JP6484853B2 - Reflector unit for exposure apparatus and exposure apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置に関し、より詳細には、半導体用やフラットパネルディスプレイ用の露光装置に使用され、反射鏡の撓みを制御することができる露光装置用反射鏡ユニット及び露光装置に関する。   The present invention relates to a reflection mirror unit for an exposure apparatus and an exposure apparatus, and more particularly, to a reflection mirror unit for an exposure apparatus that is used in an exposure apparatus for a semiconductor or a flat panel display and can control the deflection of the reflection mirror. And an exposure apparatus.

従来、ワークがひずんでいる場合に、ワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができるように、平面ミラーの裏面を複数の支持部材によって支持し、駆動装置によって支持部材を駆動することで、平面ミラーを屈曲させるものが考案されている（例えば、特許文献１参照。）。   Conventionally, when the work is distorted, the back surface of the flat mirror is supported by a plurality of support members and supported by a driving device so that the mask pattern can be accurately exposed and transferred in accordance with the exposed area of the work. A device that bends a plane mirror by driving a member has been devised (see, for example, Patent Document 1).

特開２０１１−０２８１２２号公報JP 2011-028122 A

ところで、平面ミラーを屈曲させる際、曲げ量を大きくするためには、平面ミラーを薄くする必要がある。しかしながら、平面ミラーを薄くすると、自重たわみの影響が大きくなり、光源の性能を確保することが難しい。また、特許文献１において、支持部材の数を増加することで対応することもできるが、コストが嵩むと共に重量が増加するという課題がある。   By the way, when the flat mirror is bent, it is necessary to make the flat mirror thin in order to increase the amount of bending. However, if the flat mirror is made thin, the influence of its own weight deflection becomes large, and it is difficult to ensure the performance of the light source. Moreover, although it can respond by increasing the number of support members in patent document 1, there exists a subject that weight increases while cost increases.

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、反射鏡を屈曲させることができるように薄い反射鏡を採用した場合であっても、反射鏡の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる露光装置用反射鏡ユニットを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and its purpose is to reduce the influence of the deflection of the reflecting mirror even when a thin reflecting mirror is used so that the reflecting mirror can be bent. An object of the present invention is to provide a reflecting mirror unit for an exposure apparatus that can suppress and secure the performance of a light source.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１） 光源からの露光光を反射する反射鏡と、
該反射鏡の裏面にそれぞれ取り付けられ、前記反射鏡を支持する複数の支持部材と、
前記複数の支持部材をそれぞれ駆動する複数の駆動装置と、
を備え、前記各駆動装置によって前記各支持部材を駆動することで、前記反射鏡の反射面を変形させる露光装置用反射鏡ユニットであって、
少なくとも二つの前記支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、前記反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられることを特徴とする露光装置用反射鏡ユニット。
（２） 前記保持部材は、前記複数の支持部材に取り付けられた単一の保持板であり、
前記保持板と、該保持板に保持される前記中間パッドとの距離が調整可能に構成されていることを特徴とする（１）に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（３） 前記保持板は、前記支持部材と前記中間パッドとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（４） 前記複数の支持部材は、ボールジョイントをそれぞれ備え、
前記保持板は、ボールジョイントよりも前記反射鏡側で、前記複数の支持部材に取り付けられることを特徴とする（２）又は（３）に記載の露光装置用反射鏡ユニット。
（５） ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源からの露光光を反射する（１）〜（４）のいずれかに記載の反射鏡ユニットを備えた照明光学系と、を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写することを特徴とする露光装置。 The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) a reflecting mirror that reflects exposure light from a light source;
A plurality of supporting members attached to the back surface of the reflecting mirror and supporting the reflecting mirror;
A plurality of drive devices for respectively driving the plurality of support members;
A reflecting mirror unit for an exposure apparatus that deforms the reflecting surface of the reflecting mirror by driving the support members by the driving devices.
A reflecting mirror for an exposure apparatus, wherein a holding member is provided that is attached to at least two of the supporting members and holds an intermediate pad attached to the back surface of the reflecting mirror at an intermediate position between the at least two supporting members. unit.
(2) The holding member is a single holding plate attached to the plurality of support members,
(1) The reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to (1), wherein a distance between the holding plate and the intermediate pad held by the holding plate is adjustable.
(3) The reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to claim 2, wherein the holding plate has a lightening portion at a portion other than a connection portion connecting the support member and the intermediate pad.
(4) Each of the plurality of support members includes a ball joint,
(2) or (3), wherein the holding plate is attached to the plurality of support members on the reflector side of the ball joint.
(5) Illumination optics including the workpiece support unit that supports the workpiece, the mask support unit that supports the mask, and the reflecting mirror unit according to any one of (1) to (4) that reflects exposure light from the light source. An exposure apparatus that irradiates the work with exposure light from the light source through the mask and transfers the pattern of the mask onto the work.

本発明の露光装置用反射鏡ユニットによれば、少なくとも二つの支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられるので、反射鏡を屈曲させることができるように薄い反射鏡を採用した場合であっても、反射鏡の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。   According to the reflecting mirror unit for an exposure apparatus of the present invention, there is provided a holding member that is attached to at least two supporting members and holds an intermediate pad attached to the back surface of the reflecting mirror at an intermediate position between the at least two supporting members. Therefore, even when a thin reflecting mirror is employed so that the reflecting mirror can be bent, the influence of the deflection of the reflecting mirror by its own weight can be suppressed and the performance of the light source can be ensured.

本発明に係る露光装置の正面図である。It is a front view of the exposure apparatus which concerns on this invention. 露光装置の照明光学系及び曲率補正量検出系を示す図である。It is a figure which shows the illumination optical system and curvature correction amount detection system of exposure apparatus. （ａ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットを示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＩＩＩ´−ＩＩＩ´線に沿った断面図である。(A) is a top view which shows the reflective-mirror unit for exposure apparatuses of an illumination optical system, (b) is sectional drawing along the III-III line of (a), (c) is (a). It is sectional drawing along line III'-III '. 図３の露光装置用反射鏡ユニットを示す要部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part showing a reflecting mirror unit for an exposure apparatus in FIG. 3. （ａ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットの変形例を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線に沿った断面図であり、（ｃ）は、（ａ）のＶ´−Ｖ´線に沿った断面図である。(A) is a top view which shows the modification of the reflecting mirror unit for exposure apparatuses of an illumination optical system, (b) is sectional drawing along the VV line of (a), (c), It is sectional drawing along the V'-V 'line of (a). 照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットの他の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other modification of the reflecting mirror unit for exposure apparatuses of an illumination optical system. （ａ）、（ｂ）は、照明光学系の露光装置用反射鏡ユニットのさらに他の変形例を示す断面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows the further another modification of the reflective mirror unit for exposure apparatuses of an illumination optical system.

以下、本発明に係る露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の露光装置を示す図である。
図１に示すように、近接露光装置ＰＥは、被露光材としてのワークＷより小さいマスクＭを用い、マスクＭをマスクステージ１で保持すると共に、ワークＷをワークステージ（ワーク支持部）２で保持し、マスクＭとワークＷとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明光学系３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。また、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。 Hereinafter, an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an exposure apparatus according to the present invention.
As shown in FIG. 1, the proximity exposure apparatus PE uses a mask M smaller than a workpiece W as a material to be exposed, holds the mask M on a mask stage 1, and holds the workpiece W on a workpiece stage (work support unit) 2. The pattern of the mask M is irradiated by irradiating the mask M with light for pattern exposure from the illumination optical system 3 in a state where the mask M and the workpiece W are placed close to each other with a predetermined exposure gap. The exposure is transferred onto the workpiece W. Further, the work stage 2 is moved stepwise with respect to the mask M in the two axial directions of the X axis direction and the Y axis direction, and exposure transfer is performed for each step.

ワークステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるため、装置ベース４上には、Ｘ軸送り台５ａをＸ軸方向にステップ移動させるＸ軸ステージ送り機構５が設置されている。Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には、ワークステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるため、Ｙ軸送り台６ａをＹ軸方向にステップ移動させるＹ軸ステージ送り機構６が設置されている。Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２が設置されている。ワークステージ２の上面には、ワークＷがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ２の側部には、マスクＭの下面高さを測定するための基板側変位センサ１５が配設されている。従って、基板側変位センサ１５は、ワークステージ２と共にＸ、Ｙ軸方向に移動可能である。   In order to move the work stage 2 stepwise in the X-axis direction, an X-axis stage feed mechanism 5 for moving the X-axis feed base 5a stepwise in the X-axis direction is installed on the apparatus base 4. On the X-axis feed base 5a of the X-axis stage feed mechanism 5, a Y-axis stage feed mechanism 6 for moving the Y-axis feed base 6a stepwise in the Y-axis direction is installed in order to move the work stage 2 stepwise in the Y-axis direction. Has been. The work stage 2 is installed on the Y-axis feed base 6 a of the Y-axis stage feed mechanism 6. On the upper surface of the work stage 2, the work W is held in a state of being sucked by a work chuck or the like. Further, a substrate side displacement sensor 15 for measuring the lower surface height of the mask M is disposed on the side portion of the work stage 2. Therefore, the substrate side displacement sensor 15 can move in the X and Y axis directions together with the work stage 2.

装置ベース４上には、複数（図に示す実施形態では４本）のＸ軸リニアガイドのガイドレール５１がＸ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５１には、Ｘ軸送り台５ａの下面に固定されたスライダ５２が跨架されている。これにより、Ｘ軸送り台５ａは、Ｘ軸ステージ送り機構５の第１リニアモータ２０で駆動され、ガイドレール５１に沿ってＸ軸方向に往復移動可能である。また、Ｘ軸送り台５ａ上には、複数のＹ軸リニアガイドのガイドレール５３がＹ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５３には、Ｙ軸送り台６ａの下面に固定されたスライダ５４が跨架されている。これにより、Ｙ軸送り台６ａは、Ｙ軸ステージ送り機構６の第２リニアモータ２１で駆動され、ガイドレール５３に沿ってＹ軸方向に往復移動可能である。   On the apparatus base 4, a plurality of (four in the embodiment shown in the figure) X-axis linear guide rails 51 are arranged in the X-axis direction, and each guide rail 51 has a lower surface of the X-axis feed base 5 a. A slider 52 fixed to the bridge is straddled. Thereby, the X-axis feed base 5 a is driven by the first linear motor 20 of the X-axis stage feed mechanism 5 and can reciprocate along the guide rail 51 in the X-axis direction. A plurality of guide rails 53 for Y-axis linear guides are arranged on the X-axis feed base 5a in the Y-axis direction. Each guide rail 53 has a slider 54 fixed to the lower surface of the Y-axis feed base 6a. Is straddled. Accordingly, the Y-axis feed base 6 a is driven by the second linear motor 21 of the Y-axis stage feed mechanism 6 and can reciprocate in the Y-axis direction along the guide rail 53.

Ｙ軸ステージ送り機構６とワークステージ２の間には、ワークステージ２を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置７と、上下粗動装置７と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ２を上下に微動させてマスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置８が設置されている。   Between the Y-axis stage feed mechanism 6 and the work stage 2, since the work stage 2 is moved in the vertical direction, the vertical coarse motion device 7 having a relatively coarse positioning resolution but a large moving stroke and moving speed, and the vertical coarse motion Positioning with high resolution is possible compared with the apparatus 7, and a vertical fine movement apparatus 8 is provided for finely adjusting the gap between the opposing surfaces of the mask M and the work W to a predetermined amount by finely moving the work stage 2 up and down. .

上下粗動装置７は後述の微動ステージ６ｂに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ２を微動ステージ６ｂに対して上下動させる。ワークステージ２の底面の４箇所に固定されたステージ粗動軸１４は、微動ステージ６ｂに固定された直動ベアリング１４ａに係合し、微動ステージ６ｂに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置７は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。   The vertical coarse movement device 7 moves the work stage 2 up and down with respect to the fine movement stage 6b by an appropriate drive mechanism provided on the fine movement stage 6b described later. The stage coarse movement shafts 14 fixed at four positions on the bottom surface of the work stage 2 are engaged with linear motion bearings 14a fixed to the fine movement stage 6b, and are guided in the vertical direction with respect to the fine movement stage 6b. In addition, it is desirable that the vertical coarse motion device 7 has high repeated positioning accuracy even if the resolution is low.

上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。   The vertical fine movement device 8 includes a fixed base 9 fixed to the Y-axis feed base 6a, and a linear guide guide rail 10 attached to the fixed base 9 with its inner end inclined obliquely downward. A ball screw nut (not shown) is coupled to a slide body 12 that reciprocates along the guide rail 10 via a slider 11 straddling the guide rail 10, and an upper end surface of the slide body 12. Is in contact with the flange 12a fixed to the fine movement stage 6b so as to be slidable in the horizontal direction.

そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。
なお、上下微動装置８は、モータ１７とボールねじによってスライド体１２を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体１２を駆動するようにしてもよい。 Then, when the screw shaft of the ball screw is rotationally driven by the motor 17 attached to the fixed base 9, the nut, the slider 11 and the slide body 12 are integrally moved along the guide rail 10 in an oblique direction. The flange 12a is finely moved up and down.
Note that the vertical fine movement device 8 may drive the slide body 12 by a linear motor instead of driving the slide body 12 by the motor 17 and the ball screw.

この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＹ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台、合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、後述するマスク側変位センサ２７を構成するギャップセンサによる複数箇所でのマスクＭとワークＷとのギャップ量の計測結果に基づき、３箇所のフランジ１２ａの高さを独立に微調整してワークステージ２の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置８によってワークステージ２の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置７を省略してもよい。 The vertical fine movement device 8 is installed on one end side (left end side in FIG. 1) in the Y-axis direction of the Z-axis feed base 6a and two on the other end side, for a total of three units, and each is independently driven and controlled. It has become so. As a result, the vertical fine movement device 8 increases the heights of the flanges 12a at the three locations based on the measurement results of the gap amounts between the mask M and the workpiece W at a plurality of locations by the gap sensor constituting the mask side displacement sensor 27 described later. Finely adjust the height and inclination of the work stage 2 by fine adjustment independently.
In addition, when the height of the work stage 2 can be sufficiently adjusted by the vertical fine movement device 8, the vertical coarse movement device 7 may be omitted.

また、Ｙ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２のＹ方向の位置を検出するＹ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９と、ワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計に対向するバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。Ｙ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９は、Ｙ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って配置されており、Ｘ軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Ｙ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って配置されている。   On the Y-axis feed base 6a, a bar mirror 19 facing the Y-axis laser interferometer 18 that detects the position of the work stage 2 in the Y direction, and an X-axis laser that detects the position of the work stage 2 in the X-axis direction. A bar mirror (both not shown) facing the interferometer is installed. The bar mirror 19 facing the Y-axis laser interferometer 18 is arranged along the X-axis direction on one side of the Y-axis feed base 6a, and the bar mirror facing the X-axis laser interferometer is located on the Y-axis feed base 6a. It is arranged along the Y-axis direction on one end side.

Ｙ軸レーザ干渉計１８及びＸ軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース４に支持されている。なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設置されている。２台のＹ軸レーザ干渉計１８により、バーミラー１９を介してＹ軸送り台６ａ、ひいてはワークステージ２のＹ軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、Ｘ軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してＸ軸送り台５ａ、ひいてはワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出する。   The Y-axis laser interferometer 18 and the X-axis laser interferometer are arranged so as to always face the corresponding bar mirrors and supported by the apparatus base 4. Two Y-axis laser interferometers 18 are installed apart from each other in the X-axis direction. The two Y-axis laser interferometers 18 detect the position of the Y-axis feed base 6a and consequently the work stage 2 in the Y-axis direction and the yawing error via the bar mirror 19. In addition, the X-axis laser interferometer detects the position of the X-axis feed base 5a and eventually the work stage 2 in the X-axis direction via the opposing bar mirror.

マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠２４と、該マスク基枠２４の中央部開口にギャップを介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスクフレーム２５とを備えており、マスク基枠２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによってワークステージ２の上方の定位置に保持されている。   The mask stage 1 is inserted in a X, Y, θ direction (in the X, Y plane) by inserting a mask base frame 24 composed of a substantially rectangular frame body and a gap into a central opening of the mask base frame 24. The mask base frame 24 is held at a fixed position above the work stage 2 by a support column 4a protruding from the apparatus base 4.

マスクフレーム２５の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ（マスク支持部）２６が設けられている。即ち、マスクフレーム２５の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ２６が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム２５に吸着保持される。   A frame-shaped mask holder (mask support portion) 26 is provided on the lower surface of the central opening of the mask frame 25. That is, a plurality of mask holder suction grooves connected to a vacuum suction device (not shown) are provided on the lower surface of the mask frame 25, and the mask holder 26 is sucked to the mask frame 25 through the plurality of mask holder suction grooves. Retained.

マスクホルダ２６の下面には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝（図示せず）が開設されており、マスクＭは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ２６の下面に着脱自在に保持される。   A plurality of mask suction grooves (not shown) are provided on the lower surface of the mask holder 26 for sucking the peripheral portion of the mask M on which the mask pattern is not drawn. The mask M passes through the mask suction grooves. Then, it is detachably held on the lower surface of the mask holder 26 by a vacuum suction device (not shown).

