JP6496159B2 - パターン検査装置およびパターン検査方法 - Google Patents
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Description
請求項2に記載の発明は、プリント基板のパターン検査装置であって、ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する孔部情報取得部と、前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定するライン方向特定部と、前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する判別点取得部と、前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出するネック欠け検出部とを備え、前記検査画像において、前記注目ランド領域の中心から前記注目孔部領域の前記中心に向かう方向と、前記ライン方向とのなす角度が所定の角度以上である場合に、前記判別点取得部が、前記注目孔部に対する前記判別点の取得を行わない。
請求項9に記載の発明は、プリント基板のパターン検査方法であって、a)ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する工程と、b)前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定する工程と、c)前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する工程と、d)前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出する工程とを備え、前記検査画像において、前記注目ランド領域の中心から前記注目孔部領域の前記中心に向かう方向と、前記ライン方向とのなす角度が所定の角度以上である場合に、前記c)工程において、前記注目孔部に対する前記判別点の取得が行われない。
9 プリント基板
49 記憶部
60 配線パターン領域
61 注目ランド領域
62 注目ライン領域
63 注目孔部領域
70 参照配線パターン
71 注目ランド
72 注目ライン
73 参照孔部
411 孔部情報取得部
412 ライン方向特定部
413 判別点取得部
414 ネック欠け検出部
415 ネック切れ検出部
491 参照データ
492 参照画像データ
493 参照孔部データ
631 対象エッジ
A0 無候補方向群
A2 無候補方向
A4 ライン方向
B1 (無候補方向群の)代表方向
C1 参照中心
C2 注目孔部中心
P2 候補点
P2a 判別点
S11〜S24 ステップ
Claims (14)
- プリント基板のパターン検査装置であって、
ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する孔部情報取得部と、
前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定するライン方向特定部と、
前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する判別点取得部と、
前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出するネック欠け検出部と、
を備え、
前記孔部情報取得部が、前記検査画像において、前記注目孔部領域の前記中心を基準として一定の角度間隔にて複数の角度方向を設定することにより、それぞれが一の角度方向における前記対象エッジ上の点である複数の候補点を求め、
前記判別点取得部が、前記複数の候補点のうちの一の候補点を前記判別点として取得することを特徴とするパターン検査装置。 - プリント基板のパターン検査装置であって、
ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する孔部情報取得部と、
前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定するライン方向特定部と、
前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する判別点取得部と、
前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出するネック欠け検出部と、
を備え、
前記検査画像において、前記注目ランド領域の中心から前記注目孔部領域の前記中心に向かう方向と、前記ライン方向とのなす角度が所定の角度以上である場合に、前記判別点取得部が、前記注目孔部に対する前記判別点の取得を行わないことを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項2に記載のパターン検査装置であって、
前記孔部情報取得部が、前記検査画像において、前記注目孔部領域の前記中心を基準として一定の角度間隔にて複数の角度方向を設定することにより、それぞれが一の角度方向における前記対象エッジ上の点である複数の候補点を求め、
前記判別点取得部が、前記複数の候補点のうちの一の候補点を前記判別点として取得することを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項1または3に記載のパターン検査装置であって、
前記参照パターンデータと、前記孔部の中心の座標を示す参照孔部データとを含む参照データを記憶する記憶部をさらに備え、
前記ライン方向特定部が、前記参照パターンデータが示す前記配線パターンにおいて、前記参照孔部データが示す前記注目孔部の中心を前記注目ランドの中心として、前記注目ランドの前記中心から前記複数の角度方向のそれぞれにおける前記配線パターンのエッジまでの距離を取得することにより、前記ライン方向および前記注目ランド領域の半径を特定することを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項4に記載のパターン検査装置であって、
