JP6425433B2 - 熱処理装置及び熱処理方法 - Google Patents

熱処理装置及び熱処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6425433B2
JP6425433B2 JP2014134006A JP2014134006A JP6425433B2 JP 6425433 B2 JP6425433 B2 JP 6425433B2 JP 2014134006 A JP2014134006 A JP 2014134006A JP 2014134006 A JP2014134006 A JP 2014134006A JP 6425433 B2 JP6425433 B2 JP 6425433B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
lid
treatment chamber
work
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014134006A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016011447A (ja
Inventor
北斗 畠中
北斗 畠中
文隆 虻川
文隆 虻川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Thermotech Co Ltd
Original Assignee
Dowa Thermotech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Thermotech Co Ltd filed Critical Dowa Thermotech Co Ltd
Priority to JP2014134006A priority Critical patent/JP6425433B2/ja
Publication of JP2016011447A publication Critical patent/JP2016011447A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6425433B2 publication Critical patent/JP6425433B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、浸炭処理に係る熱処理をワークに施す熱処理装置及び熱処理方法に関する。
低炭素鋼材等(以下、「ワーク」という)の耐摩耗性を向上させるためには、ワークの表面層に炭素を固溶させる浸炭処理を行うことが一般的である。通常、浸炭処理を行う際には、ワークの加熱や焼入れ等の処理も実施される。このような浸炭処理に係る一連の熱処理は、ワークを搬送しながら連続的に各処理を行う連続式の浸炭装置や、加熱処理用の熱処理装置,浸炭処理用の熱処理装置といった各処理を1つの熱処理装置で行うバッチ式の浸炭装置を用いて行われる。
バッチ式の浸炭装置の場合、各熱処理装置には、ワークの熱処理室への搬入時及び熱処理室からの搬出時に、熱処理室のワーク搬送口を開閉する仕切扉が設けられる。そして、その仕切扉を閉じることで熱処理室の内部雰囲気と外部雰囲気が遮断され、これにより熱処理室の内部が各熱処理に適した雰囲気に維持される。
ワークの搬入、搬出時間及び仕切扉の開閉時間の長さは、生産性の優劣に影響を与えるため、これらの時間は可能な限り短くすることが求められる。これを実現する関連技術として、特許文献1に記載された溶解炉がある。この溶解炉では、台車44に固定された蓋体34とルツボ1(ワークに相当)が、台車44の移動と共に一体的に移動する構造となっている。このような構造とすることにより、ルツボ1を処理室32に搬入すると同時に処理室32の開口部を蓋体34で覆うことができる。これにより、処理室32を密閉している。
特開2002−327988号公報
しかしながら、ワークの熱処理を何度も行うと、熱処理室の開口部を覆う蓋体あるいは、熱処理室(特許文献1では収容体33)側の蓋体との接触面に異物が付着することがある。この場合、特許文献1に記載された装置構造では、ルツボを処理室32に搬入する際に、蓋体34と収容体33との間に異物が挟まれた状態で、蓋体34が収容体33に押し付けられる。これにより、蓋体34が変形してしまうおそれがある。蓋体に変形が生じると、熱処理室の密閉性が維持できないため、蓋体部材の交換等が必要となり、生産性が低下してしまう。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、熱処理室を密閉する蓋体の変形を抑制し、生産性を向上させることを目的とする。
上記課題を解決する本発明は、浸炭処理に係る熱処理をワークに施す熱処理装置であって、密閉可能な熱処理室と、前記熱処理室の下方に設けられ、ワークを載置する載置台と、前記載置台に接続された昇降ロッドとを備え、前記昇降ロッドには、前記熱処理室の底部を構成する蓋体が取り付けられ、前記蓋体が回転することで、前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置が調節されるように構成されたことを特徴としている。
本発明によれば、熱処理室の底部を構成する蓋体が昇降ロッドに螺合されていることから、蓋体に下方向の力が作用した際に蓋体が下方に移動する。このため、熱処理室を密閉する際に、蓋体と、蓋体に接する側壁部下端との間に異物が噛み込んだとしても、異物が噛み込んだ状態のままで蓋体が側壁部下端に押し付けられることはない。これにより、蓋体の変形を抑制することが可能となる。
別の観点による本発明は、浸炭処理に係る熱処理をワークに施す熱処理方法であって、熱処理室の下方に設けられた載置台を昇降させる昇降ロッドに、前記熱処理室の底部を構成する蓋体を、該蓋体が回転することで前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置が調節されるように取り付け、前記熱処理室にワークを搬入する前に、ワークのサイズに応じて前記蓋体を回転させることで、前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置を調節し、ワークを前記熱処理室に搬入する際に、前記昇降ロッドを上昇させ、前記蓋体で前記熱処理室を密閉して熱処理を実施することを特徴としている。
本発明によれば、熱処理室を密閉する蓋体の変形を抑制することができる。これにより、蓋体のメンテナンス頻度を少なくすることができ、生産性を向上させることが可能となる。
本発明の実施形態に係る熱処理装置の概略構成図である。 本発明の実施形態に係る載置台と搬送アームの形状を示す平面図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係るワークの熱処理方法を示す説明図である。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、ワークの浸炭処理を行う熱処理装置に基づいて説明する。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図1は、本実施形態における熱処理装置1の概略構成図である。なお、図1においては、説明の便宜上、紙面手前側の側壁を図示していない。図1に示すように、本実施形態における熱処理装置1は、ワークWの浸炭処理を行う円筒状の熱処理室2と、載置台20と搬送アーム30との間でワークWの受け渡しを行う受渡室3を備えている。受渡室3は、熱処理室2の下方に設けられている。
熱処理室2と受渡室3の間には、ワークWの搬入、搬送を行う搬送口4が形成されている。搬送口4は、ワークWの熱処理中を除いて開放された状態となっており、熱処理室2の雰囲気と受渡室3の雰囲気は連通した状態となっている。また、受渡室3の側壁には、ワークWの搬入、搬出を行う開口5が形成されている。開口5が設けられた側壁の外側には、この開口5を開閉する開閉扉6が設けられている。
熱処理室2の側壁部7は、外壁(以下、「側壁部外壁7a」という)と、側壁部外壁7aの内側面に設けられた断熱材(以下、「側壁部断熱材7b」という)から成る二重構造となっている。また、側壁部外壁7aの上端及び下端は、熱処理室2の内方に突出した形状となっている。同様に、側壁部断熱材7bの上端及び下端も熱処理室2の内方に突出した形状となっている。また、側壁部断熱材7bの上端及び下端は、側壁部外壁7aの上端及び下端に対して熱処理室2の内方に突出した状態となっている。即ち、側壁部7の上端及び下端は、段差形状となっている。
熱処理室2の下方には、ワークWを載置する載置台20が設けられている。載置台20は、昇降ロッド8に接続されている。昇降ロッド8は、受渡室3の底部を貫通するようにして設けられ、昇降ロッド8を昇降させる昇降装置(不図示)に接続されている。
昇降ロッド8の上端部は、ねじ切り加工が施されている。このねじ切り部9には熱処理室2の底部を構成する円板状の蓋体10が取り付けられている。蓋体10は、側壁部7と同様に、外壁(以下、「蓋体外壁10a」という)と、断熱材(以下、「蓋体断熱材10b」という)から成る二重構造となっている。蓋体外壁10aと蓋体断熱材10bの中央には、雌ねじ加工が施された穴(不図示)が形成されている。即ち、蓋体10は、昇降ロッド8に螺合されている。このため、蓋体10を回転させることにより、載置台20に対する蓋体10の位置を調節することができる。
蓋体断熱材10bの径は、蓋体外壁10aの径よりも小さくなっている。即ち、蓋体10の周縁は段差形状となっている。また、蓋体外壁10aの径は、側壁部外壁7aの突出部側面S1の径と概ね等しい径を有している。また、蓋体断熱材10bの径は、側壁部断熱材7bの突出部側面S2の径と概ね等しい径を有している。
したがって、載置台20を上昇させた際には、蓋体周縁の段差形状部が側壁部下端の段差形状部に係合することになる。具体的には、側壁部外壁7aの突出部側面S1に蓋体外壁10aの側面S3が接し、側壁部断熱材7bの突出部側面S2に蓋体断熱材10bの側面S4が接し、側壁部断熱材7bの突出部下面U1に蓋体外壁10aの上面U2が当接する。このように側壁部7と蓋体10との接触面が複数あることにより、いずれかの接触面に大きな隙間が生じた場合であっても、他の接触面により熱処理室2の密閉性を維持することができる。即ち、蓋体10の周縁の形状を側壁部下端の段差形状に係合する形状とすることにより、熱処理室2の密閉性を高めることができる。
また、熱処理室2の天井部11も、外壁(以下、「天井部外壁11a」という)と断熱材(以下、「天井部断熱材11b」という)から成る二重構造となっている。天井部11と側壁部7の係合構造も、蓋体10と側壁部7の係合構造と同様の構造となっている。なお、天井部11は、熱処理室2から取り外し可能に構成されており、これにより、メンテナンス性を向上させている。
次に、載置台20と搬送アーム30について説明する。図2は、本実施形態における載置台20と搬送アーム30の形状を示す平面図である。なお、図2ではワークWの外形を破線で示している。
図2に示すように、載置台20は、中央の円板21と、円板21から放射状に突出した3つのワーク載置部22が一体となって形状となっている。各ワーク載置部22同士のなす角度は互いに等しくなっており(本実施形態では120°)、各ワーク載置部22の先端部には、ワークWを支持する載置台ピン23が設けられている。即ち、ワークWは載置台ピン23により3点支持される。
また、搬送アーム30の先端部31は、平面視において三叉形状を有しており、その三叉形状部の先端は、載置台20の円板21の中心に向かうようにして搬送アーム本体32から突出している(ワーク支持部33)。また、搬送アーム本体32の両側部から突出する側部ワーク支持部34の先端同士の間には隙間が形成されている。即ち、搬送アーム30の先端部31には開口35が設けられている。開口35のサイズは、搬送アーム30の伸縮移動時において、側部ワーク支持部34が載置台20に接続する昇降ロッド8に接触しないサイズ、例えば側部ワーク支持部34の先端同士の距離が昇降ロッド8の径より大きくなるようなサイズである。
搬送アーム30の各ワーク支持部33は、平面視において載置台20の各ワーク載置部22の間でワークWを支持するように設けられている。各ワーク支持部33同士のなす角度は互いに等しくなっている(本実施形態では120°)。各ワーク支持部33の先端部には、ワークWの搬送時にワークWを支持する搬送アームピン36が設けられており、ワークWは搬送アームピン36により3点支持される。
本実施形態における熱処理装置1は、以上のように構成されている。なお、図示はしていないが、熱処理装置1は加熱機構や浸炭ガス導入機構、排気機構等の一般的な浸炭処理に必要な構成を備えている。受渡室は、真空雰囲気とすることが可能であり、真空雰囲気を形成するための排気口、真空計などを備えても良い。
次に、上記熱処理装置1を用いた浸炭処理方法について説明する。なお、図3〜図9に示す熱処理装置1においては、構成部品の一部の図示を省略している。
まず、図3に示すように、浸炭工程の前工程である加熱工程において、浸炭処理温度近傍まで加熱されたワークWが搬送アーム30に支持されて受渡室3に搬入される。
続いて、図4に示すように、載置台20が上昇する。これにより、ワークWが搬送アーム30から載置台20に受け渡される。その後、図5に示すように、搬送アーム30が後退し、受渡室3の開閉扉6が閉じられる。
続いて、図6に示すように、載置台20が上昇し、ワークWが熱処理室2に搬入される。これと同時に、熱処理室2の側壁部7の下端の段差形状部に、昇降ロッド8に螺合する蓋体周縁の段差形状部が係合する。これにより、熱処理室2が密閉される。
このとき、昇降ロッド8は所定の上昇量に達するまで上昇動作を停止しない。このため、例えば蓋体外壁10aの上面U2と、側壁部断熱材7bの突出部下面U1との間に異物が噛み込まれた場合であっても、昇降ロッド8は上昇し続ける。しかし、本実施形態における熱処理装置1においては、蓋体10が昇降ロッド8に螺合されているため、噛み込んだ異物から受ける反力により、蓋体10は昇降ロッド8の下方に移動する。即ち、異物が噛み込んだ状態のままで、蓋体10が側壁部断熱材7bの突出部下面U1に押し付けられることはない。これにより、蓋体10の変形を抑制することができる。
なお、蓋体10が下方に移動することにより、蓋体10と側壁部7の下端との間には隙間が生じ、熱処理室2の密閉性が低下することになる。このとき、例えば熱処理室2の密閉性を検知するセンサー等により、蓋体10と側壁部下端との間に隙間が生じていることを検知することができる。この場合、ワークWの熱処理を一時的に中断し、異物を除去した後、蓋体10を回転させることで蓋体10を所定の位置まで戻すことができる。
続いて、熱処理室2にワークWが搬入された後、浸炭ガスが導入され、浸炭処理が実施される。浸炭処理の終了後、図7に示すように、載置台20が下降し、受渡室3の開閉扉6が開かれる。その後、図8に示すように、搬送アーム30が受渡室内に前進し、図9に示すように、載置台20から搬送アーム30にワークWが受け渡される。
このようにして本実施形態に係る一連の浸炭処理が終了する。受渡室3から搬出されたワークWは、その後、他の熱処理装置1において焼入れ処理等が施される。
以上説明したように、本実施形態によれば、熱処理室2の底部を構成する蓋体10が昇降ロッド8に螺合されているため、載置台20を上昇させた際の異物の噛み込みによる蓋体10の変形を抑制することが可能となる。これにより、蓋体部材の交換等のメンテナンスに費やす時間が少なくなり、生産性を向上させることができる。
この効果は、特に、1度の処理で少量(例えば1つ)のワークWしか処理しないような製品品質を重視した処理を行う際に顕著に現れる。なぜなら、少量処理を行う場合には、熱処理室2へのワークWの搬入頻度が高くなり、必然的に蓋体10の上面と側壁部7の下端の接触頻度が高くなるためである。即ち、少量処理を行う場合には蓋体10の変形が起こりやすい状態になるが、本実施形態における熱処理装置1においては、その変形を抑制することができる。
また、本実施形態のように蓋体10が昇降ロッド8に螺合される構成であれば、熱処理対象のワークWのサイズ(高さ、厚さ)に応じて蓋体10を回転させることで、蓋体10の位置を調節することができる。これにより、熱処理室2の高さを変えずに様々なサイズのワークWを熱処理することができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記実施形態では、熱処理装置1で浸炭処理を実施することとしたが、熱処理装置1で実施される熱処理は浸炭処理に限定されることはない。加熱や冷却等の浸炭処理に係る他の処理を実施しても良い。また、上記実施形態では、昇降ロッド8の上端部にねじ切り加工を施すこととしたが、昇降ロッド全体をねじ切り加工しても良い。
また、上記実施形態では、蓋体10を側壁部7の下端の段差形状部に係合する形状としたが、蓋体10及び側壁部7は段差形状としなくても良い。また、蓋体10に断熱材を用いなくても良い。さらに、蓋体10は二重構造でなくても良い。即ち、蓋体10が昇降ロッド8に螺合されていれば、異物の噛み込みに起因する蓋体10の変形を抑制することは可能である。
ただし、蓋体10を複層構造として、蓋体10の周縁の形状を側壁部下端の段差形状部に係合する形状とした方が、蓋体10と側壁部下端との接触面が増え、熱処理室2の密閉性を向上させることができる。また、複層構造とする場合には、少なくとも1層を断熱材とすることで、熱処理室2の断熱性を更に向上させることができる。さらには、熱処理室2から受渡室3への不要な雰囲気ガスの流入を防ぐこともでき、真空雰囲気とした場合には、真空度を安定保持することが可能となる。
本発明は、ワークの浸炭処理に適用することができる。
1 熱処理装置
2 熱処理室
3 受渡室
4 搬送口
5 開口
6 開閉扉
7 側壁部
7a 側壁部外壁
7b 側壁部断熱材
8 昇降ロッド
9 ねじ切り部
10 蓋体
10a 蓋体外壁
10b 蓋体断熱材
11 天井部
11a 天井部外壁
11b 天井部断熱材
20 載置台
21 円板
22 ワーク載置部
23 載置台ピン
30 搬送アーム
31 搬送アーム先端部
32 搬送アーム本体
33 ワーク支持部
34 側部ワーク支持部
35 開口
36 搬送アームピン
S1 側壁部外壁の突出部側面
S2 側壁部断熱材の突出部側面
S3 蓋体外壁の側面
S4 蓋体断熱材の側面
U1 側壁部断熱材の突出部下面
U2 蓋体外壁の上面
W ワーク


Claims (6)

  1. 浸炭処理に係る熱処理をワークに施す熱処理装置であって、
    密閉可能な熱処理室と、
    前記熱処理室の下方に設けられ、ワークを載置する載置台と、
    前記載置台に接続された昇降ロッドとを備え、
    前記昇降ロッドには、前記熱処理室の底部を構成する蓋体が取り付けられ、
    前記蓋体が回転することで、前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置が調節されるように構成された、熱処理装置。
  2. 前記熱処理室は、複層構造であり、前記熱処理室の側壁部下端が段差形状となっており、前記蓋体の周縁が前記段差形状に係合する形状である、請求項1に記載の熱処理装置。
  3. 前記熱処理室は、複層構造であり、少なくとも1層は断熱材で構成されている、請求項1又は2に記載の熱処理装置。
  4. 浸炭処理に係る熱処理をワークに施す熱処理方法であって、
    熱処理室の下方に設けられた載置台を昇降させる昇降ロッドに、前記熱処理室の底部を構成する蓋体を、該蓋体が回転することで前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置が調節されるように取り付け、
    前記熱処理室にワークを搬入する前に、ワークのサイズに応じて前記蓋体を回転させることで、前記載置台に対する上下方向における該蓋体の位置を調節し、
    ワークを前記熱処理室に搬入する際に、前記昇降ロッドを上昇させ、前記蓋体で前記熱処理室を密閉して熱処理を実施する、熱処理方法。
  5. 前記熱処理室を複層構造とし、前記熱処理室の側壁部下端を段差形状とし、前記蓋体の周縁を前記段差形状に係合する形状とした前記蓋体で前記熱処理室を密閉する、請求項4に記載の熱処理方法。
  6. 前記熱処理室を複層構造として、少なくとも1層を断熱材で構成する、請求項4又は5に記載の熱処理方法。
JP2014134006A 2014-06-30 2014-06-30 熱処理装置及び熱処理方法 Active JP6425433B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014134006A JP6425433B2 (ja) 2014-06-30 2014-06-30 熱処理装置及び熱処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014134006A JP6425433B2 (ja) 2014-06-30 2014-06-30 熱処理装置及び熱処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016011447A JP2016011447A (ja) 2016-01-21
JP6425433B2 true JP6425433B2 (ja) 2018-11-21

Family

ID=55228353

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014134006A Active JP6425433B2 (ja) 2014-06-30 2014-06-30 熱処理装置及び熱処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6425433B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101851258B1 (ko) 2016-12-02 2018-04-24 주식회사 포스코 열처리장치 및 그 제어방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63286697A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 黒崎炉工業株式会社 回転炉床式エレベ−タ−型炉
JP3526980B2 (ja) * 1995-08-16 2004-05-17 株式会社アルバック 真空・ガス雰囲気熱処理炉
JP3894405B2 (ja) * 1999-10-07 2007-03-22 株式会社アルバック 真空熱処理装置
JP2007010205A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd マイクロ波焼成炉
JP2011052297A (ja) * 2009-09-03 2011-03-17 Daido Steel Co Ltd 熱処理設備
WO2012063926A1 (ja) * 2010-11-10 2012-05-18 株式会社Ihi 搬送装置及び搬送熱処理システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016011447A (ja) 2016-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101569000B (zh) 衬底热处理设备和衬底热处理方法
JP3955340B2 (ja) 高温高圧ガス処理装置
US10009961B2 (en) Local temperature control of susceptor heater for increase of temperature uniformity
JP2015141994A (ja) 支持機構及び基板処理装置
WO2018061145A1 (ja) 基板処理装置、振動検出システム及びプログラム
JP6336231B1 (ja) 真空処理装置
JP6425433B2 (ja) 熱処理装置及び熱処理方法
JP2003197721A (ja) 基板支持用昇降ピン及びこれを用いた多室型成膜装置
JP5491261B2 (ja) 基板保持具、縦型熱処理装置および熱処理方法
JP2014070251A (ja) 熱処理装置
JP5686918B1 (ja) 熱処理設備
JP2015050341A (ja) 基板処理装置及びメンテナンス方法
JP2014162650A (ja) ガラス成形体の製造装置、及び、ガラス成形体の製造方法
JP6325936B2 (ja) 熱処理装置
WO2014115722A1 (ja) ガラス成形体の製造方法および製造システム
JP2003185344A (ja) 熱処理炉
JP6556074B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
TWI632630B (zh) 立式熱處理裝置
JP6184718B2 (ja) 熱処理炉
JP2001358084A (ja) 熱処理装置
JP5770042B2 (ja) 熱処理装置
KR101623011B1 (ko) 열처리 장치 및 열처리 방법
JP2007258439A (ja) 熱処理プレート
JP2015229776A (ja) 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体
JP5032766B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理装置のメンテナンス方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180417

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181016

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181023

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6425433

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250