JP6362108B2 - 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 101
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 71
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 50
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 15
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011549 crystallization solution Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 39
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;sulfuric acid Chemical compound OO.OS(O)(=O)=O XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
2 レジスト
3 レジスト(突起部形成用)
4 形成された突起部
Claims (9)
- 半導体素子搭載部及び端子部を有していて、該半導体素子搭載部及び端子部のうち少なくとも一方の側面に、半導体素子搭載側の面から該半導体素子搭載側とは反対側のはんだ実装側の面方向へ略垂直に延伸した端面と、前記はんだ実装側の面から前記半導体素子搭載側の面方向へ凸状に切除され凹状に形成された円弧面と、前記端面と前記円弧面とに接続する先端面とにより形成されてなる突起部を備えていて、前記突起部の前記先端面は、略平面あるいは円弧状をなしているとともに肉厚に形成されており、前記突起部は、前記先端面の前記端面と接続する部位における、前記端面の前記半導体素子搭載側の根元部から側面方向への突出長さが10μm以内、厚さが50μm以上であり、前記先端面における前記円弧面と接続する部位が、前記先端面における前記端面と接続する部位よりも前記はんだ実装側の面に近い位置にあり、且つ、前記円弧面は、前記はんだ実装側の面と接続する部位から前記先端面と接続する部位に至るまで一つながりの略半円の円弧形状の面であり、前記円弧面における最も半導体素子搭載側の面に近い部位が、前記先端面における前記端面と接続する部位と同程度の高さ位置又は前記先端面における前記端面と接続する部位よりも前記半導体素子搭載側の面に近い位置にあることを特徴とする半導体素子搭載用リードフレーム。
- 前記半導体素子搭載部及び端子部の側面が、粗化処理により粗面化されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子搭載用リードフレーム。
- 前記半導体素子搭載部及び端子部の側面のうち少なくとも前記突起部を備えている箇所には、めっきが施されていないことを特徴とする請求項2に記載の半導体素子搭載用リードフレーム。
- 前記粗面化されている側面は、平均粗さが0.12〜0.20μmであることを特徴とする請求項2又は3に記載の半導体素子搭載用リードフレーム。
- 半導体素子搭載部及び端子部を有していて、該半導体素子搭載部及び端子部のうち少なくとも一方の側面に、半導体素子搭載側の面から該半導体素子搭載側とは反対側のはんだ実装側の面方向へ略垂直に延伸した端面と、前記はんだ実装側の面から前記半導体素子搭載側の面方向へ凸状に切除され凹状に形成された円弧面と、前記端面と前記円弧面とに接続する先端面とにより形成されてなる突起部を備えた半導体素子搭載用リードフレームの製造方法であって、
リードフレーム用金属板の前記半導体素子搭載側とは反対側の前記はんだ実装側の面における、前記円弧面と接続する部位に対応する位置から所定の間隔を置いてエッチング速度制御用レジストパターンを配置することにより、エッチング速度を制御するようにして、前記半導体素子搭載側の面から前記はんだ実装側の面方向へ略垂直に延伸した端面と、前記はんだ実装側の面から前記半導体素子搭載側の面方向へ凸状に切除することにより凹状に形成される円弧面と、前記端面と前記円弧面とに接続する先端面とによりなる突起部を形成して、該突起部の前記先端面は、略平面あるいは円弧状をなすとともに肉厚となるように形成し、前記突起部が、前記先端面の前記端面と接続する部位における、前記端面の前記半導体素子搭載側の根元部から側面方向への突出長さが、10μm以内、厚さが50μm以上であり、前記先端面における前記円弧面と接続する部位が、前記先端面における前記端面と接続する部位よりも前記はんだ実装側の面に近い位置にあり、且つ、前記円弧面は、前記はんだ実装側の面と接続する部位から前記先端面と接続する部位に至るまで一つながりの略半円の円弧形状の面であり、前記円弧面における最も半導体素子搭載側の面に近い部位が、前記先端面における前記端面と接続する部位と同程度の高さ位置又は前記先端面における前記端面と接続する部位よりも前記半導体素子搭載側の面に近い位置にあるようにしたことを特徴とする半導体素子搭載用リードフレームの製造方法。 - 前記エッチング速度制御用レジストパターンを、前記はんだ実装側の面における前記円弧面と接続する部位に対応する位置から板厚の45〜50%間隔をおいて、板厚の42.5〜47.5%の幅で配置することを特徴とする請求項5に記載の半導体素子搭載用リードフレームの製造方法。
- 金属板の両面に、一方の面側において半導体素子搭載部と半導体素子と接続される端子部を、他方の面側においてはんだ実装端子部をそれぞれ形成するための開口しためっきレジストパターンを形成し、
形成しためっきレジストパターンから前記金属板の下地の金属が露出している部分に所定の厚さのめっきを施した後、前記めっきレジストパターンを剥離し、
前記金属板の他方の側の面への前記エッチング速度制御用レジストパターンの形成を含んで、前記金属板の両面にリードフレームパターン形成用エッチングレジストパターンを形成して、前記突起部を含むリードフレームパターンをエッチングにて形成し、その後、前記エッチング速度制御用レジストパターンを含む前記リードフレームパターン形成用エッチングレジストパターンを剥離することを特徴とする請求項5又は6に記載の半導体装置搭載用リードフレームの製造方法。 - めっきされる金属の種類は、Ag、Cu/Ag、Ni/Pd/Au、及びNi/Pd/Au/Agのいずれかであることを特徴とする請求項7に記載の半導体素子搭載用リードフレームの製造方法。
- 前記突起部を含む前記リードフレームパターン形成のためのエッチング後に前記エッチング速度制御用レジストパターンを含む前記リードフレームパターン形成用エッチングレジストパターンを残した状態で、露出している前記金属板の側面を粗化液で処理することにより前記半導体素子搭載部及び前記端子部の側面に粗化面を形成するようにしたことを特徴とする請求項7又は8に記載のリードフレームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014182254A JP6362108B2 (ja) | 2014-09-08 | 2014-09-08 | 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014182254A JP6362108B2 (ja) | 2014-09-08 | 2014-09-08 | 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016058479A JP2016058479A (ja) | 2016-04-21 |
JP6362108B2 true JP6362108B2 (ja) | 2018-07-25 |
Family
ID=55757118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014182254A Active JP6362108B2 (ja) | 2014-09-08 | 2014-09-08 | 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6362108B2 (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0231844B2 (ja) * | 1986-08-18 | 1990-07-17 | Toppan Printing Co Ltd | Handotaisochoriidofureemunoseizohoho |
JP2000195984A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-07-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置用キャリア基板及びその製造方法及び半導体装置及びその製造方法 |
JP3879410B2 (ja) * | 2001-02-06 | 2007-02-14 | 凸版印刷株式会社 | リードフレームの製造方法 |
JP2004247613A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP5582382B2 (ja) * | 2009-12-17 | 2014-09-03 | 大日本印刷株式会社 | リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 |
JP5710128B2 (ja) * | 2010-01-19 | 2015-04-30 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂付リードフレームの製造方法 |
JP5813335B2 (ja) * | 2011-02-08 | 2015-11-17 | 新光電気工業株式会社 | リードフレーム、半導体装置、リードフレームの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2012182207A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | Led素子用リードフレームおよびその製造方法 |
JP6209826B2 (ja) * | 2013-02-22 | 2017-10-11 | 大日本印刷株式会社 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 |
JP6291713B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2018-03-14 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子実装用基体及びそれを備える発光装置、並びにリードフレーム |
JP6052734B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2016-12-27 | Shマテリアル株式会社 | 半導体素子搭載用リードフレーム及びその製造方法 |
-
2014
- 2014-09-08 JP JP2014182254A patent/JP6362108B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016058479A (ja) | 2016-04-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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