JP6281219B2 - 光導波路の製造方法および反射面形成方法 - Google Patents
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Description
(1) 第1方向に間隔を隔てて並設された複数のコア部を備える層状の光導波路の一方の面側に、前記第1方向に沿って並設され、前記第1方向の長さが前記第1方向と直交する第2方向に沿って連続的に変化する部分を備えた複数の開口を有する可動マスクを配置する配置工程と、
前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射するとともに、前記可動マスクを前記第1方向に移動させることにより、前記光導波路に、前記一方の面に対して傾斜する反射面を有する複数の切り欠き部を前記複数のコア部に対応して形成する形成工程と、を有していることを特徴とする光導波路の製造方法。
前記形成工程では、前記固定マスクの開口および前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射する上記(1)に記載の光導波路の製造方法。
前記形成方法では、前記可動マスクの前記移動によって、前記可動マスクの各前記開口が、前記固定マスクの対応する前記開口を前記第1方向に跨ぐように移動する上記(2)に記載の光導波路の製造方法。
前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射するとともに、前記可動マスクを前記第1方向に移動させることにより、前記光導波路に、前記一方の面に対して傾斜する反射面を有する複数の切り欠き部を前記複数のコア部に対応して形成する形成工程と、を有していることを特徴とする反射面形成方法。
また、本発明によれば、信頼性の高い光導波路が得られる。
図1に示す光電気混載基板100は、光導波路(本発明の光導波路)1と、その下面に積層された電気配線基板5と、これらの間に介挿され両者を接着する接着シート9とを有している。以下、光電気混載基板100の各部の構成について順次説明する。
光導波路1は、光信号を伝送し得る部材である。また、光導波路1は、層状をなしている。また、図2に示すように、光導波路1は、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12が下方からこの順で積層されてなる積層体と、この積層体の下面に積層された支持フィルム2と、この積層体の上面に積層されたカバーフィルム3と、支持フィルム2の下面側からクラッド層12の上面にかけて形成されたミラー(光路変換部)7と、を有している。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さの0.05〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.1〜1.25倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が確保される。
図1に示す電気配線基板5は、コア基板51とその両面に積層されたビルドアップ層52とを備えた多層基板50と、この多層基板50の下面に設けられたバンプ53と、を有している。このような電気配線基板5は、このバンプ53を介して他の回路に実装可能なインターポーザーとして用いられる。
接着シート9は、熱硬化性樹脂を主材料とするシートであって、硬化により電気配線基板5と光導波路1とを接着する。
次に、光導波路1の製造方法(本発明の光導波路の製造方法および本発明の反射面形成方法)について、その一例を挙げて具体的に説明する。
まず、図3(a)に示すように、支持フィルム2を用意し、用意した支持フィルム2上にクラッド層11を形成する。具体的には、まず、クラッド層形成用樹脂組成物をドクターブレードにより支持フィルム2上に均一に塗布する。次に、クラッド層形成用樹脂組成物を乾燥させて溶媒を除去する。次に、クラッド層形成用樹脂組成物を硬化させる。これにより、クラッド層11が形成される。
第2の工程は、光導波路1Aの上面(一方の面)側に、可動マスクおよび固定マスクを配置する配置工程と、可動マスクおよび固定マスクを介して光導波路1Aにレーザーを照射してミラー7を形成する形成工程と、を有している。
まず、図4に示すように、光導波路1Aに対して移動可能な可動マスク300と、光導波路1Aに対して固定的に設けられる固定マスク400とを光導波路1Aの上側(支持フィルム2側)に配置する。また、マスク300、400の上方に図示しないレーザー光源を配置し、マスク300、400と光導波路1Aの間にレーザーLLを集束させるレンズ500を配置する。なお、この工程は、例えば、可動マスク300、固定マスク400、レーザー光源およびレンズ500が予め所定の位置にセットされている装置(レーザー加工装置)に、光導波路1Aを配置することにより行うことができる。
まず、可動マスク300を初期状態(図7(a)の状態)とし、マスク300、400の上方から光導波路1Aに向けてレーザーLLを照射する。この状態では、前述したように、開口410が可動マスク300によって塞がれているため、レーザーLLは光導波路1Aに到達しない。
上述したような光電気混載基板は、前述したように、電気配線基板を基準にしつつ光導波路に正確な加工を容易に施し得るものであるため、例えば光電気混載基板に光素子を搭載する場合、光素子と電気配線基板とを導通抵抗の増大や断線等を招くことなく確実に接続することができる。その結果、信頼性の高い光モジュールを効率よく製造することができる。また、このような光電気混載基板を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器が得られる。
1A 光導波路
100 光電気混載基板
11 クラッド層
12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
15 側面クラッド部
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
5 電気配線基板
50 多層基板
51 コア基板
511 貫通孔
52 ビルドアップ層
521 絶縁層
522 導体層
53 バンプ
54 ソルダーレジスト層
7 ミラー
70 空洞部
9 接着シート
300 可動マスク
310 開口
310a 開口
310A 開口
310B 開口
311 辺
312 辺
313 辺
311A 辺
312A 辺
313A 辺
314A 辺
311B 辺
312B 辺
313B 辺
400 固定マスク
410 開口
410a 開口
410b 開口
410c 開口
411 辺
412 辺
413 辺
414 辺
500 レンズ
D1、D2 離間距離
L1、L2 長さ
LL レーザー
W1 幅
S1 形成領域
Claims (8)
- 第1方向に間隔を隔てて並設された複数のコア部を備える層状の光導波路の一方の面側に、前記第1方向に沿って並設され、前記第1方向の長さが前記第1方向と直交する第2方向に沿って連続的に変化する部分を備えた複数の開口を有する可動マスクを配置する配置工程と、
前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射するとともに、前記可動マスクを前記第1方向に移動させることにより、前記光導波路に、前記一方の面に対して傾斜する反射面を有する複数の切り欠き部を前記複数のコア部に対応して形成する形成工程と、を有する光導波路の製造方法であって、
前記配置工程では、さらに、前記第1方向に沿って並設され、各前記切り欠き部の形成領域を規定する複数の開口を有する固定マスクを、前記光導波路の一方の面側に前記可動マスクと重なるように配置し、
前記形成工程では、前記固定マスクの開口および前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射することを特徴とする光導波路の製造方法。
- 前記可動マスクの複数の前記開口は、前記固定マスクの複数の前記開口に対応して形成されており、
前記形成工程では、前記可動マスクの前記移動によって、前記可動マスクの各前記開口が、前記固定マスクの対応する前記開口を前記第1方向に跨ぐように移動する請求項1に記載の光導波路の製造方法。
- 前記可動マスクの各前記開口の前記第1方向の最大長さは、前記固定マスクの隣り合う一対の前記開口の離間距離よりも短い請求項1または2に記載の光導波路の製造方法。
- 前記配置工程では、前記可動マスクと前記固定マスクが接して配置される請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 前記配置工程では、前記固定マスクが前記可動マスクよりも前記光導波路側に位置している請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 前記固定マスクの各前記開口の輪郭は、矩形であり、前記第1方向に延在する一対の辺と、前記第2方向に延在する一対の辺とを有している請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 前記可動マスクの各前記開口の輪郭は、三角形または台形をなしている請求項1ないし6のいずれか1項に記載の光導波路の製造方法。
- 第1方向に間隔を隔てて並設された複数のコア部を備える層状の光導波路の一方の面側に、前記第1方向に沿って並設され、前記第1方向の長さが前記第1方向と直交する第2方向に沿って連続的に変化する部分を備えた複数の開口を有する可動マスクを配置する配置工程と、
前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射するとともに、前記可動マスクを前記第1方向に移動させることにより、前記光導波路に、前記一方の面に対して傾斜する反射面を有する複数の切り欠き部を前記複数のコア部に対応して形成する形成工程と、を有する反射面形成方法であって、
前記配置工程では、さらに、前記第1方向に沿って並設され、各前記切り欠き部の形成領域を規定する複数の開口を有する固定マスクを、前記光導波路の一方の面側に前記可動マスクと重なるように配置し、
前記形成工程では、前記固定マスクの開口および前記可動マスクの開口を介して前記光導波路にレーザーを照射することを特徴とする反射面形成方法。
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