JP2012238682A - フィルタボックス、フィルタ装置、及び露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フィルタの交換を効率的に、かつ高い位置決め精度で行う。
【解決手段】ケミカルフィルタ５１を保持するフィルタボックス３８であって、ケミカルフィルタ５１を保持するフレーム５０と、フレーム５０の側面５０ｃに形成された案内溝５２と、側面５０ｃに交差する背面５０ｂに設けられた凹部３９Ａ，３９Ｂと、を備える。案内溝５２は、側面５０ｃの上端と下端との間に配置され、かつフレーム５０の側面５０ｃの側端に連通する第１溝部５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端に向かって延びる第２溝部５２ｂとを有する。
【選択図】図４

Description

本発明は、例えば気体中の不純物等を除去するためのフィルタを保持するフィルタボックス、このフィルタボックスを備える露光装置、及びこの露光装置を用いて例えば半導体素子、液晶表示素子、又は撮像素子等を製造するためのデバイス製造方法に関する。

例えば半導体素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するためのリソグラフィー工程で使用される露光装置において、高い露光精度（解像度及び位置決め精度等）を得るためには、照明光学系の照明特性及び投影光学系の結像特性を所定の状態に維持し、かつレチクル（又はフォトマスク等）、投影光学系、及びウエハ（又はガラスプレート等）が設置される空間を所定の環境に維持する必要がある。そのため、従来より、露光装置の照明光学系の一部、レチクルステージ、投影光学系、及びウエハステージ等を含む露光本体部は、箱型のチャンバ内に設置され、このチャンバ内に、所定温度に制御されて、かつ防塵フィルタを通過した清浄な気体（例えば空気）をダウンフロー方式及びサイドフロー方式で供給する空調装置が備えられている。

また、露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められており、最近では、露光光としてＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、及びさらにほぼ真空紫外域のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）が使用されている。このような短波長の露光光を用いる場合、露光光が通過する空間（例えば、鏡筒の内部空間）内に微量な有機物のガス（有機系ガス）が存在すると、露光光の透過率が低下するとともに、露光光と有機系ガスとの反応によって、レンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる恐れがある。さらに、チャンバ内に供給する気体からは、ウエハに塗布されたフォトレジスト（感光材料）と反応するアルカリ性物質のガス（アルカリ系ガス）等も除去することが望ましい。

そこで、従来より、露光装置の空調装置の気体の取り込み部には、チャンバ内に供給される気体から有機系ガス及び／又はアルカリ系ガス等を除去するための複数のケミカルフィルタが設けられている（例えば、特許文献１参照）。

国際公開第２００４／１０８２５２号パンフレット

従来の露光装置においては、複数のケミカルフィルタをケーシング内に位置決めしながら積み重ねていた。そのため、それらのケミカルフィルタを交換する際には、使用済みのケミカルフィルタを順次搬出してから、未使用のケミカルフィルタを互いに位置合わせしながら積み重ねて設置する必要があった。そのため、ケミカルフィルタの交換時間が長くなったり、複数のケミカルフィルタ間で位置ずれが生じ、ケミカルフィルタ間の気密性が低下したりする恐れがあった。

さらに、露光装置においては、要求される露光精度の一層の向上に対応して、設置するケミカルフィルタの段数が増加しているため、ケミカルフィルタの交換を効率的に行う必要がある。
本発明は、このような事情に鑑み、フィルタの交換を効率的に、又は容易に位置決めできるように行うことを目的とする。

第１の態様によれば、フィルタを保持するフィルタボックスが提供される。このフィルタボックスは、そのフィルタを保持するフレームと、そのフレームの少なくとも一方の側面に設けられた凹凸形成部と、そのフレームのその凹凸形成部が形成された側面に交差する交差面に設けられた陥没部と、を備え、その凹凸形成部は、そのフレームのその少なくとも一方の側面の上端と下端との間に配置され、かつその少なくとも一方の側面のうちその交差面側の側端に連通する第１凹部と、その第１凹部に連通し、かつそのフレームの上端に向かって延びる第２凹部と、を有するものである。

また、第２の態様によれば、フィルタを保持するフィルタボックスを収納するフィルタ装置が提供される。このフィルタ装置は、本発明のフィルタボックスと、前記フィルタボックスを収納するケースと、前記ケースに設けられて、前記フィルタボックスの前記フレームの前記交差面に設けられた前記陥没部に係合する凸の位置決め部材と、前記ケースの一部に設けられて、前記フィルタボックスの前記フレームの少なくとも一方の側面に形成された前記凹凸形成部に係合する案内部材と、を備えるものである。

また、第３の態様によれば、露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置が提供される。この露光装置は、その基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、本発明の少なくとも一つのフィルタボックスと、そのチャンバの外部から取り込まれた気体をそのフィルタボックスを介してそのチャンバ内に送風する空調装置と、を備えるものである。

また、第４の態様によれば、本発明の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

本発明によれば、例えばフィルタボックスを収納する容器側に凸部及び位置決め部材を設けておき、フレームの側面に設けられた凹凸形成部の凹部に沿ってその凸部が凹部に対して相対的に移動するように、そのフレームを移動し、かつそのフレームの陥没部とその位置決め部材との係合及び離脱を行うことによって、そのフィルタボックスのその容器に対する設置及びその容器からの搬出を効率的に、又は正確に行うことができる。従って、フィルタボックス、ひいてはその中のフィルタの交換を効率的に、又は容易に位置決めできるように行うことができる。

第１の実施形態の露光装置の構成を示す一部が切り欠かれた図である。 図１のフィルタ装置２６を示す斜視図である。 図２のフィルタ装置２６を示す一部が切り欠かれた正面図である。 （Ａ）は図３中のフィルタボックス３８を示す斜視図、（Ｂ）はフィルタボックス３８を示す側面図、（Ｃ）は図３中のフィルタボックス４０を示す斜視図、（Ｄ）はフィルタボックス４０を示す側面図である。 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）はそれぞれフィルタボックス３８とケーシング２８との相対位置の変化を示す斜視図である。 （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）はそれぞれフィルタボックス４０とケーシング２８との相対位置の変化を示す斜視図である。 （Ａ）は変形例のフィルタボックス３８Ａを示す斜視図、（Ｂ）はフィルタボックス３８Ａを示す側面図、（Ｃ）は変形例のフィルタボックス４０Ａを示す斜視図、（Ｄ）はフィルタボックス４０Ａを示す側面図である。 電子デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。

以下、実施形態の一例につき図１〜図６を参照して説明する。
図１は、本実施形態の露光装置ＥＸを示す。露光装置ＥＸは、一例としてスキャニングステッパー（スキャナー）よりなる走査露光型の露光装置（投影露光装置）である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光（露光用の照明光）ＥＬを発生する光源部２と、露光光ＥＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をフォトレジスト（感光材料）が塗布されたウエハＷ（基板）の表面に投影する投影光学系ＰＬとを備えている。さらに、露光装置ＥＸは、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、その他の駆動機構及びセンサ類等と、複数枚のレチクルを保管するレチクルライブラリ９と、複数枚の未露光及び／又は露光済みのウエハを保管するウエハカセット７と、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御する主制御装置（不図示）とを備えている。これらの光源部２から主制御装置（不図示）までの部材は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の第１の床ＦＬ１の上面に設置されている。

また、露光装置ＥＸは、床ＦＬ１上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ１０を備え、チャンバ１０の内部は、例えばシャッタ２４Ｒ及び２４Ｗで開閉される２つの開口を有する仕切り部材１０ｄによって、露光室１０ａとローダ室１０ｂとに区画されている。そして、露光室１０ａ内に、照明光学系ＩＬＳ、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及びウエハステージＷＳＴを含む露光本体部４が設置され、ローダ室１０ｂ内に、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７をそれぞれ含むレチクルローダ系及びウエハローダ系が設置されている。

また、露光装置ＥＸは、チャンバ１０の内部全体の空調を行うための全体空調システムを備えている。この全体空調システムは、第１の床ＦＬ１の階下の機械室の第２の床ＦＬ２の上面に設置されて、積み重ねられた複数のケミカルフィルタを有するフィルタ装置２６と、床ＦＬ２の上面に設置された空調本体部３１を有する空調装置３０と、露光室１０ａの上部に設置された大型の吹き出し口１８と、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２の底面に配置された小型の吹き出し口１９Ｒと、投影光学系ＰＬの近傍に配置された小型の吹き出し口１９Ｗとを備えている。フィルタ装置２６は、配管２５を介して供給される空調用の気体である空気ＡＲから所定の不純物を除去し、不純物を除去した空気を矢印Ａ１で示すように第１ダクト３２を介して空調本体部３１に供給する（詳細後述）。

空調装置３０は、第１ダクト３２と、空調本体部３１と、空調本体部３１とチャンバ１０の内部とを床ＦＬ１に設けられた開口を通して連結する第２ダクト３５と、例えば第２ダクト３５の途中に配置されて、内部を流れる空気から微小な粒子（パーティクル）を除去するＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air-filter）等の防塵フィルタ３６とを備えている。ダクト３２，３５及び配管２５は、例えばステンレス鋼又はフッ素樹脂など、汚染物質の発生量の少ない材料を用いて形成されている。

空調本体部３１は、第１ダクト３２を介して供給される空気の温度を制御する温度制御部３３Ａと、その空気の湿度を制御する湿度制御部３３Ｂと、その空気を第２ダクト３５側に送風するファンモータ３４とを備えている。その空気は、温度が２０℃〜３０℃の範囲内の例えば２３℃に制御されて、第２ダクト３５及び吹き出し口１８を介して露光室１０ａの内部にダウンフロー方式で供給される。チャンバ１０の内部は、この空気の供給によって陽圧状態に設定される。また、第２ダクト３５内の空気は、分岐管３５ａ及び３５ｂと、対応する吹き出し口１９Ｗ及び吹き出し口１９Ｒとを介して露光室１０ａ内に供給される。露光室１０ａ内の空気の一部はローダ室１０ｂにも流入する。

一例として、チャンバ１０の内部（露光室１０ａ）を流れた空気は、チャンバ１０の底面に設けられた多数の開口４５ａ及び床ＦＬ１に設けられた多数の開口４５ｂを通して床下の排気ダクト４４内に流れ、排気ダクト４４内の空気は、不図示のフィルタを介して清浄化された後、排気される。なお、排気ダクト４４に流れた空気の全部又は一部を配管２５側に戻して再利用することも可能である。

以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面（本実施形態ではほぼ水平面に平行である）内で図１の紙面に垂直にＸ軸を、図１の紙面に平行にＹ軸を取って説明する。本実施形態では、走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ方向である。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの回転方向をθｘ、θｙ、θｚ方向とも呼ぶ。

先ず、チャンバ１０の外側の床ＦＬ１上に設置された光源部２は、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を発生する露光光源と、その露光光ＥＬを照明光学系ＩＬＳに導くビーム送光光学系とを備えている。光源部２の露光光ＥＬの射出端は、チャンバ１０の＋Ｙ方向の側面上部の開口を通して露光室１０ａ内に配置されている。なお、露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ光源（波長２４８ｎｍ）などの紫外パルスレーザ光源、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプ（ｉ線等）なども使用できる。

また、チャンバ１０内の上部に配置された照明光学系ＩＬＳは、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド、及びコンデンサ光学系等を備えている。照明光学系ＩＬＳは、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲのパターン面のＸ方向に細長いスリット状の照明領域を露光光ＥＬによりほぼ均一な照度で照明する。

レチクルＲに形成されたパターン領域のうち、照明領域内のパターンの像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率（例えば１／４）の投影光学系ＰＬを介してウエハＷの表面に結像投影される。
また、チャンバ１０の露光室１０ａ内の床ＦＬ１上に、複数の台座１１を介して下部フレーム１２が設置され、下部フレーム１２の中央部に平板状のベース部材１３が固定され、ベース部材１３上に例えば３箇所の防振台１４を介して平板状のウエハベースＷＢが支持され、ウエハベースＷＢのＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがＸ方向、Ｙ方向に移動可能に、かつθｚ方向に回転可能に載置されている。また、下部フレーム１２の上端に、ウエハベースＷＢを囲むように配置された例えば３箇所の防振台１５を介して光学系フレーム１６が支持されている。光学系フレーム１６の中央部の開口に投影光学系ＰＬが配置され、光学系フレーム１６上に投影光学系ＰＬを囲むように上部フレーム１７が固定されている。

また、光学系フレーム１６の底面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹが固定され、その底面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるウエハ干渉計は、それぞれウエハステージＷＳＴの側面の反射面（又は移動鏡）に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

主制御装置（不図示）内のステージ制御系が、上記のウエハ干渉計の計測値及びオートフォーカスセンサ（不図示）の計測値等に基づいて、リニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置及び速度とθｚ方向の回転角とを制御するとともに、ウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に合焦されるように、ウエハステージＷＳＴ内のＺステージ（不図示）を制御する。また、レチクルＲ及びウエハＷのアライメントを行うためのアライメント系ＡＬＧ等も設けられている。

一方、上部フレーム１７の＋Ｙ方向の上部に、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２が固定されている。さらに、上部フレーム１７のＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介して、レチクルステージＲＳＴがＹ方向に定速移動可能に、かつＸ方向への移動及びθｚへの回転が可能に載置されている。
また、上部フレーム１７の上面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹが固定され、その上面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるレチクル干渉計は、それぞれレチクルステージＲＳＴに設けられた移動鏡２１ＭＹ等に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、レチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ、θｘ、θｙ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

主制御装置（不図示）内のステージ制御系は、そのレチクル干渉計の計測値等に基づいてリニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してレチクルステージＲＳＴのＹ方向の速度及び位置、Ｘ方向の位置、並びにθｚ方向の回転角等を制御する。
また、本実施形態の露光装置ＥＸが液浸型である場合には、投影光学系ＰＬの下端の光学部材の下面に配置される例えばリング状のノズルヘッドを含む局所液浸機構（不図示）から、投影光学系ＰＬの先端の光学部材とウエハＷとの間の局所的な液浸領域に所定の液体（純水等）が供給される。その局所液浸機構としては、例えば米国特許出願公開第２００７／２４２２４７号明細書等に開示されている液浸機構を使用できる。なお、露光装置ＥＸがドライ型である場合には、その液浸機構を備える必要はない。

また、ローダ室１０ｂの内部において、上方の支持台６７の上面にレチクルライブラリ９及び水平多関節型ロボットであるレチクルローダ８が設置されている。レチクルローダ８は、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｒで開閉される開口を通して、レチクルライブラリ９とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルＲの交換を行う。
また、ローダ室１０ｂの内部において、下方の支持台６８の上面にウエハカセット７と、ウエハカセット７との間でウエハの出し入れを行う水平多関節型ロボット６ａとが設置されている。水平多関節型ロボット６ａの上方には、水平多関節型ロボット６ａとともにウエハローダ６を構成するウエハ搬送装置６ｂが設置されている。ウエハ搬送装置６ｂは、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｗで開閉される開口を通して、水平多関節型ロボット６ａとウエハステージＷＳＴとの間でウエハＷを搬送する。

そして、露光装置ＥＸの露光時には、先ずレチクルＲ及びウエハＷのアライメントが行われる。その後、レチクルＲへの露光光ＥＬの照射を開始して、投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンの一部の像をウエハＷの表面の一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを投影光学系ＰＬの投影倍率βを速度比としてＹ方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。その後、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷの全部のショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。

次に、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳの照明特性（照度均一性等）及び投影光学系の結像特性（解像度等）を所定の状態に維持し、かつレチクルＲ、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷが設置される雰囲気（空間）を所定の環境に維持して高い露光精度（解像度、位置決め精度等）で露光を行うために、上述のように、チャンバ１０の内部に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する空調装置３０を含む全体空調システムを備えている。

また、その全体空調システムは局所空調部を備えている。即ち、第２ダクト３５の分岐管３５ｂ及び３５ａからそれぞれサブチャンバ２２の底面の吹き出し部１９Ｒ、及び光学系フレーム１６の底面の吹き出し部１９Ｗに温度制御された清浄な空気が供給されている。この場合、吹き出し部１９Ｒ及び１９Ｗは、それぞれレチクルステージＲＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹ及びウエハステージＷＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹの計測用ビームの光路上に配置されている。吹き出し部１９Ｒ，１９Ｗは、それぞれ温度制御された空気を、ほぼ均一な風速分布で計測用ビームの光路上にダウンフロー方式（又はサイドフロー方式でもよい）で吹き出す。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計の計測用ビームの光路にも温度制御された空気が局所的に供給される。これによって、レチクル干渉計２１Ｒ及びウエハ干渉計２１Ｗ等によってレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴの位置を高精度に計測できる。

また、ローダ室１０ｂ内に局所空調装置６０が設置されている。局所空調装置６０は、支持台６８の底面に配置された小型のファンモータ６１と、ファンモータ６１で送風された空気を上部に供給するダクト６２と、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７の上方に配置された吹き出し口６５及び６６とを備えている。ダクト６２の先端部はそれぞれ吹き出し口６５及び６６に空気を供給する分岐管６２Ｒ及び６２Ｗに分かれている。また、吹き出し口６５及び６６の空気の流入口の近傍にそれぞれＵＬＰＡフィルタ等の防塵フィルタが設置され、ファンモータ６１の近傍のダクト６２内に、所定の不純物を除去するケミカルフィルタを収納するフィルタボックス６３，６４が設置されている。一例として、フィルタボックス６３のケミカルフィルタは、有機系ガス（有機物のガス）を除去し、フィルタボックス６４のケミカルフィルタは、アルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去する。

ローダ室１０ｂ内で局所空調装置６０を動作させると、ファンモータ６１から送風された空気は、フィルタボックス６３，６４及びダクト６２を介して吹き出し口６５及び６６からそれぞれダウンフロー方式でレチクルライブラリ９及びウエハカセット７が配置された空間に供給される。そして、レチクルライブラリ９の周囲を流れた空気は、支持台６７の周囲、支持台６７の下方のウエハカセット７の周囲、及び支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。また、吹き出し口６６からウエハカセット７の周囲に供給された空気は、支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。そして、ファンモータ６１に戻された空気は、再びフィルタボックス６３，６４及び防塵フィルタを介して吹き出し口６５，６６からローダ室１０ｂ内に供給される。このように、局所空調装置６０によって、ローダ室１０ｄ内の空気は清浄な状態に保たれる。

次に、本実施形態の全体空調システムにおいて、空調装置３０に連結されるフィルタ装置２６の構成及び作用につき説明する。フィルタ装置２６は、細長い箱状のケーシング２８と、ケーシング２８内の空間を４個の空間に分ける仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃと、仕切り板４２Ａの上面に積み重ねて設置される３段の第１のフィルタボックス３８と、仕切り板４２Ｂの上面に積み重ねて設置される３段の第２のフィルタボックス４０と、仕切り板４２Ｃの上面に積み重ねて設置される３段の第１のフィルタボックス３８とを有する。

図２は、図１中のケーシング２８のドア２９を開いた状態のフィルタ装置２６を示す。また、図３は、図２のケーシング２８を正面（前面）から見て、かつ一部を切り欠いた図である。図２において、説明の便宜上、ケーシング２８及びドア２９は２点鎖線で表している。図２において、本実施形態におけるケーシング２８は、Ｚ方向（鉛直方向）に細長い形状をしており、ケーシング２８内の空間は、Ｚ方向に４個の空間、すなわち、ケーシング２８の上板２８ｉと仕切り板４２Ｃとで挟まれた第１空間２８ｃ、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた第２空間２８ｄ、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた第３空間２８ｅ及び仕切り板４２Ａとケーシング２８の底板２８ｈで挟まれた第４空間２８ｆに分けられている。さらに、フィルタ装置２６は、フィルタボックス３８，４０の交換時に、フィルタボックス３８，４０を出し入れするための窓部を開くために、ケーシング２８に複数箇所のヒンジ機構（不図示）を介して開閉可能に装着されたドア２９を有する。ドア２９により閉鎖されるケーシング２８の窓部側をケーシングの前面２８ｋと称し、ケーシング２８の窓部とは反対側（奥行側）をケーシングの背面２８ｊと称し、ケーシング２８の前面２８ｋと背面２８ｊを側方から接続している２つの面を側面２８ｍ、２８ｎと称する。ケーシング２８の上板２８ｉには、開口２８ａが形成されており、この上板２８ｉに空調用の空気ＡＲを取り込む図１の配管２５の端部が固定され、ケーシング２８の最下部の第４空間２８ｆに図１の第１ダクト３２が連結されている。なお、説明の便宜上、図２では、第１ダクト３２の方向を−Ｘ方向としている。

また、図２のケーシング２８の内部において、最下段の仕切り板４２Ａの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス３８、及び最上段の仕切り板４２Ｃの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス３８は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５０内に有機系ガス（有機物のガス）を除去するケミカルフィルタ５１を保持したものである。また、中段の仕切り板４２Ｂの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス４０は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５５内にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去するケミカルフィルタ５６を保持したものである。

各フィルタボックス３８，４０の高さは例えば２００〜４００ｍｍであり、各フィルタボックス３８，４０の重量は１０〜２０ｋｇ程度である。
有機系ガス除去用のケミカルフィルタ５１としては、例えば活性炭型フィルタ又はセラミックス型フィルタ等が使用可能である。また、アルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のケミカルフィルタ５６としては、添着剤活性炭型フィルタ、イオン交換樹脂型フィルタ、イオン交換繊維型フィルタ、又は添着剤セラミックス型フィルタ等を使用することができる。また、フレーム５０，５５、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃ、ケーシング２８、及びドア２９は、それぞれ耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えば表面に酸化皮膜（酸化アルミニウム等）が形成されたアルミニウム（アルマイト処理されたアルミニウム）、又はステンレス鋼等から形成されている。なお、フレーム５０，５５等は、耐食性があり脱ガスの少ない樹脂材料を含む材料（ポリエチレンで覆った合板、又はフッ素系樹脂等）等で形成することも可能である。

なお、有機系ガスを除去することで、チャンバ１０の露光室１０ａ内で露光光ＥＬの透過率が向上し、かつ有機系ガスと露光光ＥＬとの相互作用によって光学素子に表面に形成される曇り物質の発生が抑制される。また、アルカリ系ガス及び酸性ガスを除去することによって、ウエハＷのフォトレジストの特性の変化等が抑制される。特に、フォトレジストが化学増幅型フォトレジストである場合には、空気中にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスがあると、発生した酸が反応してフォトレジスト表面に難溶化層ができる恐れがある。従って、特にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスの除去が有効である。

なお、図１のローダ室１０ｂ内のフィルタボックス６３，６４内のケミカルフィルタの構成は、ケミカルフィルタ５１，５６の構成と同様である。ただし、フィルタボックス６３，６４はフィルタボックス３８，４０よりも小型である。
また、図２において、仕切り板４２Ａ及び４２Ｃ上の全部で６個のフィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５の長手方向（Ｙ方向）の両方の側面には、案内溝５２，５３によって凹凸が形成される。

本実施形態において、この案内溝５２，５３は、フレーム５０，５５の側面に直接形成されているため、フレーム５０の側面がフィルタボックス３８をケーシング２８内の所定位置に搬入するための案内ガイド面として機能する。フレーム５０，５５の両方の側面には、案内溝５２，５３の上部に作業者が手を掛けるための凹部よりなる取っ手部７０，７１が取り付けられている。フレーム５０，５５の前面にも、作業者が手を掛けることが可能な凹部よりなる取っ手部７２が設けられている。

そして、各フィルタボックス３８，４０の一方の側面の案内溝５２にそれぞれケーシング２８の内面に固定された円柱状の互いに同じ形状の軸部材（ガイド）４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃ，４８Ｄ，４８Ｅ，４８Ｆ，４８Ｇ，４８Ｈ，４８Ｉの先端部が係合し、各フィルタボックス３８，４０の他方の側面の案内溝５３にそれぞれケーシング２８の内面に固定された軸部材４８Ａと同じ形状の円柱状の軸部材４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃ，４９Ｄ，４９Ｅ，４９Ｆ，４９Ｇ，４９Ｈ，４９Ｉの先端部が係合している。軸部材４８Ａ〜４８Ｉ, ４９Ａ〜４９Ｉによって、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５のそれぞれがＸ方向（移動方向）に位置決めされるとともに、Ｙ方向におおまかに位置決めされる。なお、下段のフィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５は、仕切り板４２Ａ，４２Ｂ及び４２Ｃの上面に対し、位置決めされた状態でかつ自重によって固定されている。また、中段のフィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５は、下段のフィルタボックス３８，４０の上端面に対し、位置決めされ、かつ自重によって固定されている。さらに上段のフィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５は、中段のフィルタボックス３８，４０の上端面に対し、位置決めされ、かつ自重によって固定されている。

この場合、軸部材４８Ａ〜４８Ｉ及び４９Ａ〜４９Ｉの前面２８ｋからの距離は、互いに等しく設定されている。なお、フレーム５０，５５の移動を円滑にするために、軸部材４８Ａ〜４８Ｉ及び４９Ａ〜４９Ｉの先端部に回転軸受けを設けてもよい。
また、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上の最上段のフィルタボックス３８で示すように、フィルタボックス３８のフレーム５０の背面のＹ方向の２箇所に底面に続く長穴よりなる第１凹部３９Ａ及び第２凹部３９Ｂが形成されている。また、凹部３９Ａ，３９Ｂに対応するケーシング２８の背面２８ｍにそれぞれ棒状の位置決めピン７５Ｃ，７６Ｃ及び７５Ｆ，７６Ｆが着脱可能に配置されている。実際には、図３に示すように、全部のフィルタボックス３８のフレーム５０にそれぞれ凹部３９Ａ，３９Ｂが形成されている。そして、全部のフィルタボックス３８の凹部３９Ａ及び３９Ｂに対応して、ケーシング２８の背面２８ｊにそれぞれ第１の位置決めピン７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃ，７５Ｄ，７５Ｅ，７５Ｆ及び第２の位置決めピン７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ，７６Ｄ，７６Ｅ，７６Ｆが固定されている。

また、図２の仕切り板４２Ｂ上の最上段のフィルタボックス４０で示すように、フィルタボックス４０のフレーム５５の背面のＹ方向の２箇所に底面に続く長穴よりなる第１凹部４１Ａ及び第２凹部４１Ｂが形成されている。また、凹部４１Ａ，４１Ｂに対応するケーシング２８の背面２８ｍにそれぞれ棒状の位置決めピン７７Ｃ，７７Ｃが着脱可能に配置されている。実際には、図３に示すように、全部のフィルタボックス４０のフレーム５５にそれぞれ凹部４１Ａ，４１Ｂが形成されている。そして、全部のフィルタボックス４０の凹部４１Ａ及び４１Ｂに対応して、ケーシング２８の背面２８ｊにそれぞれ第１の位置決めピン７７Ａ，７７Ｂ，７７Ｃ及び第２の位置決めピン７８Ａ，７８Ｂ，７８Ｃが固定されている。フレーム５０の凹部３９Ａ，３９Ｂに位置決めピン７５Ａ〜７５Ｆ，７６Ａ〜７６Ｆが収まり、フレーム５５の凹部４１Ａ，４１Ｂに位置決めピン７７Ａ〜７７Ｃ，７８Ａ〜７８Ｃが収まるように、フィルタボックス３８，４０をケーシング２８内に収納することによって、フィルタボックス３８，４０のＹ方向の位置決めを高精度に行うことができる。

さらに、本実施形態では、フレーム５０に形成された凹部３９Ａ，３９ＢのＹ方向の間隔は、フレーム５５に形成された凹部４１Ａ，４１ＢのＹ方向の間隔よりも広く設定されている。また、ケーシング２８の背面２８ｊに配置された位置決めピン７５Ａ〜７５Ｆと位置決めピン７６Ａ〜７６ＦとのＹ方向の間隔は凹部３９Ａ，３９ＢのＹ方向の間隔と等しく、背面２８ｊに配置された位置決めピン７７Ａ〜７７Ｃと位置決めピン７８Ａ〜７８ＣとのＹ方向の間隔は凹部４１Ａ，４１ＢのＹ方向の間隔と等しく設定されている。これによって、これによって、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上にアルカリ系ガス及び酸性ガスを除去するためのケミカルフィルタ５６を有するフィルタボックス４０を設置することが防止され、逆に仕切り板４２Ｂ上に有機系ガスを除去するためのケミカルフィルタ５１を有するフィルタボックス３８を設置することが防止されている。

また、図２において、ケーシング２８の前面２８ｋにフィルタボックス３８及び４０を出し入れするための矩形の窓部２８ｂが形成され、ドア２９には、ドア２９でケーシング２８の窓部２８ｂを閉じたときに、窓部２８ｂの周辺及び仕切り板４２Ｂ，４２Ｃの端部とドア２９との間を密閉するためのガスケット４６が固定されている。ガスケット４６は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（デュポン社の登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。

次に、図３において、仕切り板４２Ａ〜４２Ｃにはそれぞれフィルタボックス３８，４０を通過した空気ＡＲを通す開口４２Ａａ，４２Ｂａ，４２Ｃａが形成されている。なお、図３では、説明の便宜上、１段目及び２段目のフィルタボックス３８，４０は２点鎖線で表されている。また、フィルタボックス３８のフレーム５０、及びフィルタボックス４０のフレーム５５の底面にはそれぞれ載置面との間の気密性を高めるための矩形の枠状のガスケット５４が固定されている。ガスケット５４の材料は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（デュポン社の登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。なお、ガスケット５４の材料は、ガスケット４６の材料と同様であってもよい。この結果、ケーシング２８の開口２８ａが形成された上板と仕切り板４２Ｃとで挟まれた第１空間２８ｃ内の気体は、３段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ｃａを通って、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた第２空間２８ｄに流入する。同様に、空間２８ｄ内の気体は、必ず３段のフィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６を通過した後、開口４２Ｂａを通って、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた第３空間２８ｅに流入する。同様に、空間２８ｅ内の気体は、３段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ａａ、仕切り板４２Ａとケーシングの底面で挟まれた第４空間２８ｆ、及びケーシング２８の背面(底面)の開口２８ｇを通って、図２の第１ダクト３２に流れる。従って、ケーシング２８の上部の開口２８ａから流入する空気ＡＲは、必ず３段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８、３段のアルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のフィルタボックス４０、及び３段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８を通過して図１の空調装置３０に供給されるため、チャンバ１０内には不純物を高度に除去した空気が供給される。

また、仕切り板４２Ａの上面の開口４２Ａａの周囲に、金属よりも滑りやすい材料よりなる矩形の枠状のシート状のカバー部材ＴＦ２が接着等で固定されている。実際には、仕切り板４２Ｂ，４２Ｃの上面にもカバー部材ＴＦ２と同様のカバー部材（不図示）が固定されている。さらに、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５の上面にも、ケミカルフィルタ５１，５６を囲むように、それぞれ滑りやすい材料よりなる矩形の枠状のシート状のカバー部材ＴＦ１が接着等で固定されている。カバー部材ＴＦ１，ＴＦ２は、例えば合成樹脂から形成され、具体的には例えばテフロン（デュポン社の登録商標）から形成されている。

これにより、フィルタボックス３８，４０のガスケット５４は下段のフィルタボックス３８，４０の上面のカバー部材ＴＦ１又は仕切り板４２Ａ〜４２Ｃに固定されたカバー部材ＴＦ２に密着する。そして、フィルタボックス３８，４０の交換時には、フィルタボックス３８，４０を容易に下段のフィルタボックス３８，４０又は仕切り板４２Ａ〜４２Ｃから離すことができる。なお、カバー部材ＴＦ１，ＴＦ２は必ずしも設けなくともよい。

また、図３において、軸部材４８Ａ〜４８Ｉ，４９Ａ〜４９Ｉは、代表的に軸部材４８Ｃ，４９Ｃで示すように、ケーシング２８の側面（内側）にそれぞれネジ部４８Ｃａ，４９Ｃａによって固定されている。
さらに、代表的に位置決めピン７５Ａ，７６Ａで示すように、ケーシング２８の背面２８ｊには、フレーム５０の凹部３９Ａ，３９Ｂと同じＹ方向の間隔の２箇所のネジ穴（不図示）とともに、フレーム５５の凹部４１Ａ，４１Ｂと同じＹ方向の間隔の２箇所のネジ穴８１，８２も形成されている。これによって、位置決めピン７５Ａ，７６Ａは、フレーム５５の凹部４１Ａ，４１Ｂと同じ間隔にも設定可能である。これは、他の位置決めピン７５Ｂ〜７５Ｆ，７６Ｂ〜７６Ｆも同様である。さらに、位置決めピン７７Ａ〜７７Ｃ，７８Ａ〜７８Ｃについては、フレーム５０の凹部３９Ａ，３９Ｂと同じ間隔にも設定可能である。この構成により、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上にフィルタボックス４０を設置することも可能であり、仕切り板４２Ｂ上にフィルタボックス３８を設置することも可能である。

また、図３において、ケーシング２８の両側面とフィルタボックス３８，４０のＹ方向の内側の側面との間には、作業者が手を差し込むことが可能なスペースが確保されている。これによって、フィルタボックス３８，４０の搬入時及び搬出時に、作業者は図２のケーシング２８内で、フィルタボックス３８，４０の側面の取っ手部７０，７１に手を掛けてフィルタボックス３８，４０を移動できる。

次に、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５の案内溝５２，５３及び凹部３９Ａ，３９Ｂ，４１Ａ，４１Ｂの形状につき図４（Ａ）〜図４（Ｄ）を参照して説明する。ここで、図４（Ａ）のフィルタボックス３８のフレーム５０について、ケーシング２８に挿入されたときにケーシング２８の前面２８ｋに面する面をフレーム５０の前面５０ａ（第１面）、ケーシング２８の背面２８ｊに面する面をフレーム５０の背面５０ｂ（第２面）、ケーシング２８の側面２８ｍ，２８ｎに面する面をフレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄ（第３及び第４面）と称する。なお、本実施形態では、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄは、フレームの前面５０ａ及び背面５０ｂに対して直交しているが、直交に限定されない。例えば、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄに対して、フレームの前面５０ａ又は背面５０ｂの少なくとも一方が、交差（９０度に対して傾斜）していてもよい。フレーム５０の前面５０ａと背面５０ｂに対して上側の面を上面５０ｆ、フレーム５０の前面５０ａと背面５０ｂに対して下側（気体が排気される方向）の面を底面５０ｅと称する。後述するフィルタボックス４０のフレーム５５の各面についても、フィルタボックス３８のフレーム５０と同様にして特定する。

図４（Ａ）に示すように、フィルタボックス３８のフレーム５０の長手方向の一対の側面５０ｃ，５０ｄには、案内溝５２，５３が形成されている。案内溝５２は、フレーム５０の側面５０ｃの上端１５０と下端１５２との間に配置され、かつフレーム５０の後側端１５４または背面５０ｂに連通する第１溝部５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端１５０（上面５０ｆの方向）に向かって延びる第２溝部５２ｂとを有する。案内溝５２により側面５０ｃを上側部５２ｅと下側部５２ｆに分割している。第１溝部（横凹部）５２ａはフレーム５０の底面５０ｅと上面５０ｆとの間にそれらの面に沿って横方向（Ｘ方向）に延在するように形成され、第２溝部（縦凹部）５２ｂはフレーム５０の前側端１５６と後側端１５４の間に、すなわち、前面５０ａと背面５０ｂとの間にそれらの面に沿って縦方向（Ｚ方向）に延在するように形成されている。

さらに、案内溝５２は、第１溝部５２ａと第２溝部５２ｂとが連通する位置に形成されて、フレーム５０の前面５０ａ側からフレーム５０の後側端１５４側または背面５０ｂ側に向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５２ｃと、第１溝部５２ａの背面５０ｂに連通する部分に形成されて、フレーム５０の前面５０ａ側から背面５０ｂ側に向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５２ｄとを有する。第１溝部５２ａの上面側のエッジ部５０ａｅ（案内溝５３により分割された側面５０ｄの上側部５２ｅの下端）と第２溝部５２ｂの背面５０ｂ側のエッジ部５０ｂｅ（案内溝５３により分割された側面５０ｄの上側部５２ｅの側端）とは第１テーパ部５２ｃで接続されている。

また、図４（Ｂ）の側面図で示すように、第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂの幅は、図２のケーシング２８内に設けられている軸部材４８Ａの直径よりも或る程度またはわずかに広く設定されている。これによって、軸部材４８Ａは、案内溝５２に沿ってフレーム５０の背面５０ｂと上面５０ｆとの間に円滑にフレーム５０に対して相対移動可能（スライド移動可能）である。

なお、フレーム５０の他方の側面５０ｄの案内溝５３の形状は案内溝５２とフレーム５０の前後方向の中心線（不図示）に対して対称（本文中で単に「対称」という）または同一形状であるため、その説明を省略する。
また、フレーム５０の背面５０ｂの２箇所に底面５０ｅに開放された細長い（フレーム５０の厚さ方向に細長い形状の）凹部３９Ａ，３９Ｂが形成されている。さらに、フレーム５０の底面５０ｅには図３のガスケット５４が設けられ、上面５０ｆには図３のカバー部材ＴＦ１が設けられる。

また、図４（Ｃ）に示すように、フィルタボックス４０のフレーム５５の長手方向の一対の側面５５ｃ，５５ｄにも、フレーム５０と同様に背面５５ｂから上面５５ｆにかけて案内溝５２，５３が形成されている。さらに、フレーム５５の背面５５ｂの２箇所に底面５５ｅに開放された細長い（フレーム５５の厚さ方向に細長い形状の）凹部４１Ａ，４１Ｂが形成されている。凹部４１Ａ，４１Ｂの間隔はフレーム５０側の凹部３９Ａ，３９Ｂの間隔よりも狭く設定されている。さらに、フレーム５５の底面５５ｅには図３のガスケット５４が設けられ、上面５５ｆには図３のカバー部材ＴＦ１が設けられる。

また、図４（Ｄ）の側面図で示すように、第１溝部５７ａ及び第２溝部５７ｂの幅は、図２のケーシング２８内に設けられている軸部材４８Ｄの直径よりも或る程度またはわずかに広く設定されている。これによって、軸部材４８Ｄは、案内溝５７に沿ってフレーム５５の背面５５ｂと上面５５ｆとの間に円滑にフレーム５５に対して相対移動可能（スライド移動可能）である。なお、フレーム５０，５５は、例えばモールド成形等によって製造可能である。

次に、図４（Ａ）のフィルタボックス３８を図２のケーシング２８の仕切り板４２Ａの上面に設置する場合には、図５（Ａ）に示すように、作業者はフレーム５０の取っ手部７０，７１を介してフィルタボックス３８を保持した状態で、ケーシング２８の１対の軸部材４８Ａ，４９Ａの前方にフィルタボックス３８（フレーム５０）の案内溝５２，５３の第１溝部５２ａ等を移動する。

なお、未使用のフィルタボックス３８には、フレーム５０の第１溝部５２ａの入り口に薄いフィルム５９Ａが剥離可能に張設されている。そして、矢印Ｂ１で示すように、フィルタボックス３８を窓部２８ｂを通してケーシング２８内に押し込み、図５（Ｂ）に矢印Ｂ２で示すように、第１溝部５２ａに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８をさらに押し込む。これによって、フィルム５９Ａが剥離するため、次にフィルタボックス３８を搬出する際に、このフィルタボックス３８が使用済みであることが確認できる。

その後、さらにフレーム５０を押し込むと、ケーシング２８の位置決めピン７５Ａ，７６Ａにフレーム５０の凹部３９Ａ，３９Ｂが係合する。さらに、図５（Ｃ）に示すように、フィルタボックス３８の第２溝部５２ｂが軸部材４８Ａに達した後、フィルタボックス３８の自重によって第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ａがフレーム５０に対して相対移動するように、矢印Ｂ３で示すように、フィルタボックス３８を仕切り板４２Ａの上面に載置する。この結果、図５（Ｄ）に示すように、フィルタボックス３８は、案内溝５２，５３の第２溝部５２ｂ等の中間の位置に軸部材４８Ａ，４９Ａが停止した状態で、かつ位置決めピン７５Ａ，７６Ａが凹部３９Ａ，３９Ｂ内に係合した状態で仕切り板４２Ａ上に載置される。これによって、フィルタボックス３８は、仕切り板４２Ａの開口４２Ａａを覆うように正確にＸ方向、Ｙ方向に位置決めされた状態で、かつ安定に載置される。

さらに、第２テーパ部５２ｄがあるため、第１溝部５２ａを軸部材４８Ａに容易に案内して係合可能である。また、第１テーパ部５２ｃがあるため、案内溝５２の第１溝部５２ａの次に第２溝部５２ｂを容易に軸部材４８Ａに係合可能である。第１テーパ部５２ｃにより、操作者は、第２溝部５２ｂの位置、ひいては、フィルタボックス３８の挿入方向（Ｘ方向）の設置位置の把握が容易となる。

図２の他のフィルタボックス３８も同様にフィルタボックス３８の上面又は仕切り板４２Ｃの上面に載置できる。なお、フレーム５０を押し込むときに取っ手部７２を使用してもよい。
同様に、図４（Ｃ）のフィルタボックス４０を図２のケーシング２８の仕切り板４２Ｂの上面に設置する場合には、図６（Ａ）に示すように、作業者はフレーム５５の取っ手部７０，７１を介してフィルタボックス４０を保持した状態で、ケーシング２８の１対の軸部材４８Ｄ，４９Ｄの前方にフィルタボックス４０（フレーム５５）の案内溝５２，５３の第１溝部５２ａ等を移動する。未使用のフィルタボックス４０には、第１溝部５２ａの入り口に薄いフィルム５９Ｂが剥離可能に張設されている。そして、矢印Ｂ５で示すように、フィルタボックス４０を窓部２８ｂを通してケーシング２８内に押し込み、第１溝部５２ａを軸部材４８Ｄに係合させることで、フィルム５９Ｂが剥離する。

続いて、図６（Ｂ）に矢印Ｂ６で示すように、フィルタボックス４０をさらにスライド可能に押し込むことによって、図６（Ｃ）に示すように、ケーシング２８側の位置決めピン７７Ａ，７８Ａがフレーム５５の凹部４１Ａ，４１Ｂに係合し、フィルタボックス４０の第２溝部５２ｂが軸部材４８Ｄに達する。その後、第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ｄがフレーム５５に対して相対移動するように、矢印Ｂ７で示すように、フィルタボックス４０を仕切り板４２Ｂの上面に載置する。この結果、図６（Ｄ）に示すように、フィルタボックス４０は、案内溝５２，５３の第２溝部５２ｂ等の中間に軸部材４８Ｄ，４９Ｄが位置した状態で、かつ凹部４１Ａ，４１Ｂに位置決めピン７７Ａ，７８Ａが係合した状態で仕切り板４２Ｂ上に載置される。これによって、フィルタボックス４０は、仕切り板４２Ｂの開口４２Ｂａを覆うように正確にＸ方向、Ｙ方向に位置決めされた状態で、かつ安定に載置される。

図２の他のフィルタボックス４０も同様に別のフィルタボックス４０の上面に載置できる。その後、図２のドア２９を閉じることによって、フィルタ装置２６が使用可能となり、フィルタ装置２６を通過した清浄な空気を露光装置ＥＸのチャンバ１０内に供給できる。
次に、フィルタ装置２６のフィルタボックス３８，４０を交換する場合には、ケーシング２８のドア２９が開かれる。そして、上段のフィルタボックス３８を中段のフィルタボックス３８上から搬出する。その後、中段のフィルタボックス３８を下段のフィルタボックス上から搬出し、最後に、下段のフィルタボックス３８を仕切り板４２Ａ上から搬出する。上段、中段、下段のフィルタボックスの搬出動作は同じ動作なので、以下、具体的な搬出動作について、下段のフィルタボックス３８を仕切り板から搬出する場合を例に説明する。上段のフィルタボックス３８、中段のフィルタボックス３８が搬出された後、次に説明する搬出法に従って下段のフィルタボックス３８を搬出する。仕切り板４２Ａから下段のフィルタボックス３８を搬出する際には、作業者はフィルタボックス３８の取っ手部７０，７１に手を掛けて、図５（Ｃ）に矢印Ｃ１で示すように、案内溝５２の第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８を上方に持ち上げる。その後、案内溝５２の第１テーパ部５２ｃが軸部材４８Ａに達した後、図５（Ｂ）に矢印Ｃ２で示すように、第１溝部５２ａに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８を前方（フィルタボックス３８の前面側）に引く抜く。その後、図５（Ａ）に矢印Ｃ３で示すように、さらにフィルタボックス３８をケーシング２８の前方に引き抜くことで、フィルタボックス３８を搬出できる。この際に、案内溝５２の第１テーパ部５２ｃがあるため、軸部材４８Ａに沿って案内溝５２の第２溝部５２ｂから第１溝部５２ａまでを円滑に移動できる。

同様に他のフィルタボックス３８も容易に搬出できる。その後、未使用のフィルタボックス３８をケーシング２８に設置する際には、図５（Ａ）〜図５（Ｄ）までの動作を繰り返せばよい。
また、例えば仕切り板４２Ｂの上面からフィルタボックス４０を搬出する際には、作業者はフィルタボックス４０の取っ手部７０，７１に手を掛けて、図６（Ｃ）に矢印Ｃ５で示すように、案内溝５２の第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ｄがスライド可能にフレーム５５に対して相対移動するように、フィルタボックス４０を持ち上げる。その後、案内溝５２の第１テーパ部５２ｃが軸部材４８Ｄに達した後、図６（Ｂ）に矢印Ｃ６で示すように、第１溝部５２ａに沿って軸部材４８Ｄがスライド可能にフレーム５５に対して相対移動するように、フィルタボックス４０を前方に引く抜く。その後、図６（Ａ）に矢印Ｃ７で示すように、さらにフィルタボックス４０をケーシング２８の前方に引き抜くことで、フィルタボックス４０を搬出できる。

同様に他のフィルタボックス４０も容易に搬出できる。その後、未使用のフィルタボックス４０をケーシング２８内に設置する際には、図６（Ａ）〜図６（Ｄ）までの動作を繰り返せばよい。
本実施形態の効果等は以下の通りである。
（１）本実施形態の露光装置ＥＸは、フィルタ装置２６及び空調装置３０を含む全体空調システムを備え、フィルタ装置２６は６段の第１のフィルタボックス３８及び３段の第２のフィルタボックス４０を収納する。

そして、第１のフィルタボックス３８は、ケミカルフィルタ５１を保持する箱状（筒状）のフレーム５０と、フレーム５０の一対の側面５０ｃ，５０ｄに対称に形成された案内溝（凹凸形成部）５２，５３と、側面５０ｃ，５０ｄに交差する背面（交差面）５０ｂに、側面５０ｃ，５０ｄの方向に離れて形成された長穴状の第１凹部（陥没部）３９Ａ及び第２凹部３９Ｂと、を備えている。一方の案内溝５２は、フレーム５０の側面５０ｃの上端と下端との間に配置され、かつフレーム５０の背面５０ｂに連通する第１溝部（横凹部）５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端（上面５０ｆ側の端部）に向かって延びる第２溝部（縦凹部）５２ｂとを有する。

また、フィルタ装置２６は、フィルタボックス３８と、フィルタボックス３８を収納するケーシング２８と、ケーシング２８に設けられて、フィルタボックス３８のフレーム５０の背面５０ｂに設けられた凹部３９Ａ，３９Ｂ係合する凸の位置決めピン７５Ａ，７６Ａと、ケーシング２８の一部に設けられて、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄに形成された案内溝５２，５３に係合する軸部材（案内部材）４８Ａ，４９Ａと、を備えている。

本実施形態によれば、フレーム５０の側面の案内溝５２，５３に沿ってケーシング２８の軸部材４８Ａ，４９Ａがフレーム５０に対して相対的に移動するように、フレーム５０をガイドしながら移動することによって、フィルタボックス３８のケーシング２８に対する設置及びケーシング２８からの搬出を効率的に、かつ正確に行うことができる。さらに、フィルタボックス３８を設置する際に、フレーム５０の凹部３９Ａ，３９Ｂをケーシング２８の位置決めピン７５Ａ，７６Ａに係合させることによって、フィルタボックス３８の横方向（実施形態では、フィルタボックス３８の移動方向に直交する方向）の位置決めを容易に行うことができる。従って、フィルタボックス３８、ひいてはその中のケミカルフィルタ５１の交換を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。

（２）また、第２のフィルタボックス４０も同様に構成されているが、フィルタボックス４０のフレーム５５に形成されている凹部４１Ａ，４１Ｂの間隔はフレーム５０に形成された凹部３９Ａ，３９Ｂの間隔と異なっている。また、ケーシング２８のフィルタボックス４０が設置される位置には、凹部４１Ａ，４１Ｂと同じ間隔の位置決めピン７７Ａ，７８Ａが配置されている。従って、フィルタボックス４０の交換も、効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。さらに、フィルタボックス３８，４０を互いに誤った位置に設置することが確実に防止される。

なお、フィルタボックス３８，４０の案内溝５２及び５３はほぼ対称またはほぼ同一形状に形成されていればよい。
また、フレーム５０，５５に対して一方の側面（例えば側面５０ｃ，５５ｃ）にのみ案内溝５２を形成しておいてもよい。この場合には他方の側面５０ｄ，５５ｄはほぼ平面（平坦）となる。また、一方の案内溝５２が軸部材４８Ａ，４８Ｄに沿って軸部材４８Ａ，４８Ｄに対して相対移動するようにフィルタボックス３８，４０を移動することで、フィルタボックス３８，４０を比較的容易にケーシング２８内に設定できるとともに、フィルタボックス３８，４０をケーシング２８から容易に搬出可能である。

（３）また、フレーム５０，５５にはガスケット５４及びカバー部材ＴＦ１が設けられているため、フィルタボックス３８，４０を仕切り板４２Ａ〜４２Ｃ上に重ねて設置した場合の気密性を高く維持できる。さらに、フィルタボックス３８，４０の搬出時にはガスケット５４を容易に離すことができる。
なお、ガスケット５４及びカバー部材ＴＦ１は省略可能である。

（４）本実施形態では、フレーム５０，５５の２箇所にそれぞれ凹部３９Ａ，３９Ｂ及び凹部４１Ａ，４１Ｂが形成されているため、フレーム５０，５５を目標とする位置に容易に設置できる。なお、フレーム５０，５５の少なくとも一方で、例えば凹部３９Ａ又は凹部４１Ａのみを形成しておいてもよい。この場合には、ケーシング２８側でも位置決めピン７５Ａ〜７５Ｆ又は７７Ａ〜７７Ｃのみを配置しておけばよい。このように、凹部及び位置決めピンが１箇所でもフィルタボックス３８，４０の横方向の位置決めを容易に行うことができ、かつフィルタボックス３８，４０の誤挿入を防止できる。

なお、例えばケミカルフィルタ５１，５６に識別可能なラベルを付すること等によって、フィルタボックス３８，４０の凹部３９Ａ，３９Ｂ及び凹部４１Ａ，４１Ｂの位置を同じ位置としてもよい。
（５）また、フィルタボックス３８の案内溝５２は、第１溝部５２ａと第２溝部５２ｂとが連通する位置に形成されて、フレーム５０の背面５０ｂに向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５２ｃを有する。第１テーパ部５２ｃによって、操作者は第２溝部５２ｂの位置を把握し易くなるので、案内溝５２に対する軸部材４９Ａの相対的な移動を円滑に行うことができる。

なお、第１テーパ部５２ｃは必ずしも設けなくともよい。
（６）また、案内溝５２は、第１溝部５２ａの背面５０ｂに連通する部分に形成され、背面５０ｂに向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５２ｄを有する。従って、第１溝部５２ａを容易に軸部材４８Ａにガイドしながら係合できる。なお、第２テーパ部５２ｄも省略可能である。

（７）また、フィルタボックス３８の第１溝部５２ａ等とフレーム５０の上端との間に取っ手部７０，７１が設けられ、フレーム５０の前面５０ａにも取っ手部７２が設けられているため、作業者が容易にフィルタボックス３８を搬送できる。なお、取っ手部７０，７１は一方に設けるだけでもよく、取っ手部７２は省略可能である。また、例えばフレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄを粗面としておくことによって、取っ手部７０，７１を省略することも可能である。

（８）また、フィルタボックス３８の第１溝部５２ａの入り口に剥離可能にフィルム５９Ａが設けられているため、フィルタボックス３８が使用済みか未使用かを容易に確認できる。
なお、フィルム５９Ａは、第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂのうちのどの部分に設けておいてもよい。また、フィルタボックス３８にはフィルム５９Ａを設けることなく、他の方法（例えば作業者がラベルを剥離する等の方法）でフィルタボックス３８の使用の有無を確認してもよい。

（９）また、フィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１（濾材）は、その中を通過する気体中の有機系ガス（有機物）を除去し、フィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６（濾材）は、その中を通過する気体中のアルカリ性ガス及び酸性ガスを除去しているため、露光本体部４が収納されるチャンバ１０内に不純物が高度に除去された空気を供給できる。

さらに、本実施形態のフィルタ装置２６には、６段のフィルタボックス３８及び３段のフィルタボックス４０が設置されているが、フィルタボックス３８の個数は任意であり、フィルタボックス４０の個数も任意である。また、フィルタ装置２６には、一つ若しくは複数段のフィルタボックス３８、又は一つ若しくは複数段のフィルタボックス４０を設置するのみでもよい。

また、フィルタ装置２６のケーシング２８は仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで複数の空間に仕切られているが、ケーシング２８内を仕切り板４２Ａ〜４２Ｃで仕切ることなく、単にフィルタボックス３８及び４０を例えば交互に積み重ねることも可能である。
なお、フィルタボックス４０内のフィルタは、例えばその中を通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去するフィルタでもよい。

さらに、フィルタボックス３８，４０内のフィルタは、ケミカルフィルタ以外の任意のフィルタ（濾材）を使用できる。例えば、フィルタボックス３８，４０のフィルタとしては、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタのような微小な粒子（パーティクル）を除去するための防塵フィルタを用いることも可能である。
（１０）また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷ（基板）を露光する露光装置において、ウエハＷを露光する露光本体部４を収納するチャンバ１０と、本実施形態のフィルタ装置２６と、チャンバ１０の外部から取り込まれた空気をフィルタ装置２６を介してチャンバ１０内に送風する空調装置３０と、を備えている。

本実施形態によれば、フィルタ装置２６のフィルタボックス３８，４０の交換を効率的に行うことができ、フィルタボックス３８，４０間の位置決めを高精度に行うことができるため、露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができ、かつチャンバ１０内の空気の不純物を高精度に除去できる。
なお、本実施形態において、ローダ室１０ｂ内の局所空調装置６０のフィルタボックス６３，６４のフレームとしても、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５と同様の案内溝及び凹部３９Ａ，３９Ｂ，４１Ａ，４１Ｂに対応する凹部が形成されたフレームを使用し、フィルタボックス６３，６４をケーシング２８と同様に軸部材４８Ａ，４８Ｂ及び位置決めピン７５Ａ，７６Ａ等を備えたケーシングに収納してもよい。

また、本実施形態において、フレーム５０の側面に、案内溝を形成しているが、フレーム５０を２つの部材に分けて形成してもよい。例えば、フレーム５０は、側面が平坦に形成され、かつフィルタを保持するフレーム本体と、フレーム本体の側面に取り付けられ、かつ案内溝が形成された凹凸形成部材とを備える構成で形成してもよい。
次に、本実施形態の変形例につき図７を参照して説明する。この変形例は、フィルタボックスのフレームの側面（凹凸形成部）の案内溝及び背面の凹部（陥没部）の形状を変えたものであり、その他の部分は上記の実施形態と同様である。以下、図７（Ａ）〜（Ｄ）において、図４（Ａ）〜（Ｄ）に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。

図７（Ａ）はケミカルフィルタ５１を保持する変形例のフィルタボックス３８Ａを示す斜視図、図７（Ｃ）はケミカルフィルタ５６を保持する変形例のフィルタボックス４０Ａを示す斜視図である。フィルタボックス３８Ａ，４０Ａは、それぞれ図２のフィルタボックス３８，４０の代わりにケーシング２８内に設置可能である。
また、図７（Ａ）に示すように、フィルタボックス３８Ａのフレーム５０の長手方向の一対の側面５０ｃ，５０ｄには、案内溝５２Ａ，５３Ａが形成されている。案内溝５２Ａは、フレーム５０の側面５０ｃの上端と下端との間に配置され、フレーム５０の背面５０ｂに連通するとともに、フレーム５０の下端まで広がる第１溝部（横凹部）５２Ａａと、第１溝部５２Ａａに連通し、かつフレーム５０の上端に向かって延びるとともに、フレーム５０の前面５０ａまで広がる第２溝部（縦凹部）５２Ａｂとを有する。

なお、本実施形態では、第１溝部５２Ａａは、フレーム５０の側面５０ｃに対して、凹んで形成された部分であるため、第１溝部５２Ａａを凹形成部と称し、フレーム５０の側面５０ｃの案内溝５２Ａ以外の部分５２０を凸形成部と称することもできる。
さらに、案内溝５２Ａは、第１溝部５２Ａａと第２溝部５２Ａｂとが連通する位置に形成されて、背面５０ｂに向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５２Ａｃと、第１溝部５２Ａａの背面５０ｂに連通する部分に形成されて、背面５０ｂに向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５２Ａｄとを有する。第１溝部５２Ａａの上面側のエッジ部５０ａｅと第２溝部５２Ａｂの背面５０ｂ側のエッジ部５０ｂｅとは第１テーパ部５２Ａｃで接続されている。

この場合、図８（Ｂ）の側面図で示すように、第１溝部５２Ａａ及び第２溝部５２Ａｂの幅は、図２のケーシング２８内に設けられている軸部材４８Ａの直径よりも広く設定されている。なお、フレーム５０の他方の側面５０ｄの案内溝５３Ａの形状は案内溝５２Ａと対称（または同一）であるため、その説明を省略する。
また、フレーム５０の背面５０ｂに横方向に離れて長穴状（フレーム５０の厚さ方向に細長い楕円状）の凹部３９Ｃ，３９Ｄが形成されている。この凹部３９Ｃ，３９Ｄは、例えば図３のケーシング２８の位置決めピン７５Ａ，７６Ａと係合可能である。さらに、フレーム５０の底面５０ｅには図３のガスケット５４が設けられ、上面５０ｆには図３のカバー部材ＴＦ１が設けられる。

また、図８（Ｃ）に示すように、フィルタボックス４０Ａのフレーム５５の一対の側面５５ｃ，５５ｄにも、フレーム５０と同様に案内溝（凹凸形成部）５２Ａ，５３Ａが形成されている。また、フレーム５５の背面５５ｂに横方向に離れて長穴状（フレーム５５の厚さ方向に細長い楕円状）の凹部４１Ｃ，４１Ｄが形成されている。この凹部４１Ｃ，４１Ｄの間隔はフレーム５０側の凹部３９Ｃ，３９Ｄの間隔よりも狭く、凹部４１Ｃ，４１Ｄは、例えば図３のケーシング２８の位置決めピン７７Ａ，７８Ａと係合可能である。さらに、フレーム５５の底面５５ｅには図３のガスケット５４が設けられ、上面５５ｆには図３のカバー部材ＴＦ１が設けられる。なお、ガスケット５４及びカバー部材ＴＦ１は省略可能である。

この変形例のフィルタボックス３８Ａ，４０Ａは、上記の実施形態のフィルタボックス３８，４０と同様に、ケーシング２８内に容易に位置決め可能な状態で設置できるとともに、容易に交換できる。さらに、凹部３９Ｃ，３９Ｄの間隔と凹部４１Ｃ，４１Ｄの間隔とが異なるため、フィルタボックス３８Ａ，４０Ａの誤挿入を防止できる。
なお、この変形例においても、フレーム５０，５５には案内溝５２Ａ，５３Ａの一方を設けるのみでもよく、フレーム５０，５５には凹部３９Ｃ，３９Ｄ及び凹部４１Ｃ，４１Ｄの一方を設けるのみでもよい。

また、上記の実施形態及びその変形例では、フレーム５０，５５の側面に案内溝５２，５３（又は５２Ａ，５３Ａ、以下同様。）を直接形成する構成を説明したが、フレーム５０とは別の部材に、案内溝５２，５３を形成した後、その部材をフレーム５０の側面に取り付ける構成であっても良い。
また、上記実施形態及びその変形例では、第２溝部５２ｂ等がフレーム５０，５５の上端まで貫通して形成されている例を示したが、第２溝部５２ｂ等がフレーム５０，５５の上端に至る前にとどまっていてもよい（第２溝部の上端が係止部を有する）。こうすることで、使用者がフィルタボックス３８，４０等の上下方向の装着位置を誤った場合に、第２溝部の上端の係止部の存在により操作者の手に急な負荷がかかることが防止される。

また、上記実施形態及びその変形例において、特定の形状の溝及び凹凸形成部を図面により示したが、それらの形状に限定されず、凹凸形成部及び陥没部は任意の形状にし得る。軸部材及び位置決めピンについても、実施形態で示した円柱形状に限らず、四角柱状などの種々の形状の軸部材を使用しうる。
また、上記の変形例では、フレーム５０，５５の側面５０ｃを凸形成部とした場合、この凸形成部を別部材で形成してもよい。

さらに、上記実施形態では、フィルタボックスの使用有無を薄いフィルムの剥離によって識別していたが、この構成に限らず、フィルムに切れ目が入ったかどうかで識別してもよい。
また、上記実施形態において、フィルタボックス３８，４０を一つずつ、ケーシング２８中の適切な位置に装填したが、２個または３個のような複数のフィルタボックスを重ねて同時にケーシング２８中に装填してもよい。この場合には、例えば、２個（または３個）のフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスに対してその上に残りのフィルタボックスを予め位置合わせして設置した後、それらのフィルタボックスをケーシング２８中に装填すればよい。こうすることで、積み重ねられたフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスだけを、対応する軸部材に係合させてケーシング中の適切な位置に装填すれば、重ね合わせられた全てのフィルタボックスが自動的に位置合わせされることになる。それゆえ、そのような場合には、積み重ねられたフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスに対応する軸部材だけがあれば足り、他の軸部材を設けなくてもよい。例えば、ケーシング２８の第１空間２８ｃに３つのフィルタボックス３８を重ね合わせて一度に装填する場合には、軸部材４８Ｇ及び／または４９Ｇだけを設けて、４８Ｈ，４８Ｉ，４９Ｈ,４９Ｉを用いなくてもよい。この場合、中段及び上段のフィルタボックス３８のフレーム５０の両側面には、第１溝及び第２溝を形成しなくてもよい。

本発明を添付の請求の範囲に表したが、それとは別に次のような概念も本願には含まれている。すなわち、本発明のフィルタボックスと、そのフィルタ装置を収容するとともに横凹部、縦凹部、及び第１凹部、第２凹部に係合する部材を有するケーシングまたはチャンバとを備えるフィルタボックスシステムもまた本願で意図している創作概念である。
また、上記の実施形態の露光装置ＥＸを用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図８に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板（感応基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。

従って、このデバイス製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理すること（ステップ２２４）とを含んでいる。その露光装置によれば、メンテナンスコストを低減でき、露光精度を向上できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
なお、上記の実施形態では、空調用の気体として空気が使用されているが、その代わりに窒素ガス若しくは希ガス（ヘリウム、ネオン等）、又はこれらの気体の混合気体等を使用してもよい。

また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型（ステッパー型）の投影露光装置を用いて露光する場合にも適用することが可能である。
また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式やコンタクト方式の露光装置等で露光を行う際にも適用できる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Microelectromechanical Systems：微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。

このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。

ＥＸ…露光装置、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、４…露光本体部、１０…チャンバ、２６…フィルタ装置、２８…ケーシング、３０…主空調装置、３８，４０…フィルタボックス、３９Ａ，３９Ｂ，４１Ａ，４１Ｂ…凹部、４２Ａ〜４２Ｃ…仕切り板、４８Ａ〜４８Ｉ，４９Ａ〜４９Ｉ…軸部材４８Ａ〜４８Ｉ、５０，５５…フレーム、５１，５６…ケミカルフィルタ、５２，５３…案内溝、５９Ａ，５９Ｂ…フィルム、６０…局所空調装置、７０〜７２…取っ手部、７５Ａ〜７８Ａ…位置決めピン

Claims (18)

1. フィルタを保持するフィルタボックスであって、
   前記フィルタを保持するフレームと、
   前記フレームの少なくとも一方の側面に形成された凹凸形成部と、
   前記フレームの前記凹凸形成部が形成された側面に交差する交差面に設けられた陥没部と、を備え、
   前記凹凸形成部は、前記フレームの前記少なくとも一方の側面の上端と下端との間に配置され、かつ前記少なくとも一方の側面のうち前記交差面側の側端に連通する第１凹部と、
   前記第１凹部に連通し、かつ前記フレームの上端に向かって延びる第２凹部と、を有することを特徴とするフィルタボックス。
2. 前記陥没部は、前記フレームの上端に向かって細長く形成されていることを特徴とする請求項１に記載のフィルタボックス。
3. 前記陥没部は、前記交差面において互いに離れた２箇所に設けられたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフィルタボックス。
4. 前記フレームの前記下端側の面に設けられたシール部材と、
   前記フレームの前記上端側の面に設けられて、前記シール部材との粘着性が前記フレームよりも低いシート状部材と、を備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
5. 前記フィルタに関して前記フレームの前記交差面とは反対側の面に設けられた取っ手部を備えることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
6. 前記第１凹部は、前記フレームの前記下端まで広がって形成されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
7. 前記第２凹部は、前記少なくとも一方の側面の前記側端と反対側の側端まで広がって形成されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
8. 前記第１凹部は、前記フレームの側面に形成された第１溝部であることを特徴とする請求項１に記載のフィルタボックス。
9. 前記第２凹部は、前記フレームの側面に形成された第２溝部であることを特徴とする請求項１又は請求項８に記載のフィルタボックス。
10. 前記第１凹部と前記第２凹部とが連通する位置に、前記少なくとも一方の側面の側端に向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
11. 前記第１凹部の前記少なくとも一方の側面の側端に連通する部分に、前記少なくとも一方の側面の側端に向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
12. 前記凹凸形成部は、前記フレームの一対の側面にほぼ同一形状で設けられていることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
13. 前記フレームの少なくとも一方の側面の前記第１凹部と前記フレームの上端との間に設けられる第３凹部を有することを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
14. 前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中の有機物を除去することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
15. 前記フィルタは、前記フィルタを通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去することを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載のフィルタボックス。
16. フィルタを保持するフィルタボックスを収納するフィルタ装置であって、
    請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載のフィルタボックスと、
    前記フィルタボックスを収納するケースと、
    前記ケースに設けられて、前記フィルタボックスの前記フレームの前記交差面に設けられた前記陥没部に係合する凸の位置決め部材と、
    前記ケースの一部に設けられて、前記フィルタボックスの前記フレームの少なくとも一方の側面に形成された前記凹凸形成部に係合する案内部材と、
    を備えることを特徴とするフィルタ装置。
17. 露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、
    前記基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、
    請求項１６に記載のフィルタ装置と、
    前記チャンバの外部から取り込まれた気体を前記フィルタ装置を介して前記チャンバ内に送風する空調装置と、
    を備えることを特徴とする露光装置。
18. 請求項１７に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
    前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
    
    

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