以下に設定するのが良い。
以上のことから、比Cは1以上で2以下の範囲となるように、光源の発散角、及びカップリングレンズの焦点距離を設定するのが良く、そうすることで、被走査面上での光ビームのスポット径のばらつきを抑制しつつ、光ビームの利用効率を向上することができ、高速かつ高密度な走査を実現することができる。
また、本発明の光走査装置を画像形成装置に用いることを考えると、主走査方向には、通常、PWM(Pulse Width Modulation:パルス幅変調)を用いて画像形成を行うため、ビームスポット径のばらつきは、画像に悪影響を与えにくい。しかし、副走査方向のビームスポット径のばらつきは、濃度ムラ等、画像に悪影響を与えやすく、多色画像形成装置ではより顕著になり、色むら等が発生してしまう。したがって、主走査方向よりも、副走査方向のビームスポット径のばらつきを低減する方が、出力画像の画質低下の抑制効果が強いため、上記において、アパーチャ部材に設けられた開口の副走査方向の大きさに対するスポット径の比Csよりも、アパーチャ部材に設けられた開口の主走査方向の大きさに対するスポット径の比Cmの方を小さくし、つまり、アパーチャ部材に設けられた開口に対する入射ビーム径の比は、主走査の方が小さくなるようにするとともに、Cmが1以上で2以下となるように、光源の発散角、及びカップリングレンズの焦点距離を設定するのが良く、そうすることで、出力画像の劣化をさらに抑制しつつ、被走査面上における光量を増大させることができ、高速かつ高密度な光走査装置を実現できる。
最も望ましくは、Cm、Csともに1以上で2以下となるのがよく、そうすることで、レンズの焦点位置でのビームスポット径ばらつきを抑制しながら、光利用効率の向上が実現できる。さらに望ましくは、前述の理由により、CsよりもCmの方が小さくなるように設定することである。
なお、光ビームの利用効率を向上することによる効果は、端面発光レーザよりも、面発光型のレーザを用いるときの方が大きい。それは、面発光型のレーザの方が、構造上、高出力化に大きな課題を抱えているからである。面発光型のレーザの消費電力は端面型レーザに比べて1桁程度小さく、環境負荷低減に有利な光源であり、また、構造上、2次元アレイ化が容易であり、高速かつ高密度な光走査に対して大きなポテンシャルを持った光源である。しかし、面発光型のレーザは、活性層が小さいため、高出力化に大きな課題があり、現状で、端面発光レーザの光量が7〜10mWであるのに対し、面発光型のレーザでは1〜2mWとなっている。これは高速かつ高密度な光走査装置の実現に対して大きなネックとなる。したがって、面発光型のレーザを光源として用いるときには、上記の方法を用いることで、アパーチャ部材の透過率を増大させて光ビームの利用効率を向上することができ、高速かつ高密度な光走査装置を実現することができる。
また、面発光型のレーザからは、通常、ほぼ円形のビームが射出され、直交する2方向の発散角は略等しい。光走査装置に用いられるアパーチャ部材の開口は、通常、副走査方向よりも主走査方向に長い形状をしている。したがって、面発光型のレーザから射出されるビームを楕円にし、直交する2方向における発散角を異ならせることで、アパーチャ部材の透過率を向上させることができる。
また、面発光型のレーザから射出される光ビームのスポット形状を楕円にする代わりに、アパーチャ部材に設けられる開口の形状を正方形に近づける(副走査方向の幅を広くする)ことによってもアパーチャ部材の透過率を向上させることができるが、光学系の副走査方向の倍率が大きくなってしまう。副走査方向の倍率が大きくなると、面発光型のレーザアレイ等の2次元配列された光源を用いたときには、走査線の間隔が広がってしまい、高密度な光走査を実現することができない。面発光型のレーザアレイの副走査方向の素子間隔を狭くすれば、副走査方向の倍率が大きくても、高密度な光走査が可能であるが、素子の作製上の問題や、素子間の熱の干渉等の問題のため難しく、副走査方向の倍率は小さく設定せざるをえない。したがって、面発光型のレーザから射出される光ビームを楕円にし、直交する2方向における発散角を異ならせることが望ましい。
面発光型のレーザから射出される光ビームの、主走査方向の発散角が副走査方向の発散角よりも大きくなるようにする方法としては、共振器内部における光の閉じ込め状態を、主走査方向と副走査方向とで異ならせることが考えられる。具体的には、狭い幅に閉じ込められた光は、発散角が大きくなるため、光の閉じ込め状態を、副走査方向よりも主走査方向の方が狭くなるようにすれば良い。そのためには、電流狭窄を行うための構造の幅を、主走査方向よりも副走査方向の方が広くなるようにすれば良い。ここで、電流狭窄を行うための構造とは、AlAs被選択酸化層26を用いるときは、選択非酸化領域の形状を表す。前述とは別の電流狭窄構造として、上部反射鏡27(DBRミラー)の一部にプロトン注入高抵抗領域を設ける方式が一般に知られている。このときは、プロトン注入を行わない領域の幅を、主走査方向よりも副走査方向の方が広くなるようにすれば良い。なお、電流狭窄を行うための構造の形状は、長方形であってもよいし、楕円であってもよいし、その他の形状であってもよい。また別の方法として、狭い射出部から射出される光が回折の影響で発散角が大きくなる性質を利用して、光射出部32の形状を、副走査方向よりも主走査方向の方が狭くなるようにしてもよい。なお、光射出部32の構造の形状は、長方形であってもよいし、楕円であってもよいし、その他の形状であってもよい。また、上記の2つの方法は併用するのが最もよく、併用することで、主走査方向と副走査方向とで異ならせることができる発散角の量を大きくすることができる。
また、アパーチャ部材12に設けられた開口の主走査方向と副走査方向の比(主走査方向の開口の大きさ/副走査方向の開口の大きさ)は、アパーチャ部材12上の光ビームのスポット径(1/eで定義する直径)の主走査方向と副走査方向の比(主走査方向のスポット径/副走査方向のスポット径)が略一致するように、面発光型のレーザの主走査方向及び副走査方向の発散角を設定するのがよく、そうすることで、面発光型のレーザから射出される光を最も効率よく利用できる。このとき、主走査方向及び副走査方向の比Cm,Csは双方1以上で2以下となるように、面発光型のレーザの主走査方向及び副走査方向の発散角、およびカップリングレンズの焦点距離を設定するのが良い。
また、面発光型のレーザアレイのように、2次元レーザアレイを用いて光走査装置を構成する際は、アパーチャ部材12は、カップリングレンズ11の後側焦点位置近傍に設置する必要がある。なぜなら、カップリングレンズ11の後側焦点位置近傍で、2次元レーザアレイからの光束が交差するためである。このとき、製造誤差が発生すると、アパーチャ部材12の中心位置と2次元アレイからの光束が交差する位置がずれ、アパーチャ部材12を透過する光量(アパーチャ部材の透過率)が低下してしまい、被走査面上で光量不足に陥る可能性がある。これは、主走査方向及び副走査方向の比Cm,Csが双方1以上で2以下となるときに、より顕著に表れる。この場合、光源ユニット(主に光源10(面発光レーザアレイ)、カップリングレンズ11で構成される)の位置、もしくは傾き量を調整するのが良く、そうすることで、製造誤差によるアパーチャ部材の透過率の低下を補正することができる。調整機構の簡略化という観点では、光源ユニットは傾き量を調整する方がより望ましい。
製造誤差によるアパーチャ部材12の透過率の低下を補正するために、さらに望ましくは、アパーチャ部材12の位置を調整するのが良い。光源ユニットを調整するときよりも、アパーチャ部材を調整する方が容易であるため、調整機構がより簡単になり、装置の低コスト化、および調整時間の短縮が実現できる。このとき、アパーチャ部材は、光軸方向と光軸の垂直方向に、3次元的に調整してもよいし、光軸方向と光軸方向と直交する方向のどちらか一方のみでもよいが、3次元的に調整する方が望ましい。なお、光軸とは、2次元レーザアレイの最も中央に位置する素子で定義される。
具体的には、アパーチャ部材12の位置を3次元的に調整し、調整後に図8に示されるように、支持部材等の非接着物12bに対して浮かせた状態で接着剤12aにより固着させる(空中接着)ことで、簡易かつ低コストでアパーチャ部材12の調整をすることができ、光ビームに対するアパーチャ部材の透過率を良好に確保できる。また、図9に示されるように、アパーチャ部材の位置を3次元的に調整した後で、中間部材12aを介して非接着物12bに固定することも考えられる。更に、2次元レーザアレイからの光ビームの交差位置は、光軸方向よりも光軸方向に直交する方向にずれやすいことを考慮して、例えば図10に示されるように、非接着物12bでアパーチャ部材12の位置をx軸方向(光軸方向)に規定した後に、光軸に直交する方向に2次元的に調整し接着剤12aによってアパーチャ部材12を非接着物12bに固定することとしてもよい。
また、アパーチャ部材12の位置はカップリングレンズ11の後側焦点位置近傍にあるとして説明したが、これに限定されるものではなく、カップリングレンズ11の後側焦点位置からずれていてもよい。
また、カップリングレンズ11及び線像形成レンズ13はそれぞれガラス製であっても、また低コスト化のために樹脂製であっても良い。樹脂製とした場合は温度変化による光学特性の劣化を低減するために、回折光学素子としてもよい。
また、本発明の画像形成装置200では、光走査装置100によって利用効率が向上された光ビームにより、感光ドラム201の表面に線像が形成される。したがって、光量不足による画像のかすれ等はなく、高速かつ高密度に画像を形成することが可能となる。
なお、上記実施形態では、走査装置100が単色の画像形成装置200に用いられる場合について説明したが、画像形成装置はカラー画像に対応し、複数の感光体ドラムを備えるタンデムカラー機であっても良い。
以下、カラー画像に対応し、複数の感光体ドラムを備えるタンデムカラー機300について図11〜図13を用いて説明する。図11に示されるタンデムカラー機300は、ブラック(K)用の感光体ドラムK1、帯電器K2、現像器K4、クリーニング手段K5、及び転写用帯電手段K6と、シアン(C)用の感光体ドラムC1、帯電器C2、現像器C4、クリーニング手段C5、及び転写用帯電手段C6と、マゼンダ(M)用の感光体ドラムM1、帯電器M2、現像器M4、クリーニング手段M5、及び転写用帯電手段M6と、イエロー(Y)用の感光体ドラムY1、帯電器Y2、現像器Y4、クリーニング手段Y5、及び転写用帯電手段Y6と、光走査装置900と、転写ベルト901と、定着手段902などを備えている。
各感光体ドラムは、図11中の矢印の方向に回転し、回転順にそれぞれ帯電器、現像器、転写用帯電手段、クリーニング手段が配置されている。各帯電器は、対応する感光体ドラムの表面を均一に帯電する。この帯電器によって帯電された感光体ドラム表面に光走査装置900によりビームが照射され、感光体ドラムに静電潜像が形成されるようになっている。そして、対応する現像器により感光体ドラム表面にトナー像が形成される。さらに、対応する転写用帯電手段により、記録紙に各色のトナー像が転写され、最終的に定着手段902により記録紙に画像が定着される。
次に、前記光走査装置900について図12及び図13を用いて説明する。
この光走査装置900は、4個の光源ユニット10K,10C,10M,10Yと、上述した光走査装置100と同様にカップリングレンズ11及びアパーチャ部材12などを含んで構成され、各光源ユニット10K,10C,10M,10Yからの光ビームをポリゴンミラー230へ導く不図示の光学系と、ポリゴンミラー230と、4個の第1走査レンズ218a,218b,218c,218dと、8個の折り返しミラー224a,224b,224c,224d,227a,227b,227c,227dと、4個の第2走査レンズ220a,220b,220c,220dなどを備えている。なお、図12及び図13では、それぞれ便宜上、光走査装置900の一部のみが図示されている。
4個の光源ユニット10K,10C,10M,10Yは、いずれも前記光源10を含んで構成される光源ユニットである。
光源ユニット10Kは、ブラック画像情報に応じて変調されたレーザビーム(以下、ブラックビームともいう)を出射する。光源ユニット10Cは、シアン画像情報に応じて変調されたレーザビーム(以下、シアンビームともいう)を出射する。光源ユニット10Mは、マゼンダ画像情報に応じて変調されたレーザビーム(以下、マゼンダビームともいう)を出射する。光源ユニット10Yは、イエロー画像情報に応じて変調されたレーザビーム(以下、イエロービームともいう)を出射する。
第1走査レンズ218a、折り返しミラー224a、第2走査レンズ220a、及び折り返しミラー227aは、それぞれブラックビームに対応している。
第1走査レンズ218b、折り返しミラー224b、第2走査レンズ220b、及び折り返しミラー227bは、それぞれシアンビームに対応している。
第1走査レンズ218c、折り返しミラー224c、第2走査レンズ220c、及び折り返しミラー227cは、それぞれマゼンダビームに対応している。
第1走査レンズ218d、折り返しミラー224d、第2走査レンズ220d、及び折り返しミラー227dは、それぞれイエロービームに対応している。
各光源ユニットから出射されたレーザビームは、ポリゴンミラー230の偏向面にて線状となるように副走査方向に収束され、ポリゴンミラー230における偏向点と、対応する感光体ドラムの表面における集光点とが副走査方向に共役となる。
ポリゴンミラー230は、2段構造の6面ミラーで構成されている。1段目の6面ミラーでは光源ユニット10Kからのブラックビーム及び光源ユニット10Yからのイエロービームがそれぞれ偏向され、2段目の6面ミラーでは光源ユニット10Mからのシアンビーム及び光源ユニット10Cからのマゼンダビームがそれぞれ偏向される。すなわち、単一のポリゴンミラー230で全てのレーザビームが偏向される。
第1走査レンズ218a及び第1走査レンズ218bは、ポリゴンミラー230の一側(ここでは、+X側)に配置され、第1走査レンズ218c及び第1走査レンズ218dは、ポリゴンミラー230の他側(ここでは、−X側)に配置されている。また、第1走査レンズ218aと第1走査レンズ218b、及び第1走査レンズ218cと第1走査レンズ218dは、それぞれ副走査方向に対応する方向(ここでは、Z軸方向)に積層されている。
第1走査レンズ218aからのブラックビームは、折り返しミラー224a、第2走査レンズ220a、及び折返しミラー227aを介して、感光体ドラムK1上にスポット状に結像する。
第1走査レンズ218bからのシアンビームは、折り返しミラー224b、第2走査レンズ220b、及び折返しミラー227bを介して、感光体ドラムC1上にスポット状に結像する。
第1走査レンズ218cからのマゼンダビームは、折り返しミラー224c、第2走査レンズ220c、及び折返しミラー227cを介して、感光体ドラムM1上にスポット状に結像する。
第1走査レンズ218dからのイエロービームは、折り返しミラー224d、第2走査レンズ220d、及び折返しミラー227dを介して、感光体ドラムY1上にスポット状に結像する。
なお、各折り返しミラーは、ポリゴンミラー230から各感光体ドラムに至る各光路長が互いに一致するとともに、各感光体ドラムにおけるレーザビームの入射位置及び入射角がいずれも互いに等しくなるように、それぞれ配置されている。
上記のように構成されたタンデムカラー機300では、利用効率が向上された光ビームにより、各感光ドラムK1,C1,M1,Y1に線像が形成される。したがって、記録媒体に精度よく高精細な多色画像を形成することが可能となる。
なお、上記各実施形態では、本発明の光走査装置がプリンタに用いられる場合について説明したが、プリンタ以外の画像形成装置、例えば、複写機、ファクシミリ、又は、これらが集約された複合機にも好適である。
本発明の第1の実施形態に係るプリンタ200の概略構成を示す図である。 光走査装置100の概略構成を示す図である。 光源10を示す図である。 光源10に形成されたVCSELの断面図である。 VCSELの活性層24の拡大図(その1)である。 VCSELの活性層24の拡大図(その2)である。 アパーチャ部材に設けられた開口の大きさに対する光ビームのスポット径の比を説明するための図である。 アパーチャ部材の調整方法説明するための図(その1)である。 アパーチャ部材の調整方法説明するための図(その2)である。 アパーチャ部材の調整方法説明するための図(その3)である。 タンデムカラー機300の概略構成を示す図である。 光走査装置900の概略構成を示す斜視図である。 光走査装置900の概略構成を示す側面図である。
符号の説明
10…光源、11…カップリングレンズ、12…アパーチャ部材、13…線像形成レンズ、15…ポリゴンミラー、16…第1走査レンズ、17…第2走査レンズ、18…反射ミラー、20…P側電極、21…n―GaAs基板、22…下部反射鏡、23,25…スペーサ層、下部反射鏡24…活性層、26…AlxOy電流狭窄層、27…上部反射鏡、28…pコンタクト層、29…ポリイミド、30…AlAs被選択酸化層、31…上部電極、32…光射出部、200…画像形成装置、201…感光ドラム、202…帯電チャージャ、204…トナーカートリッジ、205…クリーニングケース、206…給紙トレイ、207…給紙コロ、208…レジストローラ対、209…定着ローラ、210…排紙トレイ、211…転写チャージャ、212…排紙ローラ、213…用紙、215…ハウジング。

Claims (16)

  1. 光源から射出され、アパーチャ部材に設けられた開口を通過した光ビームを、主走査方向へ偏向して、被走査面を走査する光走査装置において、
    前記開口の前記主走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記主走査方向の大きさ、及び、前記開口の前記主走査方向に直交する副走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記副走査方向の大きさのうちの、少なくとも小さい方の値が、1以上で2以下となることを特徴とする光走査装置。
  2. 前記開口の前記主走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記主走査方向の大きさは、前記開口の前記副走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記副走査方向の大きさよりも小さく、
    前記開口の前記副走査方向の大きさに対する前記主走査方向の大きさは、前記開口に入射する前記光ビームの前記副走査方向の大きさに対する前記主走査方向の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
  3. 前記開口の前記主走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記主走査方向の大きさ、及び、前記開口の前記副走査方向の大きさに対する、前記開口に入射する前記光ビームの前記副走査方向の大きさが、1以上で2以下となることを特徴とする請求項1又は2に記載の光走査装置。
  4. 前記光源は、面発光レーザであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光走査装置。
  5. 前記光源は、面発光レーザアレイであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光走査装置。
  6. 前記開口は、前記主走査方向の大きさが、前記副走査方向の大きさよりも大きく、前記光源から射出される光ビームは、前記主走査方向の発散角が、前記副走査方向の発散角よりも大きいことを特徴とする請求項4又は5に記載の光走査装置。
  7. 前記光源は、電流狭窄構造を有し、該電流狭窄構造は、前記主走査方向に関する構造と、前記副走査方向に関する構造とが、異なっていることを特徴とする請求項6に記載の光走査装置。
  8. 前記光源の、前記光ビームを射出する射出部は、前記主走査方向の大きさと、前記副走査方向の大きさとが、異なっていることを特徴とする請求項6に記載の光走査装置。
  9. 前記射出部は、前記主走査方向の大きさが、前記副走査方向の大きさよりも小さいことを特徴とする請求項8に記載の光走査装置。
  10. 前記開口の、前記副走査方向の大きさに対する前記主走査方向の大きさと、前記開口を通過する光ビームの前記副走査方向に対する前記主走査方向の大きさとが、ほぼ等しいことを特徴とする請求項6〜9のいずれか一項に記載の光走査装置。
  11. 前記光源は、前記主走査方向及び前記副走査方向に直交する軸回りに回転可能に配置されているか、又は前光ビームの進行方向と直交する面内で、移動可能に配置されていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の光走査装置。
  12. 光源から射出され、アパーチャ部材に設けられた開口を通過した光ビームを、主走査方向へ偏向して、被走査面を走査する光走査装置において、
    前記アパーチャ部材は、前記光ビームの進行方向及び該進行方向に直交する方向のいずれかの方向に調整されていることを特徴とする光走査装置。
  13. 前記アパーチャ部材は、3次元的に調整され、非接着物に対して接着剤を介して固定されていることを特徴とする請求項12に記載の光走査装置。
  14. 前記アパーチャ部材を、前記光ビームの進行方向に直交する方向へ移動可能に保持する調整機構を更に備える請求項12に記載の光走査装置。
  15. 画像に関する情報から得られる潜像に基づいて形成されたトナー像を、記録媒体に定着させることにより、画像を形成する画像形成装置であって、
    請求項1〜14のいずれか一項に記載の光走査装置と;
    前記光走査装置により潜像が形成される感光体と;
    前記感光体の被走査面に形成された潜像を顕像化する現像手段と;
    前記現像手段により顕像化されたトナー像を前記記録媒体に定着させる転写手段と;を備える画像形成装置。
  16. 多色画像に関する情報から得られる各色ごとの潜像に基づいて形成されたトナー像を、記録媒体に重ね合わせて定着させることにより、多色画像を形成する画像形成装置であって、
    請求項1〜14のいずれか一項に記載の光走査装置と;
    前記光走査装置により各色に応じた潜像がそれぞれ形成される複数の感光体と;
    前記複数の感光体の被走査面それぞれに形成された潜像を顕像化する現像手段と;
    前記現像手段により顕像化された各色ごとのトナー像を前記記録媒体に重ね合わせて定着させる転写手段と;を備える画像形成装置。
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