JP6368465B2 - 排ガス処理方法 - Google Patents
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(SiH2)n・・・(1)
(式(1)中、nは5〜10の整数である。)
で表される環状水素化シラン化合物のほか、これら環状水素化シラン化合物の水素原子の全部または一部がハロゲン原子または有機基に置換された環状ハロゲン化シラン化合物や環状オルガノシラン化合物が挙げられる。これらの中でも、シクロペンタシランおよび/またはシクロヘキサシランが、本発明の排ガス処理方法をより有効に機能させうる点で好ましい。
シクロヘキサシランを原料とした膜加工用設備(CVD装置)からの排ガスを被処理ガスとし、これを燃焼処理による分解工程、アルカリ処理工程および脱水工程に、この順序で供した。膜加工用設備から排出された被処理ガス中にはSiH4、蒸気化したシクロヘキサシランが含まれており、その合計含有濃度は10000体積ppmであった。
シクロヘキサシランを原料とした膜加工用設備(CVD装置)からの排ガスを被処理ガスとし、これを吸着処理による分解工程、アルカリ処理工程および脱水工程に、この順序で供した。この被処理ガス中にはSiH4、蒸気化したシクロヘキサシランが含まれており、その合計含有濃度は10000体積ppmであった。
シクロヘキサシランを原料とした膜加工用設備(CVD装置)からの排ガスを被処理ガスとし、これをアルカリ処理工程に供した。この被処理ガス中にはSiH4、蒸気化したシクロヘキサシランが含まれており、その合計含有濃度は10000体積ppmであった。
Claims (5)
- 環状シラン化合物を取り扱う設備で生じたガスを排気するにあたり、
前記ガスに燃焼処理を施す分解工程と、
前記分解工程で生じたSiO 2 を含む被処理ガスを圧送してアルカリ処理する工程を含み、
前記環状シラン化合物を取り扱う設備で生じたガス中の環状シラン化合物からなるシラン成分を除害することを特徴とする排ガス処理方法。 - 前記環状シラン化合物がシクロペンタシランおよび/またはシクロヘキサシランである請求項1に記載の排ガス処理方法。
- 前記アルカリ処理はスクラバー装置で行う請求項1または2に記載の排ガス処理方法。
- 前記分解工程の後に脱水工程を含む請求項1〜3のいずれかに記載の排ガス処理方法。
- 除害後のガス中の前記シラン成分の含有量が5体積ppm以下である請求項1〜4のいずれかに記載の排ガス処理方法。
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102524745B1 (ko) * | 2018-03-23 | 2023-04-25 | 가부시끼가이샤 도시바 | 처리액 및 처리 방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61118117A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-05 | Taiyo Sanso Kk | 有毒ガス成分を含むガスの処理方法 |
JPH0779949B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1995-08-30 | 株式会社荏原製作所 | 排ガス処理装置 |
EP2556188A4 (en) * | 2010-04-06 | 2014-01-15 | Ndsu Res Foundation | LIQUID SILICONE COMPOSITIONS AND METHOD FOR PRODUCING MATERIALS BASED ON SILICON BASE |
WO2012002995A2 (en) * | 2010-07-02 | 2012-01-05 | Matheson Tri-Gas, Inc. | Thin films and methods of making them using cyclohexasilane |
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