JP6251559B2 - 試料支持装置 - Google Patents
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Description
このような検査装置において、光源から出射された光は、光学系を介して検査対象であるマスクに照射される。マスクはテーブル上に載置されており、テーブルが移動することによって照射された光がマスク上を走査する。マスクを透過または反射した光は、レンズを介して画像センサ上に結像し、画像センサで撮像された光学画像は、測定データとして比較部へ送られる。比較部では、測定データと参照データとが、適切な検査アルゴリズムにしたがって比較される。そして、これらのデータが一致しない場合には、欠陥ありと判定される(例えば、特許文献1参照)。
Zテーブルの移動を制御する高さ補正部を有し、
Z基準面上に設けられてそのZ基準面からの高さを測定するZセンサを有するとともに、試料の測定位置に対して同一軸上に測定面を設け、Z基準面からの測定面の高さをZセンサにより測定し、その高さ測定値に従い高さ補正部がZテーブルを移動させ、試料を所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする試料支持装置に関する。
Zセンサは、それぞれZ基準面上に設けられた第1のZセンサと第2のZセンサとからなり、
Z基準面からの第1の測定面の高さを第1のZセンサにより測定し、第2の測定面の高さを第2のZセンサにより測定して、それぞれの高さ測定値に従い高さ補正部がZテーブルを移動させ、試料を所定の高さ位置に配置するよう構成されることが好ましい。
さらに、測定試料表面の互いに離間する4つ以上の基準位置で光を順次照射して反射された光を受光してその4つ以上の基準位置のそれぞれの高さを順次測定し、試料表面の高さ分布を示すZマップを作成する測定機構を有し、
Zセンサによる高さ測定値と、測定機構によるZマップに従い、高さ補正部がZテーブルを移動させ、試料を所定の高さ位置に配置するよう構成されることが好ましい。
高さ補正部は、保持機構の熱膨張の影響によって発生するレンズの焦点位置の変動、および台座の熱膨張によるZセンサの設置位置の変動に従い、Zマップを補正し、試料を所定の高さ位置に配置するよう構成されることが好ましい。
例えば、試料2の重力たわみや、Zテーブル7の試料支持部8の重力たわみ等によるZ方向の変位の影響についても、Zマップ目標値を補正する際に考慮されることが好ましい。
尚、本発明において、Zテーブル7の重力たわみや、測定面12の面精度や、取付時の傾き、試料2をX方向やY方向(水平方向)に移動させたときに機械的な要因で生じる変動等の意図しないZ方向の変動を上述のように「Z方向の変位」または「高さ方向の変位」と称し、試料2のZテーブルによる意図されたZ方向の移動とは区別して用いる。
すなわち、図5は、試料を3点に支持した場合の重力たわみによる試料面の高さ(Z高さ)変位を模式的に示す図である。
また、図6は、試料を4点支持した場合の重力たわみによる試料面の高さ(Z高さ)変位を模式的に示す図である。
すなわち、図10は、Zマップを補正せずに用いる試料の高さ(Z)補正の制御方法を説明するブロック図である。
また、図11は、Zマップを補正して用いる試料の高さ(Z)補正の制御方法を説明するブロック図である。
まず、高さ補正部10の有する、図示されない演算回路により、測定面12となる、Zテーブル7の第1の測定面12aにおける、測定位置と対応する位置の高さ(Z1)と、第1の測定面12aに対する重力たわみの影響を考慮した補正値(Z1補正値)とが加算される。同様に、Zテーブル7の第2の測定面12bにおける、測定位置と対応する位置の高さ(Z2)と、第2の測定面12bに対する重力たわみの影響を考慮した補正値(Z2補正値)とが加算される。そして、高さ補正部10の図示されない演算回路により、それら第1の測定面12aに関する補正値と第2の測定面12bに関する補正値の平均値(測定面12に関する補正値と言う)が算出され、測定面12を用いた補正の補正量とされる。
以下に、本願出願当初の特許請求の範囲に記載の発明を付記する。
[C1]
高さの基準となるZ基準面上に、XYテーブルと高さ方向に沿って移動するZテーブルを配置し、該Zテーブルで試料を支持して該試料を所定の高さ位置に配置する試料支持装置であって、
前記Zテーブルの移動を制御する高さ補正部を有し、
前記Z基準面上に設けられて該Z基準面からの高さを測定するZセンサを有するとともに、前記試料の測定位置に対して同一軸上に測定面を設け、前記Z基準面からの前記測定面の高さを前記Zセンサにより測定し、その高さ測定値に従い前記高さ補正部が前記Zテーブルを移動させ、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする試料支持装置。
[C2]
前記試料の測定位置の同一軸上に設けられた前記測定面は、該試料の該測定位置を挟む第1の測定面と第2の測定面とからなり、
前記Zセンサは、それぞれ前記Z基準面上に設けられた第1のZセンサと第2のZセンサとからなり、
前記Z基準面からの前記第1の測定面の高さを前記第1のZセンサにより測定し、前記第2の測定面の高さを前記第2のZセンサにより測定して、それぞれの高さ測定値に従い前記高さ補正部が前記Zテーブルを移動させ、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする[C1]に記載の試料支持装置。
[C3]
前記Zテーブルは、前記試料を3点で支持するように構成され、
さらに、測定試料表面の互いに離間する4つ以上の基準位置で光を順次照射して反射された光を受光して該4つ以上の基準位置のそれぞれの高さを順次測定し、前記試料表面の高さ分布を示すZマップを作成する測定機構を有し、
前記Zセンサによる高さ測定値と、前記測定機構による前記Zマップに従い、前記高さ補正部が前記Zテーブルを移動させ、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする[C1]または[C2]に記載の試料支持装置。
[C4]
