JP6484853B2 - 露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置に関し、より詳細には、半導体用やフラットパネルディスプレイ用の露光装置に使用され、反射鏡の撓みを制御することができる露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置に関する。

従来、ワークがひずんでいる場合に、ワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができるように、平面ミラーの裏面を複数の支持部材によって支持し、駆動装置によって支持部材を駆動することで、平面ミラーを屈曲させるものが考案されている（例えば、特許文献１参照。）。

特開２０１１−０２８１２２号公報

ところで、平面ミラーを屈曲させる際、曲げ量を大きくするためには、平面ミラーを薄くする必要がある。しかしながら、平面ミラーを薄くすると、自重たわみの影響が大きくなり、光源の性能を確保することが難しい。また、特許文献１において、支持部材の数を増加することで対応することもできるが、コストが嵩むと共に重量が増加するという課題がある。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、反射鏡を屈曲させることができるように薄い反射鏡を採用した場合であっても、反射鏡の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる露光装置用反射鏡ユニットを提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１） 光源からの露光光を反射する反射鏡と、
該反射鏡の裏面にそれぞれ取り付けられ、前記反射鏡を支持する複数の支持部材と、
前記複数の支持部材をそれぞれ駆動する複数の駆動装置と、
を備え、前記各駆動装置によって前記各支持部材を駆動することで、前記反射鏡の反射面を変形させる露光装置用反射鏡ユニットであって、
少なくとも二つの前記支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、前記反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられることを特徴とする露光装置用反射鏡ユニット。
（２） 前記保持部材は、前記複数の支持部材に取り付けられた単一の保持板であり、
前記保持板と、該保持板に保持される前記中間パッドとの距離が調整可能に構成されていることを特徴とする（１）に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（３） 前記保持板は、前記支持部材と前記中間パッドとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（４） 前記複数の支持部材は、ボールジョイントをそれぞれ備え、
前記保持板は、ボールジョイントよりも前記反射鏡側で、前記複数の支持部材に取り付けられることを特徴とする（２）又は（３）に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（５） ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源からの露光光を反射する（１）〜（４）のいずれかに記載の反射鏡ユニットを備えた照明光学系と、を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写することを特徴とする露光装置。

本発明の露光装置用反射鏡ユニットによれば、少なくとも二つの支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられるので、反射鏡を屈曲させることができるように薄い反射鏡を採用した場合であっても、反射鏡の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。

本発明に係る露光装置の正面図である。 露光装置の照明光学系及び曲率補正量検出系を示す図である。 （ａ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットを示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＩＩＩ´−ＩＩＩ´線に沿った断面図である。 図３の露光装置用反射鏡ユニットを示す要部拡大図である。 （ａ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットの変形例を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＶ´−Ｖ´線に沿った断面図である。 照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットの他の変形例を示す断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットのさらに他の変形例を示す断面図である。

以下、本発明に係る露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の露光装置を示す図である。
図１に示すように、近接露光装置ＰＥは、被露光材としてのワークＷより小さいマスクＭを用い、マスクＭをマスクステージ１で保持すると共に、ワークＷをワークステージ（ワーク支持部）２で保持し、マスクＭとワークＷとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明光学系３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。また、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。

ワークステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるため、装置ベース４上には、Ｘ軸送り台５ａをＸ軸方向にステップ移動させるＸ軸ステージ送り機構５が設置されている。Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には、ワークステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるため、Ｙ軸送り台６ａをＹ軸方向にステップ移動させるＹ軸ステージ送り機構６が設置されている。Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２が設置されている。ワークステージ２の上面には、ワークＷがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ２の側部には、マスクＭの下面高さを測定するための基板側変位センサ１５が配設されている。従って、基板側変位センサ１５は、ワークステージ２と共にＸ、Ｙ軸方向に移動可能である。

