JP2010072636A - Optical article and method for manufacturing the same - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical article which is excellent in antistatic effect, antireflection property and endurance and is free from swelling, and to provide a method for manufacturing the optical article. <P>SOLUTION: An eyeglass lens includes: a lens base 110; a hard coat layer 120 disposed on the surface of the lens base 110; and an antireflection layer 130 disposed on the hard coat layer 120. The antireflection layer 130 is prepared by successively laminating a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 and a high refractive index layer having a refractive index of 1.8 to 2.45. The antireflection layer 130 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, a sixth layer 136, a transparent conductive layer 137 as a seventh layer and an eighth layer 138 arranged in the order outward from the lens base 110 side. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラスチック製の光学物品およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a plastic optical article and a method for manufacturing the same.

従来、眼鏡レンズ等の光学物品には、ゴースト及びちらつきを防止するためにレンズ基材の表面に反射防止層が設けられている。反射防止層はハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ物質を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層として形成される。
また、帯電防止のために、反射防止層の一部に透明導電層を含ませたレンズが開示されている（例えば、特許文献１、２および３）。 Conventionally, an optical article such as a spectacle lens is provided with an antireflection layer on the surface of a lens base material in order to prevent ghost and flicker. The antireflection layer is formed as a so-called multilayer antireflection layer formed by alternately laminating substances having different refractive indexes on the surface of the lens substrate on which the hard coat layer is laminated.
In addition, lenses in which a transparent conductive layer is included in a part of the antireflection layer to prevent charging are disclosed (for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

特開２００４−３４１０５２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-341052 特開平１１−１４９０６３号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-149063 特開平４−５０８０１号公報JP-A-4-50801

しかしながら、特許文献１、２および３に記載されているように、透明導電層には通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等が２０ｎｍ程度以上の厚みで成膜されており帯電防止の効果は得られるものの、これらの材料はガスや水分の透過性が低いため表面にむくみが発生し、レンズの表面に対する反射光が歪んで見えるという問題があった。ここで、むくみとは、レンズの表面の反射光を観察した場合に、反射光の像の輪郭がぼやける、またはかすれて見える状態のことを言う（図６（Ｂ）参照）。
さらに、むくみが悪化することによりレンズの耐久性が低下するという問題もあった。 However, as described in Patent Documents 1, 2, and 3, although the transparent conductive layer is usually formed with indium tin oxide (ITO) or the like with a thickness of about 20 nm or more, an antistatic effect can be obtained. However, these materials have low gas and moisture permeability, so that the surface is swollen and the reflected light on the lens surface appears to be distorted. Here, the swelling is a state in which the outline of the image of the reflected light is blurred or blurred when the reflected light on the surface of the lens is observed (see FIG. 6B).
Furthermore, there is also a problem that the durability of the lens is lowered due to worsening of swelling.

本発明の目的は、帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical article that is excellent in antistatic property, antireflection property, and durability and does not cause swelling, and a method for producing the same.

本発明の光学物品は、レンズ基材の表面に低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる反射防止層を備えた光学物品であって、前記反射防止層は、３ｎｍ以上９ｎｍ以下の厚みである透明導電層を１層有していることを特徴とする。
また、本発明の光学物品において、前記透明導電層は、３．５ｎｍ以上７ｎｍ以下の厚みであることが好ましい。 The optical article of the present invention is an optical article provided with an antireflection layer in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated on the surface of a lens substrate, and the antireflection layer is 3 nm or more. One transparent conductive layer having a thickness of 9 nm or less is provided.
In the optical article of the present invention, the transparent conductive layer preferably has a thickness of 3.5 nm or more and 7 nm or less.