図２に示すように、本実施形態の露光装置ＰＥの照明光学系３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ６１、及びこの高圧水銀ランプ６１から照射された光を集光するリフレクタ６２をそれぞれ備えたマルチランプユニット６０と、光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６３と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット６４と、露光制御用シャッターユニット６４の下流側に配置され、リフレクタ６２で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射するオプティカルインテグレータ６５と、オプティカルインテグレータ６５から出射された光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６６と、高圧水銀ランプ６１からの光を平行光として照射するコリメーションミラー６７と、該平行光をマスクＭに向けて照射する平面ミラー６８と、を備える。なお、オプティカルインテグレータ６５と露光面との間には、ＤＵＶカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。また、光源は、高圧水銀ランプは、単一のランプであってもよく、或いは、ＬＥＤによって構成されてもよい。   As shown in FIG. 2, the illumination optical system 3 of the exposure apparatus PE of this embodiment includes, for example, a high-pressure mercury lamp 61 that is a light source for ultraviolet irradiation, and a reflector that collects light emitted from the high-pressure mercury lamp 61. A multi-lamp unit 60 provided with 62, a plane mirror 63 for changing the direction of the optical path EL, an exposure control shutter unit 64 for controlling the opening and closing of the irradiation optical path, and a downstream side of the exposure control shutter unit 64. An optical integrator 65 that emits the light collected by the reflector 62 so as to have as uniform an illuminance distribution as possible in the irradiation region; a plane mirror 66 for changing the direction of the optical path EL emitted from the optical integrator 65; Collimation mirror 67 for irradiating light from high-pressure mercury lamp 61 as parallel light Comprises a plane mirror 68 for irradiating the the parallel light to the mask M, the. Note that a DUV cut filter, a polarization filter, and a band pass filter may be disposed between the optical integrator 65 and the exposure surface. Further, the light source may be a single lamp as a high-pressure mercury lamp, or may be constituted by an LED.

そして、露光時にその露光制御用シャッターユニット６４が開制御されると、マルチランプユニット６０から照射された光が、平面ミラー６３、オプティカルインテグレータ６５、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、平面ミラー６８を介して、マスクホルダ２６に保持されるマスクＭ、ひいてはワークＷの表面にパターン露光用の光として照射され、マスクＭの露光パターンがワークＷ上に露光転写される。   When the exposure control shutter unit 64 is controlled to open during exposure, the light emitted from the multi-lamp unit 60 passes through the plane mirror 63, the optical integrator 65, the plane mirror 66, the collimation mirror 67, and the plane mirror 68. Then, the mask M held by the mask holder 26 and, consequently, the surface of the work W are irradiated as light for pattern exposure, and the exposure pattern of the mask M is exposed and transferred onto the work W.

ここで、図３に示すように、平面ミラー６８は、正面視矩形状に形成されたガラス素材からなる。平面ミラー６８は、平面ミラー６８の裏面側に設けられた複数のミラー変形ユニット７０によりミラー変形ユニット保持枠７１に支持されている。   Here, as shown in FIG. 3, the plane mirror 68 is made of a glass material formed in a rectangular shape in front view. The flat mirror 68 is supported on the mirror deformation unit holding frame 71 by a plurality of mirror deformation units 70 provided on the back side of the flat mirror 68.

各ミラー変形ユニット７０は、平面ミラー６８の裏面に接着剤で固定されるパッド７２と、一端がパッド７２に固定された支持部材７３と、支持部材７３を駆動する駆動装置であるアクチュエータ７４と、を備える。   Each mirror deformation unit 70 includes a pad 72 that is fixed to the back surface of the flat mirror 68 with an adhesive, a support member 73 that is fixed to the pad 72 at one end, and an actuator 74 that is a drive device that drives the support member 73. Is provided.

支持部材７３には、保持枠７１に対してパッド７２寄りの位置に、±０・５ｄｅｇ以上の屈曲を許容する屈曲機構としてのボールジョイント７６が設けられており、保持枠７１に対して反対側となる他端には、アクチュエータ７４が取り付けられている。   The support member 73 is provided with a ball joint 76 as a bending mechanism that allows bending of ± 0 · 5 deg or more at a position close to the pad 72 with respect to the holding frame 71, and is opposite to the holding frame 71. An actuator 74 is attached to the other end.

さらに、マスク側のアライメントマーク（図示せず）の位置に露光光を反射する平面ミラー６８の各位置の裏面には、複数の接触式センサ８１が取り付けられている。   Further, a plurality of contact sensors 81 are attached to the back surface of each position of the flat mirror 68 that reflects the exposure light at the position of an alignment mark (not shown) on the mask side.

これにより、平面ミラー６８は、接触式センサ８１によって平面ミラー６８の変位量をセンシングしながら、各ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４によって支持部材７３を駆動することにより、各支持部材７３が長さの違いによって、平面ミラー６８の曲率を局部的に補正し、平面ミラー６８のデクリネーション角を補正することができる。   Accordingly, the plane mirror 68 drives the support member 73 by the actuator 74 of each mirror deformation unit 70 while sensing the amount of displacement of the plane mirror 68 by the contact sensor 81, so that each support member 73 has a length. Due to the difference, the curvature of the plane mirror 68 can be locally corrected, and the declination angle of the plane mirror 68 can be corrected.

その際、各ミラー変形ユニット７０には、ボールジョイント７６が設けられているので、支持部側の部分を三次元的に回動可能とすることができ、各パッド７２を平面ミラー６８の表面に沿って傾斜させることができる。このため、各パッド７２と平面ミラー６８との接着剥がれを防止するすると共に、移動量の異なる各パッド７２間における平面ミラー６８の応力が抑制され、平均破壊応力値が小さいガラス素材からなる場合であっても、平面ミラー６８の曲率を局部的に補正する際、平面ミラー６８を破損することなく、１０ｍｍオーダーで平面ミラー６８を曲げることができ、曲率を大きく変更することができる。   At this time, each mirror deformation unit 70 is provided with a ball joint 76, so that the portion on the support side can be rotated three-dimensionally, and each pad 72 is placed on the surface of the plane mirror 68. Can be tilted along. For this reason, the adhesive peeling between each pad 72 and the plane mirror 68 is prevented, and the stress of the plane mirror 68 between the pads 72 having different movement amounts is suppressed, and the average fracture stress value is made of a small glass material. Even when the curvature of the plane mirror 68 is locally corrected, the plane mirror 68 can be bent on the order of 10 mm without damaging the plane mirror 68, and the curvature can be greatly changed.

また、平面ミラー６８の裏面で、複数の支持部材７３の中間位置、具体的には、平面ミラー６８の直交する２辺の方向においてそれぞれ隣接して四角形を構成するように配置される４つの支持部材７３毎の各中心位置にそれぞれ、複数の中間パッド７２ａが接着剤により固定されている。また、複数の支持部材７３には、ボールジョイント７６よりも平面ミラー６８側に、複数の中間パッド７２ａを保持する単一の保持板８２が取り付けられている。即ち、保持板８２は、すくなくとも二つの支持部材７３に取り付けられ、少なくとも二つの支持部材７３の中間位置に配置される中間パッド７２ａを保持する。   Further, on the back surface of the plane mirror 68, four supports arranged so as to form a quadrangle adjacent to each other in the middle position of the plurality of support members 73, specifically, in the direction of two orthogonal sides of the plane mirror 68, respectively. A plurality of intermediate pads 72a are fixed to each central position of each member 73 with an adhesive. In addition, a single holding plate 82 that holds the plurality of intermediate pads 72 a is attached to the plurality of support members 73 closer to the plane mirror 68 than the ball joint 76. That is, the holding plate 82 is attached to at least two support members 73 and holds the intermediate pad 72 a disposed at an intermediate position between at least the two support members 73.

各中間パッド７２ａには、平面ミラー６８と反対側に雄ねじ部８３が形成されており、保持板８２の両側に位置する２つのナット８４を両側から雄ネジ部８３に締結することによって、保持板８２を固定すると共に、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離を調整する高さ調整機構８５を構成する。   Each intermediate pad 72a is formed with a male threaded portion 83 on the opposite side of the plane mirror 68, and by fastening two nuts 84 located on both sides of the retaining plate 82 to the male threaded portion 83 from both sides, A height adjustment mechanism 85 that fixes the distance between the holding plate 82 and the intermediate pad 72a is configured while fixing the 82.

また、保持板８２の材質は、平面ミラー６８の変形に追従可能な材料であれば任意であり、例えば、アルミ材から構成されてもよい。あるいは、保持板８２は、平面ミラー６８を構成するガラス素材と縦弾性係数が略等しい材料から構成されてもよい。   The material of the holding plate 82 is arbitrary as long as it can follow the deformation of the plane mirror 68, and may be made of, for example, an aluminum material. Alternatively, the holding plate 82 may be made of a material having substantially the same longitudinal elastic modulus as that of the glass material constituting the flat mirror 68.

また、図４に示すように、保持板８２は、各支持部材７３に嵌合する複数の円孔８２ｃを有する一方、平面ミラー６８の曲げに追従しやすいように、各雄ねじ部８３に対して遊びを持った複数の円孔８２ｄを有している。また、保持板８２の板厚は、ミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４の推力を無駄に消費するのを防止するため、平面ミラー６８の板厚の略半分に設定されている。   Further, as shown in FIG. 4, the holding plate 82 has a plurality of circular holes 82 c that are fitted to the respective support members 73, while the male plate portions 83 are arranged so as to easily follow the bending of the plane mirror 68. It has a plurality of circular holes 82d with play. Further, the thickness of the holding plate 82 is set to be approximately half of the thickness of the flat mirror 68 in order to prevent wasteful consumption of the thrust force of the actuator 74 of the mirror deformation unit 70.

即ち、本実施形態の平面ミラー６８と、複数のパッド７２、複数の支持部材７３、複数のアクチュエータ７４、及び複数のボールジョイント７６を有するミラー変形ユニット７０と、複数の中間パッド７２ａと、複数の高さ調整機構８５と、保持板８２とは、本発明の露光装置用反射鏡ユニットを構成する。   That is, the plane mirror 68 of the present embodiment, a plurality of pads 72, a plurality of support members 73, a plurality of actuators 74, a mirror deformation unit 70 having a plurality of ball joints 76, a plurality of intermediate pads 72a, and a plurality of The height adjusting mechanism 85 and the holding plate 82 constitute a reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to the present invention.

したがって、ミラー変形ユニット７０による撓み性を考慮して平面ミラー６８を薄肉にした場合、支持部材７３間の中間部分が自重により撓む可能性があるが、該中間部分を保持板８２によって保持することで、自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。また、雄ねじ部８３と２つのナット８４によって高さ調整機構８５を構成することで、さらに、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離を任意に調整することができる。   Therefore, when the flat mirror 68 is made thin considering the flexibility of the mirror deformation unit 70, the intermediate portion between the support members 73 may be bent by its own weight, but the intermediate portion is held by the holding plate 82. As a result, the influence of the self-weight deflection can be suppressed and the performance of the light source can be ensured. In addition, by configuring the height adjustment mechanism 85 with the male screw portion 83 and the two nuts 84, the distance between the holding plate 82 and the intermediate pad 72a can be arbitrarily adjusted.

