JP6213774B2 - 型打ち工具の構造化された表面を加工する方法 - Google Patents
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Description
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−艶消しした表面に別のマスクを施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の艶消し後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して表面に別のマスクを施す、
−微細構造化のためにマスクを備えた表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−艶消しした表面にマスクを施す、
−表面にクロムめっきを施す、
−クロムめっきを施した表面に、別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた、クロムめっきを施した表面を新たに金属コーティング(6)または機械的または化学的後処理する、
その際表面を艶消しした後の工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−研磨した表面を賦活する、
−賦活した表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−艶消しした表面にマスクを施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の艶消し後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−微細構造化のためにマスクを備えた表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−研磨した表面を賦活する、
−賦活した表面を洗浄する、
−洗浄した表面にマスクを施す、
−洗浄した表面を艶消しする、
−艶消しした表面にマスクを施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の洗浄後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−表面を洗浄する、
−表面にクロムめっきを施す、
−クロムめっきを施した表面に、別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた、クロムめっきを施した表面を新たに金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質クロムめっきする、
その際、表面の第一のクロムめっき後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して表面に別のマスクを施す、
−微細構造化のためにマスクを備えた表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−表面を洗浄する、
−表面にクロムめっきを施す、
−クロムめっきを施した表面に、別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた、クロムめっきを施した表面を新たに金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質クロムめっきする、
その際、表面の第一のクロムめっき後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して表面に別のマスクを施す、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−研磨した表面を賦活する、
−賦活した表面を洗浄する、
−表面にクロムめっきを施す、
−クロムめっきを施した表面に、別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた、クロムめっきを施した表面を新たに金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質クロムめっきする、
その際、表面の第一のクロムめっき後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−別のマスクを艶消しした表面に施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面に別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた表面を金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の研磨後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−研磨した表面を賦活する、
−賦活した表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−別のマスクを艶消しした表面に施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面に別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた表面を金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の研磨後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
−デジタル印刷技術を使用して表面にマスクを施す、
−表面構造を得るために、マスクが施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して表面に別のマスクを施す、
−微細構造化のためにマスクを備えた表面を化学的に加工する、
−化学的に加工した表面を研磨する、
−研磨した表面を賦活する、
−賦活した表面を洗浄する、
−洗浄した表面を艶消しする、
−艶消しした表面にマスクを施す、
−特別な光沢度を研磨によって、好ましくは機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−表面に別のぴったり正確なマスクを再度施す、
−マスクを備えた、クロムめっきを施した表面を金属コーティングまたは機械的または化学的後処理する、
−表面を硬質めっきする、
その際、表面の研磨後硬質めっきまでの工程は、構造化された表面上に別の異なった光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される。
2 木目
3 構造
4 谷
5 頂点
6 コーティング
7 範囲
8 範囲
9 範囲
10 範囲
11 範囲
Claims (13)
- 型打ち工具の表面を加工するための方法であって、該型打ち工具では第1の光沢度が全面にわたって得られるよう少なくとも1つの表面に第1の処理工程が施され、および複数の選択された範囲(7、8、9、10、11)に第1の光沢度と異なった少なくとも1つの別の光沢度を得るために少なくとも1つの別の処理工程が実施される方法において、第1の光沢度を備えた前記少なくとも1つの表面上で、前記複数の選択された範囲(7、8、9、10、11)が前記少なくとも1つの別の光沢度を獲得し、前記第1の処理工程が、金属コーティング(6)を除く機械的後処理および/または化学的後処理であり、及び前記少なくとも1つの別の処理工程が、金属コーティング(6)および/または機械的後処理および/または化学的後処理であり、前記複数の選択された範囲(7、8、9、10、11)は、それぞれ前記金属コーティング(6)および/または機械的後処理および/または化学的後処理からなる前記少なくとも1つの別の処理工程により、前記第1の光沢度と異なり且つ互いに異なる光沢度を有し、前記少なくとも1つの表面上で前記選択された範囲(7、8、9、10、11)を決定するために部分的に保護層がデジタル印刷技術を使用して施され、前記デジタル印刷技術はプリントヘッドを利用した前記少なくとも1つの表面へのレジスト材料の付与を含み、前記選択された範囲(7,8,9,10,11)以外の前記少なくとも1つの表面の範囲をカバーする保護層を形成することを特徴とする方法。
- 前記保護層が後続の作業手順において少なくとも部分的に重なり合うかまたは重なり合わないですでに仕上げられた範囲(7、8、9、10、11)に施されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記選択された範囲(7,8,9,10,11)は、少なくとも部分的に互いに隣接して配置され、又は前記選択された範囲(7,8,9,10,11)は、それらの間に少なくとも部分的に空間を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 前記保護層に使用されるレジスト材料は、エッチング耐性、サンドブラスト耐性および/または研磨耐性を持っていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記化学的後処理はエッチングによる艶消しであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記機械的後処理が、サンドブラストによる艶消し、又は機械的研磨または電解研磨による研磨であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第2の保護層を施す、
−機械的研磨または電解研磨によって前記少なくとも1つの別の光沢度を調整する、
を含み、前記表面の艶消し後の工程が、前記表面構造上に前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して前記表面に第2の保護層を施す、
−微細構造を得るために前記第2の保護層を施した表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第3の保護層を施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、前記第4の保護層を備え、表面を新たに機械的または化学的後処理する、
を含み、前記表面を艶消しした後の工程が、前記表面構造上に少なくとも2つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記研磨した表面を活性化する、
−前記活性化した表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第2の保護層を施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を機械的研磨または電解研磨によって調整する、
を含み、前記表面の艶消し後の工程が、前記表面構造上に前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して前記表面に第2の保護層を施す、
−微細構造を得るために前記第2の保護層を備えた表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記研磨した表面を活性化する、
−前記活性化した表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第3の保護層を施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を機械的研磨または電解研磨によって調整する、
を含み、前記表面の洗浄後の工程が、前記表面構造上に前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−第2の保護層を前記艶消しした表面に施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−前記表面に前記表面構造にぴったり正確な第3の保護層を再度施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、前記第3の保護層を備えた表面を機械的または化学的後処理する、
を含み、前記表面の研磨後の工程が、前記表面構造上に少なくとも2つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記研磨した表面を活性化する、
−前記活性化した表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第2の保護層を施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−前記表面に、前記表面構造にぴったり正確な第3の保護層を再度施す、
−前記第3の保護層を備えた、表面を機械的または化学的後処理する、
を含み、前記表面の研磨後の工程が、前記表面構造上に少なくとも2つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。 - 請求項1〜6のうちのいずれか一項に記載の、型打ち工具の表面を加工する方法において、以下の工程:
−デジタル印刷技術を使用して前記表面に第1の保護層を施す、
−表面構造を得るために、前記第1の保護層が施された表面を化学的に加工する、
−微細構造化のためにデジタル印刷技術を使用して前記表面に第2の保護層を施す、
−微細構造を得るために前記第2の保護層を備えた表面を化学的に加工する、
−前記化学的に加工した表面を研磨する、
−前記研磨した表面を活性化する、
−前記活性化した表面を洗浄する、
−前記第1の光沢度を得るために、前記洗浄した表面を艶消しする、
−前記艶消しした表面に第3の保護層を施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を機械的研磨または電解研磨によって調整する、
−前記表面に前記微細構造にぴったり正確な第4の保護層を再度施す、
−前記少なくとも1つの別の光沢度を得るために、前記第4の保護層を備えた、表面を機械的または化学的後処理する、
を含み、前記表面の研磨後の工程が、前記表面構造上に少なくとも2つの別の光沢度を得るために、一部範囲で少なくとも1回繰り返される、方法。
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