JP6516005B2 - 弾性波装置 - Google Patents
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Description
2…支持基板
2a,2b…第1,第2の主面
3…低音速膜
4…圧電薄膜
5a〜5d…IDT電極
5x…配線
7…中空空間
8a,8b…第1,第2の支持層
8a1,8b1…面
9…カバー部材
12…絶縁層
13…積層膜
21…弾性波装置
22…絶縁層
23…低音速膜
24…圧電薄膜
28a,28b…第1,第2の支持層
28a1,28b1…面
31…弾性波装置
32a,32b…第1,第2の絶縁層
32a1…内側端
32a2…傾斜面
36a,36b…第1,第2の配線電極
38a,38b…第1,第2の支持層
38a1,38b1…面
41…弾性波装置
45…アンダーバンプメタル層
46…金属バンプ
48a…第1の支持層
49…カバー部材
53…積層膜
53a…高音響インピーダンス膜
53b…低音響インピーダンス膜
61…弾性波装置
62…支持基板
63…積層膜
66…高音速膜
101…弾性波装置
108a…第1の支持層
108a1,108a2…面
Claims (13)
- 支持基板と、
圧電薄膜と前記圧電薄膜以外の層とを含み、かつ前記圧電薄膜以外の層側から前記支持基板上に設けられている積層膜と、
前記圧電薄膜の一方面に設けられたIDT電極と、
前記IDT電極が設けられている領域を囲むように設けられている第1の支持層と、
前記第1の支持層に囲まれた領域に設けられている第2の支持層と、
前記第1,第2の支持層上に、前記第1の支持層により形成された開口部を閉成するように固定されたカバー部材と、
を備え、
前記積層膜が部分的に存在せず、前記積層膜が存在しない領域の少なくとも一部に絶縁層が設けられており、前記第1の支持層及び前記第2の支持層の内の少なくとも一方が前記絶縁層上に設けられており、
前記絶縁層が前記圧電薄膜上から前記圧電薄膜の側面及び前記積層膜の側面を通り、前記積層膜が存在しない領域の少なくとも一部に至っている、弾性波装置。 - 前記IDT電極に電気的に接続されており、前記圧電薄膜上から前記絶縁層上に至っている第1の配線電極をさらに備え、
前記第1の支持層の少なくとも一部が前記第1の配線電極上に設けられている、請求項1に記載の弾性波装置。 - 前記絶縁層の前記圧電薄膜上に位置している部分において、前記絶縁層上の前記圧電薄膜とは反対側の面が、前記IDT電極から前記第1の支持層に近づくにつれて前記カバー部材に近づくように傾斜している傾斜面を有する、請求項2に記載の弾性波装置。
- 前記第1の配線電極が前記絶縁層の前記傾斜面上に位置している部分を有し、該部分が前記絶縁層の前記傾斜面に沿って傾斜している、請求項3に記載の弾性波装置。
- 前記第1の支持層及び前記絶縁層が同一材料からなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記IDT電極に電気的に接続されており、前記圧電薄膜上から前記絶縁層上に至っている第2の配線電極をさらに備え、
前記第2の支持層の少なくとも一部が前記第2の配線電極上に設けられている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の弾性波装置。 - 前記支持基板と前記カバー部材とが対向し合っている方向である高さ方向を有し、
前記第1の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置と前記第2の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置とが同じである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の弾性波装置。 - 前記絶縁層上に前記第1の支持層が設けられており、
前記絶縁層の厚みが、前記第1の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置と前記第2の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置とが同じとなるようにされている、請求項7に記載の弾性波装置。 - 前記絶縁層上に前記第2の支持層が設けられており、
前記絶縁層の厚みが、前記第1の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置と前記第2の支持層の前記カバー部材側の面の前記高さ方向の位置とが同じとなるようにされている、請求項7または8に記載の弾性波装置。 - 前記積層膜が、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波の音速が高速である高音速膜を前記圧電薄膜以外の層として有し、前記高音速膜上に前記圧電薄膜が積層されている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記積層膜が、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波の音速が高速である高音速膜と、前記高音速膜上に積層されており、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波音速よりも伝搬するバルク波音速が低速である低音速膜を前記圧電薄膜以外の層として有し、前記低音速膜上に前記圧電薄膜が積層されている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記支持基板が、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波の音速が高速である高音速基板であり、
前記積層膜が、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波音速よりも伝搬するバルク波音速が低速である低音速膜を前記圧電薄膜以外の層として有し、前記低音速膜上に前記圧電薄膜が積層されている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の弾性波装置。 - 前記積層膜が、音響インピーダンスが相対的に高い高音響インピーダンス膜と、前記高音響インピーダンス膜に比べて音響インピーダンスが低い低音響インピーダンス膜とを前記圧電薄膜以外の層として有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の弾性波装置。
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