前記高さ補正部は、前記試料の重力たわみおよび前記Zテーブルの高さ方向の変位を考慮して、前記Zマップを補正し、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする[C1]〜[C3]のいずれか1項に記載の試料支持装置。
[C5]
前記測定機構は、前記光を順次集光するためのレンズと該レンズを保持する保持機構とを有し、かつ、前記Zセンサを載置して該Zセンサを前記Z基準面上の設置するための台座を有し、
前記高さ補正部は、前記保持機構の熱膨張の影響によって発生する前記レンズの焦点位置の変動、および前記台座の熱膨張による前記Zセンサの設置位置の変動に従い、前記Zマップを補正し、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする[C3]または[C4]に記載の試料支持装置。
[C6]
前記高さ補正部は、気圧の変化による空気の屈折率変動の影響によって発生する前記レンズの焦点位置の変動に従い、前記Zマップを補正し、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するよう構成されたことを特徴とする[C3]〜[C5]のいずれか1項に記載の試料支持装置。
[C7]
前記Zセンサは、静電容量センサ、電磁誘導センサおよび光学的センサのうちの少なくとも1種であることを特徴とする[C1]〜[C6]のいずれか1項に記載の試料支持装置。
2 試料
2a メサ部
3 台部
4 Z基準面
5 Yテーブル
6 Xテーブル
7 Zテーブル
8 試料支持部
9 支持体
10 高さ補正部
11 Zセンサ
11a 第1のZセンサ
11b 第2のZセンサ
12 測定面
12a 第1の測定面
12b 第2の測定面
13、13a、13b 台座
15 Z駆動機構
21 Z測定部
24 光学系
25 第1の光源
26、28a、28b、42 レンズ
27、30、31、41 ミラー
29 第2の光源
32 傾き測定部
34 Z高さ制御部
43 TDIセンサ
44 A/D変換回路
45 欠陥検出回路
Claims (7)
- 検査対象の試料としてパターンを露光転写するためのマスクを支持するための試料支持装置であって、
高さの基準となるZ基準面上に配置された、水平方向への移動のためのXYテーブルと高さ方向に沿った移動のためのZテーブルと、
該XYテーブルとZテーブルとで支持され、該試料を所定の高さ位置に配置するために、開口または切欠きと、前記開口または切欠きの周囲に配置され、該試料を前記開口または切欠き上に支持するための支持体とを有する試料支持部と、
前記Zテーブルの移動を制御する高さ補正部と、
前記Z基準面上に設けられて該Z基準面からの高さを測定するためのZ測定部と、
を有し、
前記試料支持部には、前記Z基準面と対向する面上に、前記試料の検査位置を挟んで同一軸上にある少なくとも2つの測定面が設けられ、
前記Z測定部は、前記Z基準面からの前記少なくとも2つの測定面の高さを測定するために用いられ、
前記高さ補正部は、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するために、前記少なくとも2つの測定面の測定された高さに従い前記Zテーブルを移動させることにより、前記試料支持部の前記Z基準面からの高さを調整するよう構成される、
ことを特徴とする試料支持装置。 - 前記試料支持部において前記試料の検査位置を挟んで同一軸上に設けられた前記少なくとも2つの測定面は、該試料の該検査位置を挟む第1の測定面と第2の測定面とからなり、
前記Z測定部は、それぞれ前記Z基準面上に設けられた第1のZセンサと第2のZセンサを備え、前記Z基準面からの前記第1の測定面の高さを前記第1のZセンサにより測定し、前記第2の測定面の高さを前記第2のZセンサにより測定し、
前記高さ補正部は、それぞれの高さ測定値に従い前記Zテーブルを移動させる、
よう構成されたことを特徴とする請求項1に記載の試料支持装置。 - 前記試料支持部の前記支持体は、前記試料を少なくとも3点で支持するように構成され、
さらに、検査対象となる前記試料の表面の互いに離間する4つ以上の基準位置で光を順次照射し、反射された光を受光して、該4つ以上の基準位置のそれぞれの高さを順次測定し、前記試料の表面の高さ分布を示すZマップを作成するよう構成される測定機構を有し、
前記高さ補正部は、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するために、前記Z測定部による前記少なくとも2つの測定面の測定された高さと、前記測定機構による前記Zマップに従い、前記Zテーブルを移動させるよう構成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の試料支持装置。 - 前記高さ補正部は、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するために、前記試料の重力たわみおよび前記試料支持部の高さ方向の変位を考慮して、前記Zマップを補正するよう構成されたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の試料支持装置。
- 前記測定機構は、前記光を順次集光するためのレンズと該レンズを保持する保持機構とを有し、かつ、前記Zセンサを載置して該Zセンサを前記Z基準面上に設置するための台座を有し、
前記高さ補正部は、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するために、前記保持機構の熱膨張の影響によって発生する前記レンズの焦点位置の変動、および前記台座の熱膨張による前記Zセンサの設置位置の変動に従い、前記Zマップを補正するよう構成されたことを特徴とする請求項3に記載の試料支持装置。 - 前記高さ補正部は、前記試料を前記所定の高さ位置に配置するために、気圧の変化による空気の屈折率変動の影響によって発生する前記レンズの焦点位置の変動に従い、前記Zマップを補正するよう構成されたことを特徴とする請求項5に記載の試料支持装置。
- 前記Z測定部は、静電容量センサ、電磁誘導センサおよび光学的センサのうちの少なくとも1種を備えることを特徴とする請求項1に記載の試料支持装置。
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