JP6199591B2 - 光源装置および露光装置 - Google Patents
光源装置および露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6199591B2 JP6199591B2 JP2013083439A JP2013083439A JP6199591B2 JP 6199591 B2 JP6199591 B2 JP 6199591B2 JP 2013083439 A JP2013083439 A JP 2013083439A JP 2013083439 A JP2013083439 A JP 2013083439A JP 6199591 B2 JP6199591 B2 JP 6199591B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light source
- wavelength
- array
- dichroic mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/7005—Production of exposure light, i.e. light sources by multiple sources, e.g. light-emitting diodes [LED] or light source arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70158—Diffractive optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/7015—Details of optical elements
- G03F7/70175—Lamphouse reflector arrangements or collector mirrors, i.e. collecting light from solid angle upstream of the light source
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
Description
11 光源装置
12 電源装置
13 照明光学系
13a ロッドインテグレータ
14 パターン描画手段
15 露光テーブル
16 制御装置
21 第1LEDアレイ光源
22 第2LEDアレイ光源
23 第3LEDアレイ光源
24 第4LEDアレイ光源
21X 22X 23X 24X 光軸
21a 22a 23a 24a LED素子(光源素子)
31 32 33 34 レンズアレイ
31a 32a 33a 34a コリメータレンズ
41 第1のダイクロイックミラー
42 第2のダイクロイックミラー
43 コンデンサレンズ
44 第3のダイクロイックミラー
Claims (4)
- 第1の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第1のアレイ光源と、
上記第1の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第1のレンズアレイと、
上記第1の波長特性とは異なる第2の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第2のアレイ光源と、
上記第2の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第2のレンズアレイと、
上記第1、第2の波長特性とは異なる第3の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第3のアレイ光源と、
上記第3の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第3のレンズアレイと、
上記第1のレンズアレイが形成した上記第1の波長特性の平行光と、上記第2のレンズアレイが形成した上記第2の波長特性の平行光とを、主光線軸を共有するように合成し第1合成光束とする第1光学合成素子と、
上記第1合成光束と、上記第3のレンズアレイが形成した上記第3の波長特性の平行光とを主光線軸を共有するように合成し第2合成光束とする第2光学合成素子と、
上記第2合成光束を集光し光量均一化素子に入射させるコンデンサレンズと、
を備え、
上記第1のアレイ光源と第2のアレイ光源の波長特性は、一方が最長波長、他方が最短波長であり、上記第3のアレイ光源の波長特性は上記最長波長と最短波長の中間波長であることを特徴とする光源装置。 - 請求項1記載の光源装置において、第1光学合成素子と第2光学合成素子がそれぞれ第1と第2のダイクロイックミラーであり、該第1と第2のダイクロイックミラーの少なくとも一方は、該ダイクロイックミラーへの第1ないし第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置されている光源装置。
- 請求項2記載の光源装置において、第1のダイクロイックミラーは第1のアレイ光源からの光束の入射角が45°であり、第2のダイクロイックミラーは第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置されている光源装置。
- 請求項1ないし3のいずれか1項記載の光源装置を用いた露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013083439A JP6199591B2 (ja) | 2013-04-12 | 2013-04-12 | 光源装置および露光装置 |
KR1020140040378A KR102144597B1 (ko) | 2013-04-12 | 2014-04-04 | 광원 장치 및 노광 장치 |
TW103112964A TWI600975B (zh) | 2013-04-12 | 2014-04-09 | Light source device and exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013083439A JP6199591B2 (ja) | 2013-04-12 | 2013-04-12 | 光源装置および露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014207300A JP2014207300A (ja) | 2014-10-30 |
JP6199591B2 true JP6199591B2 (ja) | 2017-09-20 |
Family
ID=51994135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013083439A Active JP6199591B2 (ja) | 2013-04-12 | 2013-04-12 | 光源装置および露光装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6199591B2 (ja) |
KR (1) | KR102144597B1 (ja) |
TW (1) | TWI600975B (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6471900B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2019-02-20 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置、露光装置 |
JP6128348B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2017-05-17 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置、露光装置 |
JP6529809B2 (ja) * | 2015-04-14 | 2019-06-12 | 株式会社サーマプレシジョン | 光照射装置及び露光装置 |
NL2018317A (en) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | Asml Netherlands Bv | Wavelength combining of multiple sources |
JP6623847B2 (ja) * | 2016-03-07 | 2019-12-25 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置及びこれを備えた露光装置 |
DE202016103819U1 (de) * | 2016-07-14 | 2017-10-20 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Lichtquellenanordnung für ein Belichtungssystem sowie Fotolithografie-Belichtungssystem |
CN108121163B (zh) * | 2016-11-29 | 2019-10-25 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光源曝光剂量控制***及控制方法 |
CN106773549B (zh) * | 2017-01-21 | 2024-02-27 | 南京新趋势光电有限公司 | 一种高均匀性led平行光紫外曝光机光源*** |
JP7025683B2 (ja) * | 2017-06-08 | 2022-02-25 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
WO2019155886A1 (ja) * | 2018-02-08 | 2019-08-15 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置、近接露光方法、及び近接露光装置用光照射装置 |
JP7060244B2 (ja) * | 2018-12-12 | 2022-04-26 | フェニックス電機株式会社 | 露光装置用光源、それを用いた露光装置、およびレジストの露光方法 |
JP7154603B2 (ja) * | 2019-11-13 | 2022-10-18 | フェニックス電機株式会社 | 露光装置用光源 |
CN110806682B (zh) * | 2019-12-05 | 2024-05-28 | 中山新诺科技股份有限公司 | 阻焊线路一体曝光的多光谱数字化曝光方法及*** |
CN113643617B (zh) * | 2021-08-13 | 2023-02-28 | 重庆御光新材料股份有限公司 | 一种透明光纤显示屏 |
WO2024038535A1 (ja) * | 2022-08-18 | 2024-02-22 | 株式会社ニコン | 照明ユニット、露光装置、及び露光方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3963107B2 (ja) * | 1998-06-05 | 2007-08-22 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置および表示装置 |
JP2004335949A (ja) | 2002-11-29 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP4655103B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | GaN系半導体発光素子、発光素子組立体、発光装置、GaN系半導体発光素子の駆動方法、及び、画像表示装置 |
JP5648372B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2015-01-07 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
JP2012049226A (ja) * | 2010-08-25 | 2012-03-08 | Ushio Inc | 光源装置 |
JP5687013B2 (ja) * | 2010-09-14 | 2015-03-18 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置および光源装置 |
JP5895226B2 (ja) * | 2010-11-30 | 2016-03-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 光源装置および投写型表示装置 |
-
2013
- 2013-04-12 JP JP2013083439A patent/JP6199591B2/ja active Active
-
2014
- 2014-04-04 KR KR1020140040378A patent/KR102144597B1/ko active IP Right Grant
- 2014-04-09 TW TW103112964A patent/TWI600975B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014207300A (ja) | 2014-10-30 |
KR102144597B1 (ko) | 2020-08-13 |
TWI600975B (zh) | 2017-10-01 |
TW201506549A (zh) | 2015-02-16 |
KR20140123421A (ko) | 2014-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6199591B2 (ja) | 光源装置および露光装置 | |
JP6178991B2 (ja) | 光源ユニットおよびそれを用いた光源モジュール | |
JP4901639B2 (ja) | 照明装置および投写型映像表示装置 | |
JP2022001939A (ja) | 投写型映像表示装置 | |
US10451959B2 (en) | Light source device and projector | |
JP2005070631A (ja) | スクリーン及びプロジェクタ | |
TWI459122B (zh) | 光學系統 | |
JP2016018111A (ja) | 照明装置およびプロジェクター | |
US10564531B2 (en) | Light source device and projector | |
JP2006317651A (ja) | 均一化光学素子、照明装置及び画像表示装置 | |
JP2019174572A (ja) | 光源装置及びプロジェクター | |
JP6806236B2 (ja) | 照明装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5170221B2 (ja) | 照明装置および画像表示装置 | |
CN111176059A (zh) | 照明*** | |
KR101444508B1 (ko) | 광원 장치 | |
JP2008070769A (ja) | 光源ユニット、照明装置およびプロジェクタ装置 | |
JP2006269415A (ja) | 照明システム | |
US9851631B2 (en) | Light source optical system and projection display apparatus employing the same | |
JP6315720B2 (ja) | 露光照明装置 | |
CN113759649B (zh) | 照明装置和投影仪 | |
JP5515200B2 (ja) | 照明光学系及びプロジェクタ装置 | |
JP2008147451A (ja) | 照明用光源装置および画像表示装置 | |
JP2009003108A (ja) | 光源装置およびこれを備えた表示装置 | |
JP6601098B2 (ja) | 光源装置及び画像投射装置 | |
KR102574615B1 (ko) | 노광장치의 광학모듈 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150129 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170824 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6199591 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |