JP6806236B2 - 照明装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、照明光で物体を照明する照明技術、照明技術を用いる露光技術、及び露光技術を用いるデバイス製造技術に関する。

従来、液晶表示素子、半導体素子、薄膜磁気ヘッド等の電子デバイスを製造するためのフォトリソグラフィ工程で、照明装置により照明されたマスクのパターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等の感光剤が塗布されたプレート等の基板に転写するために露光装置が用いられている。
従来の照明装置として、水銀ランプからの照明光束の断面形状を制御するための複数の円錐又は角錐状の光学部材からなる光学系を備え、輪帯照明を行う場合に照明光の利用効率を高めるために、輪帯状の照明光源の形状に応じて、その光学系を用いて照明光束の断面形状を制御する照明装置が使用されている（例えば特許文献１参照）。

露光装置では輪帯照明以外の照明方法も使用される。このような場合にも、照明光の利用効率を高めることを考慮することが望まれている。

米国特許第５，７１９，７０４号明細書

第１の態様によれば、マスクを照明する照明装置であって、照明光を発生する光源と、その照明光の傾き角を調整する光学系と、その光学系を介したその照明光を集光する第１集光光学系と、その光学系を介したその照明光を、その照明光のその傾き角を維持してその第１集光光学系に射出する光学部材と、その第１集光光学系から射出したその照明光の開口数を調整する開口絞りと、開口数が調整されたその照明光をそのマスクに導く第２集光光学系と、を備え、その光学部材は、その光学系を介したその照明光を、その照明光のその傾き角を維持して複数の光束に分岐し、 その第１集光光学系、その開口絞り、及びその第２集光光学系を、その光学部材で分岐されるその複数の光束に対応して複数組備え、そのマスクの複数の照明領域を照明する照明装置が提供される。

第２の態様によれば、マスクのパターンを基板に露光する露光装置であって、第１の態様の照明装置と、その照明装置で照明されたそのマスクのパターンの像を基板に形成する投影光学系と、を備える露光装置が提供される。
第３の態様によれば、マスクを照明する照明方法であって、光源から発生された照明光の傾き角を調整することと、その傾き角が調整されたその照明光を、その照明光のその傾き角を維持する光学部材を介して射出することと、射出されたその照明光を集光することと、その照明光の開口数を調整することと、開口数が調整されたその照明光をそのマスクに導くことと、その光学部材を用いて、その傾き角が調整されたその照明光を複数の光束に分岐することと、を含み、その複数の光束を用いて、そのマスクの複数の照明領域を照明する照明方法が提供される。

第４の態様によれば、マスクのパターンを基板に露光する露光方法であって、第３の態様の照明方法を用いてそのマスクを照明することと、照明されたそのマスクのパターンの像を基板に形成することと、を含む露光方法が提供される。

一実施形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。 一実施形態に係る照明装置の構成を示す図である。 一実施形態に係る部分投影光学系及びステージ系の構成を示す図である。 照明方法及び露光方法の一例を示すフローチャートである。 （Ａ）は照明光のσ値が大きいときの照明装置の要部を示す図、（Ｂ）は照明光のσ値が小さいときの照明装置の要部を示す図である。 （Ａ）は比較例の照明装置の要部を示す図、（Ｂ）はライトガイドファイバの入射端における光強度分布を示す図、（Ｃ）はフライアイレンズの入射端における光強度分布を示す図である。 （Ａ）は部分照明光学系を示す図、（Ｂ）は図７（Ａ）のライトガイドファイバの射出端を示す拡大図である。 （Ａ）は輪帯照明時の開口絞りの開口の一例を示す図、（Ｂ）は大σ照明時の開口絞りの開口の一例を示す図、（Ｃ）は小σ照明時の開口絞りの開口の一例を示す図である。 （Ａ）及び（Ｂ）はフライアイレンズの射出面を示す概念図である。 （Ａ）は変倍光学系の構成例を示す図、（Ｂ）は切り換え式の光学系の構成例を示す図、（Ｃ）はレーザビームの傾き角を制御する光学部材の一例を示す図である。 電子デバイス製造方法の一例を示すフローチャートである。

一実施形態について、図１〜図９（Ｂ）を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸを示す斜視図である。本実施形態では、露光装置ＥＸが、複数の反射屈折型の部分投影光学系を有する投影光学系ＰＬに対してマスクＭと感光剤が塗布された基板としての平板状のプレートＰとを同期移動させつつ、マスクＭに形成されたパターンの像をプレートＰに転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置であるものとして説明する。

以下では、図１において、プレートＰに平行な平面内で直交するようにＸ軸、Ｙ軸を取り、その平面（ＸＹ平面）に垂直にＺ軸を取って説明する。一例として、ＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直線に平行に設定される。また、この実施形態ではマスクＭ及びプレートＰを同期移動させる方向である走査方向をＸ軸に平行な方向（Ｘ方向）に設定している。このとき、走査方向に直交する非走査方向はＹ軸に平行な方向（Ｙ方向）である。

露光装置ＥＸは、マスクステージＭＳＴ（図３参照）に支持されたマスクＭのパターン面（以下、マスク面ともいう）を均一な照度分布の照明光で照明するための照明装置ＩＬＡと、投影光学系ＰＬと、装置全体の動作を制御するコンピュータよりなる制御部３０とを備えている。照明装置ＩＬＡは、マスク面にＹ方向（非走査方向）に沿って配置された第１列の複数（ここでは４個）の照明領域２１ａ，２１ｃ，２１ｅ，２１ｇと、第１列の照明領域２１ａ〜２１ｇに対して走査方向（Ｘ方向）にずれた状態で、照明領域２１ａ〜２１ｇの間に位置する第２列の複数（ここでは３つ）の照明領域（不図示）とを照明する。このように照明装置ＩＬＡはマスク面の７つの照明領域を照明するが、照明領域の配置及び個数は任意である。

本実施形態では、後述のように投影光学系ＰＬ内に視野絞りが配置されているため、照明領域２１ａ〜２１ｇは、その視野絞りのマスク面における像よりもわずかに大きい形状であればよい。照明装置ＩＬＡは、図２に示すように、超高圧水銀ランプよりなる３つの光源２ａ，２ｂ，２ｃを備えている。光源２ａ，２ｂ，２ｃから射出した照明光３ａ，３ｂ，３ｃは、それぞれ楕円鏡４ａ、４ｂ，４ｃにより集光される。光源２ａ〜２ｃは、楕円鏡４ａ〜４ｃの第１焦点位置に配置されており、楕円鏡４ａ，４ｂ，４ｃの第２焦点位置には光源２ａ，２ｂ，２ｃの光源像５ａ，５ｂ，５ｃが形成される。マスクＭを照明しない期間では、楕円鏡４ａ，４ｂ，４ｃの第２焦点の近くに配置されたシャッタ（不図示）によって照明光３ａ，３ｂ，３ｃは遮光される。なお、光源２ａ，２ｂ，２ｃの個数は任意であり、光源は一つ（例えば光源２ａのみ）でもよい。

光源像５ａ，５ｂ，５ｃから発散光として射出される照明光３ａ，３ｂ，３ｃは、それぞれ変倍光学系８ａ，８ｂ，８ｃによりライトガイドファイバ１０の入射端１２ａ，１２ｂ，１２ｃに集光される。変倍光学系８ａ，８ｂ，８ｃは、それぞれ光源像５ａ，５ｂ，５ｃの倍率が可変の像（以下、光源像という）９ａ，９ｂ，９ｃを入射端１２ａ，１２ｂ，１２ｃの入射面に形成する。変倍光学系８ａ〜８ｃは、一例として駆動部６ａによって光軸に沿って移動可能な前群レンズ系６、及び駆動部７ａによって光軸に沿って移動可能な後群レンズ系７を有するズームレンズ（ズーム光学系）である。制御部３０が、駆動部６ａ，７ａを介して前群レンズ系６及び後群レンズ系７の位置を制御することで、変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率を制御できる。

ここで、変倍光学系８ａが最小倍率のときの光源像９ａの高さ（像高）をｙ１、このときの光源像９ａを形成する照明光３ａの光軸に対する最大の傾き角をα１とする。また、変倍光学系８ａの倍率がその倍率よりも高い最大倍率のときの光源像９ａの高さをｙ２、このときの照明光３ａの光軸に対する最大の傾き角をα２とする。最大の傾き角とは、いわゆる錐角の１／２でもある。なお、光源像９ａの光強度分布が正規分布（ガウス分布）状である場合、光源像９ａの高さとは、その光強度分布のうちで光強度が最大強度の例えば１０％〜５０％程度になる位置、又は例えば３０％程度になる位置の間隔とみなすことも可能である。変倍光学系８ａが正弦条件を満たすものとすると、次の関係が成立する。

ｙ１・ｓｉｎα１＝ｙ２・ｓｉｎα２ …（１）
ここでは高さｙ２が高さｙ１より高いため、式（１）より、傾き角α２は傾き角α１よりも小さくなる。このことから、変倍光学系８ａ〜８ｃは、倍率可変の光源像９ａ〜９ｃを形成することによって、入射端１２ａ〜１２ｃに入射する照明光の最大の傾き角を制御又は調整できる光学系でもある。本実施形態では、変倍光学系８ａ〜８ｃは互いに同じ倍率になるように制御される。

光伝送部材としてのライトガイドファイバ１０は、多数の光ファイバ素線１１（図５（Ａ）参照）をランダムに束ねて構成されたファイババンドルであって、３つの入射端１２ａ，１２ｂ，１２ｃと、複数（ここでは７つ）の照明領域に対応した複数（ここでは７つ）の射出端（図２においては、射出端１４ａ，１４Ｂのみを示す。）とを有し、入射端１２ａ〜１２ｃから受光した照明光３ａ〜３ｃをその複数の射出端に分配する。これによって、各照明光３ａ〜３ｃの少なくとも一部は、それぞれその複数の射出端から射出され、照明装置ＩＬＡは、複数の光源２ａ〜２ｃから各々発せられる照明光を混合して射出することができる。ここでは、ライトガイドファイバ１０は、入射端１２ａ〜１２ｃから受光した各照明光を複数の射出端へほぼ等しい光量比で分配して射出させるように構成されているものとする。

また、光ファイバ素線１１は、それぞれ入射する光束の最大の傾き角と、射出される光束の最大の傾き角とがほぼ等しくなるように、入射する光束の傾き角を維持して射出させるものである。このため、ライトガイドファイバ１０の入射端１２ａ〜１２ｃに入射する照明光３ａ〜３ｃの最大の傾き角と、その複数の射出端から射出される照明光の最大の傾き角とはほぼ等しい。また、一例として、変倍光学系８ａ〜８ｃから射出される照明光は、それぞれ主光線が光軸に平行になる状態で、すなわちいわゆるテレセントリックな状態で、対応する入射端１２ａ〜１２ｃに入射する。これによって、ライトガイドファイバ１０の各光ファイバ素線１１の伝送可能な入射角の範囲内に照明光を均一に入射させることができる。また、変倍光学系８ａ〜８ｃから射出される照明光の最大の傾き角は、光ファイバ素線１１の伝送可能な最大の入射角（傾き角）よりも小さい範囲で制御される。

ライトガイドファイバ１０の複数の射出端１４ａ，１４ｂ等から射出された照明光２０ａ，２０ｃ等のそれぞれは、マスクＭの部分的な照明領域２１ａ，２１ｃ等を照明する複数（ここでは７つ）の互いに同じ構成の部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７（ただし、部分照明光学系ＩＬ２，ＩＬ４〜ＩＬ７は図示省略）に入射する。部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７は、後述する部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７にそれぞれ対応付けられ、走査方向に直交する非走査方向（Ｙ方向）に沿って千鳥格子状に配置されている。

部分照明光学系ＩＬ１，ＩＬ３では、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａ，１４ｂから射出した照明光２０ａ．２０ｃは、それぞれコリメートレンズであるインプットレンズ１５によって集光されて平行光束に変換された後、オプティカルインテグレータであるフライアイレンズ１６に入射する。フライアイレンズ１６に入射した照明光２０ａ，２０ｃは、フライアイレンズ１６を構成する多数のレンズエレメントによって波面分割され、その射出面近傍の後側焦点面（照明光学系の射出瞳面）に複数の光源像からなる二次光源（面光源）を形成する。その後側焦点面に開口絞り１７が配置されている。制御部３０は、駆動部１７ａを介して開口絞り１７の開口の大きさ及び形状を制御する。これによって、部分照明光学系ＩＬ１，ＩＬ３によってマスクＭを照明する照明光の開口数ＮＡを制御できる。以下では、照明光の開口数ＮＡは、コヒーレンスファクタであるσ値（マスクを照明する照明光の開口数を、投影光学系のマスク側の開口数で割った値）を用いて表すものとする。このため、開口絞り１７はσ絞りと呼ぶこともできる。なお、輪帯照明を行う場合には、開口絞り１７を輪帯状の大きさ可変の開口を有する輪帯照明用の開口絞り（不図示）と交換してもよい。

開口絞り１７の開口から射出された照明光２０ａ，２０ｃは、コンデンサーレンズ１８を介して、マスクＭ上の対応する照明領域２１ａ，２１ｃをほぼ均一の照度分布で照明する。なお、図示しない部分照明光学系ＩＬ２，ＩＬ４〜ＩＬ７の構成は部分照明光学系ＩＬ１と同一であり、部分照明光学系ＩＬ２，ＩＬ４〜ＩＬ７も部分照明光学系ＩＬ１と同様に、マスクＭ上の各々対応する照明領域をほぼ均一の照度分布で照明する。

部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７のそれぞれに対応するマスクＭ上の照明領域２１ａ〜２１ｇからの照明光は、それぞれ部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７に入射する。図３は、部分投影光学系ＰＬ１の構成を示す図である。図３に示すように、部分投影光学系ＰＬ１は、マスク面の対応する照明領域２１ａ内に設けられたパターンの中間像を視野絞り２２の開口部に形成する第１反射屈折型光学系ＰＬ１１と、この第１反射屈折型光学系ＰＬ１１と協働して、プレートステージＰＳＴに支持されたプレートＰの露光領域２３aにマスクＭのパターンの像を等倍正立像として結像する第２反射屈折光学系ＰＬ１２とを備えている。また、部分投影光学系ＰＬ２〜ＰＬ７は、部分投影光学系ＰＬ１と同一の構成を有しており、マスク面の各々対応する照明領域内に形成されたパターンの像をプレートＰ上に結像する。なお、部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７は、非走査方向に沿って千鳥格子状に配置されている。

図２において、制御部３０には、光源２ａ〜２ｃに対して電力の供給を行う電源装置３２が接続されている。制御部３０は、プレートＰの露光又は照明装置ＩＬＡのキャリブレーションを行う場合等に、電源装置３２を介して光源２ａ〜２ｃを点灯させる。なお、必要露光量が小さい場合には、光源２ａ〜２ｃのうち少なくとも一つの光源のみを点灯させることも可能である。

露光時の基本的な動作として、制御部３０は、照明光のσ値等及び変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率を含む照明条件を設定し（詳細後述）、光源２ａ〜２ｃを点灯させる。そして、照明装置ＩＬＡによってマスクＭを照明し、マスクＭを支持するマスクステージＭＳＴ及びプレートＰを支持するプレートステージＰＳＴを駆動して、マスクＭ及びプレートＰを部分投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ７に対して走査方向に同期移動させること（走査露光）と、プレートＰを非走査方向又は走査方向に移動させること（ステップ移動）とを繰り返すことで、ステップ・アンド・スキャン方式でマスクＭに形成されたパターンの像をプレートＰの複数の被露光領域に露光する。

また、照明装置ＩＬＡのキャリブレーションを行う場合には、一例として、照明領域２１ａ〜２１ｇのそれぞれの複数の位置に照度センサ（不図示）を配置する。そして、光源２ａ〜２ｃを点灯させて、σ値を変化させた場合、及び変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率を変化させた場合において、そられの照度センサで計測される照度分布が目標とする分布に対して所定の許容範囲内に収まるように、変倍光学系８ａ〜８ｃ及び部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７の調整を行うことで、照度分布が均一になる。

以下、本実施形態の照明装置ＩＬＡの照明条件の設定を含む照明方法及び露光装置ＥＸを用いる露光方法の動作の一例につき図４のフローチャートを参照して説明する。その動作は制御部３０によって制御される。
まず、光源２ａ〜２ｃを点灯させていない状態で、図４のステップ１０２において、露光対象のマスクＭのパターンの種類及び微細度等に応じて、照明装置ＩＬＡの部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７の開口絞り１７を用いて、照明光のσ値を制御する。なお、輪帯照明を行う場合には、開口絞り１７を輪帯照明用の開口絞り（不図示）と交換してもよい。ここでは、図５（Ａ）に示すように、開口絞り１７の例えば円形の開口の直径を最大値にして、σ値を最大値ＮＡ１（例えば０．８〜０．９程度）に設定し、大σ照明を行うものとする。大σ照明を行う場合には、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａから射出される照明光がインプットレンズ１５を介して平行光束となってフライアイレンズ１６の入射面の最も広い範囲（開口絞り１７の最大の開口に対向する領域よりもわずかに広い範囲）を照明する必要がある。このため、射出端１４ａから射出される照明光の最大の傾き角を調整可能な範囲内の最大値に設定する必要がある。

そして、ステップ１０４において、開口絞り１７によって設定されるσ値に応じて、変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率、ひいてはライトガイドファイバ１０の入射端１２ａ〜１２ｃに形成される光源像９ａ〜９ｃを形成する照明光３ａ〜３ｃの最大の傾き角を調整する。開口絞り１７として輪帯照明用の開口絞りを使用する場合、そのσ値としては、輪帯状の開口の外径で定まるσ値を使用してもよい。ここでは、σ値が最大値ＮＡ１に設定されているため、変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率は変倍可能な範囲で最小値に設定され、照明光３ａ〜３ｃの最大の傾き角は調整可能な範囲内で最大値α１に設定される。図５（Ａ）において、変倍光学系８ａの焦点距離はｆ１に設定され、光源像９ａの高さは調整可能な範囲内の最小値ｙ１に設定されている。

ライトガイドファイバ１０を構成する各光ファイバ素線１１では、入射光束の最大の傾き角と、射出光束の最大の傾き角とはほぼ等しい。このため、開口絞り１７の開口径を最大にした場合に、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａから射出される照明光２０ａはインプットレンズ１５を介してその最大の開口を照明可能なフライアイレンズ１６の入射面の領域に入射する。また、入射端１２ａに形成される光源像９ａの光強度分布（照度分布）Ｄ１は、ほぼ軸対称の正規分布状であり、中央部分が強く、周辺部分に向かって急激に弱くなっている。光源像９ａの高さが最小値ｙ１の場合、光強度分布Ｄ１は、最大値に対して１０％程度以下の部分が入射端１２ａの入射面の外側に広がるが、入射する照明光３ａの大部分（より正確には入射する照明光３ａ〜３ｃをランダムに合成した光束）が射出端１４ａ等から射出される。

射出端１４ａから射出される照明光２０ａのフライアイレンズ１６の入射面での光強度分布Ｃ３１は、光軸から離れるにつれてわずかに強くなり、その外側で急激に弱くなるほぼ軸対称の分布である。光強度分布Ｃ３１は、開口絞り１７の開口に対向する領域でほぼ均一な値とみなすことができ、開口絞り１７の開口には、射出端１４ａから最大の傾き角がほぼα１で射出される照明光２０ａの大部分が入射する。このため、開口絞り１７の開口を通過してコンデンサーレンズ１８を介してマスクＭに入射する照明光２０ａの、ライトガイドファイバ１０に入射する照明光３ａに対する割合である照明光の利用効率（以下、照明効率ともいう）は高くなっている。

そして、ステップ１０６において、光源２ａ〜２ｃを点灯させ、照明装置ＩＬＡによって光源２ａ〜２ｃからの照明光３ａ〜３ｃで、変倍光学系８ａ〜８ｃ、ライトガイドファイバ１０、部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ８のインプットレンズ１５、フライアイレンズ１６、開口絞り１７、及びコンデンサーレンズ１８を介してマスクＭを照明する。そして、ステップ１０８において、投影光学系ＰＬによってマスクＭのパターンの像でプレートＰを露光しつつ、マスクＭ及びプレートＰを投影光学系ＰＬに対して同期移動することで、プレートＰが露光される。この際に、最大のσ値の照明光を用いて高い照明効率でマスクＭを照明できるため、マスクＭに形成されたパターンを高いスループット（生産性）で光精度にプレートＰに露光できる。

次に、例えば露光対象のマスクＭのパターンがコンタクトホールのパターンのような微細な孤立パターンを含むような場合には、いわゆる小σ照明を行うために、ステップ１０２において、図５（Ｂ）に示すように、開口絞り１７の例えば円形の開口の直径を最小値にして、σ値を最小値ＮＡ２（例えば０．０５〜０．１程度）に設定する。この場合、射出端１４ａから射出される照明光はインプットレンズ１５を介して平行光束となって、フライアイレンズ１６の入射面の最も小さい領域（開口絞り１７の最小の開口に対向する領域よりもわずかに広い領域）を照明すればよいため、射出端１４ａから射出される照明光の最大の傾き角は調整可能な範囲内の最小値α２に設定すればよい。そこで、ステップ１０４においては、変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率は変倍可能な範囲で最大値に設定され、照明光３ａ〜３ｃの最大の傾き角は最小値α２に設定される。図５（Ｂ）において、変倍光学系８ａの焦点距離はｆ２に設定され、光源像９ａの高さは最大値ｙ２に設定される。

この際に入射端１２ａに形成される光源像９ａの光強度分布Ｄ２は、図５（Ａ）の光強度分布Ｄ１を倍率比ｙ２／ｙ１で拡大したほぼ軸対称の正規分布状である。その光強度分布Ｄ２は、最大値に対して３５％程度以下の部分が、入射端１２ａの入射面の外側に広がり、入射する照明光３ａ〜３ｃのうちの例えば６０％程度が射出端１４ａ等から射出される。光源像９ａの高さｙ２を光強度が最大値のほぼ３０％の部分の間隔とすると、高さｙ２の光源像９ａは、入射端１２ａの幅よりもわずかに大きくなる。

しかしながら、この場合に、射出端１４ａから射出される照明光２０ａの最大の傾き角はほぼ最小値α２であり、照明光２０ａの大部分は、インプットレンズ１５を介して、フライアイレンズ１６の入射面において、開口絞り１７の最小の開口に対向する領域に入射する。この場合、射出端１４ａから射出される照明光２０ａのフライアイレンズ１６の入射面での光強度分布Ｃ１１は、図５（Ａ）の光強度分布Ｃ３１を半径方向に圧縮したようなほぼ軸対称の分布である。光強度分布Ｃ１１は、開口絞り１７の最小の開口に対向する領域でほぼ均一な値とみなすことができ、開口絞り１７の開口には、射出端１４ａから最大の傾き角がほぼα２で射出される照明光２０ａの大部分が入射する。このため、入射端１２ａに入射する照明光３ａの光量損失がある程度生じても、開口絞り１７の最小の開口を通過してコンデンサーレンズ１８を介してマスクＭに入射する照明光２０ａの照明光３ａに対する利用効率は高くなっている。その後、ステップ１０６及び１０８を行うことで、例えば孤立的なパターンを含むパターンを高いスループットで高精度にプレートＰに露光できる。

ここで、比較例として、図６（Ａ）に示すように、変倍光学系８ａの倍率を図５（Ａ）の場合と同じく最小に設定して（照明光３ａの最大の傾き角を最大値α１に設定して）、開口絞り１７でσ値を最小値ＮＡ２に設定した場合を想定する。この比較例においては、射出端１４ａから射出される照明光２０ａのフライアイレンズ１６の入射面での光強度分布Ｃ３１は、開口絞り１７の最小の開口に対向する領域の外側の領域１６Ａａでもかなり強くなっている。このため、射出端１４ａから射出される照明光２０ａのうちで開口絞り１７の開口を通過できるのは例えば４５％程度となる。

このため、本実施形態の図５（Ｂ）のように変倍光学系８ａの倍率を高くした場合のマスクＭに入射する照明光２０ａの照明効率は、図６（Ａ）の比較例に対してほぼ３０％（＝（６０／４５−１）・１００）程度改善されることになる。本実施形態では、３つの光源２ａ〜２ｃが使用されているが、照明効率が例えば３０％改善される場合には、２つの光源２ａ，２ｂのみを点灯させて露光を行うことも可能になるため、光源２ａ〜２ｃの寿命を延ばすことも可能になる。

また、図６（Ｂ）は、図５（Ａ）、（Ｂ）の入射端１２ａでの照明光３ａの光強度分布Ｄ１，Ｄ２を相対光強度で表したものであり、図６（Ｂ）の横軸は入射端１２ａの中心位置を０として中心からの距離を相対値で表したものである。横軸の値が５０の位置が、一例として入射端１２ａのエッジ部の位置である。また、図６（Ｂ）の光強度分布Ｄ３は、図６（Ａ）の比較例の場合に、開口絞り１７の開口を通過した照明光と、フライアイレンズ１６に入射する照明光との光量比で光強度分布Ｄ１を圧縮した分布である。位置±５０の内側で光強度分布Ｄ２を積分して得られる光量が本実施形態で得られる光量であり、光強度分布Ｄ３を積分して得られる光量が比較例で得られる光量であり、この結果からも本実施形態によって照明効率が改善されることが分かる。

また、図６（Ｃ）は、図５（Ａ）、（Ｂ）のフライアイレンズ１６の入射面での照明光２０ａの光強度分布Ｃ３１，Ｃ１１を相対光強度で表したものであり、図６（Ｃ）の横軸はその入射面の中心位置を０として中心からの距離をσ値で表したものである。光強度分布Ｃ３１，Ｃ１１は、σ値が０．８８と０．６５での値が等しくなるように相対強度が調整されている。この場合、σ値が０．５の位置での光強度分布Ｃ３１，Ｃ１１の値を平均光強度又は平均照度とすると、光強度分布Ｃ３１，Ｃ１１の平均照度はほぼ等しくなっている。

次に、ステップ１０２において、開口絞り１７を用いてσ値を最大値ＮＡ１と最小値ＮＡ２との間の任意の値ＮＡ３に設定する場合には、ステップ１０４において、変倍光学系８ａ〜８ｃの倍率を図５（Ａ）の場合の最小値（β１とする）と、図５（Ｂ）の場合の最大値（β２とする）との間の値β３に設定してもよい。一例としてβ３は次式で表されるように、σ値ＮＡ３が次第に小さくなるのに応じて、次第に大きく設定され、ライトガイドファイバ１０に入射する照明光の最大の傾き角は次第に小さく設定される。

β３＝β１＋（ＮＡ１−ＮＡ３）（β２−β１）／（ＮＡ１−ＮＡ２） …（２）
これによって、どのようなσ値で照明を行う場合でも、σ値（照明条件）に応じて高い照明効率でマスクＭを照明することができ、マスクＭのパターンを高いスループットで高精度にプレートＰに露光できる。

また、図７（Ａ）は図５（Ａ）の部分照明光学系ＩＬ１を示す拡大図、図７（Ｂ）は図７（Ａ）のライトガイドファイバ１０の射出端１４ａを正面から見た拡大図であり、図７（Ａ）においては、フライアイレンズ１６を構成する一部の互いに同じ形状のレンズエレメント１６ａが拡大して示されている。図７（Ｂ）に示すように、射出端１４ａは、多数の光ファイバ素線１１を規則的に束ねて構成されている。図７（Ａ）において、射出端１４ａはインプットレンズ１５及びレンズエレメント１６ａによって、レンズエレメント１６ａの射出面（開口絞り１７の配置面であるいわゆる瞳面）に結像される。また、レンズエレメント１６ａの入射面は、レンズエレメント１６ａ及びコンデンサーレンズ１８によってマスクＭの照明領域２１ａに結像されるため、照明領域２１ａが露光視野（図３の視野絞り２２の開口と共役な領域）よりもわずかに大きくなるように、フライアイレンズ１６の各レンズエレメント１６ａの形状が決定される。

ライトガイドファイバ１０の入射端１２ａの光強度分布は変倍光学系８ａによって変更される。ここでは、一例として、大σ照明時の最大光強度の１０％程度までの光強度の光が入射する光ファイバ素線１１から射出される光によって、インプットレンズ１５及びフライアイレンズ１６を介して開口絞り１７の配置面に形成される光源像を照明に寄与する有効な光源像とみなす。また、射出端１４ａの全部の光ファイバ素線１１から射出される光がそれぞれ有効な光源像を形成する場合、その光が入射する範囲にあるフライアイレンズ１６のレンズエレメント１６ａの射出面に形成される有効な光源像の数ｎ１は、射出端１４ａを構成する光ファイバ素線１１の数ｎ２と同じである。

以下では、レンズエレメント１６ａの射出面に形成される有効な光源像の数ｎ１の、射出端１４ａを構成する光ファイバ素線１１の数ｎ２に対する比率（＝ｎ１／ｎ２）を、レンズエレメント１６ａにおける光ファイバ素線１１からの照明光の充填率γと称する。本実施形態では、一例として、充填率γが１（１００％）を維持するように、変倍光学系８ａの倍率（入射端１２ａに入射する照明光の最大の傾き角）が調整される。
このとき、輪帯照明、大σ照明、又は小σ照明を行う場合に、開口絞り１７の開口内にあるフライアイレンズ１６のレンズエレメント１６ａの射出面には、それぞれ図８（Ａ）、図８（Ｂ）、又は図８（Ｃ）に示すように、互いに同じ最大の密度分布（図７（Ｂ）の光ファイバ素線１１の密度分布に対応する分布）で有効な光源像２４が形成される。なお、図８（Ａ）では、開口絞り１７の開口が輪帯状の開口１７ｃに設定されている。輪帯照明又は大σ照明を行う場合、変倍光学系８ａ〜８ｃからライトガイドファイバ１０の入射端１２ａ〜１２ｃに入射する照明光の最大の傾き角は、小σ照明を行う場合に比べて大きく設定される。

また、説明の便宜上、図８（Ａ）〜（Ｃ）、及び後述の図９（Ａ）、（Ｂ）において、フライアイレンズ１６の各レンズエレメント１６ａは、開口１７ｂ，１７ｃに対して実際よりも大きく表されている。
このように、本実施形態では、輪帯照明、大σ照明、又は小σ照明を行う場合の光ファイバ素線１１からの照明光の充填率γは共通に１となる範囲で、変倍光学系８ａの倍率が調整されている。この場合、開口絞り１７の開口内の有効な光源像１４の数が最大であるため、マスクＭにおける照度分布の均一性が良好である。なお、充填率γはほぼ１（例えば０．９〜１）でもよい。

ただし、ライトガイドファイバ１０の入射端１２ａ〜１２ｃに入射する照明光の光強度は中心部分が最大で、周辺に向かうほど小さくなっている。そのため、入射端１２ａを構成する多数の光ファイバ素線１１のうちで、例えば大σ照明時の最大値に対して７０％程度以上、７０〜４０％、及び４０〜１０％程度の光強度の照明光３ａが入射する光ファイバ素線１１からの照明光で形成される光源像をそれぞれ光源像２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃとする。このとき、図５（Ａ）に示すように、σ値を大きく設定する場合には、フライアイレンズ１６の射出面において、開口絞り１７の開口１７ｂ内のレンズエレメント１６ａの射出面には、図９（Ａ）に示すように、光源像２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃがランダムな配置で形成される。

また、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａから射出される照明光は、フライアイレンズ１６の複数のレンズエレメント１６ａ（光学要素）の入射口（大きい開口１７ｂ内にある部分の複数のレンズエレメント１６ａの入射面）の大きさよりも広い領域に分布している。
これに対して、図５（Ｂ）に示すように、σ値を小さく設定する場合には、フライアイレンズ１６の射出面において、開口絞り１７の開口１７ｂ内のレンズエレメント１６ａの射出面には、図９（Ｂ）に示すように、ほぼ中程度の光強度の光源像２４Ｂが規則的な配置で形成される。また、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａから射出される照明光は、小さい開口１７ｂ内にある部分のフライアイレンズ１６の複数のレンズエレメント１６ａの入射口の大きさよりも広い領域に分布している。このため、小σ照明ではフライアイレンズ１６の各レンズエレメント１６ａの射出面に形成される光源像２４Ｂの光強度が図９（Ａ）の場合より均一であるため、照度分布がより均一化されることになる。

また、比較例のように、開口数ＮＡ２の小σ照明を行う際に、図９（Ａ）に点線で示すように、単に開口絞り１７の開口１７ｂを小さくする場合には、ライトガイドファイバ１０から開口１７ｂの外側に入射する照明光の多くが遮光されるため、照明光の利用効率は低下することになる。

上述のように、本実施形態のマスクＭを照明する照明装置ＩＬＡは、照明光を発生する光源２ａと、ステップ１０４において照明光の最大の傾き角を調整する変倍光学系８ａと、ステップ１０６において変倍光学系８ａを介した照明光を集光して平行光束にするインプットレンズ１５（以下、第１集光光学系ともいう）と、ステップ１０６において、変倍光学系８ａを介した照明光を、その照明光の最大の傾き角を維持してインプットレンズ１５に射出するライトガイドファイバ１０（以下、光学部材ともいう）と、ステップ１０２において、その照明光の開口数（σ値）を調整する開口絞り１７と、ステップ１０６において、その開口数が制御された照明光をマスクＭに導くコンデンサーレンズ１８（以下、第２集光光学系ともいう）とを備えている。

本実施形態の照明装置ＩＬＡによれば、照明光の開口数を小さくした小σ照明を行う場合に、変倍光学系８ａによってその照明光の最大の傾き角を小さくすることによって、開口絞り１７の開口に入射する照明光の割合を大きくすることができ、照明光の利用効率を高めることができる。このため、マスクＭをより大きい照度で照明できる。また、同じ照度でマスクＭを照明する場合には、光源２ａの寿命を長くできるとともに、複数の光源２ａ〜２ｃを使用する場合に、使用する光源の数を減らして照明装置ＩＬＡの小型化及び低コスト化を図ることができる。また、ライトガイドファイバ１０を用いているため、光源２ａとマスクＭとを離すことができ、マスクＭの熱膨張を抑制できる。

また、本実施形態のマスクＭのパターンをプレートＰに露光する露光装置ＥＸは、ステップ１０２〜１０６において、マスクＭを照明する照明装置ＩＬＡと、ステップ１０８において、照明装置ＩＬＡで照明されたマスクＭのパターンの像をプレートＰに形成する投影光学系ＰＬと、を備えている。露光装置ＥＸによれば、照明装置ＩＬＡにおける照明光の利用効率が高いため、照明光の照度を高めることで、高いスループットで高精度にマスクＭのパターンをプレートＰに露光できる。また、照明光の照度が従来と同じ場合には、照明装置ＩＬＡを小型化及び低コスト化できるため、露光装置ＥＸをより小型化及び低コスト化できる。

また、ライトガイドファイバ１０は複数の入射端１２ａ〜１２ｃ及び複数の射出端１４ａ，１４ｂ等を備えているため、複数の光源２ａ〜２ｃからの照明光をランダムに混合して、複数の部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７用の光束に容易に分岐できる。
また、複数のレンズエレメント１６ａを含むフライアイレンズ１６を備えているため、マスクＭの照明領域における照明光の照度分布をより均一にできる。

なお、上述の実施形態では、次のような変形が可能である。
上述の実施形態の変倍光学系８ａとしては、図１０（Ａ）に示すように、３枚のレンズよりなる前群レンズ系６Ａと、３枚のレンズよりなる後群レンズ系７Ａとを有し、倍率調整時には、例えば後群レンズ系７Ａの位置を調整する変倍光学系８Ａａを使用することができる。

さらに、変倍光学系８ａとしては、光源像５ａと光源像９ａとの間の光路上で、光源像の中間像を形成するタイプの光学系を使用することもできる。
また、上述の実施形態では、照明光の最大の傾き角を制御するために変倍光学系８ａが使用されているが、変倍光学系８ａの代わりに、図１０（Ｂ）に示すように、光学系を部分的に交換して倍率を切り換える方式のリレー光学系８Ｂａを使用してもよい。リレー光学系８Ｂａは、前群レンズ系６Ａと、レンズ７Ｂａ及び２枚のレンズを有するレンズ群７Ｂｂよりなる第１の後群レンズ系７Ｂと、レンズ７Ｃａ及び７Ｃｂよりなる第２の後群レンズ系７Ｃとを有する。そして、倍率が低いときには、前群レンズ系６Ａと第１の後群レンズ系７Ｂとを用いて、光源像９ａを形成し、倍率が高いときには、第１の後群レンズ系７Ｂの代わりに第２の後群レンズ系７Ｃを用いて光源像９ａを形成する。このように交換式のリレー光学系８Ｂａを使用する場合には、傾き角を制御するための光学系を安価に製造できる。

また、上述の実施形態の変倍光学系８ａの例えば前群レンズ系６と後群レンズ系７との間に、米国特許第５，７１９，７０４号明細書に開示されているように、また、図１０（Ａ）に点線で示すように、２つの円錐状のプリズム状の光学部材７Ｂ１，７Ｂ２からなる光学系（アキシコン系）を設けてもよい。この際に、通常照明を行う場合には、その２つの光学部材７Ｂ１，７Ｂ２を密着させ、輪帯照明を行う場合には、その２つの光学部材７Ｂ１，７Ｂ２の間隔を調整して、前群レンズ系６と後群レンズ系７との間を通過する照明光３ａの断面形状を大きさが可変の輪帯状としてもよい。この場合、ライトガイドファイバ１０の射出端１４ａから射出される照明光２０ａはインプットレンズ１５を介してフライアイレンズ１６の入射面の輪帯状の領域に入射する。そして、輪帯照明を行う場合に、開口絞りの輪帯状の開口の大きさに応じてその２つの光学部材７Ｂ１，７Ｂ２の間隔を調整することで、輪帯照明を行う場合の照明光の利用効率をさらに改善できる。

また、上述の実施形態では、オプティカルインテグレータとしてフライアイレンズ１６が使用されているが、フライアイレンズ１６の代わりにマイクロレンズアレイ、又はロッドインテグレータ等を使用してもよい。
上述の実施形態では、光源２ａ〜２ｃとして超高圧水銀ランプが使用されているが、光源２ａ〜２ｃとしては、他の任意の放電ランプ等のランプを使用できる。また、光源２ａ〜２ｃとして、発光ダイオード（ＬＥＤ）等を使用することも可能である。また、光源２ａ〜２ｃとして、固体レーザ、気体レーザ、又は半導体レーザ等のレーザ光源を使用してもよい。また、照明光としてレーザ光の高調波等を使用することも可能である。

そして、光源としてレーザ光源を使用して、照明光の最大の傾き角を大きく設定する場合には、一例として、図１０（Ｃ）に示すように、レーザ光源（不図示）から発生する平行光束よりなるレーザビームＬＢの光路上に、微細な次第にピッチが小さくなる同心円状（ゾーンプレート状）の位相型の凹凸が形成された回折格子８Ｃを配置する。回折格子８Ｃの最小のピッチは、最大の傾き角に応じて規定される。

そして、レーザ光源を使用して照明光の最大の傾き角を小さく設定する場合には、レーザビームＬＢの光路上に、回折格子８Ｃと同様の同心円状の位相型の凹凸が形成されるとともに、その最小のピッチは回折格子８Ｃよりも大きい回折格子８Ｄを配置する。この変形例では、回折格子８Ｃを使用する場合には、最大の傾き角が大きい照明光を生成でき、回折格子８Ｄを使用する場合には、最大の傾き角が小さい照明光を生成できるため、上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。

また、上述の実施形態においては、マルチレンズ式の走査型露光装置を例として説明したが、走査型露光装置の他に、マスクＭとプレートＰとを静止した状態でマスクＭのパターンを露光し、プレートＰを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置に上述の実施形態を適用することもできる。また、照明装置の光源として３つの光源を用いているが、照明装置が１つ、２つ、又は４つ以上の光源を備えていてもよい。また、上述の実施形態においては、ライトガイドファイバが７つの射出端を有しているが、ライトガイドファイバの射出端は、１つ以上あればその数はいくつでも良い。

また、上述の実施形態では、複数の光源２ａ〜２ｃからの照明光を複数の部分照明光学系ＩＬ１〜ＩＬ７用の光束に分岐しているが、一つの光源２ａからの照明光で一つの部分照明光学系ＩＬ１を介してマスクＭを照明し、マスクＭのパターンを一つの結像光学系（例えば部分投影光学系ＰＬ１と同様の光学系）を介してプレートＰに転写してもよい。この場合には、ライトガイドファイバ１０を設けることなく、変倍光学系８ａからの照明光３ａを、直接にインプットレンズ１５を介してフライアイレンズ１６に入射させてもよい。

次に、上述の実施形態にかかる露光装置又は露光方法を用いたデバイス製造方法について説明する。図１１は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１１に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップ２００）、カラーフィルタ形成工程（ステップ２０２）、セル組立工程（ステップ２０４）、及びモジュール組立工程（ステップ２０６）を順次行う。

ステップ２００のパターン形成工程では、プレートとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の露光装置又は露光方法を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の露光装置又は露光方法を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートの現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層をマスク層として生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。

ステップ２０２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に対応する３つのドットの組をマトリクス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。
ステップ２０４のセル組立工程では、ステップ２００によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップ２０２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。

ステップ２０６のモジュール組立工程では、ステップ２０４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。このように本実施形態のデバイス製造方法では、上述の実施形態の露光装置ＥＸ、又は露光方法を用いて、所定のパターンをガラス基板に形成することと、その所定のパターンを介してそのガラス基板を加工することと、を含んでいる。本実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法によれば、高い照明効率で露光を行うことができるため、電子デバイスを高いスループットで高精度に製造できる。

また、上述の実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法は、半導体デバイスを製造する際にも適用できる。また、上述の実施形態は、半導体デバイス製造用又は液晶デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、プラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、上述の実施形態は、各種デバイスの製造に用いるマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の露光装置にも適用することができる。

２ａ，２ｂ，２ｃ…光源、４ａ，４ｂ，４ｃ…楕円鏡、８ａ〜８ｃ…変倍光学系、１０…ライトガイドファイバ、１２ａ，１２ｂ，１２ｃ…入射端、１４ａ，１４ｂ…射出端、１５…インプットレンズ、１６…フライアイレンズ、１７…開口絞り、１８…コンデンサーレンズ、３０…制御部、３２…電源装置、ＥＸ…露光装置、ＩＬＡ…照明装置、ＩＬ１，ＩＬ３…部分照明光学系、ＰＬ…投影光学系、ＰＬ１〜ＰＬ７…部分投影光学系、Ｍ…マスク、Ｐ…プレート

Claims (27)

1. マスクを照明する照明装置であって、
   照明光を発生する光源と、
   前記照明光の傾き角を調整する光学系と、
   前記光学系を介した前記照明光を集光する第１集光光学系と、
   前記光学系を介した前記照明光を、前記照明光の前記傾き角を維持して前記第１集光光学系に射出する光学部材と、
   前記第１集光光学系から射出した前記照明光の開口数を調整する開口絞りと、
   開口数が調整された前記照明光を前記マスクに導く第２集光光学系と、
   を備え、
   前記光学部材は、前記光学系を介した前記照明光を、前記照明光の前記傾き角を維持して複数の光束に分岐し、
   前記第１集光光学系、前記開口絞り、及び前記第２集光光学系を、前記光学部材で分岐される前記複数の光束に対応して複数組備え、
   前記マスクの複数の照明領域を照明する、照明装置。
2. 前記第１集光光学系は、前記照明光の照度分布を均一化する複数の光学要素を含んだ光学要素群を有し、
   前記光学部材を通過した前記照明光は、前記第１集光光学系の複数の前記光学要素の入射口の大きさよりも広い領域に分布する、請求項１に記載の照明装置。
3. 前記開口絞りの開口数に基づいて、前記光学系は、前記照明光の前記傾き角を調整する、請求項１又は２に記載の照明装置。
4. 前記開口絞りで開口数を小さくするときに、前記光学系は、前記照明光の前記傾き角を小さくする、請求項３に記載の照明装置。
5. 前記開口絞りで開口数を大きくするか、又は前記開口絞りの開口を輪帯形状にするときに、前記光学系は、前記照明光の前記傾き角を大きくする、請求項３に記載の照明装置。
6. 前記光学系は、前記光源の倍率可変の像を形成する変倍光学系である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の照明装置。
7. 前記開口絞りで開口数を小さくするときに、前記変倍光学系は、前記光源の像の倍率を大きくする、請求項６に記載の照明装置。
8. 前記開口絞りで開口数を大きくするか、又は前記開口絞りの開口を輪帯形状にするときに、前記変倍光学系は、前記光源の像の倍率を小さくする、請求項６に記載の照明装置。
9. 前記光学部材は、複数の入射端を有し、
   前記光源及び前記光学系を、前記光学部材の前記複数の入射端に対応して複数組備える、請求項１に記載の照明装置。
10. 前記光源の像の照度分布は正規分布状である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の照明装置。
11. 前記光学部材は複数の光ファイバ素線を束ねて構成され、
    前記光学部材の射出端を構成する前記光ファイバ素線の数と、前記光学要素群の複数の前記光学要素のそれぞれの射出端に形成される光源像の数とがほぼ等しい範囲で、前記開口絞りで前記照明光の開口数を調整する、請求項２に記載の照明装置。
12. マスクのパターンを基板に露光する露光装置であって、
    請求項１〜１１のいずれか一項に記載の照明装置と、
    前記照明装置で照明された前記マスクのパターンの像を基板に形成する投影光学系と、を備える露光装置。
13. 前記照明装置は前記マスクの複数の照明領域を照明し、
    前記投影光学系を、前記複数の照明領域に対応して複数備え、
    前記複数の照明領域の配列方向に交差する方向に、前記マスクと前記基板とを相対的に走査するステージ装置を備える請求項１２に記載の露光装置。
14. マスクを照明する照明方法であって、
    光源から発生された照明光の傾き角を調整することと、
    前記傾き角が調整された前記照明光を、前記照明光の前記傾き角を維持する光学部材を介して射出することと、
    射出された前記照明光を集光することと、
    前記照明光の開口数を調整することと、
    開口数が調整された前記照明光を前記マスクに導くことと、
    前記光学部材を用いて、前記傾き角が調整された前記照明光を複数の光束に分岐することと、を含み、
    前記複数の光束を用いて、前記マスクの複数の照明領域を照明する、照明方法。
15. 前記照明光を集光することは、複数の光学要素を含んだ光学要素群を用いて前記照明光の照度分布を均一化することを含み、
    前記光学部材を通過した前記照明光は、複数の前記光学要素の入射口の大きさよりも広い領域に分布する、請求項１４に記載の照明方法。
16. 前記照明光の前記傾き角を調整することは、前記照明光の開口数に基づいて前記照明光の前記傾き角を調整することを含む、請求項１４又は１５に記載の照明方法。
17. 前記照明光の開口数を小さくするときに、前記照明光の前記傾き角を小さくする、請求項１６に記載の照明方法。
18. 前記照明光の開口数を調整することは、前記照明光を用いて輪帯照明を行うことを含み、
    前記照明光の開口数を大きくするか、又は前記照明光を用いて輪帯照明を行うときに、前記照明光の前記傾き角を大きくする、請求項１６に記載の照明方法。
19. 前記照明光の前記傾き角を調整することは、前記光源の倍率可変の像を形成することを含む、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の照明方法。
20. 前記照明光の開口数を小さくするときに、前記光源の像の倍率を大きくする、請求項１９に記載の照明方法。
21. 前記照明光の開口数を調整することは、前記照明光を用いて輪帯照明を行うことを含み、
    前記照明光の開口数を大きくするか、又は前記照明光を用いて輪帯照明を行うときに、前記光源の像の倍率を小さくする、請求項１９に記載の照明方法。
22. 前記光学部材は、複数の入射端を有し、
    複数の前記光源からの前記照明光をそれぞれ前記傾き角を調整して前記複数の入射端に入射させることを含む、請求項１４に記載の照明方法。
23. 前記光学部材は複数の光ファイバ素線を束ねて構成され、
    前記光学部材の射出端を構成する前記光ファイバ素線の数と、前記光学要素群の複数の前記光学要素のそれぞれの射出端に形成される光源像の数とがほぼ等しい範囲で、前記照明光の開口数を調整する、請求項１５に記載の照明方法。
24. マスクのパターンを基板に露光する露光方法であって、
    請求項１４〜２３のいずれか一項に記載の照明方法を用いて前記マスクを照明することと、
    照明された前記マスクのパターンの像を基板に形成することと、
    を含む露光方法。
25. 前記照明方法は前記マスクの複数の照明領域を照明することを含み、
    前記複数の照明領域の前記マスクのパターンの像をそれぞれ前記基板に形成することと、
    前記複数の照明領域の配列方向に交差する方向に、前記マスクと前記基板とを相対的に走査することとを含む、請求項２４に記載の露光方法。
26. 請求項１２又は１３に記載の露光装置を用いて、所定のパターンを基板に形成することと、
    前記所定のパターンを介して前記基板を加工することと、を含むデバイス製造方法。
27. 請求項２４又は２５に記載の露光方法を用いて、所定のパターンを基板に形成することと、
    前記所定のパターンを介して前記基板を加工することと、を含むデバイス製造方法。

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