この発明では、低屈折率層と高屈折率層とからなる反射防止層の一部に透明導電層を含み、この透明導電層の厚みを３ｎｍ以上９ｎｍ以下の範囲で形成することとした。透明導電層の厚みが３ｎｍ未満であると、帯電防止性の効果を得ることができない。また、透明導電層の厚みが９ｎｍを超えると、むくみが発生し、耐久性が悪化するおそれがある。   In the present invention, the transparent conductive layer is included in a part of the antireflection layer composed of the low refractive index layer and the high refractive index layer, and the thickness of the transparent conductive layer is formed in the range of 3 nm to 9 nm. When the thickness of the transparent conductive layer is less than 3 nm, an antistatic effect cannot be obtained. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive layer exceeds 9 nm, swelling may occur and durability may deteriorate.

ここで、厚みが所定値以上の場合にむくみが発生する理由を、発明者らは以下のように推論している。
透明導電層として厚い膜を形成したとしても、その膜には微小な欠陥が存在しており、その欠陥は散在している。したがって、この欠陥を通じて厚い膜の表面からレンズ基材側へ水分等が浸入する。その結果、水分等が欠陥近傍に存在することになり、レンズ全体としては不均一に水分等が浸入することになる。一方、透明導電層の各層の厚みが９ｎｍ以下の場合は、膜全体が粗な状態、つまり、膜全体を通じて水分等が浸入することになる。その結果、レンズ全体に水分等が浸入し、レンズ全体としては均一な状態となる。
このむくみは、レンズ基材がプラスチック等、水分吸収によって屈折率が変化する物質の場合に主に発生する。 Here, the inventors infer the reason why swelling occurs when the thickness is equal to or greater than a predetermined value as follows.
Even if a thick film is formed as the transparent conductive layer, there are minute defects in the film, and the defects are scattered. Therefore, moisture and the like enter from the surface of the thick film to the lens substrate side through this defect. As a result, moisture and the like are present in the vicinity of the defect, and the moisture and the like enter the lens as a whole. On the other hand, when the thickness of each layer of the transparent conductive layer is 9 nm or less, the entire film is in a rough state, that is, moisture and the like enter through the entire film. As a result, moisture and the like enter the entire lens, and the entire lens becomes uniform.
This swelling mainly occurs when the lens base material is a material whose refractive index changes due to moisture absorption, such as plastic.

なお、透明導電層は、層全体が連続して形成されていなくてもよく、不連続な島状に形成されていてもよい。この場合は、層全体の平均的な厚みが上記の３ｎｍ以上９ｎｍ以下の範囲であればよく、より好ましくは３．５ｎｍ以上７ｎｍ以下となる。
したがって、帯電防止性に優れるとともに、むくみの発生しない耐久性に優れた光学物品を提供することができる。 In addition, the transparent conductive layer does not need to be continuously formed in the whole layer, and may be formed in a discontinuous island shape. In this case, the average thickness of the entire layer may be in the range of 3 nm to 9 nm, and more preferably 3.5 nm to 7 nm.
Therefore, it is possible to provide an optical article that is excellent in antistatic property and excellent in durability without causing swelling.

本発明の光学物品において、前記透明導電層は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含む材料で形成されることが好ましい。   In the optical article of the present invention, the transparent conductive layer is preferably formed of a material containing indium tin oxide (ITO).

この発明では、透明導電層にＩＴＯを含む材料を使用するので、帯電防止効果に優れている。   In this invention, since the transparent conductive layer is made of a material containing ITO, the antistatic effect is excellent.

本発明の光学物品の製造方法は、前述の光学物品の製造方法であって、前記反射防止層を真空蒸着にて前記レンズ基材の表面に形成することを特徴とする。   The optical article manufacturing method of the present invention is the above-described optical article manufacturing method, wherein the antireflection layer is formed on the surface of the lens substrate by vacuum deposition.

この発明では、前述の効果を達成することができる光学物品を真空蒸着という従来行われている方法で簡易に実現することができる。   In the present invention, an optical article capable of achieving the above-described effects can be easily realized by a conventionally performed method called vacuum deposition.

本発明の一実施形態にかかる眼鏡レンズの断面図。1 is a cross-sectional view of a spectacle lens according to an embodiment of the present invention. 実施形態における反射防止層の製造に用いる蒸着装置の模式図。The schematic diagram of the vapor deposition apparatus used for manufacture of the antireflection layer in an embodiment. 本実施例におけるＩＴＯ膜の厚みと反射率との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the thickness of the ITO film | membrane and a reflectance in a present Example. （Ａ）金属電極をプラスチックレンズに当接させた状態を示す断面図、（Ｂ）金属電極をプラスチックレンズに当接させた状態を示す上面図。(A) Sectional drawing which shows the state which made the metal electrode contact | abut to a plastic lens, (B) The top view which shows the state which made the metal electrode contact | abut to a plastic lens. 本実施例におけるむくみの判定方法を示す概略図。Schematic which shows the determination method of the swelling in a present Example. （Ａ）レンズ表面においてむくみのない状態を示す模式図、（Ｂ）レンズ表面においてむくみのある状態を示す模式図。(A) A schematic diagram showing a state without swelling on the lens surface, (B) A schematic diagram showing a state with swelling on the lens surface. 本実施例におけるＩＴＯ膜の厚みとシート抵抗値との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the thickness of the ITO film | membrane and sheet resistance value in a present Example. 本実施例におけるＩＴＯ膜の各厚みにおける視感度曲線を示すグラフ。The graph which shows the visibility curve in each thickness of the ITO film | membrane in a present Example.

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。本実施形態では、光学物品として眼鏡レンズを例示して説明するがこれに限定されるものではない。
図１は本実施形態の眼鏡レンズの断面図である。
図１において、眼鏡レンズ１００は、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。
なお、本実施形態では、ハードコート層１２０を省略してレンズ基材１１０の上に直接反射防止層１３０を形成するものでもよく、さらに、レンズ基材１１０とハードコート層１２０との密着性を得るために、レンズ基材１１０とハードコート層１２０との界面にプライマー層を設けてもよい。そして、反射防止層１３０の上には、必要に応じて撥水層や防曇性を有する層を形成するものでもよい。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, a spectacle lens is described as an example of an optical article, but the present invention is not limited to this.
FIG. 1 is a cross-sectional view of the spectacle lens of the present embodiment.
In FIG. 1, a spectacle lens 100 includes a lens base 110, a hard coat layer 120 provided on the surface of the lens base 110, and an antireflection layer 130 provided on the hard coat layer 120. Configured.
In the present embodiment, the hard coating layer 120 may be omitted and the antireflection layer 130 may be formed directly on the lens substrate 110. Further, the adhesion between the lens substrate 110 and the hard coating layer 120 is improved. In order to obtain, a primer layer may be provided at the interface between the lens substrate 110 and the hard coat layer 120. Then, a water repellent layer or an antifogging layer may be formed on the antireflection layer 130 as necessary.

（１．レンズ基材）
レンズ基材１１０としては、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。 (1. Lens substrate)
The lens substrate 110 is not particularly limited, but includes (meth) acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, allyl resin, allyl carbonate resin such as diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), vinyl resin, polyester resin. , Polyether resins, urethane resins obtained by reaction of isocyanate compounds with hydroxy compounds such as diethylene glycol, thiourethane resins obtained by reacting isocyanate compounds with polythiol compounds, and having one or more disulfide bonds in the molecule (thio ) A transparent resin obtained by curing a polymerizable composition containing an epoxy compound can be exemplified.

（２．ハードコート層）
ハードコート層１２０としては、本来の機能である耐擦傷性を向上するものであればよい。例えば、ハードコート層１２０に使用される材料として、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられるが、シリコーン系樹脂を用いたハードコート層が最も好ましい。例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層１２０を設ける。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
金属酸化物微粒子の具体例としてはＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＷＯ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものがあげられる。
このようなハードコート層１２０を形成する方法としては、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法により、ハードコート層１２０の組成物を塗布した後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法が例示できる。 (2. Hard coat layer)
The hard coat layer 120 only needs to improve the scratch resistance, which is the original function. For example, examples of the material used for the hard coat layer 120 include melamine resins, silicone resins, urethane resins, acrylic resins, and the like, but a hard coat layer using a silicone resin is most preferable. For example, the hard coat layer 120 is provided by applying and curing a coating composition comprising metal oxide fine particles and a silane compound. This coating composition may contain components such as colloidal silica and a polyfunctional epoxy compound.
Specific examples of the metal oxide fine particles include SiO ₂ , Al ₂ O ₃ , SnO ₂ , Sb ₂ O ₅ , Ta ₂ O ₅ , CeO ₂ , La ₂ O ₃ , Fe ₂ O ₃ , ZnO, WO ₃ and ZrO _2. Fine particles composed of metal oxides such as In ₂ O ₃ and TiO ₂ or composite fine particles composed of two or more kinds of metal oxides are colloidally dispersed in a dispersion medium such as water, alcohol or other organic solvent. Can be raised.
As a method for forming such a hard coat layer 120, the composition of the hard coat layer 120 is applied by a dipping method, a spinner method, a spray method, or a flow method, and then heated and dried at a temperature of 40 to 200 ° C. for several hours. The method of doing can be illustrated.

（３．反射防止層）
反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成され、このうち、第１層１３１、第３層１３３、第５層１３５及び第８層１３８が低屈折率層であり、第２層１３２、第４層１３４及び第６層１３６が高屈折率層である。 (3. Antireflection layer)
The antireflection layer 130 is formed by sequentially laminating a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 and a high refractive index layer having a refractive index of 1.8 to 2.45. The antireflection layer 130 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, and a sixth layer 136 that are arranged in order from the lens substrate 110 side to the outside. The transparent conductive layer 137 and the eighth layer 138, which are the seventh layer, of which the first layer 131, the third layer 133, the fifth layer 135, and the eighth layer 138 are low refractive index layers, The second layer 132, the fourth layer 134, and the sixth layer 136 are high refractive index layers.

反射防止層１３０の低屈折率層および高屈折率層である第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６および第８層１３８に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＴｉＯ、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴａＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＮｂＯ、Ｎｂ₂Ｏ₃、ＮｂＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、ＭｇＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＭｇＦ₂、ＷＯ₃などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上の混合物を用いる。例えば、第１層１３１、第３層１３３、第５層１３５及び第８層１３８をＳｉＯ₂の層とし、第２層１３２、第４層１３４及び第６層１３６をＴｉＯ₂の層とすることができる。
なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）からなる低屈折率層は、可視光領域の屈折率ｎが１．４０〜１．５０である。また、酸化チタン（ＴｉＯ₂）からなる高屈折率層は、可視光領域の屈折率ｎが２．１０〜２．４５である。 The first layer 131, the second layer 132, the third layer 133, the fourth layer 134, the fifth layer 135, the sixth layer 136, and the eighth layer 138 which are the low refractive index layer and the high refractive index layer of the antireflection layer 130. examples of inorganic substances used _{for, SiO 2, SiO, ZrO 2} , TiO 2, TiO, Ti 2 O 3, Ti 2 O 5, Al 2 O 3, TaO 2, Ta 2 O 5, NbO, Nb 2 Examples include O ₃ , NbO ₂ , Nb ₂ O ₅ , CeO ₂ , MgO, Y ₂ O ₃ , SnO ₂ , MgF ₂ , and WO ₃ . These inorganic substances are used alone or in a mixture of two or more. For example, the first layer 131, the third layer 133, the fifth layer 135, and the eighth layer 138 are SiO ₂ layers, and the second layer 132, the fourth layer 134, and the sixth layer 136 are TiO ₂ layers. Can do.
The low refractive index layer made of silicon dioxide (SiO ₂ ) has a refractive index n in the visible light region of 1.40 to 1.50. The high refractive index layer made of titanium oxide (TiO ₂ ) has a refractive index n in the visible light region of 2.10 to 2.45.

