JP5867794B2 - Spectacle lens manufacturing method and optical article manufacturing method - Google Patents

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西本　圭司
圭司 西本
野口　崇
崇 野口
関　浩幸
浩幸 関
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イーエイチエス レンズ フィリピン インク
イーエイチエス レンズ フィリピン インク
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    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C2202/00—Generic optical aspects applicable to one or more of the subgroups of G02C7/00
    • G02C2202/16—Laminated or compound lenses

Description

本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学
物品およびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to an optical article used for lenses such as eyeglass lenses, other optical materials or products, and a method for manufacturing the same.

眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、
その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）
が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴ
ーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型
的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜
を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。 Optical articles such as eyeglass lenses are used on the surface of a substrate (optical substrate) for performing various functions.
Layers (films) with various functions to further strengthen or protect the functions of the base material
Is formed. For example, a hard coat layer for ensuring the durability of the lens substrate, an antireflection layer for preventing ghosting and flickering, and the like are known. A typical antireflection layer is a so-called multilayer antireflection layer in which oxide films having different refractive indexes are alternately laminated on the surface of a lens substrate on which a hard coat layer is laminated.

特許文献１には、基板上に形成された複数層からなる無機薄膜を有する光学多層膜フィ
ルタであって、無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度が１．９〜２．２ｇ／ｃ
ｍ3であることを特徴とする光学多層膜フィルタが記載されている。無機薄膜の最表層を
構成する酸化ケイ素層の密度を１．９〜２．２ｇ／ｃｍ3とすることによって、本来高い
絶縁性を示すはずの酸化ケイ素層（主にＳｉＯ2膜）の絶縁性が低下する（導電性が高く
なる）。そのため摩擦等による帯電によって表面に発生した電荷が移動しやすくなり、空
気中へのコロナ放電やあるいは適当なアースによって容易に電荷が中和され、光学多層膜
フィルタにゴミ等の付着が生じにくくなることが特許文献１に記載されている。 Patent Document 1 discloses an optical multilayer filter having an inorganic thin film formed of a plurality of layers formed on a substrate, wherein the density of the silicon oxide layer constituting the outermost layer of the inorganic thin film is 1.9 to 2.2 g / c
An optical multilayer filter characterized by m 3 is described. By setting the density of the silicon oxide layer constituting the outermost layer of the inorganic thin film to 1.9 to 2.2 g / cm 3 , the insulating property of the silicon oxide layer (mainly SiO 2 film) that should originally exhibit high insulating properties Decreases (conductivity increases). Therefore, the charge generated on the surface due to charging due to friction or the like is likely to move, and the charge is easily neutralized by corona discharge to the air or appropriate grounding, so that it is difficult for dust to adhere to the optical multilayer filter. This is described in Patent Document 1.

特開２００７−２９８９５１号公報（段落番号０００６）JP 2007-298951 A (paragraph number 0006)

基材の表面に形成される反射防止層あるいは多層膜フィルタに、帯電防止、電磁波遮蔽
などを目的とした導電性を付与するために、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層、金や銀な
どの金属の層を用いることが知られている。しかしながら、ＩＴＯ、金、銀などの、光学
的な要求に基づく無機薄膜の構成に関与しない組成を導入することは幾つかの問題の要因
となる可能性がある。たとえば、ＩＴＯや銀は、酸やアルカリなどに対する耐久性や腐食
が問題になる可能性がある。金は一般的に密着性が低く、膜の剥れが発生する恐れがある
。またＩＴＯは毒性があることから眼鏡レンズ等の日常品への使用が懸念されている。 In order to give the antireflection layer or multilayer filter formed on the surface of the base material conductivity for the purpose of antistatic and electromagnetic wave shielding, an indium tin oxide (ITO) layer, a metal such as gold or silver is used. It is known to use layers. However, the introduction of compositions such as ITO, gold, silver, etc. that are not involved in the construction of inorganic thin films based on optical requirements can be a source of several problems. For example, ITO and silver may have problems with durability and corrosion against acids and alkalis. Gold generally has low adhesion, and film peeling may occur. In addition, since ITO is toxic, there is concern about its use in everyday items such as eyeglass lenses.

特許文献１の技術は、無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度を低くすること
により導電性を高くするので、上記の問題を回避しやすい。このため、無機薄膜、あるい
は反射防止層などの層（層構造）を有する光学物品において、これらの層構造の光学的な
要求に基づく構成にさらに影響を与えにくい方法により導電性を向上できる方法が常に要
望されている。 Since the technique of Patent Document 1 increases the conductivity by reducing the density of the silicon oxide layer constituting the outermost layer of the inorganic thin film, it is easy to avoid the above problem. Therefore, in an optical article having a layer (layer structure) such as an inorganic thin film or an antireflection layer, there is a method that can improve conductivity by a method that does not further affect the configuration based on the optical requirements of these layer structures. It is always requested.

本発明の一態様は、光学基材の上に直にまたは他の層を介して、金属酸化物を含む透光
性の第１の層を形成することと、第１の層の表面にイオンを照射することにより、第１の
層の表層域に酸素欠陥を導入することとを有する、光学物品の製造方法である。金属酸化
物の物性は、非化学量論な酸素組成により顕著に変化することが多い。その変化の１つは
、金属原子が化学量論比より多いと酸素空孔が形成され導電性が向上することである。し
たがって、この製造方法においては、イオンを照射することにより第１の層の表面に酸素
欠陥（酸素欠損）を導入し、歪や酸素空孔が形成されるようにする。 According to one embodiment of the present invention, a light-transmitting first layer containing a metal oxide is formed directly on an optical substrate or via another layer, and ions are formed on the surface of the first layer. Is a method for producing an optical article, which comprises introducing oxygen defects into the surface layer region of the first layer by irradiating. The physical properties of metal oxides often change significantly due to non-stoichiometric oxygen composition. One of the changes is that when there are more metal atoms than the stoichiometric ratio, oxygen vacancies are formed and conductivity is improved. Therefore, in this manufacturing method, oxygen vacancies (oxygen vacancies) are introduced into the surface of the first layer by irradiating ions so that strains and oxygen vacancies are formed.

一方、歪や酸素空孔の増加により、それらが色中心となり光を吸収して着色が見られた
り、層の屈折率が変化したりする可能性がある。このため、この製造方法においては、第
１の層の表面にイオンを照射することにより、第１の層の表層域に限って酸素欠陥（酸素
欠損）が導入されるようにする。したがって、層構造の光学的な、および／または物理的
な特性に与える影響を抑制しながら、導電性を向上できる。すなわち、この方法により、
無機薄膜、あるいは反射防止層などの層（層構造）を有する光学物品において、これらの
層構造の性能の低下を抑制しながら導電性を向上できる。このため、光学的特性に優れ、
さらに導電性が向上した光学物品を製造し、提供できる。 On the other hand, due to an increase in strain and oxygen vacancies, they may become color centers and absorb light to cause coloration, or the refractive index of the layer may change. For this reason, in this manufacturing method, the surface of the first layer is irradiated with ions so that oxygen defects (oxygen vacancies) are introduced only in the surface layer region of the first layer. Therefore, the conductivity can be improved while suppressing the influence on the optical and / or physical characteristics of the layer structure. That is, by this method,
In an optical article having an inorganic thin film or a layer (layer structure) such as an antireflection layer, the conductivity can be improved while suppressing a decrease in performance of these layer structures. For this reason, it has excellent optical properties,
Furthermore, an optical article with improved conductivity can be manufactured and provided.

照射するイオンの典型的なものは、アルゴン、キセノン、ヘリウム、窒素およびネオン
の少なくともいずれかを含む不活性ガスのイオンである。金属酸化物を含む第１の層を蒸
着、スパッタリングなどの製造方法により製造するプロセスにおいて、これらのイオンを
第１の層を成膜した後に照射し、酸素欠陥を導入できる。 A typical ion to be irradiated is an ion of an inert gas containing at least one of argon, xenon, helium, nitrogen, and neon. In the process of manufacturing the first layer containing a metal oxide by a manufacturing method such as vapor deposition or sputtering, these ions can be irradiated after forming the first layer to introduce oxygen defects.

金属酸化物の典型的なものは、酸化物半導体を形成する遷移金属酸化物であり、たとえ
ば、酸化チタンである。 A typical metal oxide is a transition metal oxide forming an oxide semiconductor, for example, titanium oxide.

イオンの照射対象となる第１の層は、単層でも、多層構造の層の１つまたは複数でも良
く、多層構造の典型的なものは反射防止層である。したがって、本発明の製造方法は、さ
らに、イオンを照射する処理を行った後に、さらに、反射防止層の多層構造の他の層を形
成することを含んでもよい。 The first layer to be irradiated with ions may be a single layer or one or a plurality of layers having a multilayer structure, and a typical multilayer structure is an antireflection layer. Therefore, the manufacturing method of the present invention may further include forming another layer of the multilayer structure of the antireflection layer after performing the ion irradiation treatment.

本発明の製造方法は、表面がイオン照射処理された第１の層の上に、直にまたは他の層
を介して防汚層を形成してもよい。イオン照射された第１の層を含む反射防止層、または
反射防止層の最上層にイオン照射処理を施し、その上に防汚層を形成しても、光学物品の
シート抵抗の低下が見られる。 In the production method of the present invention, the antifouling layer may be formed directly or via another layer on the first layer whose surface is subjected to ion irradiation treatment. Even if the antireflection layer including the first layer irradiated with ions or the uppermost layer of the antireflection layer is subjected to ion irradiation treatment and the antifouling layer is formed thereon, the sheet resistance of the optical article is reduced. .

本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された、金属酸化物を含む透光性の第１の層であって、表層域に、イオン照射により酸素欠陥が導入された酸素欠損域を含む第１の層とを有する光学物品である。この光学物品においては、第１の層の表層域に酸素欠損域を含み、この酸素欠損域は、酸素欠陥が導入されただけであり、さらに表層域に限られるので第１の層の透光性に影響を与えにくく、さらに、酸素欠陥による導電性の向上が望まれる。したがって、この光学物品は、光学物品としての性能の低下を抑制しながら、帯電防止、ゴミ付着防止などの機能を付与できる。 Another aspect of the present invention is an optical substrate and a light-transmitting first layer including a metal oxide, which is formed directly on the optical substrate or via another layer. An optical article having a surface layer region and a first layer including an oxygen defect region into which oxygen defects are introduced by ion irradiation. In this optical article, the surface layer region of the first layer includes an oxygen deficient region, and the oxygen deficient region is only introduced with oxygen defects, and is limited to the surface layer region. It is desirable to improve conductivity due to oxygen defects. Accordingly, the optical article, while suppressing a decrease in performance as an optical article, an antistatic, a function such as dust with adhesion prevention can be imparted.

第１の層は単層でも、多層構造でもよい。多層構造の典型的なものは反射防止層であり
、第１の層は反射防止層に含まれる１つまたは複数の層であってもよい。 The first layer may be a single layer or a multilayer structure. A typical multilayer structure is an antireflective layer, and the first layer may be one or more layers included in the antireflective layer.

酸素欠陥により導電性などの物性が変化しやすい金属酸化物の典型的なものは酸化物半
導体となる遷移金属酸化物であり、典型的なものは酸化チタンである。 A typical metal oxide whose physical properties such as conductivity are likely to change due to oxygen defects is a transition metal oxide serving as an oxide semiconductor, and a typical one is titanium oxide.

光学基材の典型的なものはプラスチックレンズ基材である。光学物品の一形態は眼鏡レ
ンズであり、本発明の他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレー
ムとを有する眼鏡である。 A typical optical substrate is a plastic lens substrate. One form of the optical article is a spectacle lens, and one of other aspects of the present invention is spectacles having a spectacle lens and a frame on which the spectacle lens is attached.

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を
投影および／または取得する装置とを有するシステムである。投影するための装置を含む
システムの典型的なものはプロジェクターである。光学物品の典型的なものは、投射用の
レンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の
１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に
適用してもよい。光学物品を通して画像を取得するための装置を含むシステムの典型的な
ものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどで
ある。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。 Yet another aspect of the present invention is a system having the optical article described above and an apparatus for projecting and / or acquiring an image through the optical article. A typical system that includes an apparatus for projecting is a projector. Typical optical articles are projection lenses, dichroic prisms, cover glasses, and the like. The present invention may be applied to a light valve such as an LCD (Liquid Crystal Device) which is one of image forming apparatuses, or an element included therein. A typical system that includes a device for acquiring an image through an optical article is a camera. Typical optical articles are imaging lenses, cover glasses, and the like. The present invention may be applied to a CCD or the like which is one of imaging devices.

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセ
スする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵
し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮す
る媒体を内蔵した装飾品などである。 One further different aspect of the present invention is a system having the optical article described above and a medium accessed through the optical article. A typical example of this system is an information recording apparatus such as a DVD that has a built-in recording medium and is required to have a low surface chargeability, and an ornament that has a medium that exhibits aesthetic expression.

反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the lens containing an antireflection layer. 反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。The figure which shows typically the vapor deposition apparatus used for manufacture of an antireflection layer. 反射防止層の成膜条件を示す図。The figure which shows the film-forming conditions of an antireflection layer. 反射防止層のシート抵抗および帯電防止性の測定結果を示す図。The figure which shows the measurement result of the sheet resistance and antistatic property of an antireflection layer. 反射防止層の反射分光特性の測定結果を示す図。The figure which shows the measurement result of the reflective spectral characteristic of an antireflection layer. 図６（Ａ）は、シート抵抗を測定する様子を示す断面図、図６（Ｂ）は平面図。FIG. 6A is a cross-sectional view showing a state in which sheet resistance is measured, and FIG. 6B is a plan view. 製造直後のシート抵抗の測定値を示すグラフ。The graph which shows the measured value of the sheet resistance immediately after manufacture. 製造直後および７２時間後のシート抵抗の測定値を示すグラフ。The graph which shows the measured value of the sheet resistance immediately after manufacture and 72 hours after. 異なる反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the lens containing a different antireflection layer. 図９に示した反射防止層の成膜条件を示す図。The figure which shows the film-forming conditions of the antireflection layer shown in FIG. 反射防止層のシート抵抗および帯電防止性の測定結果を示す図。The figure which shows the measurement result of the sheet resistance and antistatic property of an antireflection layer. 反射防止層の反射分光特性の測定結果を示す図。The figure which shows the measurement result of the reflective spectral characteristic of an antireflection layer. 製造直後のシート抵抗の測定値を示すグラフ。The graph which shows the measured value of the sheet resistance immediately after manufacture. 製造直後および７２時間後のシート抵抗の測定値を示すグラフ。The graph which shows the measured value of the sheet resistance immediately after manufacture and 72 hours after. 眼鏡の概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of spectacles. プロジェクターの概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of a projector. デジタルカメラの概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of a digital camera. 記録媒体の概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of a recording medium.

図１に、本発明の実施形態のレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図
により示している。レンズ１０は、レンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハ
ードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防
止層３の上に形成された防汚層４とを含む。 FIG. 1 shows a configuration of a lens according to an embodiment of the present invention by a cross-sectional view of one surface side with a base material as a center. The lens 10 includes a lens substrate 1, a hard coat layer 2 formed on the surface of the lens substrate 1, a translucent antireflection layer 3 formed on the hard coat layer 2, and an antireflection layer 3. And an antifouling layer 4 formed thereon.

１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物
との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応
させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキ
シ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる
。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６０〜１．７５程度である。この実施形態に
おいては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていても許容の範囲内で
ある。 1. 1. Overview of Lens 1.1 Lens Base Material The lens base material 1 is not particularly limited, but allyl such as (meth) acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, allyl resin, diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), etc. Carbonate resin, vinyl resin, polyester resin, polyether resin, urethane resin obtained by reaction of isocyanate compound and hydroxy compound such as diethylene glycol, thiourethane resin obtained by reacting isocyanate compound and polythiol compound, one in the molecule The transparent resin etc. which are obtained by hardening | curing polymeric composition containing the (thio) epoxy compound which has the above disulfide bond can be illustrated. The refractive index of the lens substrate 1 is, for example, about 1.60 to 1.75. In this embodiment, the refractive index is within the allowable range whether it is in the above range or apart from the above range.

１．２ ハードコート層（プライマー層）
レンズ基材１の上に形成されるハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。
ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン
系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂お
よびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例
は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組
成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロ
イダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含めることができる。 1.2 Hard coat layer (primer layer)
The hard coat layer 2 formed on the lens substrate 1 improves the scratch resistance.
Materials used for the hard coat layer 2 include acrylic resin, melamine resin, urethane resin, epoxy resin, polyvinyl acetal resin, amino resin, polyester resin, polyamide resin, vinyl alcohol resin, styrene Resin, silicon resin, and mixtures or copolymers thereof. An example of the hard coat layer 2 is a silicone-based resin, and a hard coat layer can be formed by applying and curing a coating composition composed of metal oxide fine particles and a silane compound. The coating composition can include components such as colloidal silica and a multifunctional epoxy compound.

金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、Ｃ
ｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＷＯ3、ＺｒＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の金属酸化
物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これら
の微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に
分散させたものをコーティング組成物に混合できる。 Specific examples of the metal oxide fine particles include SiO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , Sb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , C
Fine particles made of metal oxides such as eO 2 , La 2 O 3 , Fe 2 O 3 , ZnO, WO 3 , ZrO 2 , In 2 O 3 , TiO 2 , or composite fine particles made of metal oxides of two or more metals. It is. A colloidal dispersion of these fine particles in a dispersion medium such as water, alcohol or other organic solvent can be mixed with the coating composition.

レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハード
コート層２との間にプライマー層を設けることができる。プライマー層は、高屈折率レン
ズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するた
めの樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂
、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂
、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もし
くは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系
樹脂およびポリエステル系樹脂が好適である。 In order to ensure adhesion between the lens substrate 1 and the hard coat layer 2, a primer layer can be provided between the lens substrate 1 and the hard coat layer 2. The primer layer is also effective for improving impact resistance, which is a drawback of a high refractive index lens substrate. As the resin for forming the primer layer, acrylic resin, melamine resin, urethane resin, epoxy resin, polyvinyl acetal resin, amino resin, polyester resin, polyamide resin, vinyl alcohol resin, styrene Resin, silicon resin, and mixtures or copolymers thereof. As the primer layer for providing adhesion, urethane-based resins and polyester-based resins are suitable.

ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、
スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０
〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法である。 A typical method for producing the hard coat layer 2 and the primer layer is a dipping method,
A coating composition is applied by a spinner method, a spray method, or a flow method.
It is a method of heating and drying at a temperature of ~ 200 ° C for several hours.

１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層
と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率
が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交
互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度である。反射
防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、Ｔ
ｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＮｄＯ2、ＮｂＯ
、Ｎｂ2Ｏ3、ＮｂＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3、ＨｆＯ2
、Ｙ2Ｏ3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合し
て用いる。 1.3 Antireflection Layer Typical examples of the antireflection layer 3 formed on the hard coat layer 2 are an inorganic antireflection layer and an organic antireflection layer. The inorganic antireflection layer is composed of a multilayer film, for example, a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.6, and a high refractive index layer having a refractive index of 1.8 to 2.6. Can be alternately stacked. The number of layers is about 5 or 7 layers. Examples of inorganic materials used for each layer constituting the antireflection layer include SiO 2 , SiO, ZrO 2 , T
iO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , TaO 2 , Ta 2 O 5 , NdO 2 , NbO
Nb 2 O 3 , NbO 2 , Nb 2 O 5 , CeO 2 , MgO, SnO 2 , MgF 2 , WO 3 , HfO 2
, Y 2 O 3 and the like. These inorganic substances are used alone or in combination of two or more.

反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオン
ビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いることができる。 Examples of the method for forming the antireflection layer 3 include dry methods such as vacuum deposition, ion plating, and sputtering. In the vacuum vapor deposition method, an ion beam assist method in which an ion beam is simultaneously irradiated during vapor deposition can be used.

有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシ
リカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含ん
だ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方
法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空
洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のない
シリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与でき
るからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されて
いる方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、か
つ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することができる。この有機系の
反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好適である。この範囲より厚すぎたり薄
すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。 One method for producing the organic antireflection layer 3 is a wet method. For example, a coating composition for forming an antireflection layer containing silica-based fine particles having internal cavities (hereinafter also referred to as “hollow silica-based fine particles”) and an organosilicon compound is the same as the hard coat layer and primer layer. It can also be formed by coating by a method. The hollow silica-based fine particles are used because the internal cavity contains a gas or solvent having a refractive index lower than that of silica, thereby reducing the refractive index compared to silica-based fine particles without cavities. This is because an excellent antireflection effect can be imparted. The hollow silica-based fine particles can be produced by a method described in JP-A No. 2001-233611, but the average particle diameter is in the range of 1 to 150 nm and the refractive index is 1.16 to 1. Those in the range of 39 can be used. The thickness of the organic antireflection layer is preferably in the range of 50 to 150 nm. If it is too thick or too thin than this range, a sufficient antireflection effect may not be obtained.

１．４ イオン照射処理
さらに、本発明の実施形態のレンズ１０においては、反射防止層３に含まれる少なくと
も１つの層の表層域３３に、イオン照射により酸素欠陥が導入された酸素欠損域が含まれ
ている。図１に示すレンズ１０においては、最上層の低屈折率層３１の下の高屈折率層３
２、すなわち、最上層の高屈折率層３２の表層域３３に酸素欠損域が含まれている。なお
、以降においては表層域を酸素欠損域３３とみなして説明する。 1.4 Ion Irradiation Treatment Further, in the lens 10 of the embodiment of the present invention, the surface layer region 33 of at least one layer included in the antireflection layer 3 includes an oxygen deficient region in which oxygen defects are introduced by ion irradiation. It is. In the lens 10 shown in FIG. 1, the high refractive index layer 3 below the uppermost low refractive index layer 31.
2, that is, the surface layer region 33 of the uppermost high refractive index layer 32 includes an oxygen deficient region. In the following description, the surface layer region is regarded as the oxygen deficient region 33.

酸素欠損域３３は、金属酸化物層の酸素原子がイオン照射により分離あるいは離脱し、
金属原子と酸素原子との化学量論比が所定の化合物としての比から外れた組成（非化学量
論な組成）になっている領域を示す。照射するイオンは限定されないが、以下において説
明する蒸着装置においては、アルゴン、窒素、ヘリウム、ネオン、キセノン等のイオンを
用いることが好ましい。酸化物半導体の物性が非化学量論な酸素組成により変化すること
が知られている。たとえば、二酸化チタンについては、相中の酸素原子が容易に離脱して
非化学量論な組成の酸化チタン（ＴｉＯx）相が生じることが知られている。ＴｉＯx相に
おいては、歪や酸素空孔のために二酸化チタンとは異なる電子状態となり、異なる物性を
示す。 In the oxygen deficient region 33, oxygen atoms in the metal oxide layer are separated or separated by ion irradiation,
The region in which the stoichiometric ratio between the metal atom and the oxygen atom has a composition deviating from the ratio as a predetermined compound (non-stoichiometric composition) is shown. The ion to be irradiated is not limited, but in a vapor deposition apparatus described below, it is preferable to use ions such as argon, nitrogen, helium, neon, and xenon. It is known that the physical properties of an oxide semiconductor change depending on the non-stoichiometric oxygen composition. For example, with respect to titanium dioxide, it is known that oxygen atoms in the phase are easily released to form a titanium oxide (TiO x ) phase having a non-stoichiometric composition. In the TiO x phase, due to strain and oxygen vacancies, it becomes an electronic state different from titanium dioxide and exhibits different physical properties.

ＴｉＯx相がＴｉＯ2相と異なる物性を示す１つの要因は歪であり、たとえば、結晶構造
が酸素欠陥に起因して局所的にマグネリ相に変化することが考えられる。また、他の要因
は、結晶構造がそのままであれば、チタン原子が化学量論比より大きくなることにより生
じる酸素の空孔が正の電荷があるように振る舞うことである。これらの要因により、酸素
欠損域３３では導電性が向上し、シート抵抗が低下することが予定される。 One factor that shows the physical properties of the TiO x phase different from the TiO 2 phase is strain. For example, it is considered that the crystal structure locally changes to a magnetic phase due to oxygen defects. Another factor is that if the crystal structure remains as it is, oxygen vacancies generated when titanium atoms become larger than the stoichiometric ratio behave as if they have a positive charge. Due to these factors, it is expected that the conductivity is improved in the oxygen deficient region 33 and the sheet resistance is lowered.

予想される異なる物性の他の１つは、酸素空孔が、電子をトラップする可能性であり、
この場合は、酸素空孔が色中心（Ｃｏｌｏｒ Ｃｅｎｔｅｒ）となり、光を吸収し着色の
原因となる可能性がある。 One of the different physical properties expected is the possibility that oxygen vacancies trap electrons,
In this case, the oxygen vacancies become the color center and may absorb light and cause coloring.

したがって、金属酸化物の着色が発生しない、あるいは着色が光学物品として実質的に
影響がない程度の範囲で、酸素欠損域３３を形成することにより、反射防止層３の基本的
な化学組成を変えずに、シート抵抗を下げることができる。 Therefore, the basic chemical composition of the antireflection layer 3 is changed by forming the oxygen deficient region 33 in such a range that the coloring of the metal oxide does not occur or the coloring does not substantially affect the optical article. Without reducing the sheet resistance.

１．５ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い
。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射
防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。
フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公
報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に
使用することができる。 1.5 Antifouling layer A water repellent film or a hydrophilic antifogging film (antifouling layer) 4 is often formed on the antireflection layer 3. The antifouling layer 4 is obtained by forming a layer made of an organosilicon compound containing fluorine on the antireflection layer 3 for the purpose of improving the water / oil repellency of the surface of the optical article (lens) 10. .
As the organosilicon compound containing fluorine, for example, fluorine-containing silane compounds described in JP-A-2005-301208 and JP-A-2006-126782 can be suitably used.

含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層
形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液
（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成するこ
とができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることがで
きる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填し
た後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。 The fluorine-containing silane compound is preferably used as a water-repellent treatment liquid (coating composition for forming an antifouling layer) dissolved in an organic solvent and adjusted to a predetermined concentration. The antifouling layer can be formed by applying this water repellent treatment liquid (coating composition for forming the antifouling layer) on the antireflection layer. As a coating method, a dipping method, a spin coating method, or the like can be used. In addition, after filling a metal pellet with the water-repellent treatment liquid (coating composition for forming an antifouling layer), it is also possible to form the antifouling layer using a dry method such as a vacuum deposition method.

防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが適している。より好
適なのは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏
しくなり、厚すぎると表面がべたつくので適していない。また、防汚層の厚さが０．０３
μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。 The layer thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but 0.001 to 0.5 μm is suitable. More preferred is 0.001 to 0.03 μm. If the antifouling layer is too thin, the water / oil repellency is poor, and if it is too thick, the surface becomes sticky, which is not suitable. The antifouling layer has a thickness of 0.03.
If it is thicker than μm, the antireflection effect may be reduced.

２． サンプルの製造
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソ
ン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。 2. 2. Production of sample 2.1 Example 1 (sample S1)
2.1.1 Selection of lens substrate and film formation of hard coat layer As the substrate 1, a plastic lens substrate for eyeglasses having a refractive index of 1.67 (manufactured by Seiko Epson Corporation, trade name: Seiko Super Sovereign) (SSV)) was used.

ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。
エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセラン（登録商標）Ｅ１０２（荒川
化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒
川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得
た。このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材１の上に
塗布してハードコート層２を成膜した。塗布後のレンズ基材を１２５℃で２時間焼成した
。 A coating solution (coating solution) for forming the hard coat layer 2 was prepared as follows.
Epoxy resin-silica hybrid (trade name: Composeran (registered trademark) E102 (manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.)) and 20 parts by weight of an acid anhydride-based curing agent (trade name: curing agent liquid (C2) (Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 4.46 parts by weight were mixed and stirred to obtain a coating solution (coating solution). The coating liquid was applied onto the substrate 1 using a spin coater so as to have a predetermined thickness, thereby forming a hard coat layer 2. The coated lens substrate was baked at 125 ° C. for 2 hours.

２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例
示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０お
よびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成
されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１４と、サンプル支持台１１４
にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１５と、熱電
子を発生するフィラメント１１６とを備えており、電子銃（不図示）により熱電子を加速
して蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し蒸発
させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。 2.1.2 Film formation of antireflection layer 2.1.2.1 Vapor deposition apparatus Next, an inorganic antireflection layer 3 was manufactured (film formation) using the vapor deposition apparatus 100 shown in FIG. The illustrated vapor deposition apparatus 100 is an electron beam vapor deposition apparatus, and includes a vacuum vessel 110, an exhaust device 120, and a gas supply device 130. The vacuum container 110 includes a sample support table 114 on which the lens sample 10 on which the hard coat layer 2 is formed is placed, and a sample support table 114.
The substrate sample heater 115 for heating the lens sample 10 set in the apparatus and a filament 116 for generating thermoelectrons are provided. The electron gun (not shown) accelerates the thermoelectrons to generate an evaporation source (crucible). ) The deposition material set in 112 and 113 is irradiated with thermionic electrons to evaporate, and the material is deposited on the lens sample 10.

さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、イオン源内
部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃
１１７を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコール
ドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理す
る装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。 Further, the vapor deposition apparatus 100 includes an ion gun 117 for accelerating and irradiating the lens sample 10 with a gas introduced into the ion source in order to enable ion-assisted vapor deposition. Further, the vacuum vessel 110 can be further provided with a cold trap for removing residual moisture, a device for managing the layer thickness, and the like. As a device for managing the layer thickness, for example, there is a reflective optical film thickness meter, a crystal oscillator thickness meter, or the like.

真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオ
ポンプ１２１および圧力調整バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０-4Ｐａに保持
できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気す
ることも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ2）
、酸素（Ｏ2）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真
空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。 The inside of the vacuum vessel 110 can be maintained at a high vacuum, for example, 1 × 10 −4 Pa by a turbo molecular pump or cryopump 121 and a pressure adjustment valve 122 included in the exhaust device 120. On the other hand, the inside of the vacuum vessel 110 can be in a predetermined gas atmosphere by the gas supply device 130. For example, the gas container 131 includes argon (Ar), nitrogen (N 2 ).
Oxygen (O 2 ) and the like are prepared. The gas flow rate can be controlled by the flow rate control device 132, and the internal pressure of the vacuum vessel 110 can be controlled by the pressure gauge 135.

基材加熱用ヒーター１１５は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱
することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成さ
れる膜の密着性を確保する。 The substrate heating heater 115 is, for example, an infrared lamp, and by heating the lens sample 10, the substrate 115 is degassed or dehydrated to ensure adhesion of a film formed on the surface of the lens sample 10.

したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電
圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は
、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１７の電圧値および電流値と
により与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０
ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される
。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１７が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの
範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。 Therefore, the main vapor deposition conditions in the vapor deposition apparatus 100 are the vapor deposition material, the acceleration voltage and current value of the electron gun, and the presence or absence of ion assist. Conditions for using ion assist are given by the type of ions (atmosphere of the vacuum vessel 110) and the voltage value and current value of the ion gun 117. In the following, unless otherwise stated, the acceleration voltage of the electron gun is 5-10.
The range of kV and the current value are selected in the range of 50 to 500 mA based on the film forming rate. Also, when using ion assist, the ion gun 117 is selected based on the film forming rate and the like when the voltage value is in the range of 200 V to 1 kV and the current value is in the range of 100 to 500 mA.

２．１．２．２ 低屈折率層および高屈折率層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１
１０の内部にて約７０℃の加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発さ
せる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、
イオン銃１１７を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０
の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法
により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができ
る。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ2を用
いて同様の処理を行うことができるし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射することもで
きる。 2.1.2.2 Film Formation of Low Refractive Index Layer and High Refractive Index Layer The lens sample 10 on which the hard coat layer 2 is formed is washed with acetone, and the vacuum container 1
A heat treatment at about 70 ° C. is performed inside 10 to evaporate water adhering to the lens sample 10. Next, ion cleaning was performed on the surface of the lens sample 10. In particular,
Using the ion gun 117, the lens sample 10 is irradiated with an oxygen ion beam at an energy of several hundred eV.
The organic matter adhered to the surface of the lens sample 10 was removed. By this method, the adhesion of the film formed on the surface of the lens sample 10 can be strengthened. Note that the same treatment can be performed using an inert gas such as Ar, xenon (Xe), or N 2 instead of oxygen ions, and oxygen radicals or oxygen plasma can be irradiated.

真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、図１に
示すように、低屈折率層３１として二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層、高屈折率層３２として
酸化チタン（ＴｉＯ2）層を交互に積層して反射防止層３を成膜した。 After the inside of the vacuum vessel 110 is sufficiently evacuated, as shown in FIG. 1, a silicon dioxide (SiO 2 ) layer as the low refractive index layer 31 and a titanium oxide ( The antireflection layer 3 was formed by alternately stacking TiO 2 ) layers.

１層目、３層目、５層目および７層目が低屈折率層３１であり、二酸化ケイ素をイオン
アシストは行わず真空蒸着することによりＳｉＯ2層３１を成膜した。 The first layer, the third layer, the fifth layer, and the seventh layer are the low refractive index layer 31, and the SiO 2 layer 31 was formed by vacuum deposition of silicon dioxide without performing ion assist.

２層目、４層目および第６層目が高屈折率層３２であり、酸化チタン（ＴｉＯ2）を酸
素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ2層３２を成膜した。 The second layer, the fourth layer, and the sixth layer were the high refractive index layer 32, and titanium oxide (TiO 2 ) was ion-assisted vapor-deposited while introducing oxygen gas to form a TiO 2 layer 32.

図３に、ＳｉＯ2層３１およびＴｉＯ2層３２の各層の成膜条件および膜厚を示している
。なお、このレンズサンプル１０では、ハードコート層２の屈折率が１．６５、ＳｉＯ2
層３１の屈折率が１．４６２、ＴｉＯ2層３２の屈折率が２．４３である。 FIG. 3 shows film forming conditions and film thicknesses of the SiO 2 layer 31 and the TiO 2 layer 32. In this lens sample 10, the refractive index of the hard coat layer 2 is 1.65, SiO 2
The refractive index of the layer 31 is 1.462, and the refractive index of the TiO 2 layer 32 is 2.43.

２．１．２．３ イオン照射
この実施例１では、１層目から６層目まで積層した後、イオンガンを用いて６層目３２
の表面に以下の条件でイオンを照射した。なお、６層目３２の表面にイオン照射処理を施
した後、７層目３１を成膜した。
（イオン照射の条件）下側の層（第１の層）：ＴｉＯ2、 イオン：アルゴン
照射電流量：１５０ｍＡ、 照射時間：２０ｓｅｃ
イオンエネルギー：３００ｅＶ 2.1.2.3 Ion irradiation In Example 1, after laminating the first layer to the sixth layer, the sixth layer 32 using an ion gun.
The surface was irradiated with ions under the following conditions. The surface of the sixth layer 32 was subjected to ion irradiation treatment, and then the seventh layer 31 was formed.
(Ion irradiation conditions) Lower layer (first layer): TiO 2 , ion: argon irradiation current amount: 150 mA, irradiation time: 20 sec
Ion energy: 300 eV

２．１．３ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、７層目３１の表面に酸素プラズマ処理を施し、蒸着装置内
で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越
化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００℃で加熱し、Ｋ
Ｙ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、約３分間程度とした。酸素
プラズマ処理を施すことにより最終のＳｉＯ2層の表面にシラノール基を生成できるので
、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真
空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の工程
を同じ手順で繰り返し、反射防止層３および防汚層４の成膜を行った。その後、レンズサ
ンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。 2.1.3 Formation of Antifouling Layer After the antireflection layer 3 is formed, the surface of the seventh layer 31 is subjected to oxygen plasma treatment, and “KY” containing a fluorine-containing organosilicon compound having a large molecular weight is contained in the vapor deposition apparatus. -130 "(trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used as a vapor deposition source and heated at about 500 ° C.
Y-130 was evaporated to form an antifouling layer 4. The deposition time was about 3 minutes. Since the silanol group can be generated on the surface of the final SiO 2 layer by performing the oxygen plasma treatment, the chemical adhesion (chemical bond) between the antireflection layer 3 and the antifouling layer 4 can be improved. After the completion of vapor deposition, the lens sample 10 was taken out from the vacuum vapor deposition apparatus 100, turned over and turned on again, and the above steps were repeated in the same procedure to form the antireflection layer 3 and the antifouling layer 4. Thereafter, the lens sample 10 was taken out from the vacuum deposition apparatus 100.

実施例１のサンプルＳ１は、プラスチックレンズ基材１の両面にハードコート層２、表
面がイオン照射処理された層を含む反射防止層３、および防汚層４を備えている。 The sample S1 of Example 1 includes a hard coat layer 2, an antireflection layer 3 including a layer whose surface is subjected to ion irradiation treatment, and an antifouling layer 4 on both surfaces of the plastic lens substrate 1.

２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
実施例２として、光学基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）を採用し、この光学
基材１の上に、ハードコート層２を成膜せず、光学基材１の上に直に、実施例１と同様の
成膜条件で低屈折率層３１として二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層の１、３、５および７層と
、高屈折率層３２として酸化チタン（ＴｉＯ2）層の２、４および６層とを交互に積層し
て反射防止層３を製造した。その途上で、６層目の表面に実施例１と同じ条件でイオン照
射処理を施した。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成した。 2.2 Example 2 (Sample S2)
As Example 2, a transparent white plate glass (B270) is adopted as the optical substrate 1, and the hard coat layer 2 is not formed on the optical substrate 1, but directly on the optical substrate 1. Under the same film formation conditions as in Example 1, 1, 3, 5, and 7 of the silicon dioxide (SiO 2 ) layer as the low refractive index layer 31, and 2, the titanium oxide (TiO 2 ) layer as the high refractive index layer 32, The antireflection layer 3 was produced by alternately laminating 4 and 6 layers. On the way, ion irradiation treatment was performed on the surface of the sixth layer under the same conditions as in Example 1. Further, an antifouling layer 4 was formed on the antireflection layer 3.

２．３ 実施例３および４（レンズサンプルＳ３およびガラスサンプルＳ４）
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＳ３と、白板ガラスを基材１として
用いたサンプルＳ４とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。イオン照
射処理については、エネルギーを５００ｅＶとし、他の条件は実施例１と同様の条件でお
こなった。 2.3 Examples 3 and 4 (Lens Sample S3 and Glass Sample S4)
Sample S3 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample S4 using white plate glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 1 and Example 2, respectively. The ion irradiation treatment was performed under the same conditions as in Example 1 except that the energy was 500 eV.

２．４ 実施例５および６（レンズサンプルＳ５およびガラスサンプルＳ６）
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＳ５と、白板ガラスを基材１として
用いたサンプルＳ６とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。イオン照
射処理については、エネルギーを８００ｅＶとし、他の条件は実施例１と同様の条件でお
こなった。 2.4 Examples 5 and 6 (lens sample S5 and glass sample S6)
Sample S5 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample S6 using white plate glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 1 and Example 2, respectively. The ion irradiation treatment was performed under the same conditions as in Example 1 except that the energy was 800 eV.

２．５ 比較例１および２（レンズサンプルＲ１およびガラスサンプルＲ２）
上記の実施例により得られたサンプルと比較するために、この比較例１および２では、
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＲ１と、白板ガラスを基材１として用
いたサンプルＲ２とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。ただし、イ
オン照射はおこなわなかった。 2.5 Comparative Examples 1 and 2 (Lens Sample R1 and Glass Sample R2)
In order to compare with the samples obtained by the above examples, in Comparative Examples 1 and 2,
Sample R1 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample R2 using white glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 1 and Example 2, respectively. However, ion irradiation was not performed.

３． 上記サンプルＳ１〜Ｓ６およびＲ１〜Ｒ２の評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ６およびＲ１〜Ｒ２のシート抵抗と、帯電防止
性と、分光特性とについて評価した。 3. Evaluation of Samples S1 to S6 and R1 to R2 The sheet resistance, antistatic property, and spectral characteristics of the samples S1 to S6 and R1 to R2 manufactured as described above were evaluated.

３．１ シート抵抗
図６（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。こ
の例では、測定対象、たとえば、サンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触
し、サンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株
）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ、ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリング
プローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１ａは外
径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１ｂは直径７ｍｍである。それらの
電極間に１０００Ｖ〜１０Ｖの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。図４
に、各サンプルのシート抵抗を製造直後と、７２時間経過後とに測定した値を示している
。 3.1 Sheet Resistance FIGS. 6A and 6B show how the sheet resistance of each sample is measured. In this example, the ring probe 61 was brought into contact with a measurement object, for example, the surface 10A of the sample 10, and the sheet resistance of the surface 10A of the sample 10 was measured. As the measuring device 60, a high resistance resistivity meter Hiresta UP, MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used. The used ring probe 61 is of URS type, has two electrodes, the outer ring electrode 61a has an outer diameter of 18 mm and an inner diameter of 10 mm, and the inner circular electrode 61b has a diameter of 7 mm. A voltage of 1000 V to 10 V was applied between these electrodes, and the sheet resistance of each sample was measured. FIG.
The values measured for the sheet resistance of each sample immediately after production and after 72 hours are shown.

３．２ 帯電防止性
各サンプルの表面の上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすり
つけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ごみの付着がない場
合は帯電効果に優れ、帯電防止性が有りと判断した。ごみの付着がある場合は帯電効果が
劣っており、帯電防止性が無いと判断した。なお、ゴミは粒子径２−３ｍｍに砕いた発泡
スチロールである。図４に、各サンプルの製造直後と、７２時間経過後の帯電防止性の評
価結果を示している。 3.2 Antistatic property On the surface of each sample, a spectacle lens wipe was rubbed 10 times with a vertical load of 1 kg, and the presence or absence of dust due to static electricity generated at this time was examined. When there was no dust attached, the charging effect was excellent and it was judged that there was antistatic properties. When there was dust adhesion, the charging effect was inferior and it was judged that there was no antistatic property. In addition, refuse is a polystyrene foam crushed to a particle diameter of 2-3 mm. FIG. 4 shows the evaluation results of antistatic properties immediately after the production of each sample and after 72 hours.

３．３ 分光特性
実施例３のサンプルＳ３と、比較例１のサンプルＲ１について、分光反射率計（オリン
パス製、レンズ反射率測定器 ＵＳＰＭ-ＲＵ）で、３８０〜７５０ｎｍの範囲で測定し
、その実測した結果を図５に示している。 3.3 Spectral characteristics The sample S3 of Example 3 and the sample R1 of Comparative Example 1 were measured in the range of 380 to 750 nm with a spectral reflectometer (manufactured by Olympus, lens reflectometer USPM-RU). The measured result is shown in FIG.

３．４ 評価
まず、図５に示すように、分光反射率計の測定結果では、比較例１により製造されたサ
ンプルＲ１と、実施例３により製造されたサンプルＳ３とに有意な差は認められなかった
。したがって、イオン照射処理を行うことによるサンプルへの光学的な影響は認められな
かった。 3.4 Evaluation First, as shown in FIG. 5, in the measurement result of the spectral reflectometer, a significant difference is recognized between the sample R1 manufactured according to Comparative Example 1 and the sample S3 manufactured according to Example 3. There wasn't. Therefore, the optical influence on the sample by performing ion irradiation treatment was not recognized.

各サンプルについて測定されたシート抵抗を図７および図８に示している。図７に示す
ように、作製直後に測定されたシート抵抗は、イオン照射処理を行うことにより、ほぼ照
射エネルギーに比例して低下した。したがって、上述したように、イオン照射処理を行う
ことにより、第１の層（下側の層）であるＴｉＯ2層３２の表層域に酸素欠損域３３が生
成され、導電性が向上したものと考えられる。さらに、酸素欠損域３３は、ＴｉＯ2層３
２の表面のごく限られた厚みに形成され、光学的な性質に影響をほとんど与えていないと
考えられる。このため、ある程度のエネルギーでイオン照射を行うことにより、たとえば
、この例では、５００ｅＶ程度より大きなエネルギーでイオン照射を行うことにより帯電
防止効果が得られる程度の量の酸素欠陥をＴｉＯ2層３２の表層域３３に導入でき、帯電
防止性のある光学物品を製造できると判断される。 The sheet resistance measured for each sample is shown in FIGS. As shown in FIG. 7, the sheet resistance measured immediately after the production decreased substantially in proportion to the irradiation energy by performing the ion irradiation treatment. Therefore, as described above, by performing the ion irradiation treatment, the oxygen deficient region 33 is generated in the surface layer region of the TiO 2 layer 32 which is the first layer (lower layer), and the conductivity is improved. Conceivable. Further, the oxygen deficient region 33 is formed by the TiO 2 layer 3.
2 is formed to have a very limited thickness and hardly affects the optical properties. For this reason, by performing ion irradiation with a certain amount of energy, for example, in this example, an amount of oxygen defects that can provide an antistatic effect by performing ion irradiation with an energy greater than about 500 eV is reduced in the TiO 2 layer 32. It can be introduced into the surface layer region 33 and it is judged that an optical article having antistatic properties can be produced.

図８に、レンズサンプルＳ１、Ｓ３およびＳ５について、作製直後に測定されたシート
抵抗と、作製から７２時間が経過した後に測定されたシート抵抗を示している。７２時間
経過後のシート抵抗は、イオン照射エネルギーに対してリニアではなく、ある程度のエネ
ルギー、この例では、８００ｅＶ程度より大きなエネルギーでイオンを照射することによ
り導電性が向上した性質を長期間にわたり維持させることができる。イオン照射による酸
素原子の移動量が大きかったり、化学量論比からの差が大きかったり、格子欠陥が長範囲
で導入されるなどの要因により、酸素欠陥が安定して存続するためと予想される。 FIG. 8 shows the sheet resistance measured immediately after the production of the lens samples S1, S3, and S5 and the sheet resistance measured after 72 hours from the production. The sheet resistance after 72 hours is not linear with respect to the ion irradiation energy, and in this example, the property of improving the conductivity by irradiating ions with a certain amount of energy, in this example, greater than about 800 eV, is maintained over a long period of time. Can be made. Oxygen defects are expected to remain stable due to factors such as the large amount of oxygen atoms transferred by ion irradiation, a large difference from the stoichiometric ratio, and the introduction of lattice defects over a long range. .

これらの結果より、反射防止層３の１つの層の表面をイオン照射により処理することに
より、レンズ、カバーガラスなどの光学物品のシート抵抗を低減できることが分かる。光
学物品のシート抵抗を低減できることによる典型的な効果は、帯電防止および電磁波遮蔽
である。たとえば、眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、ごみの付着がみ
られにくくなるシート抵抗が１×１０12Ω／□以下であると考えられており、図４に示す
ように、サンプルＳ３〜Ｓ６は、優れた帯電防止性を備えていることが分かる。 From these results, it is understood that the sheet resistance of optical articles such as lenses and cover glasses can be reduced by treating the surface of one layer of the antireflection layer 3 by ion irradiation. Typical effects due to the ability to reduce the sheet resistance of optical articles are antistatic and electromagnetic shielding. For example, the standard for the presence or absence of antistatic properties in spectacle lenses is considered to be a sheet resistance of 1 × 10 12 Ω / □ or less, which makes it difficult for dust to be attached, and as shown in FIG. It can be seen that Samples S3 to S6 have excellent antistatic properties.

さらに、これらのサンプルは、反射防止層３を本来構成する低屈折率層（ＳｉＯ2）３
１と、高屈折率層（ＴｉＯ2）３２とから構成され、１つの高屈折率層３２の表層域に酸
素欠損域３３を設けたのみである。したがって、他の組成物により導電性を向上する必要
がなく（もちろん、他の組成物の層を加えることを含めないことではなく）、容易にシー
ト抵抗が低抵抗な反射防止層３を成膜できる。このため、金あるいは銀などの貴金属を用
いて導電層を製造する場合と比較すると、製造上の容易さおよび経済的なメリットは大き
い。さらに、酸およびアルカリに対する安定性や、剥離についても、反射防止層３の本来
の特性が維持されると想定されるので、ＩＴＯ、銀などのように膨張、腐食、剥れなどの
問題の発生を未然に防止できる。したがって、帯電防止性能に優れ、さらに、耐久性およ
び信頼性の高い光学物品を提供できると考えられる。 Further, these samples have a low refractive index layer (SiO 2 ) 3 that originally constitutes the antireflection layer 3.
1 and a high refractive index layer (TiO 2 ) 32, and only an oxygen deficient region 33 is provided in the surface layer region of one high refractive index layer 32. Therefore, it is not necessary to improve the conductivity with another composition (not to mention, of course, not including a layer of another composition), and easily forming the antireflection layer 3 having a low sheet resistance. it can. For this reason, compared with the case where a conductive layer is manufactured using noble metals, such as gold | metal | money or silver, the ease of manufacture and an economical merit are large. Furthermore, with respect to acid and alkali stability and peeling, it is assumed that the original characteristics of the antireflection layer 3 are maintained, so that problems such as expansion, corrosion, and peeling such as ITO and silver occur. Can be prevented. Therefore, it is considered that an optical article excellent in antistatic performance and having high durability and reliability can be provided.

４． 他の実施例
４．１ 実施例７（サンプルＳ７）
上記の実施例１と同様にプラスチックレンズを基材１として、ハードコート層２を成膜
した。さらに、低屈折率層および高屈折率層を成膜した。 4). Other Examples 4.1 Example 7 (Sample S7)
In the same manner as in Example 1, the hard coat layer 2 was formed using the plastic lens as the base material 1. Further, a low refractive index layer and a high refractive index layer were formed.

ただし、図９に示すように、この実施例７においては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）層を
低屈折率層３１とし、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）層を高屈折率層３２として５層構造
の反射防止層３を成膜した。すなわち、１層目、３層目および５層目が低屈折率層（Ｓｉ
Ｏ2層）３１であり、２層目および４層目が高屈折率層（ＺｒＯ2層）３２である。 However, as shown in FIG. 9, in Example 7, the silicon dioxide (SiO 2 ) layer is the low refractive index layer 31, and the zirconium oxide (ZrO 2 ) layer is the high refractive index layer 32. A prevention layer 3 was formed. That is, the first, third, and fifth layers are low refractive index layers (Si
O 2 layer) 31, and the second and fourth layers are high refractive index layers (ZrO 2 layers) 32.

図１０に、ＳｉＯ2層３１およびＺｒＯ2層３２の各層の成膜条件および膜厚を示してい
る。なお、このレンズサンプル１０では、ハードコート層２の屈折率が１．６５、ＳｉＯ
2層３１の屈折率が１．４６２、ＺｒＯ2層３２の屈折率が２．０５８である。 FIG. 10 shows film forming conditions and film thicknesses of the SiO 2 layer 31 and the ZrO 2 layer 32. In this lens sample 10, the refractive index of the hard coat layer 2 is 1.65, SiO 2
The refractive index of the two layers 31 is 1.462, and the refractive index of the ZrO 2 layer 32 is 2.058.

この実施例７では、１層目から４層目まで積層した後に、イオンガンを用いて４層目３
２の表面に以下の条件でイオンを照射した。なお、４層目３２の表面にイオン照射処理を
施した後、５層目３１を成膜した。
（イオン照射の条件）下側の層（第１の層）：ＺｒＯ2、ただし、ＴｉＯx（Ｘ＝１．７
）の層を下地層として、下側の層（第１の層、４層目）の上に形成した後に、イオン照射
処理を行った。
（下地層：蒸着源ＴｉＯx、 真空蒸着（イオンアシストなし）、
蒸着レート：０．２ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：１０秒）
イオン照射： イオン：アルゴン
照射電流量：１５０ｍＡ、 照射時間：２０ｓｅｃ
イオンエネルギー：３００ｅＶ
さらに、実施例１と同様に反射防止層３の上に防汚層４を成膜した。
なお、上記では、下地処理にＴｉＯxを用いた例で説明したが、ＴｉＯxに代わりＴｉＯ
2を用いてもよい。 In Example 7, after the first to fourth layers were stacked, the fourth layer 3 was formed using an ion gun.
The surface of 2 was irradiated with ions under the following conditions. The surface of the fourth layer 32 was subjected to ion irradiation treatment, and then the fifth layer 31 was formed.
(Ion irradiation conditions) Lower layer (first layer): ZrO 2 , where TiO x (X = 1.7)
) Was used as a base layer on the lower layer (first layer, fourth layer), and then ion irradiation treatment was performed.
(Underlayer: deposition source TiO x , vacuum deposition (without ion assist),
Deposition rate: 0.2 nm / sec, Deposition time: 10 seconds)
Ion irradiation: Ion: Argon irradiation current amount: 150 mA, irradiation time: 20 sec
Ion energy: 300 eV
Further, an antifouling layer 4 was formed on the antireflection layer 3 in the same manner as in Example 1.
In the above description, the example in which TiO x is used for the base treatment has been described, but TiO x is used instead of TiO x.
2 may be used.

４．２ 実施例８（サンプルＳ８）
実施例８として、実施例２と同様に、光学基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）
を採用した。この実施例８では、光学基材１の上に、ハードコート層２を成膜せず（光学
基材１の上に直に）、実施例７と同様の成膜条件で低屈折率層３１として二酸化ケイ素（
ＳｉＯ2）層の１、３および５層目と、高屈折率層３２として酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2
）層の２および４層目とを交互に積層して反射防止層３を製造した。その途上で、４層目
の表面に実施例１と同じ条件でイオン照射処理を施した。また、反射防止層３の上に防汚
層４を形成した。 4.2 Example 8 (Sample S8)
As Example 8, as in Example 2, transparent white plate glass (B270) as the optical substrate 1
It was adopted. In this example 8, the hard coat layer 2 is not formed on the optical substrate 1 (directly on the optical substrate 1), and the low refractive index layer 31 is formed under the same film formation conditions as in example 7. As silicon dioxide (
Zirconium oxide (ZrO 2 ) as the first, third and fifth layers of the SiO 2 layer and the high refractive index layer 32
The antireflection layer 3 was produced by alternately laminating the second and fourth layers. On the way, ion irradiation treatment was performed on the surface of the fourth layer under the same conditions as in Example 1. Further, an antifouling layer 4 was formed on the antireflection layer 3.

４．３ 実施例９および１０（レンズサンプルＳ９およびガラスサンプルＳ１０）
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＳ９と、白板ガラスを基材１として
用いたサンプルＳ１０とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。イオン
照射処理については、エネルギーを５００ｅＶとし、他の条件は実施例１と同様の条件で
おこなった。 4.3 Examples 9 and 10 (lens sample S9 and glass sample S10)
Sample S9 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample S10 using white plate glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 7 and Example 8, respectively. The ion irradiation treatment was performed under the same conditions as in Example 1 except that the energy was 500 eV.

４．４ 実施例１１および１２（レンズサンプルＳ１１およびガラスサンプルＳ１２）
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＳ１１と、白板ガラスを基材１とし
て用いたサンプルＳ１２とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。イオ
ン照射処理については、エネルギーを８００ｅＶとし、他の条件は実施例１と同様の条件
でおこなった。 4.4 Examples 11 and 12 (Lens Sample S11 and Glass Sample S12)
Sample S11 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample S12 using white plate glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 7 and Example 8, respectively. The ion irradiation treatment was performed under the same conditions as in Example 1 except that the energy was 800 eV.

４．５ 比較例３および４（レンズサンプルＲ３およびガラスサンプルＲ４）
上記の実施例により得られたサンプルと比較するために、この比較例３および４では、
プラスチックレンズを基材１として用いたサンプルＲ３と、白板ガラスを基材１として用
いたサンプルＲ４とを、それぞれ実施例７および実施例８とそれぞれ同様に製造した。た
だし、イオン照射はおこなわなかった。 4.5 Comparative Examples 3 and 4 (Lens Sample R3 and Glass Sample R4)
In order to compare with the samples obtained by the above examples, in Comparative Examples 3 and 4,
Sample R3 using a plastic lens as the substrate 1 and Sample R4 using white plate glass as the substrate 1 were produced in the same manner as in Example 7 and Example 8, respectively. However, ion irradiation was not performed.

５． 上記サンプルＳ７〜Ｓ１２およびＲ３〜Ｒ４の評価
上記により製造されたサンプルＳ７〜Ｓ１２およびＲ３〜Ｒ４のシート抵抗と、帯電防
止性と、分光特性とについて評価した。それぞれの測定方法は上述したとおりである。 5. Evaluation of Samples S7 to S12 and R3 to R4 The sheet resistance, antistatic properties, and spectral characteristics of the samples S7 to S12 and R3 to R4 manufactured as described above were evaluated. Each measuring method is as described above.

図１１に、各サンプルのシート抵抗を製造直後と、７２時間経過後とに測定した値とを
示している。また、図１１に、各サンプルの帯電防止性の評価結果を示している。さらに
、図１２に、実施例１１のサンプルＳ１１と、比較例３のサンプルＲ３について、分光反
射率計で３８０〜７５０ｎｍの範囲で測定した結果を示している。 FIG. 11 shows the values measured for the sheet resistance of each sample immediately after production and after 72 hours. FIG. 11 shows the evaluation results of the antistatic property of each sample. Further, FIG. 12 shows the results of measuring the sample S11 of Example 11 and the sample R3 of Comparative Example 3 with a spectral reflectometer in the range of 380 to 750 nm.

まず、図１２に示すように、分光反射率計の測定結果では、比較例３により製造された
サンプルＲ３と、実施例１１により製造されたサンプルＳ１１とに、ほとんど有意な差は
認められなかった。波長が４００ｎｍ以下において、サンプルＳ１１の反射率が若干高く
なっているが、視感上の差は認識できない程度である。したがって、この程度のエネルギ
ー範囲のイオン照射処理を行うことによるサンプルへの光学的な影響はほぼ認められなか
った。しかしながら、エネルギーを大きくしすぎると、光吸収の影響で青く着色が認めら
れる可能性があり、酸素空孔が色中心になる可能性を示していると思われる。 First, as shown in FIG. 12, in the measurement result of the spectral reflectometer, there was almost no significant difference between the sample R3 manufactured according to Comparative Example 3 and the sample S11 manufactured according to Example 11. . When the wavelength is 400 nm or less, the reflectance of the sample S11 is slightly high, but the difference in visual perception cannot be recognized. Therefore, the optical influence on the sample by performing ion irradiation treatment in this energy range was hardly recognized. However, if the energy is increased too much, blue coloring may be observed due to the effect of light absorption, which seems to indicate the possibility that oxygen vacancies become the color center.

各サンプルについて測定されたシート抵抗を図１３および図１４に示している。図１３
に示すように、作製直後に測定されたシート抵抗は、イオン照射処理を行うことにより低
下した。したがって、上記の実施例と同様に、イオン照射処理を行うことにより、第１の
層（下側の層）であるＺｒＯ2層３２の表層域に酸素欠損域３３が生成され、導電性が向
上したものと考えられる。さらに、この例では、酸素欠損域３３は、下地層のＴｉＯx層
（Ｘ＝１．７）の表面にイオン照射することにより形成されており、酸素欠損域３３のチ
タン原子の化学量論比からのずれは大きい（Ｘ＝１．７以下）と考えられる。 The sheet resistance measured for each sample is shown in FIGS. FIG.
As shown in FIG. 4, the sheet resistance measured immediately after the production was reduced by performing the ion irradiation treatment. Therefore, in the same manner as in the above embodiment, by performing the ion irradiation treatment, the oxygen deficient region 33 is generated in the surface layer region of the ZrO 2 layer 32 which is the first layer (lower layer), and the conductivity is improved. It is thought that. Furthermore, in this example, the oxygen deficient region 33 is formed by irradiating ions on the surface of the underlying TiO x layer (X = 1.7), and the stoichiometric ratio of titanium atoms in the oxygen deficient region 33 is reduced. The deviation from is considered to be large (X = 1.7 or less).

さらに、この例では、イオンの照射エネルギーが３００ｅＶではシート抵抗の変化はほ
とんど見られなかったが、５００ｅＶ付近から上になるとシート抵抗が顕著に低下し、導
電性が向上した。さらに、図１４に示すように、イオンの照射エネルギーが５００ｅＶ程
度あるいはそれを超えると、導電性が向上した性質を長期間にわたり維持できることが分
かった。 Furthermore, in this example, there was almost no change in sheet resistance when the ion irradiation energy was 300 eV. However, when the ion irradiation energy was increased from around 500 eV, the sheet resistance significantly decreased and the conductivity was improved. Furthermore, as shown in FIG. 14, it has been found that when the ion irradiation energy is about 500 eV or more, the property of improved conductivity can be maintained over a long period of time.

以上のように、反射防止層３に含める層の表面をイオン照射により酸素欠損状態にする
ことにより、ＩＴＯ、銀あるいは金といった導電膜を設けなくても、シート抵抗を低下さ
せることができることが分かった。このため、反射防止層３の光学的性質の低下、耐薬品
性の低下、剥離の懸念などの問題の要因となる、ＩＴＯ、銀あるいは金といった異質な膜
を導入することなく、導電性が高く、電磁波遮断機能、帯電防止機能、特に、ごみの付着
を防止するために望ましい帯電防止機能を備えた光学物品を製造できることが確認できた
。 As described above, it is found that the sheet resistance can be reduced without providing a conductive film such as ITO, silver or gold by making the surface of the layer included in the antireflection layer 3 into an oxygen deficient state by ion irradiation. It was. For this reason, the conductivity is high without introducing a foreign film such as ITO, silver, or gold, which causes problems such as a decrease in optical properties, a decrease in chemical resistance, and a fear of peeling. It was confirmed that an optical article having an electromagnetic wave shielding function, an antistatic function, and particularly an antistatic function desirable for preventing the adhesion of dust can be produced.

なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれ
らの層構造に限定されることはない。たとえば、４層以下、あるいは８層以上の反射防止
層に適用することも可能であり、反射防止層に含まれる導電層は１つに限定されない。ま
た、多層構造の膜は、反射防止層に限定されず、光学多層膜であってもよい。さらに、高
屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2に限定され
ることはなく、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2、ＮｄＯ2／ＳｉＯ2、ＨｆＯ2／ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3／
ＳｉＯ2などの系であってもよい。これらはいずれも遷移金属酸化物であり、ドープによ
り酸化物半導体を構成できるものである。したがって、酸素欠陥を導入することにより導
電性を向上できる可能性がある。 In addition, the layer structure of the antireflection layer shown in the above embodiment is only some examples, and the present invention is not limited to these layer structures. For example, the present invention can be applied to four or less antireflection layers or eight or more antireflection layers, and the number of conductive layers included in the antireflection layer is not limited to one. The multilayer film is not limited to the antireflection layer, and may be an optical multilayer film. Further, the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer is not limited to TiO 2 / SiO 2 , ZrO 2 / SiO 2 , but Ta 2 O 5 / SiO 2 , NdO 2 / SiO 2 , HfO 2. / SiO 2 , Al 2 O 3 /
A system such as SiO 2 may be used. These are all transition metal oxides, and can form an oxide semiconductor by doping. Therefore, there is a possibility that conductivity can be improved by introducing oxygen defects.

また、上記にて説明した無機系の反射防止層だけでなく、有機系の反射防止層にも本発
明を適用することが可能である。たとえば、有機系の反射防止層に厚さ数ｎｍ程度のＴｉ
Ｏx層（或いはＴｉＯ2層）を下地層として成膜した後にイオン照射処理を行うことにより
導電性を向上できる。 Further, the present invention can be applied not only to the inorganic antireflection layer described above but also to an organic antireflection layer. For example, an organic antireflection layer with a thickness of several nanometers Ti
Conductivity can be improved by performing ion irradiation after forming an O x layer (or TiO 2 layer) as a base layer.

図１５に、イオン照射により帯電防止性が高められた眼鏡レンズ１０と、その眼鏡レン
ズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図１６に、
イオン照射により帯電防止性が高められたレンズ２１１と、イオン照射により帯電防止性
が高められたカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通
して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクタ
ー２１０を示している。また、図１７に、イオン照射により帯電防止性が高められた撮像
レンズ２２１と、イオン照射により帯電防止性が高められたカバーガラス２２２と、撮像
レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえ
ばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図１８に、イオン
照射により帯電防止性が高められた透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書き
できる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。 FIG. 15 shows spectacles 200 including spectacle lens 10 whose antistatic property is improved by ion irradiation, and frame 201 to which spectacle lens 10 is attached. Also, in FIG.
An image forming apparatus, such as an LCD 213, that generates light to be projected through the lens 211 that has been improved in antistatic properties by ion irradiation, the cover glass 212 that has been improved in antistatic properties by ion irradiation, and the projection lens 211 and cover glass 212. The projector 210 provided with these is shown. FIG. 17 shows an imaging lens 221 whose antistatic property is enhanced by ion irradiation, a cover glass 222 whose antistatic property is enhanced by ion irradiation, and an image for acquiring images through the imaging lens 221 and the cover glass 222. A digital camera 220 with an imaging device, such as a CCD 223, is shown. FIG. 18 shows a recording medium such as a DVD 230, which includes a transmission layer 231 whose antistatic property is improved by ion irradiation, and a recording layer 232 that can read and write records by an optical method.

本発明により、これらのシステムに適用できる光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、
プリズム、カバー層であって、ごみの付着を防止できる帯電防止機能を備えた光学物品を
提供できる。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる
光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。 According to the present invention, optical articles applicable to these systems, such as lenses, glasses,
An optical article having an antistatic function, which is a prism and a cover layer and can prevent adhesion of dust, can be provided. The system described above is merely an example, and optical articles and systems that can be used by those skilled in the art are included in the present invention.

１ レンズ基材、 ２ ハードコート層、 ３ 反射防止層、 ４ 防汚層１０、 レン
ズサンプル。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lens base material, 2 Hard-coat layer, 3 Antireflection layer, 4 Antifouling layer 10, Lens sample.

Claims (9)

光学基材に直にまたは他の層を介して、金属酸化物を含む透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面にイオンを照射することにより、前記第１の層の表層域に限って酸素欠陥を導入することと、を有する、
眼鏡レンズの製造方法。 Forming a translucent first layer containing a metal oxide directly or via another layer on the optical substrate;
Irradiating ions on the surface of the first layer to introduce oxygen defects only in the surface layer region of the first layer,
A method of manufacturing a spectacle lens . 請求項１において、
前記イオンは、アルゴン、キセノン、ヘリウム、窒素およびネオンの少なくともいずれかを含む不活性ガスのイオンである、
眼鏡レンズの製造方法。 In claim 1,
The ions are inert gas ions including at least one of argon, xenon, helium, nitrogen and neon.
A method of manufacturing a spectacle lens . 請求項１または請求項２において、
前記金属酸化物は遷移金属酸化物である、
眼鏡レンズの製造方法。 In claim 1 or claim 2,
The metal oxide is a transition metal oxide;
A method of manufacturing a spectacle lens . 請求項１ないし請求項３のいずれか１項において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層である、眼鏡レンズの製造方法。 4. The method for manufacturing a spectacle lens according to claim 1, wherein the first layer is one layer included in an antireflection layer having a multilayer structure. 5. 請求項１ないし請求項４のいずれか１項において、前記第１の層の表面へのイオンの照射を、イオンガンを用い行う、眼鏡レンズの製造方法。 5. The method for manufacturing a spectacle lens according to claim 1, wherein the surface of the first layer is irradiated with ions using an ion gun. 光学基材に直にまたは他の層を介して、金属酸化物を含む透光性の第１の層を形成することと、Forming a translucent first layer containing a metal oxide directly or via another layer on the optical substrate;
前記第１の層の表面にイオンを照射することにより、前記第１の層の表層域に限って酸素欠陥を導入することと、を有し、Irradiating the surface of the first layer with ions to introduce oxygen defects only in the surface layer region of the first layer, and
前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層である、The first layer is one layer included in an antireflection layer having a multilayer structure.
光学物品の製造方法。A method for manufacturing an optical article. 請求項６において、In claim 6,
前記イオンは、アルゴン、キセノン、ヘリウム、窒素およびネオンの少なくともいずれかを含む不活性ガスのイオンである、The ions are inert gas ions including at least one of argon, xenon, helium, nitrogen and neon.
光学物品の製造方法。A method for manufacturing an optical article. 請求項６または請求項７において、In claim 6 or claim 7,
前記金属酸化物は遷移金属酸化物である、The metal oxide is a transition metal oxide;
光学物品の製造方法。A method for manufacturing an optical article. 請求項６ないし請求項８のいずれか１項において、前記第１の層の表面へのイオンの照射を、イオンガンを用い行う、光学物品の製造方法。9. The method of manufacturing an optical article according to claim 6, wherein ion irradiation is performed on the surface of the first layer using an ion gun.
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