JP5931986B2 - ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 - Google Patents
ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5931986B2 JP5931986B2 JP2014193614A JP2014193614A JP5931986B2 JP 5931986 B2 JP5931986 B2 JP 5931986B2 JP 2014193614 A JP2014193614 A JP 2014193614A JP 2014193614 A JP2014193614 A JP 2014193614A JP 5931986 B2 JP5931986 B2 JP 5931986B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- temperature
- platinum
- vicinity
- molten glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 339
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 168
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 99
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 95
- 238000005352 clarification Methods 0.000 claims description 65
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 16
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 7
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 7
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 6
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 6
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000013433 optimization analysis Methods 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N arsenic trioxide Inorganic materials O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- KTTMEOWBIWLMSE-UHFFFAOYSA-N diarsenic trioxide Chemical compound O1[As](O2)O[As]3O[As]1O[As]2O3 KTTMEOWBIWLMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003050 experimental design method Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B7/00—Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
- C03B7/02—Forehearths, i.e. feeder channels
- C03B7/06—Means for thermal conditioning or controlling the temperature of the glass
- C03B7/07—Electric means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
清澄槽本体を加熱する技術として、例えば、清澄槽本体に1対のフランジ状の電極を設け、この電極対に電圧を印加することにより、清澄槽本体を通電加熱する技術が知られている(特許文献2)。また、フランジ状の電極には、銅やニッケルから構成される水冷管が設けられている。
例えば、液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに使用されるガラス基板(FPD用ガラス基板)に含まれる白金異物は、近年特に厳しく制限されている。また、フラットパネルディスプレイ用に限らず、他の用途でも問題となっている。
一方、清澄槽本体の内部表面が、白金または白金合金(白金族金属)から構成されている場合、気相空間(酸素を含む雰囲気)に接する部分が揮発する。揮発した白金または白金合金は、清澄槽の電極近傍の局所的に温度が低下した位置で凝固(凝集)し、付着する。凝固(凝集)した揮発物は脱泡工程中の熔融ガラス中に落下して混入し、ガラス基板に白金異物として混入する恐れがあった。
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記清澄剤が清澄を発現する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、かつ、前記白金管の長手方向中央部の温度と、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差が、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍の前記気相空間内で凝集する所定の温度以下になるよう、予め定められた前記電極の直径又は厚さと前記温度差との関係に基づいて、前記電極の直径又は厚さが決定される、ことを特徴とする。
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の直径との関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の直径との関係を予め求め、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう、2つの前記関係を用いて前記電極の直径を決定する、ことを特徴とする。
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の厚さとの関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の厚さとの関係を予め求め、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍の前記気相空間内で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう、2つの前記関係を用いて前記電極の厚さを決定する、ことを特徴とする。
前記電極の直径は、予め定められた前記電極の直径と前記温度差との関係に基づいて、決定される、ことが好ましい。
前記電極の厚さは、予め定められた前記電極の厚さと前記電極近傍の温度との関係に基づいて、決定される、ことが好ましい。
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄槽では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の直径との関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の直径との関係を用いて、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう、前記電極の直径が決定されている、ことを特徴とする。
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄槽では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の厚さとの関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の厚さとの関係を用いて、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう前記電極の厚さが決定されている、ことを特徴とする。
ように、ガラス基板は、主に溶解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、切断工程(ST7)を経て作製される。
また、図2は、上述の溶解工程(ST1)〜切断工程(ST7)を経て作製されるガラス基板の製造装置の概略図であり、各工程において使用される装置の配置を概略的に示している。
図2に示すように、ガラス基板の製造装置200は、ガラス原料を加熱して熔融ガラスを生成する溶解装置40と、熔融ガラスを清澄する清澄槽41と、熔融ガラスを撹拌して均質化するための撹拌装置100と、ガラス基板に成形する成形装置42とを備えている。また、熔融ガラスを上述の装置間に移送するガラス供給管43a、43b、43cを有する。溶解装置40以降、成形装置42までの各装置間を接続するガラス供給管43a、43b、43cおよび清澄槽41と撹拌装置100は、白金族金属で構成されている。
SiO2:50〜70%、
Al2O3:0〜25%、
B2O3:0〜15%、
MgO:0〜10%、
CaO:0〜20%、
SrO:0〜20%、
BaO:0〜15%、
RO:5〜30%(ただし、RはMg、Ca、Sr及びBaの合量)、
を含有する無アルカリガラスであることが、好ましい。
成形装置42では、成形工程(ST5)および徐冷工程(ST6)が行われる。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスMGをシート状ガラス44に成形し、シート状ガラス44の流れを作る。徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシート状ガラス44が所望の厚さになり、内部歪みが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、図示しない切断装置において、成形装置42から供給されたシート状ガラス44を所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作製される。この後、ガラス基板の端面の研削、研磨およびガラス基板の洗浄が行われ、さらに、泡やキズ、汚れ等の欠点の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。
次に、図3、図4を用いて、清澄槽41の構成を説明する。図3は、実施の形態の清澄槽41の構成を示す概略図である。また、図4(a)は、清澄槽41が有する電極50の正面図であり、図4(b)は、電極50のA−A線の断面図である。
清澄槽41は、白金又は白金合金から構成される筒状の形状の白金管400を有している。白金管400の両端の外周面には、一対のフランジ状の電極50a、50bが溶接されている。電極50a、50bには、電源装置52に接続される延在部51a、51bが溶接されている。電源装置52から電極50a、50b(延在部51a、51b)の間に電圧が印加されることにより、電極50a、50bの間の白金管400に電流が流れて、白金管400が通電加熱される。この通電加熱により、白金管400は例えば、1650℃〜1700℃程度に加熱され、ガラス供給管43aから供給された熔融ガラスMGは、脱泡に適した温度、例えば、1600℃〜1700℃程度に加熱される。また、電極50a、50b、延在部51a、51bにはそれぞれ、冷媒供給装置54a、54bが接続されている。冷媒供給装置54a、54bが冷媒を供給すると、電極50a、50b、延在部51a、51bは冷却され、冷却された電極50a、50bに接する白金管400も冷却される。このため、白金管400における電極50a、50b近傍において、温度が最も低くなる。ここで、電極近傍とは、白金管400における、電極の位置から例えば50cmの範囲内の場所を意味する。
41 清澄槽
42 成形装置
43a、43b、43c(43) ガラス供給管
400 白金管
50a、50b(50) 電極
51a、51b(51) 延在部
52 電源装置
54a、54b(54) 冷媒供給装置
502a、502b(502) 冷却管
100 撹拌装置
200 ガラス基板の製造装置
Claims (6)
- 清澄剤を含む熔融ガラスを加熱しながら清澄する清澄工程を含むガラス基板の製造方法であって、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記清澄剤が清澄を発現する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、かつ、前記白金管の長手方向中央部の温度と、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差が、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍の前記気相空間内で凝集する所定の温度以下になるよう、予め定められた前記電極の直径又は厚さと前記温度差との関係に基づいて、前記電極の直径又は厚さが決定される、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記所定の温度は、120℃である、ことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
- 清澄槽において熔融ガラスを加熱しながら清澄する清澄工程を含むガラス基板の製造方法であって、
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の直径との関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の直径との関係を予め求め、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう、2つの前記関係を用いて前記電極の直径を決定する、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 清澄槽において熔融ガラスを加熱しながら清澄する清澄工程を含むガラス基板の製造方法であって、
前記清澄槽は、
前記熔融ガラスを清澄する白金管と、
前記白金管に設けられた少なくとも一対のフランジ状の電極と、
前記電極を冷却する冷却管と、を備え、
前記清澄工程では、前記熔融ガラスを清澄する温度以上になるよう前記熔融ガラスの温度は定められ、前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度と前記電極の厚さとの関係、及び、前記白金管の最高温度と前記白金管の気相空間における前記電極近傍の温度との温度差と前記電極の厚さとの関係を予め求め、前記電極の破損が抑制できる前記電極近傍の温度範囲と、前記白金管の気相空間に含まれる揮発した白金が前記電極近傍の前記気相空間内で凝集するのを抑制できる前記温度差の範囲と、を同時に充足するよう、2つの前記関係を用いて前記電極の厚さを決定する、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記電極近傍の温度は、前記電極に流れる電流値と前記電極の抵抗値とから求められる前記電極の発熱量と、前記電極の直径の2乗に反比例し、前記冷却管から前記白金管に伝わる冷却量と、の合算量から求められる温度であり、
前記電極の直径は、予め定められた前記電極の直径と前記温度差との関係に基づいて、決定される、
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記電極近傍の温度は、前記電極に流れる電流値と前記電極の厚さに反比例する前記電極の抵抗値とから求められる前記電極の発熱量と、前記冷却管から前記白金管に伝わる冷却量と、の合算量から求められる温度であり、
前記電極の厚さは、予め定められた前記電極の厚さと前記電極近傍の温度との関係に基づいて、決定される、
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014193614A JP5931986B2 (ja) | 2013-12-26 | 2014-09-24 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013269059 | 2013-12-26 | ||
JP2013269059 | 2013-12-26 | ||
JP2014193614A JP5931986B2 (ja) | 2013-12-26 | 2014-09-24 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015143175A JP2015143175A (ja) | 2015-08-06 |
JP5931986B2 true JP5931986B2 (ja) | 2016-06-08 |
Family
ID=53789072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014193614A Active JP5931986B2 (ja) | 2013-12-26 | 2014-09-24 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5931986B2 (ja) |
KR (1) | KR101643464B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6500679B2 (ja) * | 2015-07-29 | 2019-04-17 | Agc株式会社 | 溶融ガラス加熱装置、ガラス製造装置、およびガラス物品の製造方法 |
JP2018168019A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | AvanStrate株式会社 | 熔融ガラスの清澄装置、及びガラス基板の製造方法 |
JP7136015B2 (ja) * | 2019-06-17 | 2022-09-13 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス移送装置 |
CN111847844B (zh) * | 2020-08-14 | 2022-05-24 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种减小玻璃液温差的铂金通道 |
CN112159077B (zh) * | 2020-09-10 | 2022-04-01 | 芜湖东旭光电科技有限公司 | 用于铂金通道的澄清段、铂金通道和玻璃基板的生产*** |
CN112142295B (zh) * | 2020-10-23 | 2022-06-21 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种适用于高世代电子显示玻璃的铂金通道 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01298031A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Hoya Corp | 溶融ガラス流出パイプの加熱装置 |
US7032412B2 (en) | 2003-03-13 | 2006-04-25 | Corning Incorporated | Methods of manufacturing glass sheets with reduced blisters |
DE102007008299B4 (de) * | 2006-08-12 | 2012-06-14 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von Gläsern, wobei die chemische Reduktion von Bestandteilen vermieden wird |
US8269131B2 (en) | 2008-02-28 | 2012-09-18 | Corning Incorporated | Nickel-containing flanges for use in direct resistance heating of platinum-containing vessels |
JP2010147123A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Lintec Corp | シート剥離装置及び剥離方法 |
US8274018B2 (en) * | 2010-02-25 | 2012-09-25 | Corning Incorporated | Apparatus for use in direct resistance heating of platinum-containing vessels |
JP5192100B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2013-05-08 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
-
2014
- 2014-09-24 JP JP2014193614A patent/JP5931986B2/ja active Active
- 2014-09-29 KR KR1020140130190A patent/KR101643464B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015143175A (ja) | 2015-08-06 |
KR20150076064A (ko) | 2015-07-06 |
KR101643464B1 (ko) | 2016-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5931986B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP6247958B2 (ja) | ガラス板の製造方法、及び、ガラス板の製造装置 | |
JP5552551B2 (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
TWI551563B (zh) | Method for manufacturing glass substrates | |
JP5921730B2 (ja) | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 | |
JP6067755B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 | |
JP5775152B2 (ja) | ガラス板の製造方法及びガラス板製造装置 | |
JP6722096B2 (ja) | ガラス基板、及びガラス基板積層体 | |
TW201714840A (zh) | 玻璃基板之製造方法及玻璃基板之製造裝置 | |
JP2014198656A (ja) | ガラス板の製造方法、ガラス板の製造装置 | |
JP6585983B2 (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
JP5883097B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板の製造装置 | |
JP6616183B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
KR101798304B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
JP2018168019A (ja) | 熔融ガラスの清澄装置、及びガラス基板の製造方法 | |
JP6730865B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
KR101743375B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치 | |
JP6433224B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、およびガラス基板製造装置 | |
JP2016069247A (ja) | ガラス基板の製造方法、およびガラス基板製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160405 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160427 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5931986 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |