JP5903353B2 - Gas detector - Google Patents

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Description

本発明は、ガス検出装置に関するものである。   The present invention relates to a gas detection device.

従来、金属酸化物半導体からなる感ガス部を用い、検出対象ガスのガス濃度に応じて感ガス部の抵抗値が変化する性質を利用して、検出対象ガスのガス検知を行う検知装置がある(例えば特許文献1参照)。特許文献1に開示された検知装置では、感ガス部を加熱するヒータの加熱量を制御することによって、感ガス部の温度を高温状態とする高温期間と、低温状態とする低温期間とを所定の周期で交互に設定してある。そして、高温期間において感ガス部の表面に付着したガスを燃焼させるヒートクリーニングを行い、低温期間で検出対象ガスのガス検知を行っている。   Conventionally, there is a detection device that uses a gas-sensitive portion made of a metal oxide semiconductor and detects the gas of the detection target gas by utilizing the property that the resistance value of the gas-sensitive portion changes according to the gas concentration of the detection target gas. (For example, refer to Patent Document 1). In the detection device disclosed in Patent Document 1, a high temperature period in which the temperature of the gas sensitive part is set to a high temperature state and a low temperature period in which the temperature of the gas sensitive part is set to a low temperature state are predetermined by controlling the heating amount of the heater that heats the gas sensitive part. It is set alternately in the cycle. And the heat cleaning which burns the gas adhering to the surface of the gas sensitive part in the high temperature period is performed, and the gas detection of the detection target gas is performed in the low temperature period.

特開2005−257702号公報JP 2005-257702 A

上述の検知装置では、高温期間から低温期間に切り替えると感ガス部の温度が徐々に低下するのであるが、低温期間において検出対象ガスに対するガス感度がピークとなる温度まで感ガス部の温度が低下した時点で感ガス部の抵抗値を取り込み、この時の抵抗値をもとにガス検知を行っていた。   In the above-described detection device, when the temperature is switched from the high temperature period to the low temperature period, the temperature of the gas sensitive part gradually decreases, but the temperature of the gas sensitive part decreases to a temperature at which the gas sensitivity to the detection target gas reaches a peak in the low temperature period. At that time, the resistance value of the gas sensitive part was taken in, and the gas was detected based on the resistance value at this time.

そのため、低温期間に切り替えられた時点からガス検知を行うまでに比較的長い時間がかかってしまい、ガス検知を行うまでの時間を短縮したいという要望があった。   For this reason, it takes a relatively long time to perform gas detection from the time of switching to the low temperature period, and there has been a desire to shorten the time until gas detection.

本発明は上記課題に鑑みて為されたものであり、その目的とするところは、低温期間においてガス検知までの時間を短縮可能なガス検出装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a gas detection device capable of shortening the time until gas detection in a low temperature period.

請求項1の発明は、感ガス部と、ヒータと、ヒータ制御部と、サンプリング部と、ホールド部と、ガス判定部とを備える。感ガス部は、検出対象ガスのガス濃度に応じて抵抗値が変化する。ヒータは前記感ガス部を加熱する。ヒータ制御部は、前記ヒータによる加熱量を制御して、高温期間と、検出対象ガスを検出する低温期間とを交互に設定する。サンプリング部は、低温期間中に低温期間よりも短い周期で前記感ガス部の抵抗値をサンプリングする。検出対象ガスが還元性ガスである場合に、ホールド部は、前回の低温期間の終了時に前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持し、今回の低温期間の途中では前記サンプリング部がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値とホールド値との高低を比較して何れか小さい方を新たなホールド値として保持し、且つ、今回の低温期間の終了時には前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持する。ガス判定部は、前記ホールド部によって保持された抵抗値と所定のガス判定レベルとの高低を比較することによって、検出対象ガスの存否を判定する。   The invention of claim 1 includes a gas sensitive part, a heater, a heater control part, a sampling part, a hold part, and a gas determination part. The resistance value of the gas sensitive part changes according to the gas concentration of the detection target gas. The heater heats the gas sensitive part. The heater control unit controls a heating amount by the heater to alternately set a high temperature period and a low temperature period for detecting the detection target gas. A sampling part samples the resistance value of the said gas sensitive part in a period shorter than a low temperature period during a low temperature period. When the detection target gas is a reducing gas, the holding unit holds the resistance value sampled by the sampling unit at the end of the previous low temperature period as a hold value, and the sampling unit samples during the current low temperature period. Each time the resistance value sampled and the hold value are compared, the smaller one is held as a new hold value, and the resistance value sampled by the sampling unit at the end of the current low temperature period is held as the hold value. Hold as. The gas determination unit determines the presence or absence of the detection target gas by comparing the resistance value held by the hold unit with a predetermined gas determination level.

請求項2の発明は、感ガス部と、ヒータと、ヒータ制御部と、サンプリング部と、ホールド部と、ガス判定部とを備える。感ガス部は、検出対象ガスのガス濃度に応じて抵抗値が変化する。ヒータは前記感ガス部を加熱する。ヒータ制御部は、前記ヒータによる加熱量を制御して、高温期間と、検出対象ガスを検出する低温期間とを交互に設定する。サンプリング部は、低温期間中に低温期間よりも短い周期で前記感ガス部の抵抗値をサンプリングする。検出対象ガスが酸化性ガスである場合に、ホールド部は、前回の低温期間の終了時に前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持し、今回の低温期間の途中では前記サンプリング部がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値とホールド値との高低を比較して何れか大きい方を新たなホールド値として保持し、且つ、今回の低温期間の終了時には前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持する。ガス判定部は、前記ホールド部によって保持された抵抗値と所定のガス判定レベルとの高低を比較することによって、検出対象ガスの存否を判定する。   The invention of claim 2 includes a gas sensitive part, a heater, a heater control part, a sampling part, a hold part, and a gas determination part. The resistance value of the gas sensitive part changes according to the gas concentration of the detection target gas. The heater heats the gas sensitive part. The heater control unit controls a heating amount by the heater to alternately set a high temperature period and a low temperature period for detecting the detection target gas. A sampling part samples the resistance value of the said gas sensitive part in a period shorter than a low temperature period during a low temperature period. When the detection target gas is an oxidizing gas, the hold unit holds the resistance value sampled by the sampling unit at the end of the previous low temperature period as a hold value, and the sampling unit samples during the current low temperature period. Each time the resistance value sampled and the hold value are compared, the higher one is held as a new hold value, and the resistance value sampled by the sampling unit at the end of this low temperature period is held as the hold value. Hold as. The gas determination unit determines the presence or absence of the detection target gas by comparing the resistance value held by the hold unit with a predetermined gas determination level.

請求項1の発明によれば、低温期間の途中でもサンプリング部がサンプリングする毎にホールド部がホールド値を更新し、ガス判定部が、ホールド部に保持された抵抗値をガス判定レベルと比較することで検出対象ガスの存否を判定しているので、低温期間の終了時にガス判定部が初めてガス判定を行う場合に比べてガス検知までの時間を短縮することができる。しかも、ホールド部は、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値を次の低温期間まで保持しており、検出対象ガスの存否を判定した結果が次の低温期間まで保持されるから、検出対象ガスの存否を判定した結果が途中で途切れることはない。またホールド部は、低温期間の途中ではサンプリング値又はホールド値のうち何れか小さい方を保持しているが、低温期間の終了時には終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持しているので、検出対象ガスのガス濃度が減少して感ガス部の抵抗値が検知前の状態に戻れば、低温期間の終了時にホールド値が更新されるので、ガス判定部の判定結果を非検知状態にすることができる。   According to the first aspect of the present invention, the hold unit updates the hold value every time the sampling unit samples even during the low temperature period, and the gas determination unit compares the resistance value held in the hold unit with the gas determination level. Thus, since the presence / absence of the detection target gas is determined, it is possible to shorten the time until the gas detection as compared with the case where the gas determination unit performs the gas determination for the first time at the end of the low temperature period. In addition, the hold unit holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period until the next low temperature period, and the result of determining the presence or absence of the detection target gas is held until the next low temperature period. The result of determining whether or not there is no interruption in the middle. The hold unit holds the smaller of the sampling value or the hold value during the low temperature period, but holds the resistance value sampled at the end as the hold value at the end of the low temperature period. If the gas concentration of the detection target gas decreases and the resistance value of the gas sensing part returns to the state before detection, the hold value is updated at the end of the low temperature period, so the judgment result of the gas judgment part is made non-detection state. be able to.

請求項2の発明によれば、低温期間の途中でもサンプリング部がサンプリングする毎にホールド部がホールド値を更新し、ガス判定部が、ホールド部に保持された抵抗値をガス判定レベルと比較することで検出対象ガスの存否を判定しているので、低温期間の終了時にガス判定部が初めてガス判定を行う場合に比べてガス検知までの時間を短縮することができる。しかも、ホールド部は、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値を次の低温期間まで保持しており、検出対象ガスの存否を判定した結果が次の低温期間まで保持されるから、検出対象ガスの存否を判定した結果が途中で途切れることはない。またホールド部は、低温期間の途中ではサンプリング値又はホールド値のうち何れか大きい方を保持しているが、低温期間の終了時には終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持しているので、検出対象ガスのガス濃度が減少して感ガス部の抵抗値が検知前の状態に戻れば、低温期間の終了時にホールド値が更新されるので、ガス判定部の判定結果を非検知状態にすることができる。   According to the invention of claim 2, the hold unit updates the hold value every time the sampling unit samples even during the low temperature period, and the gas determination unit compares the resistance value held in the hold unit with the gas determination level. Thus, since the presence / absence of the detection target gas is determined, it is possible to shorten the time until the gas detection as compared with the case where the gas determination unit performs the gas determination for the first time at the end of the low temperature period. In addition, the hold unit holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period until the next low temperature period, and the result of determining the presence or absence of the detection target gas is held until the next low temperature period. The result of determining whether or not there is no interruption in the middle. The hold unit holds the larger of the sampling value or the hold value during the low temperature period, but holds the resistance value sampled at the end as the hold value at the end of the low temperature period. If the gas concentration of the detection target gas decreases and the resistance value of the gas sensing part returns to the state before detection, the hold value is updated at the end of the low temperature period, so the judgment result of the gas judgment part is made non-detection state. be able to.

本実施形態のガス検出装置の概略的なブロック回路図である。It is a schematic block circuit diagram of the gas detection apparatus of this embodiment. 同上に用いられる感ガス部の模式図である。It is a schematic diagram of the gas sensitive part used for the same as the above. 同上の検出動作を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining a detection operation same as the above. 同上の検出動作を説明するタイムチャートであり、(a)は感ガス部の抵抗値及びホールド部のホールド値、(b)はヒータ電圧、(c)はガス判定部の判定結果を示す図である。It is a time chart explaining detection operation same as the above, (a) is a resistance value of a gas sensing part and a hold value of a hold part, (b) is a heater voltage, (c) is a figure showing a judgment result of a gas judgment part. is there.

以下に、本発明の実施形態を図1〜図4に基づいて説明する。本実施形態のガス検出装置は、例えば、メタンなどの炭素化合物を改質して取り出した水素を発電に利用する燃料電池に用いられ、改質ガス中に含まれる一酸化炭素を検出するために用いられる。改質ガス中に一酸化炭素が残っていると、燃料電池の触媒が被毒されて、発電能力が低下する可能性があるため、改質ガス中の一酸化炭素が所定のガス判定レベルを越えると、検出信号を外部に出力する。尚、本発明に係るガス検出装置の用途は上記の用途に限定されるものではなく、様々な種類のガス検出に使用でき、またガス警報器、口臭測定器、呼気測定機などの用途にも適用が可能である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. The gas detection apparatus according to the present embodiment is used in, for example, a fuel cell that uses hydrogen extracted by reforming a carbon compound such as methane for power generation, and detects carbon monoxide contained in the reformed gas. Used. If carbon monoxide remains in the reformed gas, the catalyst of the fuel cell is poisoned and the power generation capacity may be reduced. Therefore, the carbon monoxide in the reformed gas has a predetermined gas judgment level. If it exceeds, the detection signal is output to the outside. The application of the gas detection device according to the present invention is not limited to the above application, and can be used for various types of gas detection, and also for applications such as gas alarms, breath odor measuring devices, and breath measuring devices. Applicable.

図1はガス検出装置の概略構成を示すブロック図である。図1に示すガス検出装置は、定電圧電源部1と、ガスセンサ2と、信号処理部3と、出力部4とを主要な構成として備えている。   FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a gas detection device. The gas detection apparatus shown in FIG. 1 includes a constant voltage power supply unit 1, a gas sensor 2, a signal processing unit 3, and an output unit 4 as main components.

定電圧電源部1は、商用交流電源の交流電源電圧を一定の直流電圧Vccに変換して、ガスセンサ2及び信号処理部3に供給する。尚、ガス検出装置の電源は商用交流電源に限定されるものではなく、電池などの直流電源から定電圧電源部1に電源を供給しても良い。   The constant voltage power supply unit 1 converts the AC power supply voltage of the commercial AC power supply into a constant DC voltage Vcc, and supplies it to the gas sensor 2 and the signal processing unit 3. The power source of the gas detection device is not limited to a commercial AC power source, and power may be supplied to the constant voltage power source unit 1 from a DC power source such as a battery.

ガスセンサ2は、例えば酸化錫(SnO)等の金属酸化物半導体の焼結体からなる感ガス部20を備えている。感ガス部20は、雰囲気中の検出対象ガスに感応して抵抗値が変化する。検出対象ガスが一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、水素(H)などの還元性ガスの場合には、検出対象ガスの濃度が高くなるにつれて、感ガス部20の抵抗値は低くなる。また、検出対象ガスが窒素酸化物(NOx)、オゾン(O)、硫化水素(SH)などの酸化性ガスの場合には、検出対象ガスの濃度が高くなるにつれて、感ガス部20の抵抗値は高くなる。 The gas sensor 2 includes a gas sensitive part 20 made of a sintered body of a metal oxide semiconductor such as tin oxide (SnO 2 ). The resistance value of the gas sensitive unit 20 changes in response to the detection target gas in the atmosphere. When the detection target gas is a reducing gas such as carbon monoxide (CO), methane (CH 4 ), hydrogen (H 2 ), the resistance value of the gas sensing unit 20 increases as the concentration of the detection target gas increases. Lower. When the detection target gas is an oxidizing gas such as nitrogen oxide (NOx), ozone (O 3 ), or hydrogen sulfide (S 2 H), the gas sensing unit 20 increases as the concentration of the detection target gas increases. The resistance value of becomes high.

この種の感ガス部20では、検出対象ガスの種類によって、ガス感度が高感度となる温度範囲が異なっている。例えば400℃付近の比較的高温の温度範囲では、不完全燃焼ガスである一酸化炭素(CO)の感度に比べて、燃焼ガスであるメタンの感度が高くなっており、この温度範囲における抵抗値変化からメタンを選択的に検知することが可能となっている。また80℃付近の比較的低温の温度範囲では、燃焼ガスであるメタンの感度に比べて、不完全燃焼ガスである一酸化炭素の感度が高くなり、この温度範囲における抵抗値変化から一酸化炭素を選択的に検知することが可能となっている。尚、検出対象ガスに対して感度を有する温度範囲は、要求されるガス検知精度、感ガス部20の組成、検出対象ガスの種類やその検出対象ガスに対して想定されるガス検知時の濃度(すなわちガス判定レベルの濃度)などに応じて適宜設定される。   In this type of gas sensitive unit 20, the temperature range in which the gas sensitivity is high is different depending on the type of detection target gas. For example, in a relatively high temperature range near 400 ° C., the sensitivity of methane, which is a combustion gas, is higher than the sensitivity of carbon monoxide (CO), which is an incomplete combustion gas, and the resistance value in this temperature range. It is possible to selectively detect methane from changes. In the relatively low temperature range around 80 ° C., the sensitivity of carbon monoxide, which is an incomplete combustion gas, is higher than that of methane, which is a combustion gas. Can be selectively detected. The temperature range having sensitivity to the detection target gas includes the required gas detection accuracy, the composition of the gas sensitive part 20, the type of detection target gas, and the concentration at the time of gas detection assumed for the detection target gas. It is appropriately set according to (that is, the concentration of the gas determination level).

感ガス部20の材料である金属酸化物半導体には、雑ガスに対する感度を低減させる触媒を担持していることが好ましい。このような触媒としては、パラジウム(Pd)、タングステン(W)、白金(Pt)、ロジウム(Rh)、セリウム(Ce)、モリブデン(Mo)、バナジウム(V)等がある。これらの触媒は一種類が単独で用いられてもよいし、2種類以上が併用して用いられてもよい。特に触媒としてPdが用いられる場合、感ガス部20の応答性が向上する。すなわち、感ガス部20にPdを担持することにより、検出対象ガスのガス濃度が上昇するのに伴って、感ガス部20の電気抵抗が変化し始めてから、電気抵抗が安定するまでに要する時間が短縮されるのである。   It is preferable that the metal oxide semiconductor, which is the material of the gas sensitive part 20, carries a catalyst that reduces the sensitivity to various gases. Examples of such catalysts include palladium (Pd), tungsten (W), platinum (Pt), rhodium (Rh), cerium (Ce), molybdenum (Mo), vanadium (V), and the like. One type of these catalysts may be used alone, or two or more types may be used in combination. In particular, when Pd is used as the catalyst, the responsiveness of the gas sensitive part 20 is improved. That is, the time required for the electric resistance to stabilize after the electric resistance of the gas-sensitive part 20 begins to change as the gas concentration of the detection target gas increases by supporting Pd on the gas-sensitive part 20. Is shortened.

図2に示すように、感ガス部20の内部にはヒータ21と中心電極22とが埋設される。ヒータ21は貴金属線(例えば白金線)をコイル状に巻回して形成されている。中心電極22は棒状の貴金属線(例えば白金線)からなり、コイル状に形成されたヒータ21の中心を貫通するように配置されている。図1中に感ガス部20の等価回路を示してあり、ヒータ21の電気抵抗をRhとし、ヒータ21の一端と中心電極22との間の電気抵抗(すなわち感ガス部20の電気抵抗)をRsとしている。   As shown in FIG. 2, a heater 21 and a center electrode 22 are embedded in the gas sensitive part 20. The heater 21 is formed by winding a noble metal wire (for example, platinum wire) in a coil shape. The center electrode 22 is made of a rod-like noble metal wire (for example, platinum wire), and is disposed so as to penetrate the center of the heater 21 formed in a coil shape. FIG. 1 shows an equivalent circuit of the gas sensing unit 20, where the electrical resistance of the heater 21 is Rh, and the electrical resistance between the one end of the heater 21 and the center electrode 22 (that is, the electrical resistance of the gas sensing unit 20). Rs.

ヒータ21は、上述のように感ガス部20の内部に埋設されており、その両端は感ガス部20の外部に露出している。そして、ヒータ21はスイッチング素子Q1を介して定電圧電源部1の出力端子間に接続されている。スイッチング素子Q1は例えばNPN形のトランジスタからなり、そのベースにはヒータ制御部31の出力信号が抵抗R2を介して入力されており、ヒータ制御部31の出力信号に応じてオン/オフが切り替えられる。ヒータ制御部31は、スイッチング素子Q1のベースにデューティ比が可変のパルス信号を出力しており、パルス信号のデューティ比、すなわちスイッチング素子Q1のオン幅を調整することで、ヒータ21に印加される電圧の平均値及び消費電力を調整する。例えばヒータ制御部31は、感ガス部20の温度を約400℃の高温状態とする高温期間と、感ガス部20の温度を約80℃の低温状態とする低温期間とが、所定の周期で交互に繰り返すように、スイッチング素子Q1のベースに出力する信号のデューティ比を調整する。そして、高温期間では、低温期間において感ガス部20の表面に付着したガスを燃焼させることによってヒートクリーニングが行われ、低温期間では検出対象ガス(例えばCO)のガス検知が行われる。   The heater 21 is embedded in the gas sensitive part 20 as described above, and both ends thereof are exposed to the outside of the gas sensitive part 20. And the heater 21 is connected between the output terminals of the constant voltage power supply part 1 via the switching element Q1. The switching element Q1 is composed of, for example, an NPN type transistor, and an output signal of the heater control unit 31 is input to the base thereof via a resistor R2, and ON / OFF is switched according to the output signal of the heater control unit 31. . The heater control unit 31 outputs a pulse signal having a variable duty ratio to the base of the switching element Q1, and is applied to the heater 21 by adjusting the duty ratio of the pulse signal, that is, the ON width of the switching element Q1. Adjust the average voltage and power consumption. For example, the heater control unit 31 includes a high temperature period in which the temperature of the gas sensitive unit 20 is set to a high temperature state of about 400 ° C. and a low temperature period in which the temperature of the gas sensitive unit 20 is set to a low temperature state of about 80 ° C. at a predetermined cycle. The duty ratio of the signal output to the base of the switching element Q1 is adjusted so as to repeat alternately. In the high temperature period, heat cleaning is performed by burning the gas adhering to the surface of the gas sensitive unit 20 in the low temperature period, and gas detection of the detection target gas (for example, CO) is performed in the low temperature period.

中心電極22の両端は感ガス部20の外部に露出しており、一方の端部は負荷抵抗R1及びスイッチング素子Q2を介して定電圧電源部1の高圧側出力端に接続されるとともに、サンプリング部32のA/D入力端に接続されている。スイッチング素子Q2は、例えばNPN形のトランジスタからなり、そのベースにはサンプリング部32の出力信号が抵抗R3を介して入力されており、サンプリング部32の出力信号に応じてオン/オフが切り替えられる。スイッチング素子Q2がオンになると、負荷抵抗R1と感ガス部20の電気抵抗Rsとの直列回路に一定電圧Vccが印加される。この時、負荷抵抗R1と中心電極22との接続点に感ガス部20の電気抵抗Rsに応じた電圧V1が発生し、この電圧V1がサンプリング部32に入力される。感ガス部20の電気抵抗Rsが検出対象ガスのガス濃度に応じて変化すると、負荷抵抗R1と感ガス部20の電気抵抗Rsとの分圧比が変化して、サンプリング部32に入力される電圧V1が変化する。検出対象ガスが一酸化炭素のような還元性ガスの場合、検出対象ガスのガス濃度が上昇すると、感ガス部20の電気抵抗Rsが減少するので、サンプリング部32に入力される電圧V1は低下するから、電圧V1の変化から検出対象ガスの濃度変化を検出することができる。   Both ends of the center electrode 22 are exposed to the outside of the gas sensitive part 20, and one end is connected to the high voltage side output terminal of the constant voltage power supply part 1 through the load resistor R1 and the switching element Q2, and sampling is performed. The A / D input terminal of the unit 32 is connected. The switching element Q2 is made of, for example, an NPN transistor, and an output signal of the sampling unit 32 is input to the base thereof via a resistor R3, and ON / OFF is switched according to the output signal of the sampling unit 32. When the switching element Q2 is turned on, a constant voltage Vcc is applied to the series circuit of the load resistance R1 and the electric resistance Rs of the gas sensitive part 20. At this time, a voltage V1 corresponding to the electric resistance Rs of the gas sensitive unit 20 is generated at the connection point between the load resistor R1 and the center electrode 22, and this voltage V1 is input to the sampling unit 32. When the electric resistance Rs of the gas sensing unit 20 changes according to the gas concentration of the detection target gas, the voltage dividing ratio between the load resistance R1 and the electric resistance Rs of the gas sensing unit 20 changes, and the voltage input to the sampling unit 32 V1 changes. When the detection target gas is a reducing gas such as carbon monoxide, when the gas concentration of the detection target gas increases, the electrical resistance Rs of the gas sensing unit 20 decreases, so the voltage V1 input to the sampling unit 32 decreases. Therefore, the change in concentration of the detection target gas can be detected from the change in the voltage V1.

次に信号処理部3の各部の機能について説明する。   Next, the function of each part of the signal processing unit 3 will be described.

信号処理部3は例えばマイクロコンピュータからなり、ヒータ制御部31、サンプリング部32、ホールド部33、ガス判定部34などの機能を備えている。尚、これらの機能は、マイクロコンピュータが組み込みプログラムを実行することによって実現されている。   The signal processing unit 3 includes, for example, a microcomputer, and has functions such as a heater control unit 31, a sampling unit 32, a hold unit 33, and a gas determination unit 34. These functions are realized by a microcomputer executing an embedded program.

ヒータ制御部31は、スイッチング素子Q1のベースに出力するパルス信号のデューティ比を調整することによって、高温期間および低温期間が交互に繰り返すようにヒータ21の発熱を制御する。尚、高温期間および低温期間の時間幅はそれぞれ別個に設定できる。本実施形態ではヒータ21に印加する電圧の平均値を約0.9Vとして、感ガス部20を約400℃に加熱する高温期間を5秒間、ヒータ21に印加する電圧の平均値を約0.2Vとし、感ガス部20の温度を約80℃とする低温期間を20秒間としている。   The heater control unit 31 controls the heat generation of the heater 21 so that the high temperature period and the low temperature period are alternately repeated by adjusting the duty ratio of the pulse signal output to the base of the switching element Q1. Note that the time widths of the high temperature period and the low temperature period can be set separately. In this embodiment, the average value of the voltage applied to the heater 21 is about 0.9 V, the high temperature period for heating the gas sensitive part 20 to about 400 ° C. is 5 seconds, and the average value of the voltage applied to the heater 21 is about 0.00. A low temperature period in which the temperature of the gas sensitive part 20 is about 80 ° C. is set to 2 V and 20 seconds.

サンプリング部32は、例えば20秒間の低温期間において予め設定された検出タイミング(例えば低温期間の開始時から5秒目、10秒目、15秒目、20秒目)がくると、スイッチング素子Q2のベースにHレベルの信号を出力して、スイッチング素子Q2をオンさせ、負荷抵抗R1と感ガス部20の直列回路に一定電圧Vccを印加する。そして、サンプリング部32は、感ガス部20に電圧を印加した状態で、負荷抵抗R1と感ガス部20との接続点に発生する電圧V1をA/D変換して取り込み、電圧V1から求めた感ガス部20の抵抗値Rsをホールド部33に出力する。   For example, when the detection timing preset in the low temperature period of 20 seconds (for example, the fifth, tenth, fifteenth, and twenty seconds from the start of the low temperature period) comes, the sampling unit 32 detects the switching element Q2. An H level signal is output to the base, the switching element Q2 is turned on, and a constant voltage Vcc is applied to the series circuit of the load resistor R1 and the gas sensitive part 20. And the sampling part 32 took in the voltage V1 which generate | occur | produced in the connection point of load resistance R1 and the gas sensitive part 20 by A / D conversion in the state which applied the voltage to the gas sensitive part 20, and calculated | required from the voltage V1. The resistance value Rs of the gas sensitive unit 20 is output to the hold unit 33.

ホールド部33は、サンプリング部32から感ガス部20の抵抗値Rsが入力されると、以下のようなルールにしたがって抵抗値を保持する動作を行う。すなわち、ホールド部33は、前回の低温期間の終了時(低温期間の開始から20秒目のタイミング)においてサンプリング部32がサンプリングした抵抗値Rsをホールド値Rs0として保持する。そして、ホールド部33は、今回の低温期間の途中ではサンプリング部32がサンプリングする毎(例えば低温期間の開始時から5秒後、10秒後、15秒後)にサンプリング部32によってサンプリングされた抵抗値Rsとホールド値Rs0との高低を比較する。本実施形態では検出対象ガスが一酸化炭素のような還元性ガスであるから、ホールド部33は、サンプリング部32によってサンプリングされた抵抗値Rsとホールド値Rs0のうち、何れか小さい方を新たなホールド値Rs0として保持する。またホールド部33は、今回の低温期間の終了時(低温期間の開始時から20秒後)にサンプリング部32がサンプリングした抵抗値Rsをホールド値Rs0として保持する。   When the resistance value Rs of the gas sensing unit 20 is input from the sampling unit 32, the holding unit 33 performs an operation of holding the resistance value according to the following rule. That is, the hold unit 33 holds the resistance value Rs sampled by the sampling unit 32 at the end of the previous low temperature period (timing at the 20th second from the start of the low temperature period) as the hold value Rs0. The hold unit 33 is a resistor sampled by the sampling unit 32 every time the sampling unit 32 samples (for example, 5 seconds, 10 seconds, and 15 seconds after the start of the low temperature period) during the current low temperature period. The level Rs is compared with the hold value Rs0. In the present embodiment, since the detection target gas is a reducing gas such as carbon monoxide, the hold unit 33 sets the smaller one of the resistance value Rs and the hold value Rs0 sampled by the sampling unit 32 as a new one. Hold as hold value Rs0. The hold unit 33 holds the resistance value Rs sampled by the sampling unit 32 at the end of the current low temperature period (20 seconds after the start of the low temperature period) as the hold value Rs0.

ここで、ホールド部33の動作を纏めると図3に示すフローチャートのようになる。電源投入後の最初の低温期間では、低温期間(Low)の開始から5秒が経過したタイミングでサンプリング部32が感ガス部20の抵抗値をサンプリングして、抵抗値Rs1を得る(ステップS1)。電源が投入された直後にはホールド部33に抵抗値が保持されていないので、ホールド部33は、低温開始から5秒が経過したタイミングで検出された抵抗値Rs1をホールド値Rs0として保持する(ステップS2)。そして、ホールド部33は、低温期間の開始から5秒が経過したタイミングで検出された抵抗値Rs1とホールド値Rs0との高低を比較する(ステップS3)。ここで、ホールド値Rs0が抵抗値Rs1以下であれば(ステップS3のYes)、ホールド部33はホールド値Rs0をそのまま保持する。一方、抵抗値Rs1がホールド値Rs0よりも小さければ(ステップS3のNo)、ホールド部33は抵抗値Rs1を新たなホールド値Rs0として保持する(ステップS4)。尚、電源投入後の最初の低温期間では、低温期間の開始時から5秒後にサンプリングされた抵抗値Rs1がホールド値Rs0として保持されているので、ホールド部33はホールド値Rs0をそのまま保持することになる。   Here, the operation of the hold unit 33 is summarized as shown in the flowchart of FIG. In the first low temperature period after the power is turned on, the sampling unit 32 samples the resistance value of the gas sensitive unit 20 at the timing when 5 seconds have elapsed from the start of the low temperature period (Low) to obtain the resistance value Rs1 (step S1). . Since the resistance value is not held in the hold unit 33 immediately after the power is turned on, the hold unit 33 holds the resistance value Rs1 detected at the timing when 5 seconds have elapsed from the start of the low temperature as the hold value Rs0 ( Step S2). The hold unit 33 compares the resistance value Rs1 detected at the timing when 5 seconds have elapsed from the start of the low temperature period with the hold value Rs0 (step S3). If the hold value Rs0 is equal to or less than the resistance value Rs1 (Yes in step S3), the hold unit 33 holds the hold value Rs0 as it is. On the other hand, if the resistance value Rs1 is smaller than the hold value Rs0 (No in step S3), the hold unit 33 holds the resistance value Rs1 as a new hold value Rs0 (step S4). In the first low temperature period after power-on, since the resistance value Rs1 sampled 5 seconds after the start of the low temperature period is held as the hold value Rs0, the hold unit 33 holds the hold value Rs0 as it is. become.

その後、低温期間の開始から10秒が経過すると、サンプリング部32が感ガス部20の抵抗値をサンプリングして、抵抗値Rs2を得る(ステップS5)。ホールド部33は、10秒経過時の抵抗値Rs2とホールド値Rs0との高低を比較し(ステップS6)、ホールド値Rs0が10秒経過時の抵抗値Rs2以下であれば(ステップS6のYes)、ホールド部33はホールド値Rs0をそのまま保持する。一方、10秒経過時の抵抗値Rs2がホールド値Rs0よりも小さければ(ステップS6のNo)、ホールド部33は抵抗値Rs2を新たなホールド値Rs0として保持する(ステップS7)。   Thereafter, when 10 seconds elapse from the start of the low temperature period, the sampling unit 32 samples the resistance value of the gas sensitive unit 20 to obtain the resistance value Rs2 (step S5). The hold unit 33 compares the resistance value Rs2 and the hold value Rs0 when 10 seconds have elapsed (step S6), and if the hold value Rs0 is equal to or less than the resistance value Rs2 when 10 seconds have elapsed (Yes in step S6). The hold unit 33 holds the hold value Rs0 as it is. On the other hand, if the resistance value Rs2 after 10 seconds has elapsed is smaller than the hold value Rs0 (No in step S6), the hold unit 33 holds the resistance value Rs2 as a new hold value Rs0 (step S7).

さらに低温期間の開始から15秒が経過すると、サンプリング部32が感ガス部20の抵抗値をサンプリングして、抵抗値Rs3を得る(ステップS8)。ホールド部33は、15秒経過時の抵抗値Rs3とホールド値Rs0との高低を比較し(ステップS9)、ホールド値Rs0が15秒経過時の抵抗値Rs3以下であれば(ステップS9のYes)、ホールド部33はホールド値Rs0をそのまま保持する。一方、15秒経過時の抵抗値Rs3がホールド値Rs0よりも小さければ(ステップS9のNo)、ホールド部33は抵抗値Rs3を新たなホールド値Rs0として保持する(ステップS10)。   Further, when 15 seconds elapse from the start of the low temperature period, the sampling unit 32 samples the resistance value of the gas sensitive unit 20 to obtain the resistance value Rs3 (step S8). The hold unit 33 compares the resistance value Rs3 and the hold value Rs0 when 15 seconds have elapsed (step S9), and if the hold value Rs0 is equal to or less than the resistance value Rs3 when 15 seconds have elapsed (Yes in step S9). The hold unit 33 holds the hold value Rs0 as it is. On the other hand, if the resistance value Rs3 after 15 seconds is smaller than the hold value Rs0 (No in step S9), the hold unit 33 holds the resistance value Rs3 as a new hold value Rs0 (step S10).

さらに低温期間の開始から20秒が経過すると、サンプリング部32が感ガス部20の抵抗値をサンプリングして、抵抗値Rs4を得る(ステップS11)。ホールド部33は、20秒経過時(すなわち低温期間の終了時)の抵抗値Rs4を新たなホールド値Rs0として保持し(ステップS12)、次の低温期間において、より小さい抵抗値が検出されるまで、この時のホールド値Rs0を保持する。   Further, when 20 seconds elapse from the start of the low temperature period, the sampling unit 32 samples the resistance value of the gas sensitive unit 20 to obtain the resistance value Rs4 (step S11). The hold unit 33 holds the resistance value Rs4 when 20 seconds have elapsed (that is, at the end of the low temperature period) as a new hold value Rs0 (step S12), and until a smaller resistance value is detected in the next low temperature period. The hold value Rs0 at this time is held.

その後、高温期間を経て次の低温期間に移行すると、次の低温期間の開始から5秒が経過したタイミングで、サンプリング部32が感ガス部20の抵抗値をサンプリングして、抵抗値Rsを得る(ステップS13)。その後の動作は上述したステップS3以降の動作と同様であり、低温期間の途中ではサンプリングされた抵抗値の最小値にホールド値Rs0が順次更新され、低温期間の終了時には終了時においてサンプリングされた抵抗値がホールド値Rs0として保持される。   After that, when a transition is made to the next low temperature period after passing through the high temperature period, the sampling unit 32 samples the resistance value of the gas sensitive unit 20 at the timing when 5 seconds have elapsed from the start of the next low temperature period to obtain the resistance value Rs. (Step S13). The subsequent operation is the same as the operation after step S3 described above, and the hold value Rs0 is sequentially updated to the minimum value of the sampled resistance value in the middle of the low temperature period, and the resistance sampled at the end at the end of the low temperature period. The value is held as a hold value Rs0.

ガス判定部34は、低温開始から5秒、10秒、15秒、20秒がそれぞれ経過したタイミングで、ホールド部33がホールド値Rs0を更新或いは維持した後に、ホールド値Rs0と、所定のガス判定レベルL1との高低を比較する(図4(a)参照)。そして、ホールド値Rs0がガス判定レベルL1を下回ると、ガス判定部34は検出対象ガスが存在すると判断して、検出信号を出力部4に出力する。   The gas determination unit 34 determines whether the hold value Rs0 and the predetermined gas determination after the hold unit 33 updates or maintains the hold value Rs0 at the timing when 5 seconds, 10 seconds, 15 seconds, and 20 seconds have elapsed from the low temperature start. The level L1 is compared with the level (see FIG. 4A). When the hold value Rs0 falls below the gas determination level L1, the gas determination unit 34 determines that there is a detection target gas and outputs a detection signal to the output unit 4.

出力部4は、ガス判定部34から検出信号が入力されると、上位の監視機器(図示せず)に対して、検出対象ガスが存在することを報知する報知信号を出力する。また出力部4は、ガス判定部34から検出信号が入力されると、例えばLEDのようなランプ(図示せず)を点灯させたり、ブザー(図示せず)を鳴動させたりして、検出対象ガスの存在を報知してもよい。   When the detection signal is input from the gas determination unit 34, the output unit 4 outputs a notification signal that notifies the host monitoring device (not shown) that the detection target gas exists. When the detection signal is input from the gas determination unit 34, the output unit 4 turns on a lamp (not shown) such as an LED or sounds a buzzer (not shown), for example. You may alert | report the presence of gas.

ここで、本実施形態の動作を図4の波形図を参照して説明する。尚、図4(a)は感ガス部20の抵抗値Rs及びホールド値Rs0を、図4(b)はヒータ21に印加されるヒータ電圧を、図4(c)はガス判定部34の判定結果をそれぞれ示している。尚、図4(a)中の波形Aは抵抗値Rsを、波形Bはホールド値Rs0をそれぞれ示している。   Here, the operation of the present embodiment will be described with reference to the waveform diagram of FIG. 4A shows the resistance value Rs and hold value Rs0 of the gas sensing unit 20, FIG. 4B shows the heater voltage applied to the heater 21, and FIG. 4C shows the judgment of the gas judgment unit 34. Each result is shown. In FIG. 4A, the waveform A indicates the resistance value Rs, and the waveform B indicates the hold value Rs0.

ヒータ制御部31は、上述のように、スイッチング素子Q2のベースに出力するパルス信号のデューティ比を調整することによって、ヒータ21に印加する平均電圧を調整する。本実施形態では、図4(b)に示すように、平均電圧が0.9Vとなる高温期間TH1,TH2,TH3…を5秒間、平均電圧が0.2Vとなる低温期間TL0,TL1,TL2,TL3…を20秒間とし、高温期間と低温期間が交互に繰り返すように、ヒータ制御部31がヒータ21を駆動している。   As described above, the heater control unit 31 adjusts the average voltage applied to the heater 21 by adjusting the duty ratio of the pulse signal output to the base of the switching element Q2. In this embodiment, as shown in FIG. 4B, the high temperature periods TH1, TH2, TH3,... In which the average voltage is 0.9V are set for 5 seconds, and the low temperature periods TL0, TL1, TL2 in which the average voltage is 0.2V. , TL3... Is 20 seconds, and the heater controller 31 drives the heater 21 so that the high temperature period and the low temperature period are alternately repeated.

図4(a)に示すように高温期間では感ガス部20の抵抗値Rsは急激に低下し、高温期間から低温期間に切り替わると、抵抗値Rsは、一旦急激に増加した後、検出対象ガスのガス濃度に応じて徐々に低下していく。また図4(a)の例では、低温期間TL1の途中の時刻Ta(サンプリングのタイミングt3,t4間)において検出対象ガスが注入されており、ガス濃度の上昇に伴って、感ガス部20の抵抗値Rsは徐々に低下する。また、その次の低温期間TL2が終了した後の高温期間TH3において検出対象ガスが排気されており(高温期間TH3の途中の時刻Tb)、ガス濃度の減少に伴って、感ガス部20の抵抗値Rsが徐々に増加し、注入前のレベルに復帰している。   As shown in FIG. 4A, the resistance value Rs of the gas sensing unit 20 rapidly decreases during the high temperature period, and when the high temperature period is switched to the low temperature period, the resistance value Rs increases once and then the detection target gas. It gradually decreases according to the gas concentration. In the example of FIG. 4A, the detection target gas is injected at the time Ta (between sampling timings t3 and t4) in the middle of the low temperature period TL1, and as the gas concentration increases, The resistance value Rs gradually decreases. Further, the detection target gas is exhausted in the high temperature period TH3 after the end of the next low temperature period TL2 (time Tb in the middle of the high temperature period TH3), and the resistance of the gas sensing unit 20 is decreased as the gas concentration decreases. The value Rs gradually increases and returns to the level before injection.

上述のようにホールド部33は、低温期間TL0の終了時(時刻t1)にサンプリングされた抵抗値をホールド値Rs0として保持しており、次の低温期間TL1でサンプリングされた抵抗値Rsが、検出対象ガスの存在によってホールド値Rs0を下回れば、ホールド値Rs0を下回った抵抗値Rsを新たなホールド値Rs0として順次更新する。同様に、ホールド部33は、低温期間TL1の終了時(時刻t6)にサンプリングされた抵抗値をホールド値Rs0として保持し、次の低温期間TL2でサンプリングされた抵抗値Rsが、検出対象ガスの存在によってホールド値Rs0を下回れば、ホールド値Rs0を下回った抵抗値Rsを新たなホールド値Rs0として順次更新する。尚、時刻t9以後はホールド部33のホールド値Rs0がガス判定レベルL1を下回っているので、ガス判定部34は、検出対象ガスが存在すると判定し、検出信号を出力部4に出力する。   As described above, the hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period TL0 (time t1) as the hold value Rs0, and the resistance value Rs sampled in the next low temperature period TL1 is detected. If the hold gas Rs0 falls below the hold value due to the presence of the target gas, the resistance value Rs below the hold value Rs0 is sequentially updated as a new hold value Rs0. Similarly, the hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period TL1 (time t6) as the hold value Rs0, and the resistance value Rs sampled in the next low temperature period TL2 is the detection target gas. If the value falls below the hold value Rs0 due to the presence, the resistance value Rs below the hold value Rs0 is sequentially updated as a new hold value Rs0. Since the hold value Rs0 of the hold unit 33 is below the gas determination level L1 after time t9, the gas determination unit 34 determines that the detection target gas exists and outputs a detection signal to the output unit 4.

一方、検出対象ガスが排気された後の低温期間TL3では、検出対象ガスのガス濃度が低下するのに伴って、感ガス部20の抵抗値Rsがホールド値Rs0より大きく、増加し続けている。したがって、ホールド部33は、低温期間TL3の途中のサンプリングタイミングt13,t14,t15では、1つ前の低温期間TL2の終了時に保持されたホールド値Rs0を保持し続ける。その後、低温期間TL3の終了時(時刻t16)になると、ホールド部33は、終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値Rs0として保持しており、このタイミングでホールド値Rs0が更新されることになる。   On the other hand, in the low temperature period TL3 after the detection target gas is exhausted, the resistance value Rs of the gas sensing unit 20 is larger than the hold value Rs0 and continues to increase as the gas concentration of the detection target gas decreases. . Therefore, the hold unit 33 continues to hold the hold value Rs0 held at the end of the previous low temperature period TL2 at the sampling timings t13, t14, and t15 during the low temperature period TL3. Thereafter, at the end of the low temperature period TL3 (time t16), the hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end as the hold value Rs0, and the hold value Rs0 is updated at this timing. .

これにより、時刻t9から時刻t16になるまではホールド値Rs0がガス判定レベルL1を常に下回っているので、ガス判定部34は検出対象ガスが存在すると判定しており、高温期間の終了後に抵抗値Rsが一旦増加したとしても、検出対象ガスが存在していないと誤検知されることはない。また時刻t16になると、ホールド値Rs0がその時点での抵抗値Rsに更新されることによって、ホールド値Rs0がガス判定レベルL1を上回るから、ガス判定部34は検出対象ガスが存在しないと判定でき、検出対象ガスが存在するとの判定出力が継続することがない。   Thus, since the hold value Rs0 is always below the gas determination level L1 from time t9 to time t16, the gas determination unit 34 determines that the detection target gas exists, and the resistance value after the high temperature period ends. Even if Rs increases once, it will not be erroneously detected that the detection target gas does not exist. Further, at time t16, the hold value Rs0 is updated to the resistance value Rs at that time, so that the hold value Rs0 exceeds the gas determination level L1, and therefore the gas determination unit 34 can determine that there is no detection target gas. The determination output that the detection target gas exists does not continue.

以上説明したように、本実施形態のガス検出装置は、感ガス部20と、ヒータ21と、ヒータ制御部31と、サンプリング部32と、ホールド部33、ガス判定部34とを備える。感ガス部20は、検出対象ガスのガス濃度に応じて抵抗値が変化する。ヒータ21は感ガス部20を加熱する。ヒータ制御部31は、ヒータ21による加熱量を制御して、高温期間と、検出対象ガスを検出する低温期間とを交互に設定する。検出対象ガスが還元性ガスである場合、ホールド部33は、前回の低温期間の終了時にサンプリング部32がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持する。またホールド部33は、今回の低温期間の途中ではサンプリング部32がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値Rsとホールド値Rs0との高低を比較して何れか小さい方を新たなホールド値Rs0として保持する。そして、ホールド部33は、今回の低温期間の終了時にはサンプリング部32がサンプリングした抵抗値Rsをホールド値Rs0として保持する。ガス判定部34は、ホールド部33によって保持されている抵抗値と所定のガス判定レベルL1との高低を比較することによって、検出対象ガスの存否を判定する。   As described above, the gas detection apparatus according to the present embodiment includes the gas sensing unit 20, the heater 21, the heater control unit 31, the sampling unit 32, the hold unit 33, and the gas determination unit 34. The resistance value of the gas sensitive unit 20 changes according to the gas concentration of the detection target gas. The heater 21 heats the gas sensitive part 20. The heater control unit 31 controls the heating amount by the heater 21 to alternately set the high temperature period and the low temperature period for detecting the detection target gas. When the detection target gas is a reducing gas, the hold unit 33 holds the resistance value sampled by the sampling unit 32 at the end of the previous low temperature period as a hold value. The hold unit 33 compares the resistance value Rs and the hold value Rs0 sampled each time the sampling unit 32 samples during the low temperature period, and holds the smaller one as a new hold value Rs0. . The hold unit 33 holds the resistance value Rs sampled by the sampling unit 32 as the hold value Rs0 at the end of the current low temperature period. The gas determination unit 34 determines the presence / absence of the detection target gas by comparing the resistance value held by the hold unit 33 with the predetermined gas determination level L1.

このように、サンプリング部32は、低温期間中に低温期間よりも短い周期で感ガス部20の抵抗値Rsをサンプリングしており、ホールド部33は、今回の低温期間でサンプリング部32がサンプリングを開始すると、サンプリングした抵抗値Rsとホールド値Rs0との高低を比較して何れか小さい方を新たなホールド値Rs0として保持する。そして、ガス判定部34は、ホールド値Rs0とガス判定レベルとの高低を比較することによって検出対象ガスの存否を判定しているから、低温期間の終了時にサンプリングして検出対象ガスの存否を判定する場合に比べて、より早いタイミングで還元性ガスの存否を判定できる。またホールド部33は、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持し、次の低温期間ではサンプリングされた抵抗値とホールド値の何れか小さい方を新たなホールド値として保持しているので、高温期間から次の低温期間に切り替わった直後に抵抗値Rsが一旦急増してガス判定レベルL1を上回ったとしても、検出対象ガスが存在するとの判定結果が途中で途切れないようにできる。またホールド部33は、低温期間の終了時にはホールド値との高低に関係無く、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持しているので、検出対象ガスのガス濃度が低下するなどして、低温期間の終了時に抵抗値がホールド値を上回っていれば、その時の抵抗値を新たなホールド値Rsとして保持することで、検出対象ガスが存在するとの判定結果が継続されるのを防止できる。   As described above, the sampling unit 32 samples the resistance value Rs of the gas sensitive unit 20 during the low temperature period at a cycle shorter than the low temperature period, and the hold unit 33 samples the sampling unit 32 during the low temperature period. When started, the sampled resistance value Rs and the hold value Rs0 are compared with each other, and the smaller one is held as a new hold value Rs0. Since the gas determination unit 34 determines the presence or absence of the detection target gas by comparing the hold value Rs0 and the gas determination level, the sampling is performed at the end of the low temperature period to determine the presence or absence of the detection target gas. Compared with the case where it does, the presence or absence of reducing gas can be determined at an earlier timing. The hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period as a hold value, and holds the smaller one of the sampled resistance value and the hold value as a new hold value in the next low temperature period. Therefore, even if the resistance value Rs suddenly increases immediately after switching from the high temperature period to the next low temperature period and exceeds the gas determination level L1, the determination result that the detection target gas is present can be prevented from being interrupted. . Further, since the hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period as the hold value regardless of the hold value at the end of the low temperature period, the gas concentration of the detection target gas decreases. If the resistance value exceeds the hold value at the end of the low temperature period, the determination result that the detection target gas exists is continued by holding the resistance value at that time as a new hold value Rs. Can be prevented.

尚、上記の実施形態では還元性ガスを検出対象ガスとする場合を例に説明したが、ガス濃度が高いほど感ガス部20の抵抗値が高くなる酸化性ガス(例えばNOxやOやSOなど)を検出対象ガスとしても良い。 In the above embodiment, the case where the reducing gas is the detection target gas has been described as an example. However, the oxidizing gas (for example, NOx, O 3 , S, etc.) in which the resistance value of the gas sensing unit 20 increases as the gas concentration increases. 2 O) may be used as the detection target gas.

この場合、ホールド部33は、上述と同様、前回の低温期間の終了時にサンプリング部32がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持し、今回の低温期間の途中ではサンプリング部32がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値Rsとホールド値Rs0との高低を比較し、何れか大きい方を新たなホールド値Rs0として保持する。そして、今回の低温期間の終了時には、ホールド部33は、低温期間の終了時にサンプリング部32がサンプリングした抵抗値Rsをホールド値Rs0として保持しており、低温期間の終了時における抵抗値Rsにホールド値Rs0が更新される。尚、ホールド部33以外は上記の形態で説明したガス検出装置と同様であるので、その説明は省略する。   In this case, as described above, the hold unit 33 holds the resistance value sampled by the sampling unit 32 at the end of the previous low temperature period as a hold value, and samples each time the sampling unit 32 samples during the current low temperature period. The resistance value Rs and the hold value Rs0 are compared with each other, and the larger one is held as a new hold value Rs0. At the end of the low temperature period, the hold unit 33 holds the resistance value Rs sampled by the sampling unit 32 at the end of the low temperature period as the hold value Rs0, and holds the resistance value Rs at the end of the low temperature period. The value Rs0 is updated. In addition, since it is the same as that of the gas detection apparatus demonstrated by said form except the holding part 33, the description is abbreviate | omitted.

このように、サンプリング部32は、低温期間中に低温期間よりも短い周期で感ガス部20の抵抗値Rsをサンプリングしており、ホールド部33は、今回の低温期間でサンプリング部32がサンプリングを開始すると、サンプリングした抵抗値Rsとホールド値Rs0との高低を比較して何れか大きい方を新たなホールド値Rs0として保持する。そして、ガス判定部34は、ホールド値Rs0とガス判定レベルとの高低を比較することによって検出対象ガスの存否を判定しているから、低温期間の終了時にサンプリングした抵抗値をもとに検出対象ガスの存否を判定する場合に比べて、より早いタイミングで検出対象ガスの存否を判定できる。またホールド部33は、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持し、次の低温期間ではサンプリングされた抵抗値とホールド値のうち何れか大きい方を新たなホールド値として保持しているので、高温期間から次の低温期間に切り替わった直後に抵抗値Rsが一旦急減してガス判定レベルL1を下回ったとしても、検出対象ガスが存在するとの判定結果が途中で途切れないようにできる。またホールド部33は、低温期間の終了時にはホールド値との高低に関係無く、低温期間の終了時にサンプリングされた抵抗値をホールド値として保持しているので、検出対象ガスのガス濃度が低下するなどして、低温期間の終了時に抵抗値がホールド値を下回っていれば、その時の抵抗値を新たなホールド値Rsとして保持することで、検出対象ガスが存在するとの判定結果が継続されるのを防止できる。   As described above, the sampling unit 32 samples the resistance value Rs of the gas sensitive unit 20 during the low temperature period at a cycle shorter than the low temperature period, and the hold unit 33 samples the sampling unit 32 during the low temperature period. When starting, the level of the sampled resistance value Rs and the hold value Rs0 are compared, and the larger one is held as a new hold value Rs0. Since the gas determination unit 34 determines the presence or absence of the detection target gas by comparing the hold value Rs0 with the gas determination level, the detection target is based on the resistance value sampled at the end of the low temperature period. The presence / absence of the detection target gas can be determined at an earlier timing compared to the case where the presence / absence of the gas is determined. The hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period as a hold value, and holds the larger one of the sampled resistance value and the hold value as a new hold value in the next low temperature period. Therefore, even if the resistance value Rs suddenly decreases and falls below the gas determination level L1 immediately after switching from the high temperature period to the next low temperature period, the determination result that the detection target gas exists is not interrupted in the middle. it can. Further, since the hold unit 33 holds the resistance value sampled at the end of the low temperature period as the hold value regardless of the hold value at the end of the low temperature period, the gas concentration of the detection target gas decreases. If the resistance value is lower than the hold value at the end of the low temperature period, the determination result that the detection target gas exists is continued by holding the resistance value at that time as a new hold value Rs. Can be prevented.

尚、上記の実施形態で説明したガス検出装置の回路構成は一例であって、必要な機能、性能に合わせて適宜変更が可能である。   The circuit configuration of the gas detection device described in the above embodiment is merely an example, and can be appropriately changed according to necessary functions and performance.

また、上述の実施形態では感ガス部20の低温期間のみに感ガス部20の検出対象ガスの存否を検出ているが、高温期間においても検出対象ガス(例えばメタンなどの可燃性ガス)の存否を検出してもよく、高温期間と低温期間の両方で別々の種類のガスを検出することが可能になる。   Further, in the above-described embodiment, the presence / absence of the detection target gas of the gas sensing unit 20 is detected only during the low temperature period of the gas sensing unit 20, but the presence / absence of the detection target gas (for example, combustible gas such as methane) is also detected during the high temperature period. It is possible to detect different types of gas in both the high temperature period and the low temperature period.

2 ガスセンサ
3 信号処理部
20 感ガス部
21 ヒータ
31 ヒータ制御部
32 サンプリング部
33 ホールド部
34 ガス判定部
2 Gas Sensor 3 Signal Processing Unit 20 Gas Sensing Unit 21 Heater 31 Heater Control Unit 32 Sampling Unit 33 Hold Unit 34 Gas Determination Unit

Claims (2)

検出対象ガスのガス濃度に応じて抵抗値が変化する感ガス部と、
前記感ガス部を加熱するヒータと、
前記ヒータによる加熱量を制御して、高温期間と、検出対象ガスを検出する低温期間とを交互に設定するヒータ制御部と、
低温期間中に低温期間よりも短い周期で前記感ガス部の抵抗値をサンプリングするサンプリング部と、
検出対象ガスが還元性ガスである場合に、前回の低温期間の終了時に前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持し、今回の低温期間の途中では前記サンプリング部がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値とホールド値との高低を比較して何れか小さい方を新たなホールド値として保持し、且つ、今回の低温期間の終了時には前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持するホールド部と、
前記ホールド部によって保持されている抵抗値と所定のガス判定レベルとの高低を比較することによって、検出対象ガスの存否を判定するガス判定部とを備えることを特徴とするガス検出装置。
A gas-sensitive part whose resistance value changes according to the gas concentration of the detection target gas;
A heater for heating the gas sensitive part;
A heater control unit that controls a heating amount by the heater and alternately sets a high temperature period and a low temperature period for detecting a detection target gas;
A sampling unit that samples the resistance value of the gas-sensitive unit in a period shorter than the low temperature period during the low temperature period;
When the gas to be detected is a reducing gas, the resistance value sampled by the sampling unit at the end of the previous low temperature period is held as a hold value, and sampled every time the sampling unit samples during the current low temperature period Holds the resistance value sampled by the sampling unit as the hold value at the end of the low temperature period and compares the difference between the measured resistance value and the hold value as a new hold value. And
A gas detection apparatus comprising: a gas determination unit that determines whether or not a detection target gas exists by comparing a resistance value held by the hold unit with a predetermined gas determination level.
検出対象ガスのガス濃度に応じて抵抗値が変化する感ガス部と、
前記感ガス部を加熱するヒータと、
前記ヒータによる加熱量を制御して、高温期間と、検出対象ガスを検出する低温期間とを交互に設定するヒータ制御部と、
低温期間中に低温期間よりも短い周期で前記感ガス部の抵抗値をサンプリングするサンプリング部と、
検出対象ガスが酸化性ガスである場合に、前回の低温期間の終了時に前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持し、今回の低温期間の途中では前記サンプリング部がサンプリングする毎にサンプリングした抵抗値とホールド値との高低を比較して何れか大きい方を新たなホールド値として保持し、且つ、今回の低温期間の終了時には前記サンプリング部がサンプリングした抵抗値をホールド値として保持するホールド部と、
前記ホールド部によって保持されている抵抗値と所定のガス判定レベルとの高低を比較することによって、検出対象ガスの存否を判定するガス判定部とを備えることを特徴とするガス検出装置。
A gas-sensitive part whose resistance value changes according to the gas concentration of the detection target gas;
A heater for heating the gas sensitive part;
A heater control unit that controls a heating amount by the heater and alternately sets a high temperature period and a low temperature period for detecting a detection target gas;
A sampling unit that samples the resistance value of the gas-sensitive unit in a period shorter than the low temperature period during the low temperature period;
When the detection target gas is an oxidizing gas, the resistance value sampled by the sampling unit at the end of the previous low temperature period is held as a hold value, and sampled every time the sampling unit samples during the current low temperature period Holds the resistance value sampled by the sampling unit as the hold value at the end of the low temperature period and compares the difference between the resistance value and the hold value. And
A gas detection apparatus comprising: a gas determination unit that determines whether or not a detection target gas exists by comparing a resistance value held by the hold unit with a predetermined gas determination level.
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