JP6323592B2 - 基板の装着及び取外し装置 - Google Patents
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- 238000011068 loading method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 191
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 81
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 62
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 62
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 20
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 70
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 56
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100031948 Enhancer of polycomb homolog 1 Human genes 0.000 description 1
- 102100031941 Enhancer of polycomb homolog 2 Human genes 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 101000920634 Homo sapiens Enhancer of polycomb homolog 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000920664 Homo sapiens Enhancer of polycomb homolog 2 Proteins 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- RFHAOTPXVQNOHP-UHFFFAOYSA-N fluconazole Chemical compound C1=NC=NN1CC(C=1C(=CC(F)=CC=1)F)(O)CN1C=NC=N1 RFHAOTPXVQNOHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
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Description
本願は、2012年3月27日に出願された日本国特願2012−071056号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
図1は、本実施形態のデバイス製造システムSYS(フレキシブル・ディスプレー製造ライン)の構成を示す図である。ここでは、供給ロールFR1から引き出された可撓性の基板P(シート、フィルム等)が、順次、n台の処理装置U1,U2,U3,U4,U5,・・・Unを経て、回収ロールFR2に巻き上げられるまでの例を示している。
図8Aに示すように、吸着面44は、Yb軸方向におけるアーム部材40の双方の端部40bに配置されている。
ここで、マスク搬送装置MLの制御装置43は、θX移動機構53を制御することによって、アーム部材40をθX方向に回転させる。
次に、第2実施形態について説明する。本実施形態のマスク保持装置20は、回転ドラムDMの中心軸28と平行な方向の端部30が中央部31と異なる材料で形成されている点で、第1実施形態と異なる。
回転ドラムDMは、ガイドローラ80及び駆動ローラ81と外接しており、これらローラに支持されている。駆動ローラ81は、図2に示した第2駆動部23の一部であり、電動モータ等から減速機等を介して供給されるトルクを端部30に伝えることで、回転ドラムDMを回転させる。
次に、第3実施形態について説明する。本実施形態のマスク保持装置20は、静電気力によってマスクMを吸着する点で、第1実施形態と異なる。
このような移動面は、例えばXZ平面であってもよく、この場合に、屈伸機構50及びZ移動機構52は、屈伸機構50によるアーム部材40のZ軸方向の移動を相殺するように、Z移動機構52が屈伸機構50を移動させることによって、直線駆動源として機能する。
次に、デバイス製造方法について説明する。図15は、本実施形態のデバイス製造方法を示すフローチャートである。
Claims (14)
- 可撓性を有するシート状の基板を、円筒状のドラムの外周面に沿って湾曲させて装着したり、前記ドラムの外周面から前記シート状の基板を取り外したりする為の基板の装着及び取外し装置であって、
前記シート状の基板を予め定められた許容範囲内のたわみで吸着支持する吸着装置と、
前記ドラムと前記吸着装置と前記ドラムの外周面の周方向に関して相対的に移動させる移動装置と、
前記移動装置による前記相対的な移動によって、前記シート状の基板を前記吸着装置から前記ドラムの外周面に受け渡す際、又は前記ドラムの外周面に装着された前記シート状の基板を前記吸着装置に受け渡す際、前記ドラムの周方向に関する前記相対的な移動の位置に応じて前記吸着装置による前記シート状の基板の吸着状態を変化させる制御装置と、
を備える基板の装着及び取外し装置。 - 請求項1に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記吸着装置は、前記シート状の基板が前記ドラムの外周面と所定の間隔で対向するように吸着するアーム部材を有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項2に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記アーム部材は、前記シート状の基板が前記ドラムの外周面に沿って装着されたときに、周方向に沿って並ぶ前記シート状の基板の複数部分の各々を吸着するように配置され、前記シート状の基板を前記ドラムの外周面の接平面とほぼ平行になるように平面状に支持する複数の吸着部を有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項3に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記移動装置は、平面状に吸着された前記シート状の基板の面に沿って前記アーム部材を直線的に移動させる第1の移動機構を有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項4に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記移動装置は、更に、前記ドラムを前記外周面の周方向に沿って回転させる回転駆動部を有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項5に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記制御装置は、前記シート状の基板を前記アーム部材から前記ドラムの外周面に受け渡す際、前記アーム部材の直線的な移動に伴って前記ドラムが回転するように、前記第1の移動機構と前記回転駆動部とを制御すると共に、
前記相対的な移動の位置に応じて前記複数の吸着部のそれぞれの吸着力を変えるように制御する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項6に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記移動装置は、前記アーム部材に吸着されている前記シート状の基板が前記ドラムの外周面に接近又は離間する方向に前記アーム部材を移動させる第2の移動機構をさらに有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記制御装置は、前記シート状の基板のうち前記ドラムの外周面に最も接近している部位に働く吸着力が相対的に低くなるように前記吸着装置を制御する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記シート状の基板は、短冊状の極薄ガラスで構成されると共に、前記ドラムの外周面に装着された際に周方向に対応した方向に帯状に延びて成膜された磁性体を有し、
前記ドラムは、前記シート状の基板の前記磁性体を磁力によって前記外周面に吸着する磁力発生源を有する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項3〜7のいずれか一項に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記アーム部材に配置された前記複数の吸着部は、前記シート状の基板を減圧によって吸着する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記シート状の基板を前記吸着装置から前記ドラムの外周面に受け渡す際の位置合わせの為に、前記シート状の基板の一部に形成されたマークと、前記ドラムの外周面の一部に形成されたマークとの位置関係を検出するアライメント装置を、
さらに備える基板の装着及び取外し装置。 - 可撓性を有するシート状の基板を、円筒状のドラムの外周面に沿って湾曲させて装着したり、前記ドラムの外周面から前記シート状の基板を取り外したりする為の基板の装着及び取外し装置であって、
前記シート状の基板が予め定められた許容範囲内のたわみで保持されるように、前記シート状の基板の一方の面を支持する部材と、
前記ドラムと前記支持する部材とを前記ドラムの外周面の周方向に関して相対的に移動させる移動装置と、
前記ドラムの外周面の周方向に沿って設けられ、前記シート状の基板の他方の面を保持する吸着力を発生する吸着部材と、
前記移動装置による前記相対的な移動によって、前記シート状の基板を前記支持する部材から前記ドラムの外周面に受け渡す際、又は前記ドラムの外周面に装着された前記シート状の基板を前記支持する部材に受け渡す際、前記ドラムの周方向に関する前記相対的な移動の位置に応じて前記吸着部材による前記シート状の基板の吸着力を前記周方向に変化させる制御装置と、
を備える基板の装着及び取外し装置。 - 請求項12に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記ドラムは、前記外周面の周方向に配置されて磁力を発生する磁力発生部材を備え、
前記制御装置は、前記支持する部材と前記移動装置とによる前記シート状の基板と前記ドラムの外周面との相対的な移動位置に応じて、前記磁力発生部材を制御して前記ドラムの外周面における磁力の分布を制御する、
基板の装着及び取外し装置。 - 請求項12に記載の基板の装着及び取外し装置であって、
前記ドラムは、前記外周面の周方向の複数ヶ所に配置されて静電吸着力を発生する電極部材を備え、
前記制御装置は、前記支持する部材と前記移動装置とによる前記シート状の基板と前記ドラムの外周面との相対的な移動位置に応じて、前記電極部材に印加する電圧を調整して前記ドラムの外周面における静電吸着の分布を制御する、
基板の装着及び取外し装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012071056 | 2012-03-27 | ||
JP2012071056 | 2012-03-27 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016134101A Division JP6132060B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-07-06 | 露光装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018075246A Division JP6485575B2 (ja) | 2012-03-27 | 2018-04-10 | マスク保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017139493A JP2017139493A (ja) | 2017-08-10 |
JP6323592B2 true JP6323592B2 (ja) | 2018-05-16 |
Family
ID=49259086
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014507457A Active JP6048493B2 (ja) | 2012-03-27 | 2013-01-10 | マスク搬送装置、マスク保持装置、基板処理装置、及びデバイス製造方法 |
JP2016134101A Active JP6132060B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-07-06 | 露光装置 |
JP2016225888A Active JP6292284B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-11-21 | マスク装着装置及び露光装置 |
JP2017082087A Active JP6323592B2 (ja) | 2012-03-27 | 2017-04-18 | 基板の装着及び取外し装置 |
JP2018075246A Active JP6485575B2 (ja) | 2012-03-27 | 2018-04-10 | マスク保持装置 |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014507457A Active JP6048493B2 (ja) | 2012-03-27 | 2013-01-10 | マスク搬送装置、マスク保持装置、基板処理装置、及びデバイス製造方法 |
JP2016134101A Active JP6132060B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-07-06 | 露光装置 |
JP2016225888A Active JP6292284B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-11-21 | マスク装着装置及び露光装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018075246A Active JP6485575B2 (ja) | 2012-03-27 | 2018-04-10 | マスク保持装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (5) | JP6048493B2 (ja) |
TW (1) | TWI575330B (ja) |
WO (1) | WO2013145800A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102070126B1 (ko) * | 2015-05-29 | 2020-01-28 | 가부시키가이샤 알박 | 정전 척을 장착한 반송 로봇의 제어 시스템 |
EP3358611B1 (en) * | 2015-09-29 | 2020-08-26 | Nikon Corporation | Production system |
JP2017155263A (ja) | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 成膜システム及び表示装置の製造方法 |
KR20190100980A (ko) * | 2017-12-27 | 2019-08-30 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 정전척, 성막장치, 기판흡착방법, 성막방법, 및 전자 디바이스의 제조방법 |
JP7347386B2 (ja) * | 2020-09-25 | 2023-09-20 | 株式会社村田製作所 | 静電誘導吸着式搬送体および静電誘導吸着式搬送装置 |
JP7191922B2 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-12-19 | キヤノントッキ株式会社 | 搬送装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 |
KR20240012308A (ko) | 2022-07-20 | 2024-01-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 보유 지지 장치 및 기판 보유지지 방법 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4262594A (en) * | 1978-12-22 | 1981-04-21 | Logescan Systems, Inc. | Method and apparatus for manipulating and transporting image media |
JPS59200419A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-13 | Toshiba Corp | 大面積露光装置 |
US6018383A (en) * | 1997-08-20 | 2000-01-25 | Anvik Corporation | Very large area patterning system for flexible substrates |
JP3776577B2 (ja) * | 1997-11-13 | 2006-05-17 | 大和製罐株式会社 | ラベル貼着方法および装置 |
US6411362B2 (en) * | 1999-01-04 | 2002-06-25 | International Business Machines Corporation | Rotational mask scanning exposure method and apparatus |
JP2000275865A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-06 | Hitachi Chem Co Ltd | ドラム状露光装置とその装置を用いたプリント配線板の製造法 |
JP4052826B2 (ja) * | 2001-10-22 | 2008-02-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マスクと露光対象基板との搬送に兼用できる搬送アーム及びそれを備えた露光装置 |
JP4030350B2 (ja) * | 2002-05-28 | 2008-01-09 | 株式会社アルバック | 分割型静電吸着装置 |
JP2004185870A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Toyota Motor Corp | 薄膜積層システム |
JP2004335513A (ja) * | 2003-04-30 | 2004-11-25 | Nikon Corp | レチクルの保持方法、保持装置及び露光装置 |
JP4885483B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2012-02-29 | リンテック株式会社 | 転写装置とその方法、剥離装置とその方法、貼付装置とその方法 |
US20070202442A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for merging a mask and a printing plate |
JP2008015085A (ja) * | 2006-07-04 | 2008-01-24 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 円筒状マスク構成体 |
TWI481968B (zh) * | 2006-09-08 | 2015-04-21 | 尼康股份有限公司 | A mask, an exposure device, and an element manufacturing method |
JP2008116514A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-22 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 連続露光装置 |
JP2008171998A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Nikon Corp | レチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置 |
JP2009093027A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Csun Mfg Ltd | マスクパターンフィルム圧着機の圧着構造及びその圧着方法 |
JP2009175287A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 露光装置 |
JP2009237305A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | マスクパターンフィルムの巻き付け機構及び露光装置 |
US8034540B2 (en) * | 2008-07-31 | 2011-10-11 | Eastman Kodak Company | System and method employing secondary back exposure of flexographic plate |
JP5329191B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-10-30 | 日置電機株式会社 | 吸着装置および検査装置 |
JP2011203311A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Nikon Corp | マスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 |
JP5708179B2 (ja) * | 2010-04-13 | 2015-04-30 | 株式会社ニコン | 露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法 |
WO2013035661A1 (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-14 | 株式会社ニコン | 基板処理装置 |
-
2013
- 2013-01-09 TW TW102100682A patent/TWI575330B/zh active
- 2013-01-10 JP JP2014507457A patent/JP6048493B2/ja active Active
- 2013-01-10 WO PCT/JP2013/050254 patent/WO2013145800A1/ja active Application Filing
-
2016
- 2016-07-06 JP JP2016134101A patent/JP6132060B2/ja active Active
- 2016-11-21 JP JP2016225888A patent/JP6292284B2/ja active Active
-
2017
- 2017-04-18 JP JP2017082087A patent/JP6323592B2/ja active Active
-
2018
- 2018-04-10 JP JP2018075246A patent/JP6485575B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI575330B (zh) | 2017-03-21 |
JP6132060B2 (ja) | 2017-05-24 |
JP2018148217A (ja) | 2018-09-20 |
JP2017139493A (ja) | 2017-08-10 |
WO2013145800A1 (ja) | 2013-10-03 |
JP2017045067A (ja) | 2017-03-02 |
TW201339766A (zh) | 2013-10-01 |
JP6048493B2 (ja) | 2016-12-21 |
JP2016181007A (ja) | 2016-10-13 |
JP6292284B2 (ja) | 2018-03-14 |
JPWO2013145800A1 (ja) | 2015-12-10 |
JP6485575B2 (ja) | 2019-03-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180313 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180326 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6323592 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |