JP6065125B1 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、タッチセンシング機能を有する表示装置の構造としては、タッチセンシング機能を備えたタッチパネルが表示装置の表面に貼り付けられたアウトセル方式と、表示装置自体がタッチセンシング機能を備えたインセル方式とが知られている。近年では、アウトセル方式よりも、多くの表示装置がインセル方式を採用している。
特許文献2及び特許文献3は、ドット反転駆動に関する記載を含むとともに、タッチセンシング技術を開示している。特許文献3の開示においては、タッチセンシング機能を行う駆動電極及び検出電極が実質的に金属配線で構成されている。このような特許文献3の開示は、特許文献6に記載の請求項2の特徴点に類似している。
特許文献4は、面内切り替え(IPS)液晶ディスプレイに関し、タッチセンシング駆動電極が、タッチセンシング信号の検出及びディスプレイに使用される電極対を形成する技術を開示している。
特許文献5は、透明材料で構成されて第1方向に延びる複数のタッチ駆動電極と、第2方向に延びる複数のタッチ検出電極とを備え、タッチ駆動電極及びタッチ検出電極のうち一方が、液晶ディスプレイのカウンタ電極として機能することを開示している。
また、これらの特許文献においては、液晶駆動電圧が液晶に印加された後、タッチセンシング配線を用いて液晶層の表示状態を黒表示(dark state)に加速的に戻らせる手段について開示していない。
上述したように、電荷蓄積による表示の焼きつき(sticking)を避けるため、液晶駆動として極性反転駆動が一般的に採用されている。しかしながら、映像信号を伝達するソース配線は、極性反転に起因したノイズを発生させる発生源となっていた。加えて、ソース配線は、映像信号の極性反転に付随する浮遊容量の変化を伴い易い。インセル方式を採用するとともにタッチセンシング機能を備えた表示装置においては、映像信号が伝達されるソース配線に起因するノイズの発生を抑制することが重要となっている。
また、表示装置基板は、透明基板と、透明基板上に設けられた透明樹脂層を備えてもよい。この場合、第1タッチセンシング配線は、透明基板と透明樹脂層との間に設けられる。また、表示装置基板は、複数の透明樹脂層(第1透明樹脂層、第2透明樹脂層)を備えてもよい。
上記のように、制御部によって、前記画素電極と前記共通電極との間に液晶駆動電圧を印加することによって前記液晶層が駆動され、映像表示が行われ、映像表示が行われた後に前記第2タッチセンシング配線に電圧が印加される。これによって、第2タッチセンシング配線の間に、平面視において液晶層を横断する方向(透明基板に平行な方向)に向いた電界が発生し、この電界によって、液晶の配向状態を黒表示状態に加速的に戻らせることができる。
「黒表示への戻り」とは、ノーマリーブラック表示の液晶表示装置において、液晶の配向が、初期配向状態へ戻ることを意味する。
以下の説明では、液晶の配向状態を黒表示状態に加速的に戻らせる電界を発生させる電圧、即ち、第2タッチセンシング配線に印加される電圧を、「リセット電圧」又は「リセット信号」と称することがある。また、リセット電圧が印加される第2タッチセンシング配線(導電配線)を、「リセット配線」と称することがある。また、リセット電圧の印加によって生じる電界を、「リセット電界」と称することがある。また、上記電界の発生によって液晶分子の配向状態が初期配向となる液晶分子の駆動を、「リセット駆動」と称することがある。
更に、このリセット電圧は、液晶分子の立ち下り時間(以下、τoff)を短縮するために第2タッチセンシング配線に印加される電圧を意味する。ここで、液晶分子をリセットすることは、液晶分子の配向状態を、黒表示における配向状態(初期配向)に戻すことを意味する。
また、前記画素電極と前記透明電極との間に生じる電界によって前記液晶層は駆動されることから、前記液晶層においては、負の誘電率異方性を有するとともに初期配向が垂直配向である液晶分子が用いられる。即ち、縦電界方式を利用した液晶表示装置が実現される。縦電界方式とは、表示装置用基板に設けられた透明電極とアレイ基板に設けられた画素電極との間に配置された液晶層に対し、厚み方向に液晶駆動電圧を印加し、液晶層を駆動する方式である。
この構成によれば、液晶分子の立ち上がり時間(以下、τon)が短縮するため電極構造が実現される。具体的に、共通電極の突出部と画素電極との間に印加される液晶駆動電圧がフリンジ電界として用いられ、τonを短縮することができる。
ここで、銅含有層としては、例えば、銅層あるいは銅合金層が挙げられる。
チャネル層に適用される酸化物半導体としては、亜鉛、インジウム、スズ、タングステン、マグネシウム、ガリウム、及びゲルマニウムからなる群から選択される2種類以上の元素を含む複合金属酸化物が挙げられる。
酸化物半導体で形成されるチャネル層の構造としては、単結晶、多結晶、微結晶、結晶とアモルファスとを含む混晶、アモルファスのいずれでもよい。酸化物半導体の膜厚は、5nm〜50nmと範囲内とすることができる。
なお、第1タッチセンシング配線がタッチ駆動配線として機能してもよい。この場合、第2タッチセンシング配線がタッチ検出配線として機能する。
このように、第2タッチセンシング配線は、リセット電圧が印加されるだけでなく、タッチセンシング駆動配線又はタッチセンシング検出配線として機能することもできる。
また、第2タッチセンシング配線にリセット電圧が印加され、かつ、第2タッチセンシング配線にタッチセンシング駆動電圧が印加される場合、映像表示期間の中で、タッチセンシングの駆動動作と液晶分子のリセット駆動を時分割で行うことができる。
また、第2タッチセンシング配線にリセット電圧が印加され、かつ、第2タッチセンシング配線がタッチセンシング信号を検出する場合、映像表示期間の中で、タッチセンシングの検出動作と液晶分子のリセット駆動を時分割で行うことができる。
なお、複数のタッチセンシング配線の全てをタッチセンシングに用いる必要はない。例えば、一つの配線グループが複数のタッチセンシング配線で構成されている場合がある。この場合、複数の配線グループが液晶表示装置に設けられている。ここで、一つの配線グループの中で、全ての配線のうち、全ての配線の本数よりも少ない本数の配線における電位をフローティング電位に設定し、残りの本数の配線を用いてタッチセンシングを行ってもよい(間引き駆動)。
この場合、表示単位期間(後述)において白表示等の映像表示の後、黒表示安定期間においては、LED等のバッライトユニットがオフ(発光を停止)になる。
本発明の態様に係る液晶表示装置によれば、第1タッチセンシング配線及び第2タッチセンシング配線として、良好な導電性を有する銅やアルミニウム等の合金を含む金属層を用いることができるので、金属層を用いた場合の時定数を小さくすることができ、タッチセンシングのS/N比を向上することができる。
以下の説明において、同一又は実質的に同一の機能及び構成要素には、同一の符号を付し、その説明を省略又は簡略化し、或いは、必要な場合のみ説明を行う。各図においては、各構成要素を図面上で認識し得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法及び比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
(液晶表示装置LCD1の構成)
以下、本発明に係る液晶表示装置の第1実施形態を、図1から図15を参照しながら説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置を示すブロック図である。図1に示すように、本実施形態の液晶表示装置LCD1は、表示部110と、表示部110及びタッチセンシング機能を制御するための制御部120とを備えている。
制御部120は、公知の構成を有し、映像信号タイミング制御部121(第一制御部)と、タッチセンシング・リセット信号制御部122(第二制御部)と、システム制御部123(第三制御部)とを備えている。
映像信号タイミング制御部121は、後述するように、正の第1映像信号及び負の第2映像信号をソース配線に送る。
このようなタッチセンシング動作に用いられる第1タッチセンシング配線3の意味は、タッチセンシング駆動電圧が印加されるタッチ駆動配線と、タッチセンシング信号を検出するタッチ検出配線を含む。第2タッチセンシング配線7がタッチ駆動配線として機能する場合、第1タッチセンシング配線3は、タッチ検出配線として機能する。その一方、第2タッチセンシング配線7がタッチ検出配線として機能する場合、第1タッチセンシング配線3は、タッチ駆動配線として機能する。即ち、タッチセンシング機能において、第1タッチセンシング配線3及び第2タッチセンシング配線7の役割を切り換えてもよい。
本発明の実施形態に係る第1タッチセンシング配線及び第2タッチセンシング配線は、導電率の良い金属層で形成することができるため、タッチセンシング配線及び第2タッチセンシング配線の抵抗値を下げてタッチ感度を向上させることができる。
更に、制御部120は、後述するように、映像表示の安定期間、及び、映像表示後の黒表示安定期間の少なくとも一方の安定期間で、第1タッチセンシング配線3及び第2タッチセンシング配線7によるタッチセンシング駆動を行う。
本実施形態に係る液晶表示装置は、後述する実施形態に係る表示装置基板を具備することができる。また、以下に記載する「平面視」とは、観察者が液晶表示装置の表示面(表示装置用基板の平面)を観察する方向から見た平面を意味する。本発明の実施形態に係る液晶表示装置の表示部の形状、又は画素を規定する画素開口部の形状、液晶表示装置を構成する画素数は限定されない。ただし、以下に詳述する実施形態では、平面視、画素開口部の短辺の方向をX方向と規定し、長辺の方向をY方向と規定し、更に、透明基板の厚さ方向をZ方向と規定し、液晶表示装置を説明する。以下の実施形態において、上記のように規定されたX方向とY方向を切り換えて、液晶表示装置を構成してもよい。
液晶表示装置LCD1は、表示装置基板100(対向基板)と、表示装置基板100に向かい合うように貼り合わされたアレイ基板200と、表示装置基板100及びアレイ基板200によって挟持された液晶層300とを備える。
液晶表示装置LCD1に内部に光Lを供給するバックライトユニットBUは、液晶表示装置LCD1を構成するアレイ基板200の裏面(液晶層300が配置されるアレイ基板200の透明基板の面とは反対面)に設けられている。なお、バックライトユニットは、液晶表示装置LCD1の側面に設けてもよい。この場合、例えば、バックライトユニットBUから出射された光を液晶表示装置LCD1に内部に向けて反射させる反射板、導光板、或いは、光拡散板等がアレイ基板200の透明基板22の裏面に設けられる。
金属層が銅含有層(銅層あるいは銅合金層)を有する場合、この金属層を挟持する導電性金属酸化物層は、酸化亜鉛、酸化インジウム、及び酸化錫を含む複合酸化物層であることが望ましい。理由は、次のとおりである。上記複合酸化物においては、複合酸化物を構成する酸化亜鉛及び酸化錫の組成割合を調整することによって、ウエットエッチングにおけるエッチングレートを容易に調整することができる。このことから、複合酸化物で構成された導電性金属酸化物層によって銅含有層が挟持された3層構成を備える第2タッチセンシング配線7及び第1タッチセンシング配線3の場合、複数層構成であっても、第2タッチセンシング配線7及び第1タッチセンシング配線3のパターンを容易に形成することができる。更に、銅含有層は、カラーフィルタを構成する樹脂や、ガラス等の基板に対する密着性が低く、密着性の観点で、銅含有層は実用レベルに達していない。その一方、酸化亜鉛、酸化インジウム、及び酸化錫で構成される複合酸化物層は、カラーフィルタやガラスに対する密着性を十分に有しており、更に、銅含有層に対する密着性も十分に有している。このように、複合酸化物層は、カラーフィルタ、ガラス、及び銅含有層に対する密着性の観点で、実用レベルを十分に満たしていることから、高い密着性を実現した第2タッチセンシング配線7及び第1タッチセンシング配線3を提供することができる。
金属層には、銅、銀、金、チタン、モリブデン、アルミニウム、あるいはこれら金属を含む合金が適用可能である。ニッケルは強磁性体であるため、成膜レートが落ちるが、スパッタリング等の真空成膜で形成することができる。クロムは、環境汚染の問題や抵抗値が大きいというマイナス面を有するが、本実施形態に係る金属層として用いることができる。
金属酸化物層と金属層とによって得られる層構成は、スパッタ装置等の真空成膜装置で、連続成膜できるというメリットがある。
黒色層は、例えば、黒色の色材を分散させた着色樹脂で構成されている。銅の酸化物や銅合金の酸化物は、十分な黒色や低い反射率を得られないが、本実施形態に係る黒色層とガラス等の基板との間の界面における可視光の反射率はほぼ3%以下に抑えられ、高い視認性が得られる。
上述した第1タッチセンシング配線3は、第1黒色層8、第2導電性金属酸化物層4、第1金属層5、及び第1導電性金属酸化物層6が透明基板21上に順に積層された構造を有する。第1タッチセンシング配線3の変形例として、第1導電性金属酸化物層6上に第2黒色層が設けられた構造が採用されてもよい。
アレイ基板200は、透明基板22(第2透明基板)と、透明基板22上に形成されたゲート配線9、10(第1ゲート配線10及び第2ゲート配線9)及びコモン配線36(図10参照)と、ゲート配線9、10及びコモン配線36を覆うように透明基板22上に形成された第3絶縁層13と、第3絶縁層13上に形成されたソース配線14、15(第1ソース配線14及び第2ソース配線15)と、ソース配線14、15を覆うように第3絶縁層13上に形成された第2絶縁層12と、第2絶縁層12上に形成された共通電極20と、共通電極20を覆うように第2絶縁層12上に形成された第1絶縁層11とを備える。更に、アレイ基板200は、第1絶縁層11上に形成された複数の画素電極17を備える。
即ち、第1絶縁層11は、画素電極17の下に設けられている。第2絶縁層12は、第1絶縁層11の下に設けられている。共通電極20は、第1絶縁層11と第2絶縁層12との間に設けられている。
換言すると、液晶層300に最も近いアレイ基板200の面に、画素電極17が設けられている。画素電極17は、複数の画素開口部18の各々に設けられており、後述するアクティブ素子に接続されている。
互いに隣接する第2タッチセンシング配線7の間に位置するY方向(画素の長辺方向)における領域は、画素開口部18である。なお、X方向(画素の短辺方向)における画素開口部18は、図3に示す互いに隣接する第1タッチセンシング配線3の間、或いは、図4に示す互いに隣接するソース配線14、15の間に位置する。
本実施形態においては、第2タッチセンシング配線7及び第1タッチセンシング配線3が延在する方向を限定しない。第1タッチセンシング配線3及び第2タッチセンシング配線7のうち一方が、第1ゲート配線10及び第2ゲート配線9に重畳するように設けられてもよい。この場合、第1タッチセンシング配線3及び第2タッチセンシング配線7のうち他方は、第1ソース配線14及び第2ソース配線15に重畳するように設けられる。
第1ゲート配線10及び第2ゲート配線9は、複数の画素開口部18のうち互いに隣接する2つの画素開口部18の間に位置するように、互いに平行に配設されている。
図2においては、液晶層300に初期配向を付与する配向膜、偏光フィルム、位相差フィルム等の光学フィルム、保護用のカバーガラス等は、省略されている。液晶表示装置LCD1の表面及び裏面の各々には、光軸がクロスニコルとなるように、偏光フィルムが貼付されている。
液晶表示装置LCD1を構成する画素は、多角形形状を有し、配向処理の方向に対し角度θを有する、くの字形状パターン(dog−legged pattern)を有する。配向膜の配向処理としては、光配向処理あるいはラビング処理が採用できる。角度θは、例えば、3°〜15°の範囲である。
まず、表示装置基板100及びアレイ基板200が互いに向かい合う面に感光性の配向膜材料を基板に塗布し、配向膜材料を軽度に乾燥させる。更に、液晶層300を封止するためのシール部を、表示装置基板100及びアレイ基板200の少なくとも一方に、表示画面の周囲に位置するように形成する。その後、液晶を表示装置基板100及びアレイ基板200の一方に滴下(ODF:One Drop Filling)する。滴下された液晶(液晶層300)を挟持するように表示装置基板100及びアレイ基板200を貼り合わせ、液晶層300のシールを行う(セル化)。その後、例えば、液晶を駆動する電圧を液晶層300に印加しながら、紫外線を基板に照射し、配向膜材料を硬化させると同時に配向膜材料が配向処理される。紫外線としては、偏光させた紫外線を用いてもよく、偏光させない紫外線を用いてもよい。
第2タッチセンシング配線7は、アレイ基板200を構成する複数の層のうちの最上層(配向膜の除く)のひとつである。第2タッチセンシング配線7は、X方向に向けて延在している。第2タッチセンシング配線7の下部には、第1ゲート配線10及び第2ゲート配線9が設けられている。第2タッチセンシング配線7及び第1ゲート配線10及び第2ゲート配線9を含む断面構造については、図10を参照して後述する。第2タッチセンシング配線7は、少なくとも金属層を含み、第2タッチセンシング配線7の構造としては、第1タッチセンシング配線3と同じ構造を採用することができる。即ち、第2タッチセンシング配線7は、黒色層及び金属層で構成された2層構造を有する。
第2タッチセンシング配線7及び第1タッチセンシング配線3で囲まれた領域に、遮光層23、画素電極17、及び共通電極20が位置している。
図5は、液晶表示装置LCD1を部分的に示す断面図である。図5に示すように、遮光層23は、アクティブ素子28(第1アクティブ素子28a)を構成するチャネル層27の上部を覆うように配設されている。チャネル層27の下部には、第3絶縁層13を介してゲート電極25(第1ゲート電極)が設けられている。換言すると、遮光層23とゲート電極25との間にチャネル層27が位置している。このように、平面視において、アクティブ素子28のチャネル層27は、遮光層23と重なっており、ゲート電極25と重なっている。このため、バックライトユニットBUから出射された光L、又は、光Lに起因する反射光等は、遮光層23及びゲート電極25によって遮光され、これら光(迷光)がチャネル層27へ入射することが防止される。従って、迷光がチャネル層27に入射することによるアクティブ素子28でのノイズの発生を避けることができ、アクティブ素子28における誤動作を防止することができ、画質の改善に寄与する。
特に、300ppi以上といった高精細画素を備える液晶表示装置においては、光がアクティブ素子28に入射し易くなり、アクティブ素子28が誤動作し易くなり、結果的に、液晶表示装置の表示品質が低下し易くなる。遮光層23を設けることで、このような画質低下を防ぐことができる。
図4は、本実施形態に係る液晶表示装置LCD1を観察者から見た画素構造を部分的に示す平面図であり、表示装置基板100と、第2タッチセンシング配線7及び遮光層23を除いたアレイ基板200上に設けられた部材の位置関係を示す図である。
アレイ基板200の透明基板22上においては、2本のゲート配線9、10と2本のソース配線14、15が直交している。即ち、ゲート配線9、10は、X方向に延在し、ソース配線14、15は、Y方向に延在している。第1ゲート配線10、第2ゲート配線9、第1ソース配線14、及び第2ソース配線15によって画素開口部18が区画されている。画素開口部18の長辺は、第1ソース配線14及び第2ソース配線15に沿う方向に延在している。
さらに、ゲート配線9、10と平行に延在し、かつ、画素の中央に位置するコモン配線36が透明基板22上に設けられている。更に、複数の画素の各々の中央には、不図示のコンタクトホールが設けられている。このコンタクトホールを介して、X方向に配列された複数の共通電極20は、コモン配線36と電気的に接続されている。各画素は、2個のアクティブ素子28、即ち、第1アクティブ素子28a及び第2アクティブ素子28bを具備する。
第2ゲート配線9は、第2アクティブ素子28bと電気的に連携されている。具体的に、第2ゲート配線9に接続されている第2ゲート電極25bと第2アクティブ素子28bのチャネル層27とは、第3絶縁層13を介して対向している。映像信号タイミング制御部121から第2ゲート電極25bに供給される走査信号に応じて第2アクティブ素子28bにおいてスイッチング駆動が行われる。
図6においては、画素電極17や第1絶縁層11を含むアレイ基板200の図示が省略されており、後述するカラーフィルタを構成する赤フィルタR、緑フィルタG、及び青フィルタBと第2タッチセンシング配線7a、7bとの位置関係が示されている。
図6に示すように、第2タッチセンシング配線7は、第2タッチセンシング配線7a(第1導電配線)を含む第1配線グループと、第2タッチセンシング配線7b(第2導電配線)を含む第2配線グループとを有する。第1配線グループ及び第2配線グループは、互いに噛み合うように、櫛歯状に形成されている。
表示装置基板100上において、画素開口部18に対応する位置に、少なくとも、赤フィルタR、緑フィルタG、及び青フィルタBのいずれかが設けられている。
また、第1配線グループにおいて、複数の第2タッチセンシング配線7aの各々は端部を有していることから、第2タッチセンシング配線7aは電極(第1導電電極)として機能する。同様に、第2配線グループにおいて、複数の第2タッチセンシング配線7bの各々は端部を有していることから、第2タッチセンシング配線7bは電極(第2導電電極)として機能する。
図10に示すように、液晶層300に対向する透明基板21の面には、第1タッチセンシング配線3が設けられている。この第1タッチセンシング配線3は、表示装置基板100の第1透明基板21上に設けられた黒色層8と、黒色層8上に設けられた金属層5を含む。また、透明基板21上には、第1タッチセンシング配線3を覆うように透明樹脂層1が設けられている。
表示装置基板100の表示面(観察者に対向する面)から第1タッチセンシング配線3までの距離よりも、表示装置基板100の表示面から第2タッチセンシング配線7までの距離が大きい。また、第2タッチセンシング配線7は、第1絶縁層11上の位置、第2絶縁層12上の位置、及び第2絶縁層12下の位置のうち、いずれかの位置に設けられていればよい。第2タッチセンシング配線7上に、絶縁層がさらに積層されてもよい。
第2タッチセンシング配線7としては、アルミニウムや銅等の合金層を用いることができる。第1タッチセンシング配線3を構成する複数層のうち、観察者によって観察される層として、黒色層8を設けることで、第1タッチセンシング配線3から生じる光反射を抑え、視認性を改善することができる。なお、金属層の成膜前に、無機や有機の絶縁層を形成してもよく、あるいは第1タッチセンシング配線3をパターニングした後に金属層上に無機や有機の絶縁層を形成してもよい。
(1.ゲート配線9、10及びソース配線14、15による反転駆動)
次に、図14及び図15を参照し、ゲート配線9、10及びソース配線14、15による反転駆動について説明する。
本実施形態では、一例として、第1ソース配線14の電位が正の極性を有し、第2ソース配線15が負の極性を有しており、各画素において画素反転駆動が行われる。反転駆動の際に選択されるゲート配線は、表示画面の全体でゲート配線を選択するフレーム反転でもよく、全ラインのうちの半分の本数のゲート配線を選択して反転駆動を行ってもよいし、さらに、水平ラインを順次に選択する反転駆動や水平ラインを間欠的に選択して反転駆動を行ってもよい。
図7から図9は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置を部分的に示す平面図であり、液晶表示装置LCD1の一画素における液晶分子と電極構造(画素電極17と共通電極20)の関係を示す拡大図である。また、図7は、初期配向(黒表示)状態の液晶分子と電極構造の関係を示す拡大図であり、図8は、画素電極17と共通電極20との間に液晶駆動電圧を印加した時の液晶分子の回転動作を示す図である。図7及び図8においては、一画素を挟むように配置された第2タッチセンシング配線7a、7bが示されている。図9は、画素電極17と共通電極20との間に液晶駆動電圧が印加されていない状態(無印加状態)で、第2タッチセンシング配線7a、7b間にリセット電圧を印加し、第2タッチセンシング配線7a、7b間に電界を発生させ、液晶の配向状態を黒表示状態に加速的に戻らせることを説明する図である。
なお、液晶駆動電圧オン時では、第2タッチセンシング配線7a、7bには、電圧が印加されていない。
特に、従来の液晶表示装置においては、第2タッチセンシング配線7a、7bが設けられていないことから、白表示状態から黒表示状態へゆっくりと戻ることになる。即ち、図13に示すように、従来の液晶表示装置における透過率の変化に関し、時間の経過に伴って、白表示状態(透過率Trans:100%)から透過率Transがゆっくりと減少し、透過率Transは黒表示状態(透過率Trans:0%)となる。
このように、従来の液晶表示装置においては、液晶の表示状態を黒表示へ戻すための駆動電圧が液晶分子39に印加されないため、時間τoffを短縮することができない。
このように、第2タッチセンシング配線7a、7bに印加されるリセット電圧の正負を反転させることで、リセット電界B2の方向は、上記のリセット電界B1の方向と逆となる。
図10及び図11は、図3に示すソース配線(B−B’線)に沿う断面図である。図10は、タッチセンシング配線3と第2タッチセンシング配線7との間にタッチセンシング駆動電圧を印加した時に発生するフリンジ電界の状況を部分的に示している。図11は、タッチセンシング配線3と第2タッチセンシング配線7との間にタッチセンシング駆動電圧を印加し、かつ、観察者に面している表示装置基板100の表面に指等のポインターが接触あるいは近接した時のフリンジ電界の変化を部分的に示している。
その一方、図11に示すように、指等のポインターが透明基板21に接触あるいは近接した場合、第1タッチセンシング配線3は、静電容量の変化をタッチセンシング信号として検出する。
また、第2タッチセンシング配線7上に、可視光吸収性を持たせた無機膜や有機膜を積層してもよい。可視光吸収性を有する無機膜を用いる場合には、例えば、金属酸化物膜やこの酸化物膜を含む多層構造で無機膜が構成される。可視光吸収性を有する有機膜を用いる場合には、例えば、後述する黒色層を有機膜として用いることができる。第2タッチセンシング配線7の一部あるいは全部をタッチ駆動配線として用いることができ、或いは、第2タッチセンシング配線7の一部あるいは全部をタッチ検出配線として用いることができる。
その一方、第2タッチセンシング配線7をタッチ検出配線として用いる場合、第1タッチセンシング配線3は、タッチ駆動配線として機能する。この場合、第1タッチセンシング配線3にタッチセンシング駆動電圧Vtouchが印加され、第2タッチセンシング配線7にリセット電圧Vrが印加され、第2タッチセンシング配線7がタッチセンシング信号を検出する。
例えば、液晶駆動の共通電極である透明電極の電位をゼロボルトの定電位とし、複数の画素の各々でドット反転駆動を行う場合、透明電極は、液晶駆動とタッチセンシング駆動とにおいて、電気的シールドとしての役割を有する。
表示装置基板100に設けられた第1タッチセンシング配線3をタッチ駆動電極として機能させ、アレイ基板200に設けられた第2タッチセンシング配線7をタッチ検出電極として機能させる場合、タッチセンシングの駆動条件と液晶の駆動条件(周波数や電圧等)を異ならせることができる。
表示装置基板100に設けられた第1タッチセンシング配線3又はアレイ基板200に設けられた第2タッチセンシング配線7のうちいずれかをタッチ駆動電極(走査電極)として機能させる場合、要求されるタッチ入力の速さに合わせて、静電容量を検出する走査周波数を任意に調整することができる。
次に、リセット電圧Vrが第2タッチセンシング配線7に印加されるタイミングと、タッチセンシング駆動が行われるタイミングと説明する。
図12は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置LCD1を説明するための信号タイミングチャートであって、液晶駆動とタッチセンシング駆動とを時分割で行う場合の信号等の波形の例を示している。
図12に示された表示期間は、1フレームの期間(1F)であり、例えば、60Hzに相当する映像書き込みを行う期間である。図12は、この1フレームの期間において、一画素単位期間(一表示単位期間)で、白表示(液晶駆動電圧、オン)と黒表示(液晶駆動電圧、オフ)とを行うタイミングを示している。
なお、第2アクティブ素子28bが駆動する場合では、第2ゲート配線9にゲート信号が供給され、第2ソース配線15に映像信号が供給され、画素電極17に映像が書き込まれる。
即ち、制御部120は、液晶駆動電圧が画素電極17に印加された後、かつ、液晶駆動電圧が画素電極17に印加されていない時に、第2タッチセンシング配線7にリセット電圧を印加する。
(1)一画素における映像書き込みが行われた後(表示単位期間での映像表示の後)のタイミング
(2)一水平ラインにおける映像書き込みが行われた後のタイミング
(3)一垂直ラインにおける映像書き込みが行われた後のタイミング
(4)1フレームにおける映像書き込みが行われた後のタイミング
酸化物半導体で形成されたチャネル層の場合、アクティブ素子によって映像書き込みが行われた後、透過率Transは図12に示すように急速に立ち上がる。
その一方、アモルファスシリコン半導体で形成されたチャネル層の場合、アクティブ素子によって映像書き込みが行われた後、透過率Transは図13に示すように緩慢に立ち上がる。
その一方、チャネル層が酸化物半導体で形成されている場合は、アモルファスシリコン半導体に比べて、リーク電流が3桁前後低く、電圧保持することができる。このため、液晶駆動電圧の印加時間Dtは短くてよい。タッチセンシング期間Ttouchのタッチセンシング周波数は、液晶駆動周波数より高い周波数である必要がある。なぜなら、タッチセンシングのタイミングは不定期であり、かつ、短時間であるからである。このため、未検出を避けるため、タッチセンシング周波数(検出周波数)は、高い周波数であることが好ましい。
高い周波数でタッチセンシング駆動を行い、タッチセンシング信号の積分値を得ることで安定したタッチセンシング検出を行うことができる。タッチセンシング信号に対するノイズ量を少なくするため、アクティブ素子に映像書き込みを行うための液晶駆動電圧のオン及びオフの直後のタイミングでタッチセンシング信号を検出するのを避けることが望ましい。従って、白表示の透過率が安定する白表示安定期間Wr、および、黒表示の透過率が安定する黒表示安定期間Erの間で、タッチセンシング信号の検出を行うことができる。
また、右目用画像と左目用画像との切り替えを行う3D表示(立体画像表示)に関し、リセット電圧Vrが第2タッチセンシング配線7に印加された後の黒表示安定期間Erにおいて、右目用画像と左目用画像との切り替え時に表示される黒表示を行ってもよい。
更に、本発明の実施形態によれば、共通電極20(コモン配線36)の電位を反転させる必要なく、ゼロボルト等の定電位とすることができる。更に、ソース配線における映像信号の電位を正又は負に反転する必要がない。このため、タッチセンシング駆動に対するノイズを大きく軽減することができる。加えて、アクティブ素子に入射する光が遮光層によって遮光していることから、アクティブ素子に起因するノイズの発生を抑制することができる。
更に、電位を正又は負に反転する従来の液晶表示装置と比較して、ソース配線に供給される電位の振幅(最大電圧の幅)は、半分で済む。このため、高耐圧のドライバを使う必要もなく、ドライバコストを下げることができる。ソース配線に供給される電位(電圧)の振幅が半分となるため、タッチセンシングに係る消費電力を大きく削減することができる。
第2実施形態に係る液晶表示装置を図1、図12、及び図16から図28を用いて説明する。
本実施形態に係る液晶表示装置LCD2においては、表示装置基板100に透明電極が設けられ、負の誘電率異方性を有する液晶分子で液晶層300が構成され、アレイ基板200には共通電極20が設けられていない。このため、液晶表示装置LCD2においては、透明電極と画素電極との間に挟持された液晶層300に縦電界を印加することによって液晶層300を駆動させる縦電界方式が採用されている。更に、画素電極17に接続された第1アクティブ素子28a及び第2アクティブ素子28bによって、液晶駆動が制御されている。
液晶表示装置LCD2は、表示装置基板100(対向基板)と、表示装置基板100に向かい合うように貼り合わされたアレイ基板200と、表示装置基板100及びアレイ基板200によって挟持された液晶層300とを備える。
第2タッチセンシング配線7を構成する第2金属層は、銅を含有する含有層であり、例えば、銅層あるいは銅合金層である。第2タッチセンシング配線7は、第2金属層が2つの導電性金属酸化物層で挟持された構成を有してもよい。
図16においては、液晶層300に初期配向を付与する配向膜、偏光フィルム、位相差フィルム等の光学フィルム、保護用のカバーガラス等は、省略されている。液晶表示装置LCD2の表面及び裏面の各々には、光軸がクロスニコルとなるように、偏光フィルムが貼付されている。
透明電極2は、例えば、ITO等の導電性金属酸化物で形成されている。平面視において透明電極2は、ストライプパターン(短冊形状)を有するように形成されている。互いに隣接する短冊状の透明電極2の間には、スリット16が形成されており、短冊状の透明電極2の間に第1タッチセンシング配線3が位置している。図17に示す第1タッチセンシング配線3の下部(Z方向)には、ゲート配線9、10が位置している。ゲート配線9、10は、第1タッチセンシング配線3と平行に延在するように、かつ、平面視において第1タッチセンシング配線3とほぼ同じ位置に配設されている。なお、第1タッチセンシング配線3は、表示装置基板100の透明基板21上に配設され、ゲート配線9、10はアレイ基板200の透明基板22上に配設されている。
画素開口部18には、画素電極17を構成する電極部17a、17bが設けられている。アレイ基板200上には、第2タッチセンシング配線7(不図示、図16参照)、及び、第2タッチセンシング配線7を構成する金属層と同じ層で形成された遮光層23(遮光パターン)が具備されている。ただし、第2タッチセンシング配線7と遮光層23とは電気的に絶縁されている。図18に示す第2タッチセンシング配線7の下部(Z方向)には、ソース配線14、15が位置している。ソース配線14、15は、第2タッチセンシング配線7と平行に延在するように、かつ、平面視において第2タッチセンシング配線7とほぼ同じ位置に配設されている。
なお、上述した第1実施形態と同様に、画素電極17には、2つのアクティブ素子、即ち、第1アクティブ素子28a及び第2アクティブ素子28bが接続されている。このため、1つの画素において、画素電極17には2つのコンタクトホール29が設けられており、コンタクトホール29を通じて第1アクティブ素子28aを構成するドレイン電極26と、第2アクティブ素子28bを構成するドレイン電極26とが接続されている。
図20に示されるように、アクティブ素子28は、第2金属層である遮光層23で覆われている。具体的に、アクティブ素子28は、ソース配線14、15に電気的に接続されたソース電極24と、ゲート配線9、10に電気的に接続されたゲート電極25と、半導体で構成されたチャネル層27とを有する薄膜トランジスタである。平面視においてアクティブ素子28が遮光層23で覆われるように、遮光層23のX方向における幅は、設定されている。
チャネル層27を遮光層23で覆うことで、第1実施形態と同様の効果が得られる。
図21においては、画素電極17や第1絶縁層11を含むアレイ基板200の図示が省略されており、後述するカラーフィルタを構成する赤フィルタR、緑フィルタG、及び青フィルタBと第2タッチセンシング配線7との位置関係が示されている。
図21に示すように、第2タッチセンシング配線7は、第1配線7a(第1導電配線)を含む第1配線グループと、第2配線7d(第2導電配線)を含む第2配線グループと、第1配線7aと第2配線7dとの間に設けられたダミー配線7b、7cを含むダミー配線グループとを有する。第1配線グループ及び第2配線グループは、互いに噛み合うように、櫛歯状に形成されている。
このため、図21に示すように、仮想的には、交流電源S(仮想電源)が第1配線グループと第2配線グループとに接続されていると考えることができ、この場合、リセット電圧は交流電圧である。
また、第1配線グループにおいて、複数の第1配線7aの各々は端部を有していることから、第1配線7aは電極(第1導電電極)として機能する。同様に、第2配線グループにおいて、複数の第2配線7dの各々は端部を有していることから、第2配線7dは電極(第2導電電極)として機能する。
図21に示すように、ダミー配線7b、7cは、ループアンテナを形成している。ダミー配線7b、7cの形状は、このようなループアンテナ形状に限定されない。例えば、ダミー配線7b、7cの下端を開放し、ダイポールアンテナ形状が採用されてもよい。また、ダミー配線7b、7cの形状として、モノポールアンテナ形状が採用されてもよい。ダミー配線7b、7cの線幅、長さ、ピッチ等は目的に応じて調整することができる。
タッチ検出配線の形状として、ループアンテナ形状、ダイポールアンテナ形状、モノポールアンテナ形状を採用することができる。アンテナを構成する配線の線幅、配線の長さ、互いに隣接する配線のピッチ等の設計は、タッチセンシング検出の条件やタッチセンシング検出が行われる周囲のノイズ状況に応じて調整することができる。タッチ検出配線の構造としてアンテナ構造が採用されることで、タッチ検出配線がノイズ周波数の影響を受け難くなる。
第1タッチセンシング配線3は、透明基板21上に設けられた第1黒色層8と、第1黒色層8上に設けられた第2導電性金属酸化物層4と、第2導電性金属酸化物層4上に設けられた第1金属層5と、第1金属層5上に設けられた第1導電性金属酸化物層6とを具備している。第1金属層5は、銅を含有する含有層であり、例えば、銅層あるいは銅合金層である。このように第1タッチセンシング配線3は、第1金属層5が第2導電性金属酸化物層4及び第1導電性金属酸化物層6で挟持された構成を有する。また、後述するように、第1導電性金属酸化物層6上には、黒色層19(第2黒色層)が形成される場合がある。
図23は、図22に示すタッチセンシング配線の断面図であり、Y方向におけるタッチセンシング配線の線幅を示している。図22及び図23に示すように、透明基板21の端部に形成された端子部33においては、透明基板21に形成された第1黒色層8上に、第2導電性金属酸化物層4、第1金属層5(銅合金層)、及び第1導電性金属酸化物層6がこの順で積層されている。即ち、第1タッチセンシング配線3は、3層構成を有する。透明樹脂層1は、平面視において、例えば、矩形状の表示面に相当する面積を有するように透明基板21上に塗布形成されている。端子部33の上には、透明樹脂層1は形成されていない。端子部33の表面は、第1導電性金属酸化物層6で覆われており、端子部33にて第1導電性金属酸化物層6が露出しており、端子部33は安定した電気的な接続を行うことが可能である。
表示装置基板100及びアレイ基板200の両端子部間における電気的接続(導通)は、例えば、液晶層300を封止するため封止部(シール部)に、数μmから数十μmの大きさを有する導電柱(接続導電体)を形成することで実現することができる。
これにより、第1タッチセンシング配線3は、図1に示すように、タッチセンシング・リセット信号制御部122に接続される。即ち、タッチセンシング・リセット信号制御部122から第1タッチセンシング配線3への信号の送受信は、表示装置基板100の端子部33とアレイ基板200の端子部との間に設けられた導電柱を通じて行われる。このため、安定した電気的実装が可能な表示装置基板を提供することができる。
(1.ゲート配線9、10及びソース配線14、15による反転駆動)
液晶表示装置LCD2においても、上述した第1実施形態と同様に、ゲート配線9、10及びソース配線14、15による反転駆動が行われる。
図24は、透明電極2と画素電極17との間に液晶駆動電圧を印加した時(液晶駆動電圧オン時)における白表示の状態を部分的に示す断面図である。
画素電極17の電極部17a、17bと透明電極2との間に、液晶駆動電圧を印加すると、画素電極17と透明電極2との間に電界が発生する。このような電界の作用によって、液晶分子139は傾斜し、アレイ基板200の基板面に平行に倒れ、液晶表示装置LCD2において白表示が行われる。なお、液晶駆動電圧オン時では、第2タッチセンシング配線7には、電圧が印加されていない。
第2タッチセンシング配線7にリセット電圧を印加するタイミングは、上述した図12に示すタイミングチャートに基づいて行われる。正電圧及び負電圧を反転させる駆動は、制御部120によって制御される。
図27及び図28は、図17に示すI−I’線に沿う図である。
図27は、第2タッチセンシング配線7と第1タッチセンシング配線3との間にタッチセンシング駆動電圧を印加した時に発生するフリンジ電界の状況を部分的に示している。
図28は、第2タッチセンシング配線7と第1タッチセンシング配線3との間にタッチセンシング駆動電圧を印加し、かつ、観察者に面している表示装置基板100の表面に指等のポインターが接触あるいは近接した時のフリンジ電界の変化を部分的に示している。
その一方、図28に示すように、指等のポインターが透明基板21に接触あるいは近接した場合、第1タッチセンシング配線3は、静電容量の変化をタッチセンシング信号として検出する。
また、第2タッチセンシング配線7(7a、7b、7c、7d)上に、可視光吸収性を持たせた無機膜や有機膜を積層してもよい。可視光吸収性を有する無機膜を用いる場合には、例えば、金属酸化物膜やこの酸化物膜を含む多層構造で無機膜が構成される。可視光吸収性を有する有機膜を用いる場合には、例えば、後述する黒色層を有機膜として用いることができる。第2タッチセンシング配線7(7a、7b、7c、7d)の一部あるいは全部をタッチ駆動配線として用いることができ、或いは、第2タッチセンシング配線7(7a、7b、7c、7d)の一部あるいは全部をタッチ検出配線として用いることができる。
その一方、第2タッチセンシング配線7をタッチ検出配線として用いる場合、第1タッチセンシング配線3は、タッチ駆動配線として機能する。この場合、第1タッチセンシング配線3にタッチセンシング駆動電圧Vtouchが印加され、第2タッチセンシング配線7にリセット電圧Vrが印加され、第2タッチセンシング配線7がタッチセンシング信号を検出する。
本実施形態においては、第1実施形態において説明した図12に示す信号タイミングチャートに基づき、リセット電圧Vr及びタッチセンシング駆動電圧が時分割で第2タッチセンシング配線7に印加される。
図12に示すように、黒表示安定期間Erにおいて、高い周波数でタッチセンシング信号の検出が行われている。この黒表示安定期間Erでは、LED等のバックライトユニットの発光素子の発光を停止することができる。白表示安定期間Wrは、例えば、映像信号印加後の透過率Transが安定する期間である。同様に、黒表示安定期間Erは、黒表示における透過率Transが安定する期間である。リセット電圧Vrがタッチセンシング信号に与える影響を軽減するために、少なくとも、映像信号がソース配線に印加された後、あるいは、リセット信号(リセット電圧Vr)が第2タッチセンシング配線7に印加された後、1msec〜3msec経過したタイミングで、タッチセンシングを行う。
縦電界方式が採用された液晶表示装置LCD2においても、上述した第1実施形態と同様の効果が得られる。
次に、本発明に係る液晶表示装置の第3実施形態を、図29から図33を参照しながら説明する。
本実施形態に係る液晶表示装置LCD3においては、上述した第2実施形態に係る液晶表示装置LCD2の表示装置基板100にカラーフィルタが設けられており、負の誘電率異方性を有する液晶分子で液晶層300が構成され、突出部を有する共通電極がアレイ基板200に設けられている構成が採用されている。このため、液晶表示装置LCD3においては、透明電極と画素電極との間に挟持された液晶層300に縦電界を印加することによって液晶層300を駆動させる縦電界方式が基本的に採用されている。更に、液晶表示装置LCD3においては、縦電界によって液晶層300を駆動させるだけでなく、画素電極と共通電極との間に生じるフリンジ電界によって液晶層300を駆動させている。
図30は、本発明の第3実施形態に係る液晶表示装置を部分的に示す断面図であり、図29に示すD−D’線に沿う図である。
ブラックマトリクスBM、赤フィルタR、緑フィルタG、及び青フィルタBを覆うように透明樹脂層1が形成されている。ブラックマトリクスBMは、画素開口部18を区画する。
透明電極2がストライプパターンを有するので、透明樹脂層1には、複数の帯状の透明電極2がY方向に配列している。互いに隣接する透明電極2の間には、スリット16が形成されている。スリット16部分には、ITO等の透明電極は形成されていない。スリット16には、平面視においてブラックマトリクスBMや第1タッチセンシング配線3が配置されている。
電極部17a、紙面左側に位置する突出部46(第1突出部)、及び紙面左側に位置する重畳部37(第1重畳部)と、電極部17b、紙面右側に位置する突出部46(第2突出部)、及び紙面右側に位置する重畳部37(第2重畳部)とは、画素中央CLに対して、線対称に配置されている。突出部46は、画素の長辺方向だけでなく、短辺方向に配設してもよい。
ブラックマトリクスBMは、液晶層300により近い位置に配置することで、ブラックマトリクスBM近傍で発生する液晶配向不良領域における迷光や再反射光の漏れを低減することができる。
液晶層300は、第2実施形態と同様、初期配向が垂直配向である液晶分子を有する。
以下の説明では、第2タッチセンシング配線7に対する電圧印加によって電界を発生させ、アレイ基板200の基板面に平行に倒れた液晶分子の配向を、垂直配向に加速的に戻らせているが、電界の方向のみを示しており、電圧が印加される導電配線は省略されている。なお、リセット電圧が印加される第2タッチセンシング配線7は、図30から図33に示されている画素に隣接する画素に配置されている。
一方、図31は、透明電極2と画素電極17との間に液晶駆動電圧を印加した時(液晶駆動電圧オン時)における白表示の状態を部分的に示す断面図である。
液晶駆動電圧オン時では、画素電極17と透明電極2との間、及び、画素電極17と共通電極30との間に液晶駆動電圧が印加される。電圧印加時、突出部46に近い位置にある液晶分子138は、画素電極17と共通電極30との間に生じる強い電界の発生に起因して、すぐに大きく倒れ、画素電極17と平行となるように配向される。残る液晶分子139は、突出部46の近くで配向された液晶分子138の動作が伝播するように、画素中央CLに対して線対称の方向に倒れる。
このため、液晶分子138、139は、画素中央CLから線対称の並び(配列)となるように配向され、広い視野が確保される。
リセット電圧の印加によって電界(右側から左側に向けて)が発生すると、アレイ基板200の基板面に平行に倒れた液晶分子の配向が、垂直配向に加速的に戻る。この結果、液晶表示が、白表示から黒表示に変化している。リセット電圧印加により、τoffは大きく短縮される。τoffの短縮によって、黒表示安定期間Erが長くなることから、この期間中に、バックライトユニットBUの発光を停止してもよい。
図33に示す動作においては、図32と同様の効果が得られる。更に、図32に示す電界と図33に示す電界とを交互に発生させることで、液晶セル内に蓄積するともに画像の焼きつきの原因となる電荷を中和することができる。
次に、本発明の第3実施形態に係る液晶表示装置の変形例を、図29、図30、図34、図35を参照しながら説明する。図34は、図29に示すE−E’線に沿う断面図である。図35は、本発明の第3実施形態に係る液晶表示装置の変形例を部分的に示す断面図であり、図29に示すF−F’線に沿う図であり、タッチ検出配線として機能する第1タッチセンシング配線3とタッチ駆動配線として機能する第2タッチセンシング配線7との間に生じる静電容量C3を説明するための図である。
カラーフィルタに対するブラックマトリクスBMの位置の点で、第3実施形態の変形例は第3実施形態とは異なる。
図29及び図30と同様に、アレイ基板200は、第2絶縁層12と画素電極17(電極部17a、17b)との間に設けられた共通電極30とを備える。共通電極30は、画素電極17と重なる重畳部37と、画素電極17の端部17cからX方向に突出している突出部46(はみ出し部分)とを有する。
液晶層300は、第3実施形態と同様、初期配向が垂直配向である液晶分子を有する。
共通電極30が突出部46を備えている電極構造は、視野角や中間調表示を向上させる。画素電極17の電極部17a、17bと透明電極2との間に液晶駆動電圧を印加することで、液晶分子138、139が倒れ、白表示が得られる(図31参照)。
白表示の後、液晶駆動電圧をオフし、リセット電圧を第2タッチセンシング配線7に印加することで、平面視にて、液晶層300及びソース配線を横切るように電界が生じる。この電界の作用により、液晶分子138、139の配向は、加速的に垂直配向(初期配向)に戻る(図32参照)。
図35に示すように、液晶表示装置LCD3においては、平面視、緑フィルタGと青フィルタBとの境界と重なるようにダミー配線7cが設けられており、青フィルタBと赤フィルタRとの境界と重なるように第2導電配線7dが設けられている。
第2配線7dと第1タッチセンシング配線3との間にタッチセンシング駆動電圧を印加することによってフリンジ電界が発生する。フリンジ電界の発生状態は、電気力線31、32で示されている。静電容量C2は、第2配線7dと第1タッチセンシング配線3との間に保持される。第1実施形態で説明したように、透明基板21に指等のポインターが接触あるいは近接すると、静電容量C2が変化し、この静電容量の変化がタッチセンシング信号として第1タッチセンシング配線3によって検出される。一方、ダミー配線7cは、電気的に浮いた電位(フローティング電位)を有していることから、フリンジ電界は発生していない。
なお、第2タッチセンシング配線7(第2配線7d及びダミー配線7c)は、アルミニウム合金で構成されてもよい。
次に、本発明に係る液晶表示装置の第4実施形態を、図36を参照しながら説明する。
本発明の第4実施形態に係る液晶表示装置を部分的に示す回路図であって、一画素に2つのアクティブ素子を具備したアレイ構造を示す図である。
例えば、映像信号が映像信号タイミング制御部121から出力されてソース配線に入力される際、奇数列の第2ソース配線15には映像信号として負の電圧が供給され、偶数列の第1ソース配線14には映像信号として正の電圧が印加される。
このことから、第2アクティブ素子28bは、映像信号が負の電圧として供給される第2ソース配線15に電気的に接続されたソース電極を有する。第1アクティブ素子28aは、映像信号が正の電圧として供給される第1ソース配線14に電気的に接続されたソース電極を有する。
第1アクティブ素子28aは、第1ゲート配線10にゲート信号が入力された状態で偶数列の第1ソース配線14に映像信号が入ったときに動作する。この時、画素電極17の電位は正となる。
例えば、次のタイミングで、第2ゲート配線9にゲート信号が入力された状態で奇数列の第2ソース配線15に映像信号が入ったとき、第2アクティブ素子28bは動作する。この時、画素電極17の電位は負となる。
図36に示すアレイ構造においては、上記のようなTFT動作を用いることで、ドット反転駆動あるいはカラム反転駆動を行うことができる。このアレイ構造では、ソース配線の出力極性を反転させずに、画素電極17の電位を正又は負にすることができる。
図36に示すアレイ構造を採用することにより、ドッド反転駆動やカラム反転駆動といった液晶駆動方法により、画素電極17の電位を正あるいは負に設定することができる。このとき、表示装置基板100に設けられた透明電極2は、ゼロボルト等の定電位に設定できる。透明電極2の電位を変動させる必要がないので、タッチセンシング駆動に対するノイズを更に抑制することができる。加えて、第2ソース配線15及び第1ソース配線14の電位を負あるいは正の電位に固定できるので、ソース配線に印加される信号の極性を切り換える際に生じるにノイズ発生を抑制することができる。
速い応答性を得るために、複数のタッチセンシング配線のうち選択された配線を用いたタッチセンシング(間引き駆動)によって、タッチ駆動電極を走査することができる。また、タッチセンシングでの駆動電極と検出電極を切り換え、透明電極を一定の周波数での電圧を印加する駆動電極(走査電極)としてもよい。
なお、タッチセンシングや液晶駆動での、駆動電極に印加する電圧(交流信号)は、正負の電圧を反転する反転駆動方式であってもよい。タッチ駆動と液晶駆動とは時分割で行われてもよく、時分割でなくてもよい。
また、駆動電極に印加する電圧(交流信号)として、印加する交流信号の電圧幅(振幅)を小さくすることで液晶表示への影響を軽減することができる。
従って、タッチ駆動の周波数を50Hzや60Hzの周波数から、あるいは、この周波数の整数倍から若干シフトさせた異なる周波数に設定することで、液晶駆動や外部電子機器から発生するノイズの影響を大きく低減することができる。あるいは、図12に示す時間軸で信号の印加タイミングをシフトさせてもよい。シフト量は、若干量でよく、例えば、ノイズ周波数から±3%〜±17%のシフト量でよく、ノイズ周波数との干渉を低減することができる。例えば、タッチ駆動の周波数は、数kHz〜数百kHzの範囲から、上記液晶駆動周波数や電源周波数と干渉しない異なる周波数を選択することができる。液晶駆動周波数や電源周波数と干渉しない異なる周波数を選択することで、例えば、ドット反転駆動において生じるカップリングノイズ等のノイズの影響を軽減することができる。
このとき、タッチセンシング駆動の周波数を液晶駆動の周波数と異ならせることができる本実施形態のメリットは大きくなる。例えば、本実施形態により3D表示のゲーム機器において、高速・高精度のタッチセンシングが可能となる。
本実施形態では、ゲーム機器や現金自動支払機等の指等のタッチ入力頻度の高いディスプレイにおいても特に有用である。リセット電圧Vr印加後の黒表示安定期間Erを、3D(立体画像)表示の右目用画像と左目用画像の切り換え時に挿入される黒表示に用いてもよい。
縦電界方式に適用可能な液晶駆動方式としては、VA(Vertical Alignment)方式、HAN(Hybrid−aligned Nematic)方式、TN(Twisted Nematic)方式、OCB(Optically Compensated Bend)方式、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)方式、ECB(Electrically Controlled Birefringence)方式、TBA(Transverse Bent Alignment)方式等が挙げられ、適宜選択して用いることができる。なお、VAモードにおいては、優れたノーマリーブラック表示が実現されるため、黒表示を活かすためにVAモードを採用することが好ましい。
2・・・透明電極
3・・・第1タッチセンシング配線
4・・・第2導電性金属酸化物層
5・・・銅合金層
6・・・第1導電性金属酸化物層
7・・・第2タッチセンシング配線
8・・・黒色層(第1黒色層)
9・・・第2ゲート配線
10・・・第1ゲート配線
11・・・第1絶縁層
12・・・第2絶縁層
13・・・第3絶縁層
14・・・第1ソース配線(偶数列のソース配線)
15・・・第2ソース配線(奇数列のソース配線)
16・・・スリット
17・・・画素電極
17a、17b・・・電極部(画素電極)
18・・・画素開口部
19・・・黒色層(第2黒色層)
20、30・・・共通電極
21・・・第1透明基板(透明基板)
22・・・第2透明基板(透明基板)
23・・・遮光層(遮光パターン)
24・・・ソース電極
25・・・ゲート電極
26・・・ドレイン電極
27・・・チャネル層
28、28a・・・第1アクティブ素子
28、28b・・・第2アクティブ素子
29・・・コンタクトホール
30・・・共通電極
31、32・・・電気力線
33・・・端子部
36・・・コモン配線
38、39・・・液晶分子
100・・・表示装置基板(対向基板)
138、139・・・液晶分子
200・・・アレイ基板
300・・・液晶層
R・・・配向方向(配向処理の方向、初期配向状態での配向方向)
θ・・・角度(画素開口の長手方向Yからの傾き)
Claims (27)
- 液晶表示装置であって、
第1タッチセンシング配線を備えた表示装置基板と、
複数の多角形状の画素開口部と、前記複数の画素開口部の各々に設けられた画素電極と、前記画素電極に電気的に接続された第1及び第2アクティブ素子と、前記第1アクティブ素子に電気的に連携された第1ゲート配線と、前記第1ゲート配線に対して平行に配設され前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第2ゲート配線と、平面視において前記第1ゲート配線に直交して前記第1アクティブ素子及び前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第1ソース配線と、平面視において前記第2ゲート配線に直交して前記第1アクティブ素子及び前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第2ソース配線と、前記画素電極の下に設けられた第1絶縁層と、前記第1絶縁層の下に設けられた第2絶縁層と、前記第1絶縁層と前記第2絶縁層との間に設けられた共通電極と、平面視において前記第1タッチセンシング配線に直交する第2タッチセンシング配線とを備えるアレイ基板と、
前記表示装置基板と前記アレイ基板との間に挟持された液晶層と、
前記第1ソース配線に正の第1映像信号を供給し、前記第2ソース配線に負の第2映像信号を供給し、前記第1映像信号及び前記第2映像信号の供給に同期して前記画素電極と前記共通電極との間に液晶駆動電圧を印加することによって前記液晶層を駆動させ、映像表示を行い、映像表示が行われた後に前記第2タッチセンシング配線に電圧を印加する制御部と、
を含み、
前記複数の画素開口部のうち、第1画素開口部と第2画素開口部とは、前記第1ゲート配線に平行な方向において互いに隣り合っており、
前記第1画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第1アクティブ素子は、前記第1ソース配線に電気的に連携されており、
前記第1画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第2アクティブ素子は、前記第2ソース配線に電気的に連携されており、
前記第2画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第1アクティブ素子は、前記第2ソース配線に電気的に連携されており、
前記第2画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第2アクティブ素子は、前記第1ソース配線に電気的に連携されている液晶表示装置。 - 平面視において、前記第1ゲート配線、前記第2ゲート配線、前記第1ソース配線、及び前記第2ソース配線によって前記画素開口部が区画されている請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記画素開口部の長辺は、前記第1ソース配線及び前記第2ソース配線に沿う方向に延在している請求項1に記載の液晶表示装置。
- 平面視において、前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線のうち一方は、前記第1ゲート配線及び前記第2ゲート配線に重畳するように設けられており、前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線のうち他方は、前記第1ソース配線及び前記第2ソース配線に重畳するように設けられている請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板は、表示面を有し、
断面視において、前記表示面から前記第1タッチセンシング配線までの距離よりも、前記表示面から前記第2タッチセンシング配線までの距離が大きく、
前記第2タッチセンシング配線は、前記第1絶縁層上の位置、前記第2絶縁層上の位置、及び前記第2絶縁層下の位置のうち、いずれかの位置に設けられている請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1ゲート配線及び前記第2ゲート配線は、前記複数の画素開口部のうち互いに隣接する2つの画素開口部の間に位置するように、互いに平行に配設されている請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記アレイ基板の裏面もしくは側面に設けられたバックライトユニットを備え、
前記第2タッチセンシング配線に前記電圧が印加されている時には、前記バックライトユニットの発光を停止する請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記液晶層は、前記画素電極と前記共通電極との間に生じるフリンジ電界によって駆動される請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板は、透明電極を有し、
前記液晶層は、前記画素電極と前記共通電極との間に生じるフリンジ電界によって駆動されるとともに、前記画素電極と前記透明電極との間に生じる前記液晶層の厚み方向における電界で駆動される請求項8に記載の液晶表示装置。 - 平面視において、前記共通電極は、前記画素電極と重なる重畳部と、前記画素電極の端部から突出している突出部とを有する請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記制御部は、前記液晶駆動電圧が前記画素電極に印加された後、かつ、前記液晶駆動電圧が前記画素電極に印加されていない時に、前記第2タッチセンシング配線に前記電圧を印加する請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第2タッチセンシング配線に印加される電圧は、正の電圧と、負の電圧とを含み、
前記電圧は、映像表示の一定期間毎に、正又は負に反転される請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線の各々は、金属層を含む請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板は、第1透明基板を含み、
前記第1タッチセンシング配線は、前記第1透明基板の上方に形成された黒色層と、前記黒色層上に積層された前記金属層とによって構成された2層構造を有する請求項13に記載の液晶表示装置。 - 前記アレイ基板は、第2透明基板を含み、
前記第2タッチセンシング配線は、前記第2透明基板の上方に形成された黒色層と、前記黒色層上に積層された前記金属層とによって構成された2層構造を有する請求項13に記載の液晶表示装置。 - 前記金属層は、銅含有層であり、
前記銅含有層は、導電性金属酸化物層で挟持されている請求項13に記載の液晶表示装置。 - 前記導電性金属酸化物層が、酸化亜鉛、酸化インジウム、及び酸化錫を含む複合酸化物である請求項16に記載の液晶表示装置。
- 前記第1アクティブ素子及び前記第2アクティブ素子は、半導体で構成されたチャネル層を有する薄膜トランジスタであり、
平面視において、前記第2タッチセンシング配線の前記金属層の一部が、前記チャネル層を覆う遮光層を形成している請求項13に記載の液晶表示装置。 - 前記チャネル層は、酸化物半導体で構成されている請求項18に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板上には、前記画素開口部に対応する位置に、少なくとも、赤フィルタ、緑フィルタ、及び青フィルタのいずれかが設けられている請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板上には、前記画素開口部を区画するブラックマトリクス層を備える請求項20に記載の液晶表示装置。
- 液晶表示装置であって、
第1タッチセンシング配線を備えた表示装置基板と、
複数の多角形状の画素開口部と、前記複数の画素開口部の各々に設けられた画素電極と、前記画素電極に電気的に接続された第1及び第2アクティブ素子と、前記第1アクティブ素子に電気的に連携された第1ゲート配線と、前記第1ゲート配線に対して平行に配設され前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第2ゲート配線と、平面視において前記第1ゲート配線に直交して前記第1アクティブ素子及び前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第1ソース配線と、平面視において前記第2ゲート配線に直交して前記第1アクティブ素子及び前記第2アクティブ素子に電気的に連携された第2ソース配線と、前記画素電極の下に設けられた第1絶縁層と、前記第1絶縁層の下に設けられた第2絶縁層と、前記第1絶縁層と前記第2絶縁層との間に設けられた共通電極と、平面視において前記第1タッチセンシング配線に直交する第2タッチセンシング配線とを備えるアレイ基板と、
前記表示装置基板と前記アレイ基板との間に挟持された液晶層と、
前記第1ソース配線に正の第1映像信号を供給し、前記第2ソース配線に負の第2映像信号を供給し、前記第1映像信号及び前記第2映像信号の供給に同期して前記画素電極と前記共通電極との間に液晶駆動電圧を印加することによって前記液晶層を駆動させ、映像表示の安定期間、及び、映像表示後の黒表示安定期間の少なくとも一方の安定期間で、前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線によるタッチセンシング駆動を行う制御部と、
を含み、
前記複数の画素開口部のうち、第1画素開口部と第2画素開口部とは、前記第1ゲート配線に平行な方向において互いに隣り合っており、
前記第1画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第1アクティブ素子は、前記第1ソース配線に電気的に連携されており、
前記第1画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第2アクティブ素子は、前記第2ソース配線に電気的に連携されており、
前記第2画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第1アクティブ素子は、前記第2ソース配線に電気的に連携されており、
前記第2画素開口部に対応する前記画素電極と電気的に連携された前記第2アクティブ素子は、前記第1ソース配線に電気的に連携されている液晶表示装置。 - 前記制御部は、
前記タッチセンシング駆動を行う際に、
前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線の一方にタッチセンシング駆動電圧を印加し、前記第1タッチセンシング配線及び前記第2タッチセンシング配線の他方を通じてタッチセンシング信号を検出する請求項22に記載の液晶表示装置。 - 前記第2タッチセンシング配線に前記タッチセンシング駆動電圧が印加され、前記第1タッチセンシング配線が前記タッチセンシング信号を検出する請求項23に記載の液晶表示装置。
- 前記アレイ基板の裏面もしくは側面に設けられたバックライトユニットを備え、
前記黒表示安定期間は、前記バックライトユニットの発光が停止された期間である請求項22に記載の液晶表示装置。 - 前記表示装置基板上には、前記画素開口部に対応する位置に、少なくとも、赤フィルタ、緑フィルタ、及び青フィルタのいずれかが設けられている請求項22に記載の液晶表示装置。
- 前記表示装置基板上に設けられ、前記画素開口部を区画するブラックマトリクス層を備える請求項26に記載の液晶表示装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6330975B1 (ja) * | 2017-03-21 | 2018-05-30 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置及び表示装置基板 |
JP2019109721A (ja) * | 2017-12-19 | 2019-07-04 | カシオ計算機株式会社 | 電子機器、電子機器の制御方法及びプログラム |
JPWO2018181478A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2020-02-06 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6514593B2 (ja) * | 2015-07-17 | 2019-05-15 | パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 | タッチ検出機能付表示装置 |
CN105511141B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-01-29 | 上海天马微电子有限公司 | 一种阵列基板以及触控显示面板 |
CN107195665B (zh) * | 2017-06-23 | 2019-12-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置 |
WO2019031382A1 (ja) * | 2017-08-09 | 2019-02-14 | シャープ株式会社 | 位置入力機能付き表示装置 |
WO2019049360A1 (ja) * | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置及び表示装置基板 |
WO2019058491A1 (ja) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | シャープ株式会社 | 表示装置およびその駆動方法 |
CN108196380A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-06-22 | 昆山龙腾光电有限公司 | 视角可切换的液晶显示装置及驱动方法 |
WO2019138565A1 (ja) * | 2018-01-15 | 2019-07-18 | 凸版印刷株式会社 | 電子機器 |
CN108761901A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-11-06 | 武汉华星光电技术有限公司 | 阵列基板和显示面板 |
CN108681122B (zh) * | 2018-05-16 | 2020-11-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 面内转换型显示面板和显示装置 |
US10777150B2 (en) * | 2018-05-29 | 2020-09-15 | Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Controlling method of display device and display device |
CN112189181B (zh) * | 2018-06-26 | 2023-10-20 | 凸版印刷株式会社 | 黑色矩阵基板及显示装置 |
WO2020196647A1 (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 株式会社Jvcケンウッド | 位相変調装置及び位相変調方法 |
CN113258274A (zh) * | 2020-02-10 | 2021-08-13 | 东友精细化工有限公司 | 天线堆叠结构和包括天线堆叠结构的显示装置 |
TWI755028B (zh) * | 2020-08-17 | 2022-02-11 | 友達光電股份有限公司 | 內建式觸控顯示面板 |
US20230409144A1 (en) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Noise compensation using a spatial noise model |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004354407A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2005129948A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Samsung Electronics Co Ltd | 光感知素子と、これを有するアレイ基板及び液晶表示装置 |
JP2010170246A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | タッチパネル、電子機器 |
WO2014203418A1 (ja) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置用基板および表示装置 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5259949A (en) | 1975-05-07 | 1977-05-17 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | Muddy water treating apparatus |
JPS6037322B2 (ja) | 1977-11-19 | 1985-08-26 | トキコ株式会社 | アクチユエ−タ機構 |
JPS5517611A (en) | 1978-07-21 | 1980-02-07 | Hitachi Ltd | Carburetor |
JPH0422486A (ja) | 1990-05-16 | 1992-01-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 水中の残留オキシダントの除去方法 |
JP2653014B2 (ja) | 1993-07-26 | 1997-09-10 | 日本電気株式会社 | アクティブマトリックス液晶ディスプレイ装置 |
JP2000020033A (ja) | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP4019697B2 (ja) * | 2001-11-15 | 2007-12-12 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
TWI340953B (en) | 2006-02-03 | 2011-04-21 | Chimei Innolux Corp | Systems for displaying images and control methods thereof |
CN108563366B (zh) | 2006-06-09 | 2022-01-25 | 苹果公司 | 触摸屏液晶显示器 |
US8243027B2 (en) | 2006-06-09 | 2012-08-14 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
CN104965621B (zh) | 2006-06-09 | 2018-06-12 | 苹果公司 | 触摸屏液晶显示器及其操作方法 |
KR101297804B1 (ko) * | 2006-07-25 | 2013-08-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 어레이 기판 및 이를 갖는 표시패널 |
US20080167526A1 (en) | 2007-01-08 | 2008-07-10 | Crank Justin M | Non-Occlusive, Laterally-Constrained Injection Device |
TWI376537B (en) * | 2008-12-11 | 2012-11-11 | Au Optronics Corp | Structure of touch device and touch panel |
KR101738570B1 (ko) * | 2010-07-23 | 2017-05-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 터치인식 액정표시장치 |
JP5722573B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2015-05-20 | 株式会社ジャパンディスプレイ | タッチ検出機能付き表示装置 |
CN104024933B (zh) * | 2011-10-31 | 2016-05-25 | 夏普株式会社 | 薄膜晶体管阵列基板和液晶显示装置 |
JP5472373B2 (ja) * | 2012-05-17 | 2014-04-16 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置 |
JP6141748B2 (ja) * | 2012-10-26 | 2017-06-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
JP5778119B2 (ja) | 2012-11-30 | 2015-09-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | タッチ検出機能付き表示装置及び電子機器 |
CN103293750B (zh) * | 2012-12-14 | 2016-05-11 | 上海天马微电子有限公司 | 一种内嵌式触摸屏彩膜基板及其制造方法 |
WO2014156066A1 (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | パナソニック株式会社 | 入力装置 |
CN103186307B (zh) * | 2013-03-26 | 2015-10-14 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置 |
CN104375729B (zh) * | 2014-11-20 | 2017-08-25 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 电容式内嵌触控屏及显示装置 |
-
2015
- 2015-05-13 KR KR1020177034974A patent/KR102017410B1/ko active IP Right Grant
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2017
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004354407A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2005129948A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Samsung Electronics Co Ltd | 光感知素子と、これを有するアレイ基板及び液晶表示装置 |
JP2010170246A (ja) * | 2009-01-21 | 2010-08-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | タッチパネル、電子機器 |
WO2014203418A1 (ja) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置用基板および表示装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6330975B1 (ja) * | 2017-03-21 | 2018-05-30 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置及び表示装置基板 |
WO2018173113A1 (ja) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | 凸版印刷株式会社 | 表示装置及び表示装置基板 |
CN110462557A (zh) * | 2017-03-21 | 2019-11-15 | 凸版印刷株式会社 | 显示装置及显示装置基板 |
CN110462557B (zh) * | 2017-03-21 | 2022-11-15 | 凸版印刷株式会社 | 显示装置及显示装置基板 |
JPWO2018181478A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2020-02-06 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置 |
JP6994500B2 (ja) | 2017-03-28 | 2022-01-14 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置 |
JP7032603B1 (ja) | 2017-03-28 | 2022-03-08 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置 |
JP2022043148A (ja) * | 2017-03-28 | 2022-03-15 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネルおよび液晶表示装置 |
JP2022071022A (ja) * | 2017-03-28 | 2022-05-13 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネル用粘着剤層付偏光フィルム |
JP7212184B2 (ja) | 2017-03-28 | 2023-01-24 | 日東電工株式会社 | インセル型液晶パネル用粘着剤層付偏光フィルム |
JP2019109721A (ja) * | 2017-12-19 | 2019-07-04 | カシオ計算機株式会社 | 電子機器、電子機器の制御方法及びプログラム |
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