装置ベース４上には、複数（図に示す実施形態では４本）のＸ軸リニアガイドのガイドレール５１がＸ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５１には、Ｘ軸送り台５ａの下面に固定されたスライダ５２が跨架されている。これにより、Ｘ軸送り台５ａは、Ｘ軸ステージ送り機構５の第１リニアモータ２０で駆動され、ガイドレール５１に沿ってＸ軸方向に往復移動可能である。また、Ｘ軸送り台５ａ上には、複数のＹ軸リニアガイドのガイドレール５３がＹ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５３には、Ｙ軸送り台６ａの下面に固定されたスライダ５４が跨架されている。これにより、Ｙ軸送り台６ａは、Ｙ軸ステージ送り機構６の第２リニアモータ２１で駆動され、ガイドレール５３に沿ってＹ軸方向に往復移動可能である。

Ｙ軸ステージ送り機構６とワークステージ２の間には、ワークステージ２を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置７と、上下粗動装置７と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ２を上下に微動させてマスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置８が設置されている。

上下粗動装置７は後述の微動ステージ６ｂに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ２を微動ステージ６ｂに対して上下動させる。ワークステージ２の底面の４箇所に固定されたステージ粗動軸１４は、微動ステージ６ｂに固定された直動ベアリング１４ａに係合し、微動ステージ６ｂに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置７は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。

上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。

そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。
なお、上下微動装置８は、モータ１７とボールねじによってスライド体１２を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体１２を駆動するようにしてもよい。

この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＹ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台、合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、後述するマスク側変位センサ２７を構成するギャップセンサによる複数箇所でのマスクＭとワークＷとのギャップ量の計測結果に基づき、３箇所のフランジ１２ａの高さを独立に微調整してワークステージ２の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置８によってワークステージ２の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置７を省略してもよい。

また、Ｙ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２のＹ方向の位置を検出するＹ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９と、ワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計に対向するバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。Ｙ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９は、Ｙ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って配置されており、Ｘ軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Ｙ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って配置されている。

Ｙ軸レーザ干渉計１８及びＸ軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース４に支持されている。なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設置されている。２台のＹ軸レーザ干渉計１８により、バーミラー１９を介してＹ軸送り台６ａ、ひいてはワークステージ２のＹ軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、Ｘ軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してＸ軸送り台５ａ、ひいてはワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出する。

マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠２４と、該マスク基枠２４の中央部開口にギャップを介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスクフレーム２５とを備えており、マスク基枠２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによってワークステージ２の上方の定位置に保持されている。

マスクフレーム２５の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ（マスク支持部）２６が設けられている。即ち、マスクフレーム２５の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ２６が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム２５に吸着保持される。

マスクホルダ２６の下面には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝（図示せず）が開設されており、マスクＭは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ２６の下面に着脱自在に保持される。

図２に示すように、本実施形態の露光装置ＰＥの照明光学系３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ６１、及びこの高圧水銀ランプ６１から照射された光を集光するリフレクタ６２をそれぞれ備えたマルチランプユニット６０と、光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６３と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット６４と、露光制御用シャッターユニット６４の下流側に配置され、リフレクタ６２で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射するオプティカルインテグレータ６５と、オプティカルインテグレータ６５から出射された光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６６と、高圧水銀ランプ６１からの光を平行光として照射するコリメーションミラー６７と、該平行光をマスクＭに向けて照射する平面ミラー６８と、を備える。なお、オプティカルインテグレータ６５と露光面との間には、ＤＵＶカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。また、光源は、高圧水銀ランプは、単一のランプであってもよく、或いは、ＬＥＤによって構成されてもよい。

そして、露光時にその露光制御用シャッターユニット６４が開制御されると、マルチランプユニット６０から照射された光が、平面ミラー６３、オプティカルインテグレータ６５、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、平面ミラー６８を介して、マスクホルダ２６に保持されるマスクＭ、ひいてはワークＷの表面にパターン露光用の光として照射され、マスクＭの露光パターンがワークＷ上に露光転写される。

ここで、図３に示すように、平面ミラー６８は、正面視矩形状に形成されたガラス素材からなる。平面ミラー６８は、平面ミラー６８の裏面側に設けられた複数のミラー変形ユニット７０によりミラー変形ユニット保持枠７１に支持されている。

各ミラー変形ユニット７０は、平面ミラー６８の裏面に接着剤で固定されるパッド７２と、一端がパッド７２に固定された支持部材７３と、支持部材７３を駆動する駆動装置であるアクチュエータ７４と、を備える。

支持部材７３には、保持枠７１に対してパッド７２寄りの位置に、±０・５ｄｅｇ以上の屈曲を許容する屈曲機構としてのボールジョイント７６が設けられており、保持枠７１に対して反対側となる他端には、アクチュエータ７４が取り付けられている。

さらに、マスク側のアライメントマーク（図示せず）の位置に露光光を反射する平面ミラー６８の各位置の裏面には、複数の接触式センサ８１が取り付けられている。

これにより、平面ミラー６８は、接触式センサ８１によって平面ミラー６８の変位量をセンシングしながら、各ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４によって支持部材７３を駆動することにより、各支持部材７３が長さの違いによって、平面ミラー６８の曲率を局部的に補正し、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正することができる。

その際、各ミラー変形ユニット７０には、ボールジョイント７６が設けられているので、支持部側の部分を三次元的に回動可能とすることができ、各パッド７２を平面ミラー６８の表面に沿って傾斜させることができる。このため、各パッド７２と平面ミラー６８との接着剥がれを防止するすると共に、移動量の異なる各パッド７２間における平面ミラー６８の応力が抑制され、平均破壊応力値が小さいガラス素材からなる場合であっても、平面ミラー６８の曲率を局部的に補正する際、平面ミラー６８を破損することなく、１０ｍｍオーダーで平面ミラー６８を曲げることができ、曲率を大きく変更することができる。

また、平面ミラー６８の裏面で、複数の支持部材７３の中間位置、具体的には、平面ミラー６８の直交する２辺の方向においてそれぞれ隣接して四角形を構成するように配置される４つの支持部材７３毎の各中心位置にそれぞれ、複数の中間パッド７２ａが接着剤により固定されている。また、複数の支持部材７３には、ボールジョイント７６よりも平面ミラー６８側に、複数の中間パッド７２ａを保持する単一の保持板８２が取り付けられている。即ち、保持板８２は、すくなくとも二つの支持部材７３に取り付けられ、少なくとも二つの支持部材７３の中間位置に配置される中間パッド７２ａを保持する。

各中間パッド７２ａには、平面ミラー６８と反対側に雄ねじ部８３が形成されており、保持板８２の両側に位置する２つのナット８４を両側から雄ネジ部８３に締結することによって、保持板８２を固定すると共に、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離を調整する高さ調整機構８５を構成する。

また、保持板８２の材質は、平面ミラー６８の変形に追従可能な材料であれば任意であり、例えば、アルミ材から構成されてもよい。あるいは、保持板８２は、平面ミラー６８を構成するガラス素材と縦弾性係数が略等しい材料から構成されてもよい。

また、図４に示すように、保持板８２は、各支持部材７３に嵌合する複数の円孔８２ｃを有する一方、平面ミラー６８の曲げに追従しやすいように、各雄ねじ部８３に対して遊びを持った複数の円孔８２ｄを有している。また、保持板８２の板厚は、ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４の推力を無駄に消費するのを防止するため、平面ミラー６８の板厚の略半分に設定されている。

即ち、本実施形態の平面ミラー６８と、複数のパッド７２、複数の支持部材７３、複数のアクチュエータ７４、及び複数のボールジョイント７６を有するミラー変形ユニット７０と、複数の中間パッド７２ａと、複数の高さ調整機構８５と、保持板８２とは、本発明の露光装置用反射鏡ユニットを構成する。

したがって、ミラー変形ユニット７０による撓み性を考慮して平面ミラー６８を薄肉にした場合、支持部材７３間の中間部分が自重により撓む可能性があるが、該中間部分を保持板８２によって保持することで、自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。また、雄ねじ部８３と２つのナット８４によって高さ調整機構８５を構成することで、さらに、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離を任意に調整することができる。

また、図３に示すように、保持板８２は、中間パッド７２ａを中心として、四角形を構成するように四隅に配置された４つの支持部材７３に向かってそれぞれ延びる接続部分８２ａを有すると共に、支持部材７３とパッド７２ａとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部８２ｂを有する。即ち、保持板８２は、網目状に形成されており、軽量化が図られている。