前記ネック欠け検出部が、前記参照孔部データが示す前記注目孔部の前記中心を前記注目ランド領域の中心として、前記注目ランド領域の前記中心と前記判別点との間の距離と、前記注目ランド領域の前記半径とを比較することにより、前記ネック欠けを検出することを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項1、3、4または5に記載のパターン検査装置であって、
前記孔部情報取得部が、前記対象エッジの不存在により候補点が求まらない角度方向を無候補方向として、周方向において連続する所定数以上の無候補方向の集合である無候補方向群が存在する場合に、前記注目孔部による座切れを検出することを特徴とするパターン検査装置。 - 請求項6に記載のパターン検査装置であって、
前記ネック欠けが検出された前記注目孔部における前記判別点が、周方向に不連続である2つの無候補方向群に挟まれ、かつ、前記2つの無候補方向群の代表方向がなす角度が所定の角度以下である場合に、前記注目孔部によるネック切れを検出するネック切れ検出部をさらに備えることを特徴とするパターン検査装置。 - プリント基板のパターン検査方法であって、
a)ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する工程と、
b)前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定する工程と、
c)前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する工程と、
d)前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出する工程と、
を備え、
前記パターン検査方法が、
e)前記a)工程の後に、前記検査画像において、前記注目孔部領域の前記中心を基準として一定の角度間隔にて複数の角度方向を設定することにより、それぞれが一の角度方向における前記対象エッジ上の点である複数の候補点を求める工程をさらに備え、
前記c)工程において、前記複数の候補点のうちの一の候補点が前記判別点として取得されることを特徴とするパターン検査方法。 - プリント基板のパターン検査方法であって、
a)ランドおよびラインを含む配線パターン、並びに、孔部が形成されたプリント基板を撮像した検査画像において、一の注目孔部を示す注目孔部領域の中心の座標を取得する工程と、
b)前記配線パターンを示す参照パターンデータ、または、前記検査画像に基づいて、前記注目孔部が形成される注目ランドに接続する注目ラインが、前記注目ランドを始点として伸びる方向であるライン方向を特定する工程と、
c)前記検査画像において、前記注目孔部領域のエッジであって、前記配線パターンを示す配線パターン領域に含まれる部分を対象エッジとして、前記注目孔部領域の前記中心から前記ライン方向に伸びる線と前記注目孔部領域の前記エッジとが交差する位置に最も近接する前記対象エッジ上の点を判別点として取得する工程と、
d)前記判別点が、前記注目ランドを示す注目ランド領域外に位置する場合、または、前記注目ラインを示す注目ライン領域内に位置する場合に、前記注目孔部によるネック欠けを検出する工程と、
を備え、
前記検査画像において、前記注目ランド領域の中心から前記注目孔部領域の前記中心に向かう方向と、前記ライン方向とのなす角度が所定の角度以上である場合に、前記c)工程において、前記注目孔部に対する前記判別点の取得が行われないことを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項9に記載のパターン検査方法であって、
e)前記a)工程の後に、前記検査画像において、前記注目孔部領域の前記中心を基準として一定の角度間隔にて複数の角度方向を設定することにより、それぞれが一の角度方向における前記対象エッジ上の点である複数の候補点を求める工程をさらに備え、
前記c)工程において、前記複数の候補点のうちの一の候補点が前記判別点として取得されることを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項8または10に記載のパターン検査方法であって、
前記参照パターンデータと、前記孔部の中心の座標を示す参照孔部データとを含む参照データが予め準備されており、
前記b)工程において、前記参照パターンデータが示す前記配線パターンにおいて、前記参照孔部データが示す前記注目孔部の中心を前記注目ランドの中心として、前記注目ランドの前記中心から前記複数の角度方向のそれぞれにおける前記配線パターンのエッジまでの距離を取得することにより、前記ライン方向および前記注目ランド領域の半径が特定されることを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項11に記載のパターン検査方法であって、
前記d)工程において、前記参照孔部データが示す前記注目孔部の前記中心を前記注目ランド領域の中心として、前記注目ランド領域の前記中心と前記判別点との間の距離と、前記注目ランド領域の前記半径とを比較することにより、前記ネック欠けが検出されることを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項8、10、11または12に記載のパターン検査方法であって、
前記e)工程において、前記対象エッジの不存在により候補点が求まらない角度方向を無候補方向として、周方向において連続する所定数以上の無候補方向の集合である無候補方向群が存在する場合に、前記注目孔部による座切れが検出されることを特徴とするパターン検査方法。 - 請求項13に記載のパターン検査方法であって、
前記ネック欠けが検出された前記注目孔部における前記判別点が、周方向に不連続である2つの無候補方向群に挟まれ、かつ、前記2つの無候補方向群の代表方向がなす角度が所定の角度以下である場合に、前記注目孔部によるネック切れを検出する工程をさらに備えることを特徴とするパターン検査方法。
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