JP6447807B2 - フィルタボックス及びその製造方法、フィルタ装置、並びに露光装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えば気体中の不純物等を除去するためのフィルタを保持するフィルタボックス、このフィルタボックスを備えるフィルタ装置、このフィルタ装置を備える露光装置、及びこの露光装置を用いて例えば半導体素子、液晶表示素子、又は撮像素子等を製造するためのデバイス製造方法に関する。また、本発明は、そのフィルタボックスを製造するための製造方法に関する。

この種の露光装置においては、高い露光精度を得るために、照明光学系の一部、レチクルステージ、投影光学系、及びウエハステージ等を含む露光本体部は、箱型のチャンバ内に設置され、このチャンバ内に、所定温度に制御されて、かつ防塵フィルタを通過した清浄な気体（例えば空気）をダウンフロー方式及びサイドフロー方式で供給する空調装置が設けられている。

また、露光光として、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）又はＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）のような短波長の光を用いる場合、露光光が通過する空間（例えば、鏡筒の内部空間）内に微量な有機物のガス（有機系ガス）が存在すると、露光光の透過率が低下するとともに、露光光と有機系ガスとの反応によって、レンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる恐れがある。さらに、チャンバ内に供給する気体からは、ウエハに塗布されたフォトレジスト（感光材料）と反応するアルカリ性物質のガス（アルカリ系ガス）等も除去することが望ましい。

そこで、従来より、露光装置の空調装置の気体の取り込み部には、チャンバ内に供給される気体から有機系ガス及び／又はアルカリ系ガス等を除去するための複数のケミカルフィルタが設けられている（例えば、特許文献１参照）。

米国特許第７，４１６，５７４号明細書

従来の露光装置においては、複数のケミカルフィルタをケーシング内に位置決めしながら積み重ねていた。そのため、それらのケミカルフィルタを交換する際には、使用済みのケミカルフィルタを順次搬出してから、未使用のケミカルフィルタを互いに位置合わせしながら積み重ねて設置する必要があった。そのため、ケミカルフィルタの交換時間が長くなったり、複数のケミカルフィルタ間で位置ずれが生じ、ケミカルフィルタ間の気密性が低下したりする恐れがあった。

さらに、露光装置においては、要求される露光精度の一層の向上に対応して、設置するケミカルフィルタの段数が増加しているため、ケミカルフィルタの交換を効率的に行う必要がある。
本発明の態様は、このような事情に鑑み、フィルタの交換を効率的に行うことを目的とする。

第１の態様によれば、フィルタを収容するフィルタボックスであって、そのフィルタを保持するフレームと、そのフレームの底部からの高さが互いに異なるように、そのフレームの少なくとも２つの端面にそれぞれ設けられた突起部と、を備え、そのフィルタボックスを対応する収容部に収容する際にその収容部に対向するそのフレームの背面側における、そのフレームに設けられたその突起部の端部は、その背面と同じ位置にあり、その突起部の、そのフレームのその背面に対向する前面側の端部は、そのフレームの重心位置とその前面との間の位置にあるフィルタボックスが提供される。

第２の態様によれば、フィルタを収容するフィルタ装置であって、本発明の態様のフィルタボックスと、そのフィルタボックスを収容する箱状の収容部と、を備え、その収容部の内面に、その収容部の支持部の上面にそのフレームを載置する際に、その突起部が接触する凸状の載置部が設けられたフィルタ装置が提供される。
第３の態様によれば、本発明の態様のフィルタボックスの製造方法であって、そのフィルタボックスのフレームから使用済みのフィルタを取り出すことと、そのフレームに未使用のフィルタを充填することと、充填されたフィルタの種類に応じて、そのフレームに設けられた突起部のそのフレームの底部からの高さを調整することと、を含む製造方法が提供される。

第４の態様によれば、露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、その基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、本発明の態様の少なくとも一つのフィルタボックスと、そのチャンバの外部から取り込まれた気体をそのフィルタボックスを介してそのチャンバ内に送風する空調装置と、を備える露光装置が提供される。
第５の態様によれば、本発明の態様の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明の態様によれば、例えばフィルタボックスを収容する収容部側に、フィルタボックスの突起部に対応する載置部（案内部）を設けておくことによって、フィルタボックスひいてはフィルタの交換を効率的に行うことができる。

実施形態の一例に係る露光装置の構成を示す一部が切り欠かれた図である。 図１中のフィルタ装置を示す斜視図である。 フィルタ装置から上段のフィルタボックスを取り出した状態を示す斜視図である。 （Ａ）は図２のフィルタ装置を示す一部が切り欠かれた正面図、（Ｂ）は図４（Ａ）中の駆動部を示す拡大図である。 （Ａ）は図２中の第１のフィルタボックスを示す斜視図、（Ｂ）は第２のフィルタボックスを示す斜視図である。 （Ａ）はケーシング内の上段のフィルタボックスを示す断面図、（Ｂ）は上部のガイドレール部材を高くした状態を示す断面図、（Ｃ）はガイドレール部材の端部及び駆動部を示す拡大図、（Ｄ）は高くされたガイドレール部材の端部を示す拡大図である。 （Ａ）はフィルタボックスの交換方法の一例を示すフローチャート、（Ｂ）はフィルタボックスの製造方法の一例を示すフローチャートである。 （Ａ）はケーシング内の上段の上部のフィルタボックスを取り出している状態を示す断面図、（Ｂ）は下部のフィルタボックスを取り出している状態を示す断面図である。 （Ａ）はケーシング内の上段の下部のフィルタボックスを差し込んだ状態を示す断面図、（Ｂ）は下部のフィルタボックスを仕切り板上に載置した状態を示す断面図、（Ｃ）は上部のフィルタボックスを差し込む状態を示す断面図である。 （Ａ）は変形例のフィルタ装置を示す一部が切り欠かれた正面図、（Ｂ）は図１０（Ａ）中の駆動部を示す拡大図である。 電子デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。

以下、本発明の実施形態の一例につき図１〜図９（Ｃ）を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸを示す。図１において、露光装置ＥＸは、露光光（露光用の照明光）ＥＬを発生する光源部２と、露光光ＥＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をフォトレジスト（感光材料）が塗布された半導体ウエハ（以下、単にウエハという。）Ｗの表面に投影する投影光学系ＰＬと、を備えている。さらに、露光装置ＥＸは、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、その他の駆動機構及びセンサ類等と、複数枚のレチクルを保管するレチクルライブラリ９と、複数枚の未露光及び／又は露光済みのウエハを保管するウエハカセット７と、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御する主制御装置（不図示）とを備えている。これらの光源部２から主制御装置（不図示）までの部材は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の第１の床ＦＬ１の上面に設置されている。

また、露光装置ＥＸは、床ＦＬ１上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ１０を備え、チャンバ１０の内部は、例えばシャッタ２４Ｒ及び２４Ｗで開閉される２つの開口を有する仕切り部材１０ｄによって、露光室１０ａとローダ室１０ｂとに区画されている。そして、露光室１０ａ内に、照明光学系ＩＬＳ、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及びウエハステージＷＳＴを含む露光本体部４が設置され、ローダ室１０ｂ内に、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７をそれぞれ含むレチクルローダ系及びウエハローダ系が設置されている。

また、露光装置ＥＸは、チャンバ１０の内部全体の空調を行うための全体空調システムを備えている。この全体空調システムは、第１の床ＦＬ１の階下の機械室の第２の床ＦＬ２の上面に設置されて、積み重ねられた複数のケミカルフィルタを有するフィルタ装置２６と、床ＦＬ２の上面に設置された空調本体部３１を有する空調装置３０と、露光室１０ａの上部に設置された大型の吹き出し口１８と、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２の底面に配置された小型の吹き出し口１９Ｒと、投影光学系ＰＬの近傍に配置された小型の吹き出し口１９Ｗとを備えている。フィルタ装置２６は、外部から取り込んだ空調用の気体である空気ＡＲから所定の不純物を除去し、不純物を除去した空気を矢印Ａ１で示すように第１ダクト３２を介して空調本体部３１に供給する（詳細後述）。

空調装置３０は、第１ダクト３２と、空調本体部３１と、空調本体部３１とチャンバ１０の内部とを床ＦＬ１に設けられた開口を通して連結する第２ダクト３５と、例えば第２ダクト３５の途中に配置されて、内部を流れる空気から微小な粒子（パーティクル）を除去するＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air-filter）等の防塵フィルタ３６とを備えている。ダクト３２，３５及び配管２５は、例えばステンレス鋼又はフッ素樹脂など、汚染物質の発生量の少ない材料を用いて形成されている。

空調本体部３１は、第１ダクト３２を介して供給される空気の温度を制御する温度制御部３３Ａと、その空気の湿度を制御する湿度制御部３３Ｂと、その空気を第２ダクト３５側に送風するファンモータ３４とを備えている。その空気は、温度が２０℃〜３０℃の範囲内の例えば２３℃に制御されて、第２ダクト３５及び吹き出し口１８を介して露光室１０ａの内部にダウンフロー方式で供給される。チャンバ１０の内部は、この空気の供給によって陽圧状態に設定される。また、第２ダクト３５内の空気は、分岐管３５ａ及び３５ｂと、対応する吹き出し口１９Ｗ及び吹き出し口１９Ｒとを介して露光室１０ａ内に供給される。露光室１０ａ内の空気の一部はローダ室１０ｂにも流入する。

一例として、チャンバ１０の内部（露光室１０ａ）を流れた空気は、チャンバ１０の底面に設けられた多数の開口４５ａ及び床ＦＬ１に設けられた多数の開口４５ｂを通して床下の排気ダクト４４内に流れ、排気ダクト４４内の空気は、不図示のフィルタを介して清浄化された後、排気される。なお、排気ダクト４４に流れた空気の全部又は一部をフィルタ装置２６側に戻して再利用することも可能である。

以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面（本実施形態ではほぼ水平面である）内で図１の紙面に垂直にＸ軸を、図１の紙面に平行にＹ軸を取って説明する。一例として、本実施形態の露光装置ＥＸは走査露光型であり、走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ方向である。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの回転方向をθｘ、θｙ、θｚ方向とも呼ぶ。

先ず、チャンバ１０の外側の床ＦＬ１上に設置された光源部２は、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を発生する露光光源と、その露光光ＥＬを照明光学系ＩＬＳに導くビーム送光光学系とを備えている。光源部２の露光光ＥＬの射出端は、チャンバ１０の＋Ｙ方向の側面上部の開口を通して露光室１０ａ内に配置されている。なお、露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ光源（波長２４８ｎｍ）などの紫外パルスレーザ光源、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプ（ｉ線等）なども使用できる。

また、チャンバ１０内の上部に配置された照明光学系ＩＬＳは、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド、及びコンデンサ光学系等を備えている。照明光学系ＩＬＳは、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲのパターン面のＸ方向に細長いスリット状の照明領域を露光光ＥＬによりほぼ均一な照度で照明する。

レチクルＲに形成されたパターン領域のうち、照明領域内のパターンの像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率（例えば１／４）の投影光学系ＰＬを介してウエハＷの表面に結像投影される。
また、チャンバ１０の露光室１０ａ内の床ＦＬ１上に、複数の台座１１を介して下部フレーム１２が設置され、下部フレーム１２の中央部に平板状のベース部材１３が固定され、ベース部材１３上に例えば３箇所の防振台１４を介して平板状のウエハベースＷＢが支持され、ウエハベースＷＢのＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがＸ方向、Ｙ方向に移動可能に、かつθｚ方向に回転可能に載置されている。また、下部フレーム１２の上端に、ウエハベースＷＢを囲むように配置された例えば３箇所の防振台１５を介して光学系フレーム１６が支持されている。光学系フレーム１６の中央部の開口に投影光学系ＰＬが配置され、光学系フレーム１６上に投影光学系ＰＬを囲むように上部フレーム１７が固定されている。

また、光学系フレーム１６の底面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹが固定され、その底面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるウエハ干渉計は、それぞれウエハステージＷＳＴの側面の反射面（又は移動鏡）に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

主制御装置（不図示）内のステージ制御系が、上記のウエハ干渉計の計測値及びオートフォーカスセンサ（不図示）の計測値等に基づいて、リニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置及び速度とθｚ方向の回転角とを制御するとともに、ウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に合焦されるように、ウエハステージＷＳＴ内のＺステージ（不図示）を制御する。また、レチクルＲ及びウエハＷのアライメントを行うためのアライメント系ＡＬＧ等も設けられている。なお、レーザ干渉計の代わりに、回折格子及びこの回折格子に計測用の光ビームを照射してこの回折格子に対する相対変位量を検出する複数の検出ヘッドを有するいわゆるエンコーダ装置によって、ウエハステージＷＳＴの位置を計測してもよい。

一方、上部フレーム１７の＋Ｙ方向の上部に、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２が固定されている。さらに、上部フレーム１７のＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介して、レチクルステージＲＳＴがＹ方向に定速移動可能に、かつＸ方向への移動及びθｚへの回転が可能に載置されている。
また、上部フレーム１７の上面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹが固定され、その上面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるレチクル干渉計は、それぞれレチクルステージＲＳＴに設けられた移動鏡２１ＭＹ等に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、レチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ、θｘ、θｙ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

主制御装置（不図示）内のステージ制御系は、そのレチクル干渉計の計測値等に基づいてリニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してレチクルステージＲＳＴのＹ方向の速度及び位置、Ｘ方向の位置、並びにθｚ方向の回転角等を制御する。
また、本実施形態の露光装置ＥＸが液浸型である場合には、投影光学系ＰＬの下端の光学部材の下面に配置される例えばリング状のノズルヘッドを含む局所液浸機構（不図示）から、投影光学系ＰＬの先端の光学部材とウエハＷとの間の局所的な液浸領域に所定の液体（純水等）が供給される。その局所液浸機構としては、例えば米国特許出願公開第２００７／２４２２４７号明細書等に開示されている液浸機構を使用できる。なお、露光装置ＥＸがドライ型である場合には、その液浸機構を備える必要はない。

また、ローダ室１０ｂの内部において、上方の支持台６７の上面にレチクルライブラリ９及び水平多関節型ロボットであるレチクルローダ８が設置されている。レチクルローダ８は、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｒで開閉される開口を通して、レチクルライブラリ９とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルＲの交換を行う。
また、ローダ室１０ｂの内部において、下方の支持台６８の上面にウエハカセット７と、ウエハカセット７との間でウエハの出し入れを行う水平多関節型ロボット６ａとが設置されている。水平多関節型ロボット６ａの上方には、水平多関節型ロボット６ａとともにウエハローダ６を構成するウエハ搬送装置６ｂが設置されている。ウエハ搬送装置６ｂは、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｗで開閉される開口を通して、水平多関節型ロボット６ａとウエハステージＷＳＴとの間でウエハＷを搬送する。

そして、露光装置ＥＸの露光時には、先ずレチクルＲ及びウエハＷのアライメントが行われる。その後、レチクルＲへの露光光ＥＬの照射を開始して、投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンの一部の像をウエハＷの表面の一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを投影光学系ＰＬの投影倍率βを速度比としてＹ方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。その後、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷの全部のショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。

次に、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳの照明特性（照度均一性等）及び投影光学系の結像特性（解像度等）を所定の状態に維持し、かつレチクルＲ、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷが設置される雰囲気（空間）を所定の環境に維持して高い露光精度（解像度、位置決め精度等）で露光を行うために、上述のように、チャンバ１０の内部に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する空調装置３０を含む全体空調システムを備えている。

また、その全体空調システムは局所空調部を備えている。即ち、第２ダクト３５の分岐管３５ｂ及び３５ａからそれぞれサブチャンバ２２の底面の吹き出し部１９Ｒ、及び光学系フレーム１６の底面の吹き出し部１９Ｗに温度制御された清浄な空気が供給されている。この場合、吹き出し部１９Ｒ及び１９Ｗは、それぞれレチクルステージＲＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹ及びウエハステージＷＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹの計測用ビームの光路上に配置されている。吹き出し部１９Ｒ，１９Ｗは、それぞれ温度制御された空気を、ほぼ均一な風速分布で計測用ビームの光路上にダウンフロー方式（又はサイドフロー方式でもよい）で吹き出す。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計の計測用ビームの光路にも温度制御された空気が局所的に供給される。これによって、レチクル干渉計２１Ｒ及びウエハ干渉計２１Ｗ等によってレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴの位置を高精度に計測できる。

また、ローダ室１０ｂ内に局所空調装置６０が設置されている。局所空調装置６０は、支持台６８の底面に配置された小型のファンモータ６１と、ファンモータ６１で送風された空気を上部に供給するダクト６２と、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７の上方に配置された吹き出し口６５及び６６とを備えている。ダクト６２の先端部はそれぞれ吹き出し口６５及び６６に空気を供給する分岐管６２Ｒ及び６２Ｗに分かれている。また、吹き出し口６５及び６６の空気の流入口の近傍にそれぞれＵＬＰＡフィルタ等の防塵フィルタが設置され、ファンモータ６１の近傍のダクト６２内に、所定の不純物を除去するケミカルフィルタを収納するフィルタボックス６３，６４が設置されている。一例として、フィルタボックス６３のケミカルフィルタは、有機系ガス（有機物のガス）を除去し、フィルタボックス６４のケミカルフィルタは、アルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去する。

ローダ室１０ｂ内で局所空調装置６０を動作させると、ファンモータ６１から送風された空気は、フィルタボックス６３，６４及びダクト６２を介して吹き出し口６５及び６６からそれぞれダウンフロー方式でレチクルライブラリ９及びウエハカセット７が配置された空間に供給される。そして、レチクルライブラリ９の周囲を流れた空気は、支持台６７の周囲、支持台６７の下方のウエハカセット７の周囲、及び支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。また、吹き出し口６６からウエハカセット７の周囲に供給された空気は、支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。そして、ファンモータ６１に戻された空気は、再びフィルタボックス６３，６４及び防塵フィルタを介して吹き出し口６５，６６からローダ室１０ｂ内に供給される。このように、局所空調装置６０によって、ローダ室１０ｂ内の空気は清浄な状態に保たれる。

次に、本実施形態の全体空調システムにおいて、空調装置３０に連結されるフィルタ装置２６の構成につき説明する。フィルタ装置２６は、Ｚ方向に細長い箱状のケーシング２８と、ケーシング２８内の空間を上部から４個の空間Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４に分ける仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃと、を有する。さらに、フィルタ装置２６は、上段の仕切り板４２Ａの上面（空間Ｓ１内）に積み重ねて設置される２段の複数の第１のフィルタボックス３８と、中段の仕切り板４２Ｂの上面（空間Ｓ２内）に積み重ねて設置される２段の複数の第２のフィルタボックス４０（図２参照）と、下段の仕切り板４２Ｃの上面（空間Ｓ３内）に積み重ねて設置される２段の複数の第１のフィルタボックス３８とを有する。なお、空間Ｓ１〜Ｓ３内に設置されるフィルタボックス３８，４０の個数は任意であり、例えば空間Ｓ１及びＳ２内にそれぞれ一つのフィルタボックス３８及び４０を設置するのみでもよく、さらに空間Ｓ３（仕切り板４２Ｃ）は省略することも可能である。

図２及び図３は、それぞれ図１中のフィルタ装置２６の概略構成を示す。なお、ケーシング２８の内部構成を見やすくするため、図２及び図３では、ケーシング２８等を２点鎖線で表すとともに、図２では、図３中の対応する部材の一部の図示が省略されている。図２において、フィルタ装置２６は、フィルタボックス３８，４０の交換時に、ケーシング２８の上記の３個の空間Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３の窓部２８ｄ，２８ｅ，２８ｆを開くために、それぞれ複数箇所のヒンジ機構（不図示）を介して開閉可能に装着された３つのドア２９Ａ，２９Ｂ，２９Ｃを有する。ドア２９Ａ〜２９Ｃにより閉鎖されるケーシング２８の窓部側をケーシングの前面２８ｊと称し、ケーシング２８の前面２８ｊとは反対側（奥行側）の面を背面２８ｋと称し、ケーシング２８の前面２８ｊと背面２８ｋとを側方から連結している−Ｙ方向側及び＋Ｙ方向側の面をそれぞれ側面２８ｇ，２８ｈと称する。ケーシング２８の上板２８ｃには、Ｘ方向に所定間隔で、外部から空調用の空気ＡＲを取り込むための円筒状の取り込み部２８ａ，２８ｂが連結され、空気ＡＲは、取り込み部２８ａ，２８ｂを通してケーシング２８の上段の空間Ｓ１内に流入する。なお、取り込み部２８ａ，２８ｂにそれぞれダクト（不図示）を連結し、これらのダクトを介して例えば室外の空気を取り込むようにしてもよい。

図２のケーシング２８の内部において、最上段の仕切り板４２Ａの上面にＸ方向に２個で、かつＺ方向に２段に互いに密着するように積み重ねられた４個のフィルタボックス３８、及び最下段の仕切り板４２Ｃの上面にＸ方向に２個で、かつＺ方向に２段に互いに密着するように積み重ねられた４個のフィルタボックス３８は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５０内に有機系ガス（有機物のガス）を除去するケミカルフィルタ５１を保持したものである。フレーム５０の−Ｙ方向及び＋Ｙ方向の側面にそれぞれＸ方向に細長い平板状のレール部５２Ａ及び５２Ｂ（図５（Ａ）参照）が、フレーム５０の底面から互いに異なる高さで固定されている。一例として、フレーム５０の底面に対して、レール部５２Ａはレール部５２Ｂよりも高い位置に固定されている（図４（Ａ）参照）。

また、中段の仕切り板４２Ｂの上面にＸ方向に２個で、かつＺ方向に２段に互いに密着するように積み重ねられた４個のフィルタボックス４０は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５５内にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去するケミカルフィルタ５６を保持したものである。フレーム５５の−Ｙ方向及び＋Ｙ方向の側面にもそれぞれＸ方向に細長い平板状のレール部５７Ａ及び５７Ｂ（図５（Ｂ）参照）が、フレーム５５の底面から互いに異なる高さで固定されている。一例として、フィルタボックス３８の場合とは逆に、フレーム５５の底面に対して、レール部５７Ａはレール部５７Ｂよりも低い位置に固定されている（図４（Ａ）参照）。

本実施形態では、フレーム５０及び５５の形状は互いに同一であるが、レール部５２Ａ，５７Ｂの載置面（例えば仕切り板４２Ａ，４２Ｂの上面）からの高さｈ１に対して、レール部５２Ｂ，５７Ａの載置面（例えば仕切り板４２Ａ，４２Ｂ）からの高さｈ２（図４（Ａ）参照）は低く設定されている。各フィルタボックス３８，４０の高さは、一例として１２５〜２００ｍｍであり、各フィルタボックス３８，４０の重量は、一例として１０〜２０ｋｇ程度である。

有機系ガス除去用のケミカルフィルタ５１としては、例えば活性炭型フィルタ又はセラミックス型フィルタ等が使用可能である。また、アルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のケミカルフィルタ５６としては、添着剤活性炭型フィルタ、イオン交換樹脂型フィルタ、イオン交換繊維型フィルタ、又は添着剤セラミックス型フィルタ等を使用することができる。また、フレーム５０，５５、レール部５２Ａ，５７Ａ等、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃ、ケーシング２８、及びドア２９Ａ〜２９Ｃは、それぞれ耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えば表面に酸化皮膜（酸化アルミニウム等）が形成されたアルミニウム（アルマイト処理されたアルミニウム）、又はステンレス鋼等から形成されている。なお、フレーム５０，５５等は、耐食性があり脱ガスの少ない樹脂材料を含む材料（ポリエチレンで覆った合板、又はフッ素系樹脂等）等で形成することも可能である。

なお、有機系ガスを除去することで、チャンバ１０の露光室１０ａ内で露光光ＥＬの透過率が向上し、かつ有機系ガスと露光光ＥＬとの相互作用によって光学素子に表面に形成される曇り物質の発生が抑制される。また、アルカリ系ガス及び酸性ガスを除去することによって、図１のチャンバ１０内のウエハＷのフォトレジストの特性の変化等が抑制される。特に、フォトレジストが化学増幅型フォトレジストである場合には、空気中にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスがあると、発生した酸が反応してフォトレジスト表面に難溶化層ができる恐れがある。従って、特にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスの除去が有効である。

なお、図１のローダ室１０ｂ内のフィルタボックス６３，６４内のケミカルフィルタの構成は、ケミカルフィルタ５１，５６の構成と同様である。ただし、フィルタボックス６３，６４はフィルタボックス３８，４０よりも小型である。
また、図２において、仕切り板４２Ａの上方のケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈ及び背面２８ｋの内面に沿って、かつＺ方向に所定間隔で互いに同じ形状の第１及び第２のガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂが配置されている。ガイドレール部材４８Ａ及び４８Ｂは、図３に示すように、それぞれＹ方向にフィルタボックス３８のＹ方向の幅よりも広い間隔で配置されるとともに、Ｘ方向に平行に伸びた２つの細長い平板状のレール部４８Ａ１，４８Ａ２及び４８Ｂ１，４８Ｂ２と、これらのレール部４８Ａ１，４８Ａ２及び４８Ｂ１，４８Ｂ２の−Ｘ方向の端部を連結するＹ方向に細長い平板状の連結部４８Ａ３，４８Ｂ３と、を有する。ただし、本実施形態では、フィルタボックス３８の−Ｙ方向のレール部５２Ａの高さ（Ｚ方向の位置）が、＋Ｙ方向のレール部５２Ｂよりも高く設定されているため、−Ｙ方向のレール部４８Ａ１，４８Ｂ１の高さは、これらに連結されている＋Ｙ方向のレール部４８Ａ２，４８Ｂ２の高さより高く設定されている。レール部４８Ａ１，４８Ａ２及び４８Ｂ１，４８Ｂ２の＋Ｘ方向の端部に対向するように、ケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈ内に、それぞれガイドレール部材４８Ａ及び４８Ｂを＋Ｘ方向（ケーシング２８内のフィルタボックス３８を引き出す方向）に対して反時計回りに例えば４５度で交差する方向（以下、駆動方向と称する。）に移動させるための２組の駆動部７４Ａ及び７４Ｂが設けられている（詳細後述）。

ケーシング２８内の仕切り板４２Ａ上に１段目及び２段目の２つのフィルタボックス３８を順次設置する際、及びケーシング２８からそれらのフィルタボックス３８を取り出す際に、ガイドレール部材４８Ａ及び４８Ｂのレール部４８Ａ１，４８Ａ２及び４８Ｂ１，４８Ｂ２は、それぞれ１段目及び２段目のフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２ＢをＸ方向に円滑に移動させるとともに、フィルタボックス３８のフレーム５０のＹ方向の位置決めを行うために使用される。さらに、ガイドレール部材４８Ａ及び４８Ｂの連結部４８Ａ３，４８Ｂ３は、それぞれ１段目及び２段目のフィルタボックス３８のＸ方向の位置決めを行うために使用される。仕切り板４２Ａ上に載置された状態の１段目の２つのフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂは、１番目のガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２の上面に接触し、仕切り板４２Ａ上で１段目の２つのフィルタボックス３８の上面に載置される２段目の２つのフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂは、２番目のガイドレール部材４８Ｂのレール部４８Ｂ１，４８Ｂ２の上面に接触し、１段目及び２段目の１番目（−Ｘ方向側）のフィルタボックス３８のフレーム５０の−Ｘ方向の面（背面）は、それぞれ連結部４８Ａ３，４８Ｂ３に接触した状態になっている。なお、１段目及び２段目のフィルタボックス３８は、それぞれ仕切り板４２Ａ及び１段目のフィルタボックス３８の上面に対して自重によって固定されている。

同様に、図３において、仕切り板４２Ｂ上の１段目及び２段目のフィルタボックス４０のＸ方向への移動を円滑に行い、Ｘ方向及びＹ方向の位置決めを行うために、仕切り板４２Ｂの上方のケーシング２８の内面に沿って、かつＺ方向に所定間隔で、ガイドレール部材４８Ａと同じ形状の第１及び第２のガイドレール部材４９Ａ，４９Ｂが配置されている。そして、ケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈ内に、それぞれガイドレール部材４９Ａ及び４９Ｂを上記の駆動方向に移動させるための２組の駆動部７４Ａ及び７４Ｂが設けられている。ただし、フィルタボックス４０の−Ｙ方向のレール部５７Ａの高さは、＋Ｙ方向のレール部５７Ｂ（図４（Ａ）参照）よりも低く設定されているため、ガイドレール部材４９Ａ，４９Ｂの−Ｙ方向のレール部の高さは、＋Ｙ方向のレール部よりも低く設定されている。

また、仕切り板４２Ｃ上の１段目及び２段目のフィルタボックス３８のＸ方向への移動を円滑に行い、Ｘ方向及びＹ方向の位置決めを行うために、仕切り板４２Ｃの上方のケーシング２８の内面に沿って、かつＺ方向に所定間隔で、ガイドレール部材４８Ａと同じ形状の第１及び第２のガイドレール部材４８Ｃ，４８Ｄが配置されている。そして、ケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈ内に、それぞれガイドレール部材４８Ｃ及び４８Ｄを上記の駆動方向に移動させるための２組の駆動部７４Ａ及び７４Ｂが設けられている。ガイドレール部材４８Ａ等は、仕切り板４２Ａ等と同様の耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えばアルマイト処理されたアルミニウム又はステンレス鋼等から形成できる。ガイドレール部材４８Ａ等は、１本の細長いレール状部材を折り曲げて形成してもよいが、連結部４８Ａ３の両端にレール部４８Ａ１，４８Ａ２を溶接又はネジ止め等で固定して形成してもよい。

また、ガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２のＹ方向の間隔は、フィルタボックス３８のフレーム５０のＹ方向の幅よりも広く、かつフレーム５０の＋Ｙ方向の側面から−Ｙ方向のレール部５２Ａの外面までの幅（フレーム５０の−Ｙ方向の側面から＋Ｙ方向のレール部５２Ｂの外面までの幅と等しい）よりも狭く設定されている（図４（Ａ）参照）。このため、フィルタボックス３８をレール部４８Ａ１，４８Ａ２に沿って確実にＸ方向に移動させることができる。これはガイドレール部材４９Ａに関しても同様である。

また、フィルタボックス３８及び４０の＋Ｘ方向の面（前面）のＹ方向に離れた２箇所に、フィルタボックス３８，４０の交換時等に作業者が手を掛けるための凹部よりなる取っ手部７０が取り付けられている。
本実施形態では、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さが異なり、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さが、レール部５２Ａ，５２Ｂとは逆方向に異なっており、これに応じて仕切り板４２Ａ（又は４２Ｃ）に対するガイドレール部材４８Ａ（又は４８Ｂ，４８Ｃ，４８Ｄ）のレール部４８Ａ１，４８Ａ２の高さが異なるとともに、仕切り板４２Ｂに対するガイドレール部材４９Ａ（又は４９Ｂ）の２つのレール部の高さが逆方向に異なっている。このため、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上にアルカリ系ガス及び酸性ガスを除去するためのケミカルフィルタ５６を有するフィルタボックス４０を設置することが防止され、逆に仕切り板４２Ｂ上に有機系ガスを除去するためのケミカルフィルタ５１を有するフィルタボックス３８を設置することが防止されている。
なお、上述したフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂは、少なくともガイドレール部材４８Ａ、４８Ｂに接触可能なレール部５２Ａ，５２Ｂの底面の高さが異なっていればよく、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂに接触しないレール部５２Ａ，５２Ｂの上面（上記した底面とは反対の面）の高さは必ずしも異なっていなくともよい。また、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さについても、同様に少なくともガイドレール部材４９Ａ，４９Ｂに接触可能なレール部５２Ａ，５２Ｂの底面の高さが異なっていればよい。

また、図２において、ケーシング２８のドア２９Ａ，２９Ｂ，２９Ｃには、それぞれドア２９Ａ〜２９Ｃでケーシング２８の窓部２８ｄ〜２８ｆを閉じたときに、窓部２８ｄ〜２８ｆの周辺とドア２９Ａ〜２９Ｃとの間を密閉するためのガスケット４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃが固定されている。ガスケット４６Ａ〜４６Ｃは、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。

次に、図４（Ａ）は、図２のフィルタ装置２６のケーシング２８を正面（前面）から見て、かつ前面側のフィルタボックス３８，４０等を断面で表した図である。図４（Ａ）において、仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃにはそれぞれフィルタボックス３８，４０を通過した空気ＡＲを通すためのＸ方向に離れて配置された２箇所の互いに同じ形状の開口４２Ａａ，４２Ａｂ（図３参照）、４２Ｂａ，４２Ｂｂ、及び４２Ｃａ，４２Ｃｂが形成されている。開口４２Ａａ，４２Ａｂ（又は４２Ｃａ，４２Ｃｂ）及び４２Ｂａ，４２Ｂｂの中心と、これらを覆うように載置されるそれぞれ２つのフィルタボックス３８及び４０の底面の開口の中心とはほぼ一致している。なお、図３では、開口４２Ａａ，４２Ａｂは円形であるが、開口４２Ａａ，４２Ａｂ等は矩形又は正方形であってもよい。

また、フィルタボックス３８及び４０のそれぞれの矩形の枠状のフレーム５０及び５５の底面には、それぞれ載置面（仕切り板４２Ａ等の上面、又は１段目のフレーム５０，５５の上面）との間の気密性を高めるための矩形の枠状のガスケット５４が固定されている。ガスケット５４の開口は、対応するフィルタボックス３８，４０が載置される面の開口４２Ａａ，４２Ａｂ（又は４２Ｃａ，４２Ｃｂ）及び４２Ｂａ，４２Ｂｂを囲むことができる大きさに設定されるとともに、ガスケット５４の大きさは、フィルタボックス３８，４０の矩形の枠状のフレーム５０，５５の上端の外側の輪郭及び内側の輪郭の間に収まるように設定されている。このため、１段目のフィルタボックス３８，４０の上に２段目のフィルタボックス３８，４０を積み重ねたときに、２段目のフィルタボックス３８，４０のガスケット５４が、１断面目のフィルタボックス３８，４０のケミカルフィルタ５１，５６側にはみ出ることがない。

ガスケット５４は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。なお、ガスケット５４の材料は、図２のガスケット４６Ａ，４６Ｂ，４６Ｃの材料と同様であってもよい。
また、仕切り板４２Ｃの底面に開口４２Ｃａ，４２Ｃｂを囲むように、一例として断面が円形（矩形等でもよい）の分岐ダクト部３２ａ，３２ｂが設けられ、分岐ダクト部３２ａ，３２ｂとケーシング２８の側面２８ｇの開口２８ｉとを連結する合流部３２ｃ（図２参照）が設けられ、開口２８ｉを覆うように図２の第１ダクト３２が連結されている。なお、一例として、フィルタボックス３８，４０の交換中に第１ダクト３２に不純物を含んだ気体が流入しないように、分岐ダクト部３２ａ，３２ｂに気体の流路を開閉するシャッタ機構を設けてもよい。

図４（Ａ）のフィルタ装置２６において、ケーシング２８のドア２９Ａ〜２９Ｃ（図２参照）が閉じているときに、ケーシング２８の取り込み部２８ａ，２８ｂが設けられた上板２８ｃと仕切り板４２Ａとで挟まれた空間Ｓ１内の気体は、それぞれ２段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ａａ，４２Ａｂを通って、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた空間Ｓ２に流入する。そして、空間Ｓ２内の気体は、必ずそれぞれ２段のフィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６を通過した後、開口４２Ｂａ，４２Ｂｂを通って、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた空間Ｓ３に流入する。同様に、空間Ｓ３内の気体は、それぞれ２段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ｃａ，４２Ｃｂ、分岐ダクト部３２ａ，３２ｂ、及び合流部３２ｃを通って、図２の第１ダクト３２に流れる。従って、ケーシング２８の上部の取り込み部２８ａ，２８ｂから流入する空気ＡＲは、必ず２段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８、２段のアルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のフィルタボックス４０、及び２段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８を通過して図１の空調装置３０に供給されるため、チャンバ１０内には不純物を高度に除去した空気が供給される。

また、図４において、ガイドレール部材４８Ａ〜４８Ｄ，４９Ａ，４９Ｂは、それぞれケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈに対してＸ方向に離れた２箇所でボルト７２によって上記の移動方向に沿って移動可能に支持されている。ガイドレール部材４８Ａ〜４８Ｄ，４９Ａ，４９Ｂの支持方法は互いに同じであるため、代表的にガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂの支持方法につき説明する。

図６（Ａ）及び（Ｂ）、図８（Ａ）及び（Ｂ）、並びに図９（Ａ）〜図９（Ｃ）は、それぞれ図４のケーシング２８内の上板２８ｃと仕切り板４２Ａとの間に配置されている部材の配置を示す。図６（Ａ）において、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂの一方のレール部４８Ａ１，４８Ｂ１のＸ方向の両端部にそれぞれ＋Ｘ方向に対して反時計回りにほぼ４５度で傾斜した方向に細長い２つの長穴４８Ａ１ａ，４８Ａ１ｂ及び４８Ｂ１ａ，４８Ｂ１ｂが形成され、これらの長穴４８Ａ１ａ，４８Ａ１ｂ及び４８Ｂ１ａ，４８Ｂ１ｂを介してボルト７２によってレール部４８Ａ１，４８Ｂ１がケーシング２８の側面２８ｇ（図４（Ａ）参照）に支持されている。

また、図６（Ｃ）のレール部４８Ｂ１の長穴４８Ｂ１ａで示すように、レール部４８Ｂ１の長穴４８Ｂ１ａの周囲のフィルタボックス３８に対向する面に、レール部４８Ｂ１の厚さのほぼ１／２程度の深さの座グリ部Ｃ６ａが形成され、長穴４８Ｂ１ａにボルト７２の軸部が挿通され、座グリ部Ｃ６ａにボルト７２の直径の大きいヘッド部Ｃ６ｂが設置されている（図４（Ａ）参照）。そして、ボルト７２の先端の、軸部よりも直径の小さいネジ部が側面２８ｇのネジ穴に固定されている。他の長穴４８Ａ１ａ，４８Ａ１ｂ，４８Ｂ１ｂも同様にボルト７２によって支持されているため、レール部４８Ａ１，４８Ｂ１はそれぞれ長穴４８Ａ１ａ，４８Ａ１ｂ及び４８Ｂ１ａ，４８Ｂ１ｂに沿って平行移動可能である。同様に、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂの他方のレール部４８Ａ２，４８Ｂ２（図３参照）も、それぞれレール部４８Ａ１，４８Ｂ１と対称に長穴（不図示）を介してボルト７２によってケーシング２８の側面２８ｈに支持されている。このため、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂは、それぞれ全体として長穴４８Ａ１ａ等の長手方向に沿って移動可能に支持されている。

また、図６（Ａ）において、レール部４８Ａ１，４８Ｂ１の＋Ｘ方向の端部に対向するように、ケーシング２８の側面２８ｇ（図４（Ａ）参照）に互いに同一構成の駆動部７４Ａが設置されている。図６（Ｃ）に示すように、一方のレール部４８Ｂ１の＋Ｘ方向の端部に矩形の開口４８Ｂ１ｃが形成され、その端部に開口４８Ｂ１ｃを通るようにＸ方向に平行にネジ部４８Ｂ１ｄ及び４８Ｂ１ｅが形成されている。そして、駆動部７４Ａは、ケーシング２８の側面２８ｇにＺ方向に離れた２箇所でボルト８０によって固定された固定部７６と、固定部７６に設けられたＺ方向に細長い長穴７６ａ（図４（Ｂ）参照）に挿通された軸部を有する六角穴付きのボルト７８と、を有する。ボルト７８の先端のネジ部７８ａは、レール部４８Ｂ１のネジ部４８Ｂ１ｄ，４８Ｂ１ｅ（又はネジ部４８Ｂ１ｄのみ）に螺合しており、この状態でボルト７８は長穴７６ａに沿ってＺ方向に移動可能である。

このため、図６（Ｄ）に示すように、駆動部７４Ａのボルト７８を締めていき、ボルト７８のヘッド部７８ｂが固定部７６に接触してからもさらにボルト７８を締めると、レール部４８Ｂ１が固定部７６側に近づいて来る。この際に、レール部４８Ｂ１は長穴４８Ｂ１ａに沿った方向である移動方向Ｂ２に移動し、フィルタボックス３８のガスケット５４は載置面ＭＰ（ここでは１段目のフィルタボックス３８の上面）から離脱し、ボルト７８のヘッド部７８ｂは長穴７６ａに沿ってＺ方向Ｂ３に移動する。そして、レール部４８Ｂ１の先端が固定部７６に接触した時点で、レール部４８Ｂ１は停止する。同様に、レール部４８Ａ１においても対応する駆動部７４Ａのボルト７８を締めることによって、レール部４８Ａ１を長穴４８Ａ１ａ，４８Ａ１ｂに沿ってその移動方向に移動できる。

また、図４（Ａ）において、仕切り板４２Ａの上方の側面２８ｈに固定した２箇所の駆動部７４Ｂ（駆動部７４Ａと対称に構成されている）によって、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂのレール部４８Ａ２，４８Ｂ２をそれぞれその移動方向に移動できる。実際には、２箇所の駆動部７４Ａ，７４Ｂによってほぼ同時にレール部４８Ａ１，４８Ｂ１をその移動方向に移動するか、又は一方の駆動部７４Ａによってレール部４８Ａ１（又は４８Ｂ１）を所定量その移動方向に移動する作業と、他方の駆動部７４Ｂによってレール部４８Ａ２（又は４８Ｂ２）を所定量その移動方向に移動する作業とを交互に繰り返すことによって、ガイドレール部材４８Ａ（又は４８Ｂ）を全体としてその移動方向に容易に移動させて、フィルタボックス３８のガスケット５４を載置面から容易に離脱させることができる。仕切り板４２Ｂ上のガイドレール部材４９Ａ，４９Ｂ、及び仕切り板４２Ｃ上のガイドレール部材４８Ｃ，４８Ｄも、同様に図３に示す駆動部７４Ａ，７４Ｂによってその移動方向に移動することができる。

なお、図６（Ａ）に示すように、駆動部７４Ａのボルト７８を緩めて、ボルト７８のヘッド部７８ｂが固定部７６から離れた状態では、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂはそれぞれフィルタボックス３８の荷重によって−Ｚ方向に付勢されて、長穴４８Ａ１ａ，４８Ｂ１ｂ等に沿って下方に（移動方向Ｂ２と逆方向に）移動している。この際に、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂの移動方向Ｂ２と逆方向の移動ストロークには余裕があるため、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂからフィルタボックス３８側には力はほとんど作用しない。このため、各フィルタボックス３８は自重によって安定に載置面に載置される。

次に、図５（Ａ）及び（Ｂ）を参照してフィルタボックス３８及び４０の構成につき説明する。図５（Ａ）及び（Ｂ）における座標系（Ｘ，Ｙ，Ｚ）は、フィルタボックス３８，４０を図２のケーシング２８内に設置したときの座標系である。図５（Ａ）に示すように、フィルタボックス３８のフレーム５０について、ケーシング２８内に挿入されたときにケーシング２８のドア２９Ａ〜２９Ｃ（図２参照）に対向する面をフレーム５０の前面５０ａ（第１面）、ケーシング２８の背面２８ｋに対向する面をフレーム５０の背面５０ｂ（第２面）、ケーシング２８の側面２８ｇ，２８ｈに対向する面をフレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄ（第３及び第４面）と称する。このため、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄは、前面５０ａ及び背面５０ｂに対して直交している。ただし、前面５０ａ及び背面５０ｂの少なくとも一方が、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄに垂直な面（ＺＹ面）に対してＹ軸に平行な軸の回りに傾斜していてもよい。一例として、フレーム５０は、Ｙ方向の幅（側面５０ｃ，５０ｄの間隔）がＸ方向の幅よりもわずかに広い矩形の枠状である。なお、図５（Ａ）においては、説明の便宜上、フレーム５０のＹ方向の幅がＸ方向の幅よりも狭いように、かつレール部５２Ａ，５２ＢのＺ方向の幅がフレーム５０の高さに対して大きめに表現されている（図５（Ｂ）のフレーム５５及びレール部５７Ａ，５７Ｂについても同様）。

また、フレーム５０の前面５０ａと背面５０ｂに対して上側（気体が流入する方向）の端面を上面５０ｆ、上面５０ｆに対向する端面を底面５０ｅと称する。後述する図５（Ｂ）のフィルタボックス４０のフレーム５５の各面５５ａ〜５５ｆについても、フィルタボックス３８のフレーム５０の各面５０ａ〜５０ｆと同様にして特定する。互いに同じ形状のフレーム５０及び５５内にはそれぞれケミカルフィルタ５１及び５６が充填され、フレーム５０及び５５の前面５０ａ及び５５ａには２つの取っ手部７０が取り付けられ、フレーム５０及び５５の底面５０ｅ及び５５ｅにはそれぞれ矩形の枠状のガスケット５４が装着されている。

図５（Ａ）に示すように、フィルタボックス３８のフレーム５０の一対の側面５０ｃ，５０ｄには、ガスケット５４の底面から高さｈ１及びｈ２の位置に、それぞれ背面５０ｂ側からＸ方向に平行に平板状のレール部５２Ａ，５２Ｂが、Ｘ方向に配列された複数（図５（Ａ）では２個）のボルト７３によって固定されている。レール部５２Ａ，５２ＢのＺ方向の幅は、フレーム５０の高さの１／５〜１／１０程度である。なお、上記した高さｈ１およびｈ２は必ずしもガスケット５４の底面から計測する必要はなく、例えばガスケット５４が設けられない場合にはフレーム５０の底面５０ｅを基準とした高さとしてもよい。

レール部５２Ａ，５２Ｂの−Ｘ方向の端部は、ほぼ背面５０ｂと同じ位置か、又は背面５０ｂよりもわずかに前面５０ｅ側にずれた位置にある。また、レール部５２Ａ，５２ＢのＸ方向の長さＬ２は、フレーム５０のＸ方向の幅Ｌ１（前面５０ａと背面５０ｂとの間隔）に対して１／２を超えて、かつ幅Ｌ１の４／５程度以下に設定されている。従って、レール部５２Ａ，５２Ｂの＋Ｘ方向の端部は、フィルタボックス３８の重心Ｇの位置よりも前面５０ａ側にずれた位置にある。このため、フィルタボックス３８をケーシング２８内に収容する際、又はケーシング２８から取り出す際に、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂを、例えば図３のガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２に載置して、レール部４８Ａ１，４８Ａ２に沿ってフィルタボックス３８を安定にＸ方向に移動できる。

また、フレーム５０の側面５０ｃには、レール部５２Ａを固定するためのボルト７３用の複数のネジ穴５０ｃ２の他に、ネジ穴５０ｃ２等よりも底面５０ｅ側にずれた位置に複数のネジ穴５０ｃ１が形成されている。そして、フレーム５０の側面５０ｄには、側面５０ｃの複数のネジ穴と対称に、レール部５２Ｂを固定するためのボルト７３用の複数のネジ穴（不図示）、及びこれらのネジ穴よりも上面５０ｆ側にずれた位置の複数のネジ穴（不図示）が形成されている。

図５（Ｂ）に示すように、フィルタボックス４０のフレーム５５の一対の側面５５ｃ，５５ｄには、ガスケット５４の底面から高さｈ２及びｈ１の位置に、それぞれ背面５５ｂ側からＸ方向に平行にレール部５２Ａ，５２Ｂと同じ形状のレール部５７Ａ，５７Ｂが、Ｘ方向に配列された複数（図５（Ｂ）では２個）のボルト７３によって固定されている。高さｈ１とｈ２との差は、一例としてレール部５２Ａ（５７Ａ）のＺ方向の幅程度である。フィルタボックス４０とフィルタボックス３８との外形上の相違は、レール部５７Ａ，５７Ｂの高さの差（＝ｈ２−ｈ１）の符号がレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差（＝ｈ１−ｈ２）の符号と逆になっている点のみである。また、フレーム５５の側面５５ｃ，５５ｄには、レール部５７Ａ，５７Ｂを固定するためのボルト７３用の複数のネジ穴５５ｃ１等の他に、ネジ穴５５ｃ１等よりも上面５５ｆ又は底面５５ｅ側にずれた位置にある複数のネジ穴５０ｃ２等が形成されている。

この場合、フレーム５５のネジ穴５５ｃ２の底面５５ｅからの高さは、フレーム５０のネジ穴５０ｃ２の底面５０ｅからの高さと同じであり、フレーム５５のネジ穴５５ｃ１の底面５５ｅからの高さは、フレーム５０のネジ穴５０ｃ１の底面５０ｅからの高さと同じに設定されている。このため、仮にフレーム５０内にケミカルフィルタ５６を充填し、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄのネジ穴５０ｃ１等を介してボルト７３によってレール部５２Ａ，５２Ｂを、レール部５２Ａの方がレール部５２Ｂより低くなるように固定することで、ケミカルフィルタ５６が充填されたフレーム５０をフィルタボックス４０として使用することができる。逆に、仮にフレーム５５内にケミカルフィルタ５１を充填し、フレーム５５の側面５５ｃ，５５ｄのネジ穴５０ｃ２等を介してボルト７３によってレール部５７Ａ，５７Ｂを、レール部５７Ａの方がレール部５７Ｂより高くなるように固定することで、ケミカルフィルタ５１が充填されたフレーム５５をフィルタボックス３８として使用することができる。

ここで、フィルタボックス３８，４０の製造方法の一例につき図７（Ｂ）のフローチャートを参照して説明する。まず、ステップ１３０において、作業者（不図示）は図５（Ａ）のフィルタボックス３８のフレーム５０から使用済みのケミカルフィルタ５１を取り出し、フレーム５０に未使用のケミカルフィルタ５１又は５６を充填する（ステップ１３２）。そして、レール部５２Ａ，５２Ｂの位置が正しいかどうかを確認する（ステップ１３４）。このとき、充填されたフィルタがケミカルフィルタ５１である場合には、レール部５２Ａ，５２Ｂの位置（高さｈ１及びｈ２）が正しいため、フィルタボックス３８が正しく製造されたことになる。一方、充填されたフィルタがケミカルフィルタ５６である場合には、レール部５２Ａ，５２Ｂの位置が異なっているため、動作はステップ１３６に移行する。そして、作業者は、ボルト７３を緩めてレール部５２Ａ，５２Ｂをフレーム５０から取り外した後、ネジ穴５０ｃ１等を用いてレール部５２Ａ，５２Ｂを高さｈ２及びｈ１になるようにフレーム５０に取り付ける。これによって、レール部５２Ａ，５２Ｂのガスケット５４の底面からの高さは、ケミカルフィルタ５６用の高さに変更されるため、製造されたフィルタボックスは図５（Ｂ）のフィルタボックス４０として使用できる。

このフィルタボックスの製造方法によれば、レール部５２Ａ，５２Ｂ（又は５７Ａ，５７Ｂ）の位置を変更するのみで、同じフレーム５０（又は５５）を用いてフィルタボックス３８又は４０を効率的に製造できる。
次に、図２のケーシング２８の空間Ｓ１〜Ｓ３内のフィルタボックス３８，４０を交換する動作の一例につき図７（Ａ）のフローチャートを参照して説明する。

この際に、図１の空調装置３０の動作は停止しているものとする。まず、図７（Ａ）のステップ１０２において、図６（Ａ）に示すように、作業者（不図示）は仕切り板４２Ａの上面である上段の空間Ｓ１を閉じているドア２９Ａを開く。そして、図６（Ｂ）に示すように、作業者は、上段の第２のガイドレール部材４８Ｂ用の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（図３参照）のボルト７８を締めていき、ガイドレール部材４８Ｂを移動方向Ｂ２に引き上げて、２段目の使用済みの２つのフィルタボックス３８のガスケット５４を１段目のフィルタボックス３８の上面から離脱させる。その後、ステップ１０４において、作業者は、２段目のドア２９Ａ側（第２）のフィルタボックス３８の取っ手部７０（図３参照）に手を掛けて、そのフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂをガイドレール部材４８Ｂのレール部４８Ｂ１，４８Ｂ２の上面に沿って滑らせて、そのフィルタボックス３８をケーシング２８の外に取り出す。その後、図８（Ａ）に示すように、作業者は、２段目の奥側（第１）のフィルタボックス３８をレール部４８Ｂ１，４８Ｂ２の上面に沿って＋Ｘ方向に滑らせた後、方向Ｂ４に沿ってフィルタボックス３８をケーシング２８の外に取り出す。

次のステップ１０６において、作業者は、上段の第１のガイドレール部材４８Ａ用の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（図３参照）のボルト７８を締めていき、ガイドレール部材４８Ａを移動方向Ｂ２に引き上げて、１段目の使用済みの２つのフィルタボックス３８のガスケット５４を仕切り板４２Ａの上面から離脱させる。その後、ステップ１０８において、ステップ１０４と同様に、図８（Ｂ）に示すように作業者は、１段目の第２及び第１のフィルタボックス３８をガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２の上面に沿って＋Ｘ方向に滑らせた後、順次、方向Ｂ６に沿ってフィルタボックス３８をケーシング２８の外に取り出す。

次のステップ１１０において、作業者は、図９（Ａ）に示すように、第１及び第２のガイドレール部材４８Ａ用の２対の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（図３参照）のボルト７８（駆動用ボルト）を緩めて、各ボルト７８のネジ部７８ａの先端部をレール部４８Ｂ１等の開口４８Ｂ１ｃ内まで移動する（図６（Ｃ）参照）。この際に図９（Ａ）に示すように、各ボルト７８のヘッド部７８ｂの先端部は、ドア２９Ａによって閉じられる空間Ｓ１の前面ＤＰよりも＋Ｘ方向（ケーシング２８の外側の方向）に突き出ている。このようにヘッド部７８ｂの先端部を前面ＤＰよりも＋Ｘ方向の位置、すなわちドア２９Ａが完全に閉まらなくなる位置まで移動することによって、後述のように、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂを上記の移動方向の逆方向に沿って必要な位置まで降下させることができる。
なお、以下では、図５（Ａ）及び（Ｂ）において、未使用のケミカルフィルタ５１（又は５６）が充填されたフレーム５０（又は５５）を有するフィルタボックス３８（又は４０）を交換用のフィルタボックスと称する。

次のステップ１１０において、作業者は、図９（Ａ）及び図３に示すように、１段目の１番目の交換用のフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂをガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２の上面に載置し、矢印Ｂ７で示すように、レール部５２Ａ，５２Ｂをレール部４８Ａ１，４８Ａ２に沿って−Ｘ方向に滑らせて、フィルタボックス３８のフレーム５０の背面５０ｂ（図５（Ａ）参照）をガイドレール部材４８Ａの連結部４８Ａ３に接触させる。

続いて、ステップ１１２において、作業者は、図９（Ｂ）に２点鎖線で示す１段目の２番目の交換用のフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂを、矢印Ｂ８で示すようにレール部４８Ａ１，４８Ａ２に沿って−Ｘ方向に滑らせて、このフィルタボックス３８のフレーム５０の背面５０ｂ（図５（Ａ）参照）を１番目のフィルタボックス３８のフレーム５０に接触させる。
次のステップ１１４において、作業者は、図９（Ｂ）の状態から、第１のガイドレール部材４８Ａ用の１対の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（図３参照）のボルト７８（駆動用ボルト）を緩める。これによって、２つのフィルタボックス３８の荷重によってガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２がそれぞれ長穴４８Ａ１ａ等に沿って、図６（Ｂ）の移動方向Ｂ２と逆の方向（以下、設置方向という。）Ｂ９に移動し、駆動部７４Ａのボルト７８が固定部７６に沿って矢印Ｂ１１で示すように−Ｚ方向に移動する。そして、図９（Ｃ）に示すように、１段目の２つのフィルタボックス３８は、それぞれのガスケット５４がそれぞれ仕切り板４２Ａの上面に密着する状態で、自重によって仕切り板４２Ａ上に安定に設置される。この状態では、ガイドレール部材４８Ａからフィルタボックス３８に対する力はほとんど作用していない。この際に、２つのフィルタボックス３８が仕切り板４２Ａにより密着するように、作業者が２つのフィルタボックス３８を−Ｚ方向に押さえてもよい。また、駆動部７４Ａのボルト７８のヘッド部は固定部７６から＋Ｘ方向に離れた位置にある。

次のステップ１１６において、ステップ１１０，１１２と同様に、図９（Ｃ）に矢印Ｂ１２で示すように、２段目の１番目及び２番目のフィルタボックス３８を順次ガイドレール部材４８Ｂに沿って−Ｘ方向に移動して、ガイドレール部材４８Ｂ上に２つのフィルタボックス３８を載置する。
次のステップ１１８において、作業者は、第２のガイドレール部材４８Ｂ用の１対の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（図３参照）のボルト７８を緩める。これによって、２つのフィルタボックス３８の荷重によってガイドレール部材４８Ｂのレール部４８Ｂ１，４８Ｂ２がそれぞれ長穴４８Ｂ１ａ等に沿って設置方向に移動し、駆動部７４Ａのボルト７８が固定部７６に沿って−Ｚ方向に移動する。そして、図６（Ｃ）に示すように、２段目の２つのフィルタボックス３８は、それぞれのガスケット５４がそれぞれ１段目のフィルタボックス３８の上面に密着する状態で、１段目の２つのフィルタボックス３８の上面に設置される。

次のステップ１２０において、ステップ１０２〜１１８と同様の動作を繰り返して、図３の仕切り板４２Ｂ上（中段）及び仕切り板４２Ｃ（下段）のそれぞれ２段のフィルタボックス４０，３８を交換用のフィルタボックス４０，３８で交換する。その後、図２のドア２９Ａ〜２９Ｃを閉じて、フィルタ装置２６及び空調装置３０を用いてチャンバ１０内の空調を開始し（ステップ１２２）、露光装置ＥＸによる露光を行う（ステップ１２４）。
このフィルタボックスの交換方法によれば、ケーシング２８内へのフィルタボックス３８，４０の設置時、及びケーシング２８からのフィルタボックス３８，４０の取り出し時に、フィルタボックス３８のフレーム５０及び５５のレール部５２Ａ，５２Ｂ及び５７Ａ，５７Ｂをそれぞれケーシング２８内のガイドレール部材４８Ａ〜４８Ｄ及び４９Ａ，４９Ｂに沿って移動することで、フィルタボックス３８，４０の設置及び取り出しを効率的に行うことができる。さらに、フィルタボックス３８の設置時に、フィルタボックス３８のフレーム５０を例えばガイドレール部材４８Ａのレール部４８Ａ１，４８Ａ２及び連結部４８Ａ３に沿って位置決めすることで、フィルタボックス３８のケーシング２８内での位置決めを容易に、かつ正確に行うことができる。これはフィルタボックス４０についても同様である。

上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは、フィルタ装置２６及び空調装置３０を含む全体空調システムを備えている。そして、フィルタ装置２６は、ケミカルフィルタ５１（フィルタ）を収容するフィルタボックス３８と、フィルタボックス３８を収容する箱状のケーシング２８（収容部）と、ケーシング２８の内面に設けられた凸状のガイドレール部材４８Ａ（載置部）とを備えている。また、フィルタボックス３８は、ケミカルフィルタ５１を保持する枠状のフレーム５０と、フレーム５０の底面５０ｅからの高さが互いに異なるように、そのフレームの少なくとも２つの側面５０ｃ，５０ｄ（端面）にそれぞれ設けられたレール部５２Ａ，５２Ｂ（突起部）と、を備えている。

本実施形態によれば、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂをケーシング２８に設けられたガイドレール部材４８Ａ（レール部４８Ａ１，４８Ａ２）に沿って相対的に移動することによって、フィルタボックス３８のケーシング２８に対する設置及びケーシング２８からの搬出、ひいてはケミカルフィルタ５１の交換を効率的に行うことができるとともに、交換後のケミカルフィルタ５１の位置決めを容易に行うことができる。
なお、フィルタボックス３８のケーシング２８内への設置時には、フィルタボックス３８の突起部（例えばレール部５２Ａ，５２Ｂ）を対応する部材に沿って摺動させることなく、その突起部を上方から対応する部材に載置してもよい。

また、別の種類のケミカルフィルタ５６を収容するフィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂ（突起部）の高さの差と、ケミカルフィルタ５１を収容するフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差とが異なっているため、フィルタボックス３８及び４０（ケミカルフィルタ５１及び５６）を誤った位置に設置することを防止できる。

また、本実施形態のフィルタボックス３８は、ケミカルフィルタ５１を保持するフレーム５０と、フレーム５０の上面５０ｆ及び底面５０ｅのうち、底面５０ｅに設けられた枠状のガスケット５４（シール部材）と、を有し、フレーム５０の上面５０ｆ及び底面５０ｅの間の対向する２つの側面５０ｃ，５０ｄに、それぞれ底面５０ｅにほぼ平行に配置された１対の凸の摺動部としてのレール部５２Ａ，５２Ｂが設けられている。また、ケーシング２８の内面に、フレーム５０の底面５０ｅが載置される仕切り板４２Ａと、仕切り板４２Ａの上面にフレーム５０を載置する際に、フレーム５０の１対のレール部５２Ａ，５２Ｂの仕切り板４２Ａの上面に平行な方向の移動を案内するための、それぞれ仕切り板４２Ａの上面に平行な１対の凸の案内部としてのレール部４８Ａ１，４８Ａ２と、が設けられている。

本実施形態によれば、フレーム５０のレール部５２Ａ，５２Ｂをレール部４８Ａ１，４８Ａ２に接触させて、レール部５２Ａ，５２Ｂをレール部４８Ａ１，４８Ａ２に対して相対的に移動することによって、フィルタボックス３８のケーシング２８内へ設置した状態で、ガスケット５４によってフィルタボックス３８と仕切り板４２Ａとの間が密封される。このため、ケーシング２８内の全部の気体がフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過し、高精度に不純物を除去できる。

また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷ（基板）を露光する露光装置において、ウエハＷを露光する露光本体部４を収容するチャンバ１０と、本実施形態のフィルタ装置２６と、チャンバ１０の外部から取り込まれた空気をフィルタ装置２６を介してチャンバ１０内に送風する空調装置３０と、を備えている。

本実施形態によれば、フィルタ装置２６においてフィルタボックス３８，４０の交換を効率的に行うことができるため、露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができ、かつチャンバ１０内の空気の不純物を高精度に除去できる。
なお、本実施形態において、ローダ室１０ｂ内の局所空調装置６０のフィルタボックス６３，６４のフレームとしても、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５と同様のレール部５２Ａ等が設けられたフレームを使用し、フィルタボックス６３，６４を、ケーシング２８内のレール部４８Ａ１，４８Ａ２（ガイドレール部材４８Ａ）等と同様のガイド部材を備えたケーシングに収容してもよい。

なお、上記の実施形態では以下のような変形が可能である。
まず、上記の実施形態では、例えば図５（Ａ）のフィルタボックス３８のフレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄのレール部５２Ａ，５２Ｂはそれぞれ一つの平板状である。これに対して、レール部５２Ａ（レール部５２Ｂも同様）の代わりに、側面５０ｃのＸ方向に離れた２箇所（３箇所以上でもよい）にそれぞれＸ方向に沿って固定された短い平板状部材（底面５０ｅからの距離が互いにほぼ等しい少なくとも２つの部分）を使用してもよい。

また、レール部５２Ａ（レール部５２Ｂも同様）の代わりに、側面５０ｃのＸ方向に離れた２箇所（３箇所以上でもよい）にそれぞれ回転可能に設けられた回転体を使用してもよい。
また、フレーム５０のレール部５２Ａ，５２Ｂの底面（ガイドレール部材４８Ａに接触する部分）は、直線状ではなく、例えば所定周期の複数の円弧状になっていてもよい。

また、上記の実施形態では、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差の符号と、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さの差の符号が逆であるが、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差の絶対値と、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さの絶対値とは異なっていてもよい。
また、例えばフィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差の符号と、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さの差の符号とが同じで、かつフィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さの差の絶対値と、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さの差の絶対値とが異なっていてもよい。

なお、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂの高さを同じ高さ（例えばｈ１）に設定し、フィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂの高さを互いに同じで、レール部５２Ａ，５２Ｂの高さと異なる高さ（例えばｈ２）に設定してもよい。この場合には、ガイドレール部材４８Ａ及び４９Ａ等を対応する高さに設定することで、フィルタボックス３８，４０を互いに誤った位置に設置することを防止できる。さらに、フィルタボックス３８，４０の外形形状を互いに同じ形状としてもよい。この場合には、例えばケミカルフィルタ５１，５６（又はフレーム５０，５５）に識別可能なラベルを付すること等によって、フィルタボックス３８，４０を識別してもよい。

また、フィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１（濾材）は、その中を通過する気体中の有機系ガス（有機物）を除去し、フィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６（濾材）は、その中を通過する気体中のアルカリ性ガス及び酸性ガスを除去しているため、露光本体部４が収納されるチャンバ１０内に不純物が高度に除去された空気を供給できる。

なお、フィルタボックス４０内のフィルタは、例えばその中を通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去するフィルタでもよい。
また、フィルタボックス３８，４０内のフィルタとしては、ケミカルフィルタ以外の任意のフィルタ（濾材）を使用できる。例えば、フィルタボックス３８，４０のフィルタとしては、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタのような微小な粒子（パーティクル）を除去するための防塵フィルタを用いることも可能である。

さらに、本実施形態のフィルタ装置２６には、全部で２列で４段のフィルタボックス３８及び２列で２段のフィルタボックス４０が設置されているが、フィルタボックス３８の個数は任意であり、フィルタボックス４０の個数も任意である。また、フィルタ装置２６には、一つ若しくは複数段のフィルタボックス３８、又は一つ若しくは複数段のフィルタボックス４０を設置するのみでもよい。

また、フィルタ装置２６のケーシング２８は仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで複数の空間に仕切られているが、ケーシング２８内を仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで仕切ることなく、単にフィルタボックス３８及び４０を例えば交互に積み重ねることも可能である。
また、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す変形例のように、ケーシング２８の内面の駆動部７４Ａ，７４Ｂ（又はガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂ）の上方に、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂが通過可能な間隔を隔てて凸の部材７４Ａ’及び７４Ｂ’を設けてもよい。また、他のフィルタボックス４０のレール部５７Ａ，５７Ｂに対応するケーシング２８の内面にもそれぞれ、レール部５７Ａ，５７Ｂが通過可能な間隔を隔てて凸の部材７４Ａ’及び７４Ｂ’を設けてもよい。この場合、ガイドレール部材４８Ａ，４８Ｂ等が上下方向（Ｚ方向）に移動するため、部材７４Ａ’及び７４Ｂ’もそれぞれＺ方向に移動可能としてもよい。フィルタボックス３８をケーシング２８内に収容する際には、フィルタボックス３８のレール部５２Ａ，５２Ｂがそれぞれ駆動部７４Ａ，７４Ｂと部材７４Ａ’，７４Ｂ’との間を通過するようにフィルタボックス３８を差し込むことで、フィルタボックス３８を容易に設置できる。フィルタボックス４０についても同様である。

また、上記の実施形態の露光装置ＥＸを用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図１１に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板（感応基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。

従って、このデバイス製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理すること（ステップ２２４）とを含んでいる。その露光装置によれば、メンテナンスコストを低減でき、露光精度を向上できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
なお、上記の実施形態では、空調用の気体として空気が使用されているが、その代わりに窒素ガス若しくは希ガス（ヘリウム、ネオン等）、又はこれらの気体の混合気体等を使用してもよい。

また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型（ステッパー型）の投影露光装置を用いて露光する場合にも適用することが可能である。
また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式やコンタクト方式の露光装置等で露光を行う際にも適用できる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Microelectromechanical Systems：微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。

このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。

ＥＸ…露光装置、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、４…露光本体部、１０…チャンバ、２６…フィルタ装置、２８…ケーシング、３０…主空調装置、３８，４０…フィルタボックス、４２Ａ〜４２Ｃ…仕切り板、４８Ａ〜４８Ｄ，４９Ａ，４９Ｂ…ガイドレール部材、５０，５５…フレーム、５１，５６…ケミカルフィルタ、５２Ａ，５２Ｂ，５７Ａ，５７Ｂ…レール部、６０…局所空調装置、７０…取っ手部

Claims (17)

1. フィルタを収容するフィルタボックスであって、
   前記フィルタを保持するフレームと、
   前記フレームの底部からの高さが互いに異なるように、前記フレームの少なくとも２つの端面にそれぞれ設けられた突起部と、を備え、
   前記フィルタボックスを対応する収容部に収容する際に前記収容部に対向する前記フレームの背面側における、前記フレームに設けられた前記突起部の端部は、前記背面と同じ位置にあり、
   前記突起部の、前記フレームの前記背面に対向する前面側の端部は、前記フレームの重心位置と前記前面との間の位置にあるフィルタボックス。
2. 前記突起部の、前記フレームの前記底部からの高さは、前記フィルタの種類に応じて互いに異なる請求項１に記載のフィルタボックス。
3. 前記フレームの前記突起部が設けられる端面に、前記底部に平行に複数列の複数のねじ穴部が形成された請求項１または２に記載のフィルタボックス。
4. 前記突起部の底面は、前記収容部の支持部と接触可能であって、
   前記突起部のそれぞれの、前記底面の高さは互いに異なる請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
5. 前記突起部は、それぞれ前記フレームの前記端面に平行な方向を長手方向とする平板状部材である請求項１〜４のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
6. 前記フレームに設けられた取っ手部を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
7. 前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中の有機物を除去する請求項１〜６のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
8. 前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去する請求項１〜７のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
9. フィルタを収容するフィルタ装置であって、
   請求項１〜８のいずれか一項に記載のフィルタボックスと、
   前記フィルタボックスを収容する箱状の収容部と、を備え、
   前記収容部の内面に、前記収容部の支持部の上面に前記フレームを載置する際に、前記突起部が接触する凸状の載置部が設けられたフィルタ装置。
10. 前記収容部に、
    前記フレームを前記支持部の上面に載置する際に、前記載置部の前記支持部からの高さを下げて、前記載置部を前記突起部から離すための高さ調節機構が設けられた請求項９に記載のフィルタ装置。
11. 前記載置部はそれぞれ前記支持部の上面に平行な方向を長手方向とする平板状部材であり、
    前記高さ調節機構は、
    前記載置部の長手方向の両端部にそれぞれ設けられて、前記支持部の上面の法線方向に対して斜めの方向に細長い２つの長穴部と、
    ２組の２つの前記長穴部にそれぞれ係合するとともに、前記支持部の上面からの高さが同じ位置に設けられた２つのピン部材と、
    前記載置部の２つの前記長穴部がそれぞれ２つの前記ピン部材に係合している状態で、１対の前記載置部を前記支持部の上面に平行な方向に移動させる２つの駆動部と、を有する請求項１０に記載のフィルタ装置。
12. 前記収容部は、
    前記支持部の上面に前記フィルタボックスを載置する際に前記フィルタボックスが通過する窓部と、
    前記窓部の開閉を行う開閉部と、を有し、
    前記載置部が前記フレームの前記突起部から離れていない状態で、２つの前記駆動部の少なくとも一部が前記開閉部と機械的に干渉する請求項１１に記載のフィルタ装置。
13. 前記収容部内で、前記載置部の前記フレームが出し入れされる側の端部に対向する側の端部を連結する連結部材が設けられ、
    前記連結部材によって、前記フレームの前記支持部の上面に平行な方向の位置決めを行う請求項９〜１２のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
14. 前記載置部の前記支持部からの高さは、前記フィルタの種類に応じて互いに異なっているとともに、
    前記フィルタボックスの前記突起部の前記フレームの前記底部からの高さは、対応する前記載置部の高さに応じて互いに異なる請求項９〜１３のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
15. 請求項１〜８のいずれか一項に記載のフィルタボックスの製造方法であって、
    前記フィルタボックスの前記フレームから使用済みの前記フィルタを取り出すことと、
    前記フレームに未使用の前記フィルタを充填することと、
    充填された前記フィルタの種類に応じて、前記フレームに設けられた前記突起部の前記フレームの前記底部からの高さを調整することと、
    を含むフィルタボックスの製造方法。
16. 露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、
    前記基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、
    請求項９〜１４のいずれか一項に記載のフィルタ装置と、
    前記チャンバの外部から取り込まれた気体を、前記フィルタ装置を介して前記チャンバ内に送風する空調装置と、
    を備える露光装置。
17. 請求項１６に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
    前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。

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