図２に戻って、本実施形態では、平面ミラー６８の曲率を補正した際に、ワークＷのひずみ量に対応する平面ミラー６８の曲率補正が行われたかどうかを判断するための曲率補正量検出系９０が設けられている。曲率補正量検出系９０は、露光光の光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６８より露光面側（本実施形態では、マスク近傍）から平面ミラー６８に向けて指向性を有する光としてレーザー光Ｌを照射するレーザー光源としての複数（本実施形態では、４つ）のレーザーポインタ９１と、オプティカルインテグレータ６５の近傍に、露光光の光束の光路ＥＬから退避可能に配置された反射板９２と、平面ミラー６８を介して、反射板９２に映りこんだレーザー光Ｌを撮像する撮像手段としてのカメラ９３と、カメラ９３と平面ミラー６８のミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４との間に設けられ、平面ミラー６８の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌの変位量を検出し、該変位量が、算出されたひずみ量と対応するようにミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４を制御する制御部９４と、を有する。

レーザーポインタ９１は、アライメントを検出するための、例えば不図示のＣＣＤカメラの上部に取り付けられ、ＣＣＤカメラがマスク側のアライメントマークが視認できる位置へ進退するのと同期して移動する。

反射板９２は、コリメーションミラー６７によって反射されることで最も集光された光となるインテグレータ近傍に配置されているので、平面ミラー６８、コリメーションミラー６７、平面ミラー６６で反射された４つのレーザーポインタ９１からのレーザー光Ｌを比較的小さな面積の反射板９２によって捉えることができる。また、反射板９２は、通常の露光時、光源からの露光光の光束をマスクＭに照射する際に、図示しない駆動機構によって、該光束の光路ＥＬから退避可能に配置される。さらに、反射板９２は、低反射率の反射面とすることで、カメラ９３でのレーザー光Ｌの視認性を上げることができる。

カメラ９３は、露光光の光束に影響を与えないように、光源からの該光束の光路ＥＬ上から離れた位置に配置されている。

また、制御部９４は、カメラ９３によって撮像されたレーザー光Ｌの位置を、曲率補正前と曲率補正後の変位量として検出し、該変位量がワークＷのひずみ量に対応しているかどうかを確認して、平面ミラー６８のミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４に制御信号を与える。

以上説明したように、本実施形態の露光装置用反射鏡ユニットによれば、複数の支持部材７３に取り付けられ、該複数の支持部材７３の各中間位置で、平面ミラー６８の裏面に取り付けられた複数の中間パッド７２ａを保持する保持板８２が設けられる。これにより、平面ミラー６８を屈曲させることができるように薄い平面ミラー６８を採用した場合であっても、平面ミラー６８の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。

また、保持板８２は、全ての支持部材７３に取り付けられた単一部材であり、保持板８２と、該保持板８２に保持される中間パッド７２ａとの距離が調整可能に構成されているので、簡単な構成で、且つ、２つの支持部材７３の中間位置で任意のたわみ量に調整することができる。

また、保持板８２は、支持部材７３とパッド７２ａとを結んだ接続部分８２ａ以外の部分に、肉抜き部８２ｂを有するので、反射鏡ユニットの軽量化を図ることができる。

さらに、複数の支持部材７３は、ボールジョイント７６をそれぞれ備え、保持板８２は、ボールジョイント７６よりも平面ミラー６８側で、複数の支持部材７３に取り付けられるので、アクチュエータ７４の推力に影響するのを抑制し、また、保持板８２を平面ミラー６８の変形に沿って変形させることができる。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
たとえば、図５に示す変形例ように、平面ミラー６８の一辺の方向で隣接する２つの支持部材７３の中間位置毎に複数の中間パッド７２ａが配置され、単一の保持板８２が、これら中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。したがって、保持板８２には、該一辺と直交方向に並ぶ２つの支持部材７３と２つの中間パッド７２ａによって矩形状に囲まれる領域に、略矩形の肉抜き部８２ｂがそれぞれ形成される。

また、本実施形態の保持板８２は、全ての支持部材７３に取り付けられ、それぞれ所定の二つの支持部材７３の中間位置に設けられた中間パッド７２ａを保持するようにしている。しかしながら、本発明の保持板８２は、これに限定されず、少なくとも二つの支持部材７３に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材７３の中間位置で、平面ミラー６８の裏面に取り付けられた中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。即ち、複数の保持板８２を用いて、各中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。

また、図６に示す他の変形例のように、保持部材は、支持部材７３と中間パッド７２ａとを接続する接続部分にバネなどの弾性部材８８を設けるようにしてもよい。
また、上記実施形態では、平面ミラー６８の周縁部が支持部材７３によって支持されており、二つの支持部材７３の中間位置に中間パッド７２ａが設けられているが、平面ミラー６８の周縁部が支持部材７３のよりも外側に位置する場合には、平面ミラー６８の周縁部にパッドを別途設けて、保持板８２によって保持するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離調整は、中間パッド７２ａに取り付けられた雄ねじ部８３を有するボルトに対して、保持板８２の両側から２つのナット８４を締め付けることで行われている。
一方、図７（ａ）、（ｂ）に示す変形例のように、ナット８４は、保持板８２の中間パッド７２ａから離間した側のみで、ボルトの雄ねじ部８３と螺合させてもよい。この場合、保持板８２の中間パッド７２ａ側にナット８４が設けられていないので、距離調整をより簡単に行うことができ、また、保持板８２が撓んだ場合の応力集中の発生を抑制することができる。そのため、平面ミラー６８が撓んだ際の保持精度を高めることができ、光源の性能を確保することができる。

また、ボルトの雄ねじ部８３は、図７（ａ）に示すように、保持板８２の円孔８２ｄに遊びを持って挿通されてもよいし、或いは、図７（ｂ）に示すように、保持板８２に、円孔８２ｄの代わりに形成された雌ねじ孔８２ｅと螺合させてもよい。なお、保持板８２の雌ねじ孔８２ｅに雄ねじ部８３を螺合させておくことで、平面ミラー６８が撓んだときにも保持板８２がずれることがなく、平面ミラー６８が撓んだ際の保持精度をより高めることができ、光源の性能を確保することができる。

さらに、本発明の反射鏡は、平面ミラー６８に限定されず、凸面ミラーや凹面ミラーであってもよい。

１ マスクステージ（マスク支持部）
２ ワークステージ（ワーク支持部）
３ 照明光学系
６１ 高圧水銀ランプ（光源）
６８ 平面ミラー（反射鏡）
７２ パッド
７２ａ 中間パッド
７３ 支持部材
７４ アクチュエータ（駆動装置）
７６ ボールジョイント
８２ 保持板
８２ｂ 肉抜き部
８５ 高さ調整機構
Ｍ マスク
ＰＥ 近接露光装置
Ｗ ワーク

Claims (5)

1. 光源からの露光光を反射する反射鏡と、
   該反射鏡の裏面にそれぞれ取り付けられ、前記反射鏡を支持する複数の支持部材と、
   前記複数の支持部材をそれぞれ駆動する複数の駆動装置と、
   を備え、前記各駆動装置によって前記各支持部材を駆動することで、前記反射鏡の反射面を変形させる露光装置用反射鏡ユニットであって、
   少なくとも二つの前記支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、前記反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられることを特徴とする露光装置用反射鏡ユニット。
2. 前記保持部材は、前記複数の支持部材に取り付けられた単一の保持板であり、
   前記保持板と、該保持板に保持される前記中間パッドとの距離が調整可能に構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
3. 前記保持板は、前記支持部材と前記中間パッドとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
4. 前記複数の支持部材は、ボールジョイントをそれぞれ備え、
   前記保持板は、ボールジョイントよりも前記反射鏡側で、前記複数の支持部材に取り付けられることを特徴とする請求項２又は３に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
5. ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源からの露光光を反射する請求項１〜４のいずれかに記載の反射鏡ユニットを備えた照明光学系と、を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写することを特徴とする露光装置。
   

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