JP5999248B2 - 偏光フィルム、偏光板および偏光フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
[1]厚みが10μm以下であり、面内の吸収軸の振れが0.2°以下である偏光フィルム。
[2][1]に記載の偏光フィルムに保護フィルムを貼合してなる偏光板。
[3][1]に記載の偏光フィルム、または[2]に記載の偏光板を有する表示装置。
[4]厚みが10μm以下であり、面内の吸収軸の振れが0.2°以下である偏光フィルムの製造方法であって、以下の工程(1)〜(5)を含む偏光フィルムの製造方法。
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1と基材フィルムの厚みdの比(σ1/d)が9.0×10−3以下であり、
かつ前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2と基材フィルムの厚みdの比(σ2/d)が8.0×10−3μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程
[5]厚みが10μm以下であり、面内の吸収軸の振れが0.2°以下である偏光フィルムの製造方法であって、以下の工程(1)〜(5)を含む偏光フィルムの製造方法。
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1が0.80μm以下であり、
かつ、前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2が0.65μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程
[6]前記偏光性積層フィルムにおける偏光フィルム上に、接着剤または粘着剤を介して保護フィルムを積層する工程を含む、[4]または[5]に記載の偏光フィルムの製造方法。
[7]工程(1)において準備する基材フィルムが、溶融押出によって製膜された基材フィルムであることを特徴とする[4]または[5]に記載の偏光フィルムの製造方法。
[8]工程(1)において準備する基材フィルムの厚みが、5〜300μmであることを特徴とする[4]に記載の偏光フィルムの製造方法。
[9]工程(1)において準備する基材フィルムの厚みが、20〜150μmであることを特徴とする[5]に記載の偏光フィルムの製造方法。
[10]工程(1)において準備する基材フィルムが、ポリオレフィン系樹脂を含む基材フィルムであることを特徴とする[4]または[5]に記載の偏光フィルムの製造方法。
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1が0.80μm以下であり、
かつ、前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2が0.65μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1と基材フィルムの厚みdの比(σ1/d)が9.0×10−3以下であり、
かつ前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2と基材フィルムの厚みdの比(σ2/d)が8.0×10−3μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程
工程(1)では、熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1が0.80μm以下であり、かつ、前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2が0.65μm以下である基材フィルムを準備する。
かつ前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2と基材フィルムの厚みdの比(σ2/d)が8.0×10−3μm以下である基材フィルムであってもよい。
基材フィルムを形成する樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂としては、セルローストリアセテート等のセルロースエステル系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂など)等のポリオレフィン系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂などが挙げられる。なお本明細書において、(メタ)アクリル系樹脂とはメタクリル系樹脂およびアクリル系樹脂を総称した意味を表す。
基材フィルム中の熱可塑性樹脂の含有量が50重量%未満の場合、熱可塑性樹脂の光透過性が十分に発現されないおそれがある。
基材フィルムの厚み測定において、基材フィルムにおけるTD(Transverse Direction)方向の測定位置は任意であるが、通常基材フィルムの中点で測定する。
測定装置を固定した状態で、長尺状の基材フィルムを搬送しながら連続的に厚みを測定する場合、測定装置が厚みデータを取得する周期に応じて、上記厚みデータ取得の間隔を満たすように基材フィルムの搬送速度を適宜選択できる。例えば、測定装置が厚みデータを測定する周期が1秒周期である場合、基材フィルムの搬送速度は3m/min.以下であることが好ましい。
工程(2)では、前記基材フィルムの少なくとも一方の面にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得る。そして、前記塗膜を乾燥させることにより、ポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。
塗工液は、好ましくはポリビニルアルコール系樹脂の粉末を良溶媒(例えば水)に溶解させて得られるポリビニルアルコール系樹脂溶液である。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール樹脂及びその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコール樹脂の誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタールなどの他、ポリビニルアルコール樹脂をエチレン、プロピレンのようなオレフィン類で変性したもの;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸のような不飽和カルボン酸類で変性したもの;不飽和カルボン酸のアルキルエステルで変性したもの;アクリルアミドで変性したものなどが挙げられる。変性の割合は30モル%未満であることが好ましく、10モル%未満であることがより好ましい。30モル%を超える変性を行った場合には、二色性色素を吸着しにくくなり、偏光性能が低くなってしまう不具合を生じ得る。上述のポリビニルアルコール系樹脂の中でも、ポリビニルアルコール樹脂を使用することが好ましい。
ケン化度(モル%)=〔(水酸基の数)÷(水酸基の数+酢酸基の数)〕×100
で定義される。
上記塗工液を基材フィルムに塗工する方法は、ワイヤーバーコーティング法;リバースコーティング、グラビアコーティングのようなロールコーティング法;ダイコート法;カンマコート法;リップコート法;スピンコーティング法;スクリーンコーティング法;ファウンテンコーティング法;ディッピング法;スプレー法などの公知の方法から適宜選択することができる。
また、塗工液の塗工に先立ち、基材フィルムとポリビニルアルコール系樹脂層との密着性を向上させるために、基材フィルム上にプライマー層や接着剤層を介してポリビニルアルコール系樹脂層を形成してもよい。
工程(3)では、前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る。積層フィルムの延伸倍率は、所望する偏光特性に応じて適宜選択することができるが、好ましくは、積層フィルムの元長に対して5倍超17倍以下であり、より好ましくは5倍超8倍以下である。延伸倍率が5倍以下であると、ポリビニルアルコール系樹脂層を構成するポリビニルアルコール系樹脂の高分子鎖が十分に配向しないため、偏光フィルムの偏光度が十分に高くならないことがある。一方、延伸倍率が17倍を超えると、延伸時にフィルムの破断が生じ易くなるとともに、延伸フィルムの厚みが必要以上に薄くなり、後工程での加工性及び取扱性が低下するおそれがある。
工程(4)では、延伸フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層を二色性色素で染色して、二色性色素を吸着配向させ、偏光性積層フィルムを得る。本工程を経て基材フィルムの片面又は両面に偏光フィルムが積層された偏光性積層フィルムが得られる。
1)上記工程(3)において、目標より低い倍率で延伸処理を行った後、工程(4)における染色処理中に、総延伸倍率が目標の倍率となるように延伸処理を行う態様や、
後述するように、染色処理の後に架橋処理を行う場合には、
2)上記工程(3)において、目標より低い倍率で延伸を行った後、工程(4)における染色処理中に、総延伸倍率が目標の倍率に達しない程度まで延伸を行い、次いで、最終的な総延伸倍率が目標の倍率となるように架橋処理中に延伸処理を行う態様
などを挙げることができる。
架橋処理は、架橋剤を含む溶液(架橋溶液)中に染色されたフィルムを浸漬することにより行うことができる。架橋剤としては、従来公知の物質を使用することができ、ホウ酸、ホウ砂のようなホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒドなどが挙げられる。
架橋剤は1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
水への浸漬時間は通常2〜300秒間、好ましくは3〜240秒間である。
工程(5)は、偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離する。この工程(5)を経て、偏光フィルム上に基材フィルムを有しない偏光フィルムを得ることができる。偏光性積層フィルムが基材フィルムの両面に偏光フィルムを有する場合には、工程(5)により、1枚の偏光性積層フィルムから2枚の偏光フィルムが得られる。基材フィルムを剥離除去する方法は特に限定されるものでなく、通常の粘着剤付偏光板で行われるセパレータ(剥離フィルム)の剥離工程と同様の方法で剥離できる。
また、基材フィルムの剥離に先立って、偏光性積層フィルムにおける偏光フィルム上に、接着剤または粘着剤を介して保護フィルムを積層しておいてもよい。偏光性積層フィルムにおける偏光フィルム上に保護フィルムを積層した積層体から基材フィルムを剥離すると偏光フィルムと保護フィルムとを有する偏光板を得ることができる。
保護フィルムとしては、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂など)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂など)のようなポリオレフィン系樹脂;セルローストリアセテート、セルロースジアセテートのようなセルロースエステル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのようなポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂;又はこれらの混合物、共重合物などからなるフィルムが挙げられる。
接着剤としては、水系接着剤又は光硬化性接着剤を使用することができる。水系接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる接着剤、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤などが挙げられる。とりわけ、保護フィルムとしてケン化処理などで表面処理(親水化処理)されたセルロースエステル系樹脂フィルムを使用する場合には、ポリビニルアルコール系樹脂水溶液からなる水系接着剤を使用することが好ましい。
保護フィルムの貼合に使用することができる粘着剤は、通常、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂などをベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる。さらに微粒子を含有して光散乱性を示す粘着剤とすることもできる。
以上の工程(1)〜(5)を含む工程から得られる偏光フィルムまたは偏光板は、面内の吸収軸の振れが0.2°以下となる。さらに、かかる面内の吸収軸の標準偏差は、0.04°以下であることが好ましい。ただし基材フィルムの両面に偏光フィルムを有する偏光性積層フィルムの場合、通常、各偏光フィルムの吸収軸はほぼ同一であるが、少なくとも一方の面において、吸収軸の振れが0.2°以下となればよく、いずれの面においても吸収軸の振れが0.2°以下となることが好ましい。
値の信頼性の観点から、吸収軸角度の測定箇所の数は40箇所以上であることがより好ましく、通常100箇所以下の測定で十分である。さらに、値の信頼性をより高められるという点で、該吸収軸角度の測定箇所は、前記フィルム面内において均等に分布していることが好ましい。基材フィルムの両面に偏光フィルムを有する偏光性積層フィルムの場合、前述のとおり通常、各偏光フィルムの吸収軸はほぼ同一であるため、偏光性積層フィルムの吸収軸角度は、各偏光フィルムの吸収軸とみなすことができる。
(1)基材フィルムAの作製
エチレンユニットを約5重量%含むプロピレン/エチレンのランダム共重合体(住友化学(株)製の「住友ノーブレン W151」、融点Tm=138℃)からなる樹脂層の両面にプロピレンの単独重合体(住友化学(株)製の「住友ノーブレンFLX80E4」、融点Tm=163℃)からなる樹脂層を配置した3層構造の長尺の基材フィルムAを、多層押出成形機を使用し共押出成形により作製した。
この際、各層の樹脂温度は280℃に加熱した50mmφ押出機にて溶融混練し、次いで600mm幅Tダイから溶融状態で押出し溶融多層フィルムを得た。かかる溶融多層フィルムを、25℃に温調した冷却ロールにより冷却して多層の基材フィルムとした。
基材フィルムAの合計厚みは約90μmであり、各層の厚み比(FLX80E4/W151/FLX80E4)は3/4/3であった。
キーエンス(株)のレーザー測定器LT9010により、TD方向の長さが300mm、MD方向の長さが200mである基材フィルムAに対して、連続的にMD方向の200mにわたって、厚みを測定した。MD方向の厚みムラの測定時にデータの取り込みは、1秒の間隔で4096点サンプリングした(2.5m/分で搬送測定しているため1秒×(4096−1)×2・5m/分÷60秒/分=170.625mで、170.625mの厚みムラデータを取り込んだ)。
得られた厚みムラの波形から、標準偏差σ1を算出したところ、0.63であった。
このように取り込んだデータに対して高速フーリエ変換(FFT)処理を施した。この際、MD方向の変数に、フィルムの長さ(m)を取ると、FFT処理により、波数(1/m)に対する強度分布が得られる。
フーリエ変換して得られた強度分布データについて、波数が1/3(1/m)未満に対応する112点のスペクトル強度にのみ0を乗じて得られる強度データ4096点について逆フーリエ変換した。得られた厚みムラの波形から、標準偏差σ2を算出したところ、0.59であった。
標準偏差σ1および標準偏差σ2の値を基材フィルムAの平均厚みdで割ることで、標準偏差と厚みの比σ1/dおよびσ2/dを算出したところ、それぞれ7.07×10−3および6.62×10−3であった。なお、基材フィルムAの平均厚みdは、前記MD方向の厚みムラ測定時における基材フィルム厚みの全測定値の平均値を用いた。
ポリビニルアルコール粉末(日本合成化学工業(株)製「Z−200」、平均重合度1100、平均ケン化度99.5モル%)を95℃の熱水に溶解し、濃度3重量%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られた水溶液に架橋剤(住友化学(株)製「スミレーズレジン(登録商標)650」)をポリビニルアルコール粉末6重量部に対して5重量部混合した。得られた混合水溶液を、コロナ処理を施した上記基材フィルムAのコロナ処理面上にマイクログラビアコーターにより塗工し、80℃で10分間乾燥させることで、プライマー層を形成した。ついで、この基材フィルムAにおけるプライマー層とは反対の面にも同様の処理を施し、両面にプライマー層が形成された基材フィルムAを得た。プライマー層の厚みはいずれも0.5μmであった。
ポリビニルアルコール粉末((株)クラレ製「PVA124」、平均重合度2400、平均ケン化度98.0〜99.0モル%)を95℃の熱水に溶解し、濃度8重量%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られた水溶液を、上記プライマー層上にリップコーターにより塗工し、80℃で2分間、70℃で2分間、ついで60℃で4分間の条件下で乾燥させることにより、基材フィルムA/プライマー層/ポリビニルアルコール系樹脂層からなる3層構造の積層フィルムを作製した。ついで、この基材フィルムAのポリビニルアルコール系樹脂層とは反対の面にも同様の処理を施し、両面にポリビニルアルコール系樹脂層が形成された積層フィルムを得た。ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みはそれぞれ9.2μm、9.5μmであった。
上記積層フィルムを160℃の延伸温度で5.3倍に自由端縦一軸延伸し、延伸フィルムを得た。
その後、延伸フィルムを30℃のヨウ素とヨウ化カリウムの混合水溶液である染色溶液1に180秒ほど浸漬して染色した後、10℃の純水で余分なヨウ素液を洗い流した。次いで78℃のホウ酸水溶液である架橋溶液1に120秒浸漬させた。次いで、ホウ酸およびヨウ化カリウムを含む70℃の架橋溶液2に60秒浸漬させた。その後10℃の純水で10秒間洗浄し、最後に80℃で300秒間乾燥させた。以上の工程によりポリビニルアルコール系樹脂層から偏光フィルムを形成し、偏光性積層フィルムを得た。各溶液の配合比率は以下のとおりである。偏光フィルムの厚みは、いずれも6.8μmであった。
水:100重量部
ヨウ素:0.6重量部
ヨウ化カリウム:10重量部
<架橋溶液1>
水:100重量部
ホウ酸:10.4重量部
<架橋溶液2>
水:100重量部
ホウ酸:5.7重量部
ヨウ化カリウム:12重量部
