JP6190678B2 - 基板保持機構およびそれを用いた基板処理装置 - Google Patents
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Description
11 ベース部
13 上面部
14 チャック部
15 気体噴出口
16 気体噴出口
17 スペーサ
18 連結部材
19 磁石
21 昇降ピン
22 支持部
23 案内部
25 支持ピン
26 支持部
29 磁石
30 昇降機構
31 当接部材
32 昇降軸
34 スライダ
35 ボールねじ
37 ロータリエンコーダ
38 モータ
40 中空モータ
42 窒素ガスの供給源
45 開閉弁
46 開閉弁
98 処理液供給ノズル
99 ハンド部
100 基板
Claims (5)
- 基板を回転可能に保持する基板保持機構において、
前記基板の下面と対向する上面部を有し、鉛直軸方向を中心に回転する回転ステージと、
前記回転ステージに対して昇降可能に配設され、前記回転ステージとともに鉛直軸方向を中心に回転するとともに、前記基板の端縁付近をその下面から支持する複数の昇降ピンと、
前記上面部の下方で前記複数の昇降ピンと連結された連結部と、
前記連結部を上昇させて前記昇降ピンを上昇させる上昇位置と、前記連結部より離隔する離隔位置との間を昇降可能な昇降部材と、
前記昇降部材が前記離隔位置にあるときに、前記連結部を前記回転ステージに対して固定する固定機構と、を備え、
前記回転ステージの上面部には、中心側に開口が形成され、
前記連結部には、前記昇降ピンとともに昇降し、前記昇降ピンの下降時に、前記回転ステージの前記上面部の前記開口において前記上面部の上面と略同一面となるチャック部が形成され、
前記回転ステージの上面部および前記チャック部には、前記基板の下面に気体を噴出して、前記基板の下面との間に生ずる負圧を利用して基板を非接触で保持するための気体噴出口が形成され、
前記回転ステージの回転時には前記昇降部材は前記離隔位置に配置されることを特徴とする基板保持機構。 - 請求項1に記載の基板保持機構において、
前記固定機構は、前記連結部と前記回転ステージのそれぞれに、少なくとも一方に磁石を含み、互いに引き合うように電磁気的引力を及ぼす部材を含む基板保持機構。 - 請求項1または請求項2に記載の基板保持機構において、
前記回転ステージに固定されて回転駆動力を伝達する中空回転軸をさらに備え、
前記昇降部材は、前記中空回転軸の中空部に挿通された昇降軸によって昇降駆動される基板保持機構。 - 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の基板保持機構において、
前記回転ステージには、前記上面部の下方に有底の空間が形成され、
前記連結部は前記空間内で昇降可能に設けられ、
前記固定機構は、前記昇降部材が前記離隔位置にあるときに、前記連結部を前記空間の底部に固定するものである基板保持機構。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の基板保持機構と、
前記基板保持機構を回転駆動する回転駆動源と、
前記基板保持機構に保持された基板に対して所定の処理を施す処理機構と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
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