また、図３に示すように、保持板８２は、中間パッド７２ａを中心として、四角形を構成するように四隅に配置された４つの支持部材７３に向かってそれぞれ延びる接続部分８２ａを有すると共に、支持部材７３とパッド７２ａとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部８２ｂを有する。即ち、保持板８２は、網目状に形成されており、軽量化が図られている。   Further, as shown in FIG. 3, the holding plate 82 has connection portions 82a extending around four support members 73 arranged at the four corners so as to form a quadrangle with the intermediate pad 72a as a center, and supporting A portion other than the connecting portion connecting the member 73 and the pad 72a is provided with a thinned portion 82b. That is, the holding plate 82 is formed in a mesh shape, and the weight is reduced.

図２に戻って、本実施形態では、平面ミラー６８の曲率を補正した際に、ワークＷのひずみ量に対応する平面ミラー６８の曲率補正が行われたかどうかを判断するための曲率補正量検出系９０が設けられている。曲率補正量検出系９０は、露光光の光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６８より露光面側（本実施形態では、マスク近傍）から平面ミラー６８に向けて指向性を有する光としてレーザー光Ｌを照射するレーザー光源としての複数（本実施形態では、４つ）のレーザーポインタ９１と、オプティカルインテグレータ６５の近傍に、露光光の光束の光路ＥＬから退避可能に配置された反射板９２と、平面ミラー６８を介して、反射板９２に映りこんだレーザー光Ｌを撮像する撮像手段としてのカメラ９３と、カメラ９３と平面ミラー６８のミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４との間に設けられ、平面ミラー６８の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌの変位量を検出し、該変位量が、算出されたひずみ量と対応するようにミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４を制御する制御部９４と、を有する。   Returning to FIG. 2, in this embodiment, when the curvature of the plane mirror 68 is corrected, the curvature correction amount detection for determining whether or not the curvature correction of the plane mirror 68 corresponding to the strain amount of the workpiece W has been performed. A system 90 is provided. The curvature correction amount detection system 90 irradiates laser light L as light having directivity from the exposure surface side (in the vicinity of the mask in this embodiment) toward the plane mirror 68 from the plane mirror 68 in the optical path EL of the light beam of exposure light. A plurality of (four in the present embodiment) laser pointers 91, a reflector 92 disposed in the vicinity of the optical integrator 65 so as to be retractable from the optical path EL of the light beam of exposure light, and a plane mirror 68 Are provided between the camera 93 and an actuator 74 of the mirror deformation unit 70 of the plane mirror 68 as an imaging means for imaging the laser light L reflected on the reflection plate 92. The amount of displacement of the laser light L imaged when the curvature is corrected is detected, and the mirror is set so that the amount of displacement corresponds to the calculated strain amount. And a control unit 94 which controls the actuator 74 in the form unit 70, a.

レーザーポインタ９１は、アライメントを検出するための、例えば不図示のＣＣＤカメラの上部に取り付けられ、ＣＣＤカメラがマスク側のアライメントマークが視認できる位置へ進退するのと同期して移動する。   The laser pointer 91 is attached to, for example, an upper part of a CCD camera (not shown) for detecting alignment, and moves in synchronization with the CCD camera moving forward and backward to a position where the alignment mark on the mask side can be visually recognized.

反射板９２は、コリメーションミラー６７によって反射されることで最も集光された光となるインテグレータ近傍に配置されているので、平面ミラー６８、コリメーションミラー６７、平面ミラー６６で反射された４つのレーザーポインタ９１からのレーザー光Ｌを比較的小さな面積の反射板９２によって捉えることができる。また、反射板９２は、通常の露光時、光源からの露光光の光束をマスクＭに照射する際に、図示しない駆動機構によって、該光束の光路ＥＬから退避可能に配置される。さらに、反射板９２は、低反射率の反射面とすることで、カメラ９３でのレーザー光Ｌの視認性を上げることができる。   Since the reflecting plate 92 is disposed in the vicinity of the integrator that is the most condensed light by being reflected by the collimation mirror 67, the four laser pointers reflected by the plane mirror 68, the collimation mirror 67, and the plane mirror 66. The laser beam L from 91 can be captured by the reflector 92 having a relatively small area. Further, the reflector 92 is disposed so as to be retractable from the optical path EL of the light beam by a driving mechanism (not shown) when the mask M is irradiated with the light beam of the exposure light from the light source during normal exposure. Furthermore, the reflection plate 92 is a reflective surface having a low reflectance, so that the visibility of the laser light L with the camera 93 can be improved.

カメラ９３は、露光光の光束に影響を与えないように、光源からの該光束の光路ＥＬ上から離れた位置に配置されている。   The camera 93 is disposed at a position away from the light path EL of the light beam from the light source so as not to affect the light beam of the exposure light.

また、制御部９４は、カメラ９３によって撮像されたレーザー光Ｌの位置を、曲率補正前と曲率補正後の変位量として検出し、該変位量がワークＷのひずみ量に対応しているかどうかを確認して、平面ミラー６８のミラー変形ユニット７０のアクチュエータ７４に制御信号を与える。   Further, the control unit 94 detects the position of the laser light L imaged by the camera 93 as a displacement amount before and after the curvature correction, and determines whether the displacement amount corresponds to the strain amount of the workpiece W. After confirmation, a control signal is given to the actuator 74 of the mirror deformation unit 70 of the plane mirror 68.

以上説明したように、本実施形態の露光装置用反射鏡ユニットによれば、複数の支持部材７３に取り付けられ、該複数の支持部材７３の各中間位置で、平面ミラー６８の裏面に取り付けられた複数の中間パッド７２ａを保持する保持板８２が設けられる。これにより、平面ミラー６８を屈曲させることができるように薄い平面ミラー６８を採用した場合であっても、平面ミラー６８の自重たわみの影響を抑制して、光源の性能を確保することができる。   As described above, according to the reflecting mirror unit for an exposure apparatus of the present embodiment, it is attached to the plurality of support members 73 and attached to the back surface of the plane mirror 68 at each intermediate position of the plurality of support members 73. A holding plate 82 that holds the plurality of intermediate pads 72a is provided. Thereby, even if it is a case where the thin plane mirror 68 is employ | adopted so that the plane mirror 68 can be bent, the influence of the self-weight bending of the plane mirror 68 can be suppressed, and the performance of a light source can be ensured.

また、保持板８２は、全ての支持部材７３に取り付けられた単一部材であり、保持板８２と、該保持板８２に保持される中間パッド７２ａとの距離が調整可能に構成されているので、簡単な構成で、且つ、２つの支持部材７３の中間位置で任意のたわみ量に調整することができる。   Further, the holding plate 82 is a single member attached to all the supporting members 73, and the distance between the holding plate 82 and the intermediate pad 72a held by the holding plate 82 is configured to be adjustable. It is possible to adjust to an arbitrary deflection amount with a simple configuration and at an intermediate position between the two support members 73.

また、保持板８２は、支持部材７３とパッド７２ａとを結んだ接続部分８２ａ以外の部分に、肉抜き部８２ｂを有するので、反射鏡ユニットの軽量化を図ることができる。   Further, since the holding plate 82 has the lightening portion 82b in a portion other than the connection portion 82a connecting the support member 73 and the pad 72a, the weight of the reflecting mirror unit can be reduced.

さらに、複数の支持部材７３は、ボールジョイント７６をそれぞれ備え、保持板８２は、ボールジョイント７６よりも平面ミラー６８側で、複数の支持部材７３に取り付けられるので、アクチュエータ７４の推力に影響するのを抑制し、また、保持板８２を平面ミラー６８の変形に沿って変形させることができる。   Further, each of the plurality of support members 73 includes a ball joint 76, and the holding plate 82 is attached to the plurality of support members 73 closer to the plane mirror 68 than the ball joint 76, and thus the thrust of the actuator 74 is affected. Further, the holding plate 82 can be deformed along the deformation of the plane mirror 68.

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
たとえば、図５に示す変形例ように、平面ミラー６８の一辺の方向で隣接する２つの支持部材７３の中間位置毎に複数の中間パッド７２ａが配置され、単一の保持板８２が、これら中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。したがって、保持板８２には、該一辺と直交方向に並ぶ２つの支持部材７３と２つの中間パッド７２ａによって矩形状に囲まれる領域に、略矩形の肉抜き部８２ｂがそれぞれ形成される。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
For example, as in the modification shown in FIG. 5, a plurality of intermediate pads 72 a are arranged for each intermediate position of two support members 73 adjacent in the direction of one side of the plane mirror 68, and a single holding plate 82 is formed between these The pad 72a may be held. Accordingly, the holding plate 82 is formed with a substantially rectangular cutout portion 82b in a region surrounded by a rectangular shape by the two support members 73 and the two intermediate pads 72a arranged in a direction orthogonal to the one side.

また、本実施形態の保持板８２は、全ての支持部材７３に取り付けられ、それぞれ所定の二つの支持部材７３の中間位置に設けられた中間パッド７２ａを保持するようにしている。しかしながら、本発明の保持板８２は、これに限定されず、少なくとも二つの支持部材７３に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材７３の中間位置で、平面ミラー６８の裏面に取り付けられた中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。即ち、複数の保持板８２を用いて、各中間パッド７２ａを保持するようにしてもよい。   Further, the holding plate 82 of the present embodiment is attached to all the supporting members 73 and holds the intermediate pads 72a provided at intermediate positions between the two predetermined supporting members 73, respectively. However, the holding plate 82 of the present invention is not limited to this, and is attached to at least two support members 73, and an intermediate pad 72 a attached to the back surface of the plane mirror 68 at an intermediate position between the at least two support members 73. May be held. That is, each intermediate pad 72a may be held using a plurality of holding plates 82.

また、図６に示す他の変形例のように、保持部材は、支持部材７３と中間パッド７２ａとを接続する接続部分にバネなどの弾性部材８８を設けるようにしてもよい。
また、上記実施形態では、平面ミラー６８の周縁部が支持部材７３によって支持されており、二つの支持部材７３の中間位置に中間パッド７２ａが設けられているが、平面ミラー６８の周縁部が支持部材７３のよりも外側に位置する場合には、平面ミラー６８の周縁部にパッドを別途設けて、保持板８２によって保持するようにしてもよい。 Further, as in another modification shown in FIG. 6, the holding member may be provided with an elastic member 88 such as a spring at a connection portion connecting the support member 73 and the intermediate pad 72 a.
In the above embodiment, the peripheral edge of the plane mirror 68 is supported by the support member 73, and the intermediate pad 72 a is provided at an intermediate position between the two support members 73, but the peripheral edge of the plane mirror 68 is supported. When located outside the member 73, a pad may be separately provided on the peripheral edge of the plane mirror 68 and held by the holding plate 82.

また、上記実施形態では、保持板８２と中間パッド７２ａとの距離調整は、中間パッド７２ａに取り付けられた雄ねじ部８３を有するボルトに対して、保持板８２の両側から２つのナット８４を締め付けることで行われている。
一方、図７（ａ）、（ｂ）に示す変形例のように、ナット８４は、保持板８２の中間パッド７２ａから離間した側のみで、ボルトの雄ねじ部８３と螺合させてもよい。この場合、保持板８２の中間パッド７２ａ側にナット８４が設けられていないので、距離調整をより簡単に行うことができ、また、保持板８２が撓んだ場合の応力集中の発生を抑制することができる。そのため、平面ミラー６８が撓んだ際の保持精度を高めることができ、光源の性能を確保することができる。 In the above embodiment, the distance between the holding plate 82 and the intermediate pad 72a is adjusted by tightening the two nuts 84 from both sides of the holding plate 82 with respect to the bolt having the male screw portion 83 attached to the intermediate pad 72a. It is done in
On the other hand, as in the modification shown in FIGS. 7A and 7B, the nut 84 may be screwed into the male threaded portion 83 of the bolt only on the side of the holding plate 82 that is separated from the intermediate pad 72a. In this case, since the nut 84 is not provided on the intermediate pad 72a side of the holding plate 82, the distance can be adjusted more easily, and the occurrence of stress concentration when the holding plate 82 is bent is suppressed. be able to. Therefore, the holding accuracy when the flat mirror 68 is bent can be increased, and the performance of the light source can be ensured.

また、ボルトの雄ねじ部８３は、図７（ａ）に示すように、保持板８２の円孔８２ｄに遊びを持って挿通されてもよいし、或いは、図７（ｂ）に示すように、保持板８２に、円孔８２ｄの代わりに形成された雌ねじ孔８２ｅと螺合させてもよい。なお、保持板８２の雌ねじ孔８２ｅに雄ねじ部８３を螺合させておくことで、平面ミラー６８が撓んだときにも保持板８２がずれることがなく、平面ミラー６８が撓んだ際の保持精度をより高めることができ、光源の性能を確保することができる。   Further, the male threaded portion 83 of the bolt may be inserted with play in the circular hole 82d of the holding plate 82 as shown in FIG. 7 (a), or as shown in FIG. 7 (b). The holding plate 82 may be screwed into a female screw hole 82e formed instead of the circular hole 82d. The male screw 83 is screwed into the female screw hole 82e of the holding plate 82, so that the holding plate 82 is not displaced even when the plane mirror 68 is bent, and when the plane mirror 68 is bent. The holding accuracy can be further increased, and the performance of the light source can be ensured.

さらに、本発明の反射鏡は、平面ミラー６８に限定されず、凸面ミラーや凹面ミラーであってもよい。   Furthermore, the reflecting mirror of the present invention is not limited to the flat mirror 68, and may be a convex mirror or a concave mirror.

１ マスクステージ（マスク支持部）
２ ワークステージ（ワーク支持部）
３ 照明光学系
６１ 高圧水銀ランプ（光源）
６８ 平面ミラー（反射鏡）
７２ パッド
７２ａ 中間パッド
７３ 支持部材
７４ アクチュエータ（駆動装置）
７６ ボールジョイント
８２ 保持板
８２ｂ 肉抜き部
８５ 高さ調整機構
Ｍ マスク
ＰＥ 近接露光装置
Ｗ ワーク
1 Mask stage (mask support part)
2 Work stage (work support part)
3 Illumination optics 61 High-pressure mercury lamp (light source)
68 Flat mirror
72 Pad 72a Intermediate pad 73 Support member 74 Actuator (drive device)
76 Ball joint 82 Holding plate 82b Thickening part 85 Height adjustment mechanism M Mask PE Proximity exposure device W Workpiece

Claims (5)

光源からの露光光を反射する反射鏡と、
該反射鏡の裏面にそれぞれ取り付けられ、前記反射鏡を支持する複数の支持部材と、
前記複数の支持部材をそれぞれ駆動する複数の駆動装置と、
を備え、前記各駆動装置によって前記各支持部材を駆動することで、前記反射鏡の反射面を変形させる露光装置用反射鏡ユニットであって、
少なくとも二つの前記支持部材に取り付けられ、該少なくとも二つの支持部材の中間位置で、前記反射鏡の裏面に取り付けられた中間パッドを保持する保持部材が設けられることを特徴とする露光装置用反射鏡ユニット。 A reflecting mirror that reflects exposure light from the light source;
A plurality of supporting members attached to the back surface of the reflecting mirror and supporting the reflecting mirror;
A plurality of drive devices for respectively driving the plurality of support members;
A reflecting mirror unit for an exposure apparatus that deforms the reflecting surface of the reflecting mirror by driving the support members by the driving devices.
A reflecting mirror for an exposure apparatus, wherein a holding member is provided that is attached to at least two of the supporting members and holds an intermediate pad attached to the back surface of the reflecting mirror at an intermediate position between the at least two supporting members. unit. 前記保持部材は、前記複数の支持部材に取り付けられた単一の保持板であり、
前記保持板と、該保持板に保持される前記中間パッドとの距離が調整可能に構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置用反射鏡ユニット。 The holding member is a single holding plate attached to the plurality of support members,
2. The reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to claim 1, wherein a distance between the holding plate and the intermediate pad held by the holding plate is adjustable. 前記保持板は、前記支持部材と前記中間パッドとを結んだ接続部分以外の部分に、肉抜き部を有することを特徴とする請求項２に記載の露光装置用反射鏡ユニット。   3. The reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to claim 2, wherein the holding plate has a thinned portion at a portion other than a connecting portion connecting the support member and the intermediate pad. 前記複数の支持部材は、ボールジョイントをそれぞれ備え、
前記保持板は、ボールジョイントよりも前記反射鏡側で、前記複数の支持部材に取り付けられることを特徴とする請求項２又は３に記載の露光装置用反射鏡ユニット。 Each of the plurality of support members includes a ball joint,
4. The reflecting mirror unit for an exposure apparatus according to claim 2, wherein the holding plate is attached to the plurality of supporting members on the reflecting mirror side with respect to the ball joint. ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源からの露光光を反射する請求項１〜４のいずれかに記載の反射鏡ユニットを備えた照明光学系と、を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写することを特徴とする露光装置。
A work support unit that supports a work, a mask support unit that supports a mask, and an illumination optical system that includes the reflecting mirror unit according to claim 1 that reflects exposure light from a light source. An exposure apparatus that irradiates the work with exposure light from the light source through the mask and transfers the pattern of the mask onto the work.
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