以上の方法で得られた偏光性積層フィルムに対して、大塚電子(株)製の位相差フィルム・光学材料検査装置(商品名“RETS”)により、吸収軸の測定を行った。まず作製した偏光性積層フィルムのTD方向中央を中心に480mmの範囲をとり、その480mm幅の範囲を10mm間隔で分割し、合計49点について偏光性積層フィルムの吸収軸の測定を行った。これら49点の吸収軸から標準偏差を算出した。また、面内吸収軸角度の最大値と最小値の差の絶対値を吸収軸の振れとした。なお測定に供した偏光性積層フィルムは、基材フィルムの両面に偏光フィルムを有するが、各測定点における吸収軸角度はそれぞれの偏光フィルムでほぼ同一であるため、偏光性積層フィルムの吸収軸角度を、それぞれの偏光フィルムの吸収軸角度とみなすことができる。
標準偏差σ1が0.77、標準偏差σ2が0.61である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.027°、吸収軸の振れは0.11°であった。
標準偏差σ1が0.78、標準偏差σ2が0.63である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.033°、吸収軸の振れは0.13°であった。
標準偏差σ1が0.67、標準偏差σ2が0.66である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.041°、吸収軸の振れは0.14°であった。
標準偏差σ1が0.73、標準偏差σ2が0.69である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.046°、吸収軸の振れは0.16°であった。
(1)基材フィルムBの準備
基材フィルムBとして、無延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(オージェイケイ(株)製の「オーファン」)を用いた。
キーエンス(株)のレーザー測定器LT9010により、TD方向の長さが640mm、MD方向の長さが131mである基材フィルムBに対して、連続的にMD方向の131mにわたって、厚みを測定した。MD方向の厚みムラの測定時にデータの取り込みは、1秒の間隔で512点サンプリングした(2.5m/分で搬送測定しているため1秒×(512−1)×2・5m/分÷60秒/分=21.292mで、21.292mの厚みムラデータを取り込んだ)。
得られた厚みムラの波形から、標準偏差σ1を算出したところ、1.79であった。
取り込んだ厚みムラデータに対して高速フーリエ変換(FFT)処理を施した。次いでフーリエ変換して得られた強度分布データについて、波数が1/3(1/m)未満に対応する7点のスペクトル強度にのみ0を乗じて得られる強度データ512点について逆フーリエ変換した。得られた厚みムラの波形から、標準偏差σ2を算出したところ、1.68であった。
標準偏差σ1および標準偏差σ2の値を基材フィルムBの平均厚みdで割ることで、標準偏差と厚みの比σ1/dおよびσ2/dを算出したところ、それぞれ7.97×10−3および7.48×10−3であった。
実施例1と同様に、上記基材フィルムBの片面にコロナ処理を施し、コロナ処理面上にプライマー層を形成した。プライマー層の厚みは0.5μmであった。
実施例1と同様に、上記プライマー層上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成し、基材フィルムB/プライマー層/ポリビニルアルコール系樹脂層からなる3層構造の積層フィルムを作製した。ポリビニルアルコール系樹脂層の厚みは5.1μmであった。
上記積層フィルムを90℃の延伸温度で1.8倍に自由端縦一軸延伸し、延伸フィルムを得た。
延伸フィルムを30℃のホウ酸水溶液である架橋溶液3に30秒浸漬した。次に、30℃のヨウ素とヨウ化カリウムの混合水溶液である染色溶液2に120秒ほど浸漬して染色した後、7℃の純水で余分なヨウ素液を洗い流した。次いでホウ酸およびヨウ化カリウムを含む40℃の水溶液である架橋溶液4に120秒浸漬させた。次いで、ホウ酸およびヨウ化カリウムを含む75℃の架橋溶液5に60秒浸漬させながら、延伸倍率3.0倍となるように自由端縦一軸延伸(総延伸倍率:5.4倍)した。その後7℃のヨウ化カリウム水溶液(水100重量部に対し、ヨウ化カリウムを4.9重量部混合した水溶液)で5秒間洗浄し、最後に60℃で180秒間乾燥させた。以上の工程によりポリビニルアルコール系樹脂層から偏光フィルムを形成し、偏光性積層フィルムを得た。各溶液の配合比率は以下のとおりである。偏光フィルムの厚みは、3.7μmであった。
水:100重量部
ヨウ素:0.59重量部
ヨウ化カリウム:1.6重量部
<架橋溶液3>
水:100重量部
ホウ酸:3.0重量部
<架橋溶液4>
水:100重量部
ホウ酸:3.0重量部
ヨウ化カリウム:3.1重量部
<架橋溶液5>
水:100重量部
ホウ酸:4.0重量部
ヨウ化カリウム:5.0重量部
以上の方法で得られた偏光性積層フィルムに対して、大塚電子(株)製の位相差フィルム・光学材料検査装置(商品名“RETS”)により、吸収軸の測定を行った。まず作製した偏光性積層フィルムのTD方向中央を中心に110mmの範囲をとり、その110mm幅の範囲を10mm間隔で分割し、合計11点について偏光性積層フィルムの吸収軸の測定を行った。これら11点の吸収軸から標準偏差を算出した。また、面内吸収軸角度の最大値と最小値の差の絶対値を吸収軸の振れとした。
標準偏差σ1が0.77、標準偏差σ2が0.72である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.064°、吸収軸の振れは0.26°であった。
標準偏差σ1が0.97、標準偏差σ2が0.84である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.072°、吸収軸の振れは0.24°であった。
標準偏差σ1が1.17、標準偏差σ2が0.95である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.080°、吸収軸の振れは0.27°であった。
標準偏差σ1が1.26、標準偏差σ2が1.13である基材フィルムAを使用した以外は実施例1と同様にして偏光性積層フィルムを得た。評価の結果、吸収軸の標準偏差は0.142°、吸収軸の振れは0.57°であった。
以上の結果を、表1に示す。
Claims (7)
- 厚みが10μm以下であり、MD方向を基準として0°としたときの面内吸収軸角度の最大値と最小値との差の絶対値で表される面内の吸収軸の振れが0.2°以下である偏光フィルムの製造方法であって、以下の工程(1)〜(5)を含む偏光フィルムの製造方法。
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1と基材フィルムの厚みdの比(σ1/d)が9.0×10−3以下であり、
かつ前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2と基材フィルムの厚みdの比(σ2/d)が8.0×10−3μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程 - 厚みが10μm以下であり、MD方向を基準として0°としたときの面内吸収軸角度の最大値と最小値との差の絶対値で表される面内の吸収軸の振れが0.2°以下である偏光フィルムの製造方法であって、以下の工程(1)〜(5)を含む偏光フィルムの製造方法。
(1) 熱可塑性樹脂を含む長尺状の基材フィルムであって、基材フィルムの厚みをMD方向に測定して得られる波形から算出した標準偏差σ1が0.80μm以下であり、
かつ、前記波形をフーリエ変換した後、波数が1/3(1/m)以上の領域のスペクトルを逆フーリエ変換して得られる厚みの波形から算出した標準偏差σ2が0.65μm以下である基材フィルムを準備する工程
(2) 前記基材フィルムの少なくとも一方の面上にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液を塗工し、塗膜を得た後、塗膜を乾燥させることによりポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層フィルムを得る工程
(3) 前記積層フィルムを一軸延伸して延伸フィルムを得る工程
(4) 前記延伸フィルムを染色して偏光性積層フィルムを得る工程
(5) 前記偏光性積層フィルムから基材フィルムを剥離することにより偏光フィルムを得る工程 - 前記偏光性積層フィルムにおける偏光フィルム上に、接着剤または粘着剤を介して保護フィルムを積層する工程を含む、請求項1または2に記載の偏光フィルムの製造方法。
- 工程(1)において準備する基材フィルムが、溶融押出によって製膜された基材フィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光フィルムの製造方法。
- 工程(1)において準備する基材フィルムの厚みが、5〜300μmであることを特徴とする請求項1に記載の偏光フィルムの製造方法。
- 工程(1)において準備する基材フィルムの厚みが、20〜150μmであることを特徴とする請求項2に記載の偏光フィルムの製造方法。
- 工程(1)において準備する基材フィルムが、ポリオレフィン系樹脂を含む基材フィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光フィルムの製造方法。
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