第７層である透明導電層１３７に使用される材料としては、例えば、インジウム、スズ、亜鉛のうち少なくとも１種を含む無機酸化物が用いられるが、特に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が好ましく用いられる。
透明導電層１３７の厚みは、３ｎｍ以上９ｎｍ以下の範囲に形成される。透明導電層１３７の厚みが３ｎｍ未満であると、帯電防止性の効果を得ることができない。また、透明導電層１３７の厚みが９ｎｍを超えると、眼鏡レンズの表面にむくみが発生し、耐久性が悪化するおそれがある。より好ましい範囲は３．５ｎｍ以上７ｎｍ以下である。本実施形態では、例えば、透明導電層１３７の厚みを４ｎｍとする。
また、透明導電層１３７は、層全体が連続して形成されていなくてもよく、例えば、不連続な島状に形成された層であってもよい。この場合は、層全体の平均的な厚みが上記の範囲内となる。
透明導電層１３７は、前述の高屈折率層の一部として設けられることが好ましい。本実施形態では、第６層１３６に隣接して設けられ、第６層１３６の一部として反射防止性にも寄与する。そのため、透明導電層１３７の可視光領域の屈折率は、１．８〜２．４であることが好ましい。
なお、透明導電層１３７は、反射防止層１３０の最外層とならない位置であれば、第２層１３２から第７層１３７のどの位置に形成されてもよい。これらの位置の中でも、レンズ基材１１０から最も遠い最外層のレンズ基材１１０側の位置（本実施形態の第７層１３７）に形成されることが好ましい。 As a material used for the transparent conductive layer 137 which is the seventh layer, for example, an inorganic oxide containing at least one of indium, tin, and zinc is used. In particular, indium tin oxide (ITO) is preferably used. It is done.
The thickness of the transparent conductive layer 137 is formed in the range of 3 nm to 9 nm. When the thickness of the transparent conductive layer 137 is less than 3 nm, an antistatic effect cannot be obtained. Moreover, when the thickness of the transparent conductive layer 137 exceeds 9 nm, swelling occurs on the surface of the spectacle lens, which may deteriorate durability. A more preferable range is 3.5 nm or more and 7 nm or less. In the present embodiment, for example, the thickness of the transparent conductive layer 137 is 4 nm.
Further, the transparent conductive layer 137 may not be formed continuously as a whole, for example, a layer formed in a discontinuous island shape. In this case, the average thickness of the entire layer is within the above range.
The transparent conductive layer 137 is preferably provided as part of the above-described high refractive index layer. In this embodiment, it is provided adjacent to the sixth layer 136 and contributes to antireflection properties as a part of the sixth layer 136. Therefore, the refractive index in the visible light region of the transparent conductive layer 137 is preferably 1.8 to 2.4.
The transparent conductive layer 137 may be formed at any position from the second layer 132 to the seventh layer 137 as long as the transparent conductive layer 137 does not become the outermost layer of the antireflection layer 130. Among these positions, it is preferable to form the outermost layer farthest from the lens base 110 at the position on the lens base 110 side (the seventh layer 137 in the present embodiment).

なお、本実施形態では、反射防止層１３０は、必ずしも８層で構成されるものに限定されるものではなく、例えば、第１層１３１がレンズ基材１１０側であり、低屈折率層と高屈折率層とが交互に配置され、最外層が低屈折率層で形成された構成であれば、他の層構成であってもよい。例えば、第１層、第２層、第３層、第４層、第５層である透明導電層及び第６層の６層から構成するものでもよい。   In the present embodiment, the antireflection layer 130 is not necessarily limited to one composed of eight layers. For example, the first layer 131 is on the lens substrate 110 side, and the high refractive index layer and the high refractive index layer are high. Other layer configurations may be used as long as the refractive index layers are alternately arranged and the outermost layer is formed of a low refractive index layer. For example, the first layer, the second layer, the third layer, the fourth layer, and the sixth layer may be composed of six layers of a transparent conductive layer and a sixth layer.

本実施形態では、低屈折率層である第１層１３１、第３層１３３、第５層１３５及び第８層１３８にＳｉＯ₂、高屈折率層である第２層１３２、第４層１３４及び第６層１３６にＴｉＯ₂、透明導電層１３７にＩＴＯを用いた。 In the present embodiment, the first layer 131, the third layer 133, the fifth layer 135, and the eighth layer 138 that are low refractive index layers are made of SiO ₂ , the second layer 132 that is a high refractive index layer, the fourth layer 134, and the like. TiO ₂ was used for the sixth layer 136 and ITO was used for the transparent conductive layer 137.

反射防止層１３０の各層を形成するには、通常のイオンアシスト（ＩＡＤ）電子ビーム蒸着装置が好適に用いられる。
図２は、本実施形態の反射防止層１３０の製造に用いる蒸着装置１０の模式図である。
図２において、蒸着装置１０は、真空容器１１、排気装置２０、及びガス供給装置３０を備えているいわゆる電子ビーム蒸着装置である。 In order to form each layer of the antireflection layer 130, a normal ion assist (IAD) electron beam evaporation apparatus is preferably used.
FIG. 2 is a schematic diagram of the vapor deposition apparatus 10 used for manufacturing the antireflection layer 130 of the present embodiment.
In FIG. 2, the vapor deposition apparatus 10 is a so-called electron beam vapor deposition apparatus including a vacuum vessel 11, an exhaust device 20, and a gas supply device 30.

真空容器１１は、真空容器１１内に蒸着材料がセットされた蒸発源（るつぼ）１２、１３の蒸着材料を加熱溶解（蒸発）する加熱手段１４、レンズ基材１１０が載置される基材支持台１５、レンズ基材１１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１６、フィラメント１７および導入したガスをイオン化し加速してレンズ基材１１０に照射するイオン銃１８等を備えている。また、必要に応じて真空容器１１内に残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等が具備される。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などを用いることができる。   The vacuum vessel 11 includes a heating unit 14 that heat-dissolves (evaporates) the vapor deposition material of the evaporation sources (crucibles) 12 and 13 in which the vapor deposition material is set in the vacuum vessel 11, and a substrate support on which the lens substrate 110 is placed A base 15, a substrate heating heater 16 for heating the lens substrate 110, a filament 17, and an ion gun 18 for ionizing and accelerating the introduced gas to irradiate the lens substrate 110 are provided. Further, a cold trap for removing moisture remaining in the vacuum vessel 11 and an apparatus for managing the layer thickness are provided as necessary. As a device for managing the layer thickness, for example, a reflection type optical film thickness meter, a crystal resonator film thickness meter, or the like can be used.

蒸発源１２、１３は、蒸着材料がセットされたるつぼであり、真空容器１１の下部に配置されている。着色に用いられる金属は、予め金属酸化物やフッ化物に混ぜられている。
加熱手段１４は、フィラメント１７の発熱によって発生する熱電子を、図示しない電子銃により加速、偏向して、蒸発源１２、１３にセットされた蒸着材料に照射し蒸発させる、いわゆる電子ビーム蒸着が行われる。 The evaporation sources 12 and 13 are crucibles in which a vapor deposition material is set, and are disposed at the lower part of the vacuum vessel 11. The metal used for coloring is mixed in advance with a metal oxide or fluoride.
The heating means 14 performs so-called electron beam evaporation, in which thermionic electrons generated by the heat generated by the filament 17 are accelerated and deflected by an electron gun (not shown) and irradiated to the evaporation material set in the evaporation sources 12 and 13 to evaporate. Is called.

基材支持台１５は、所定数のレンズ基材１１０を載置する支持台であり、蒸発源１２、１３と対向した真空容器１１内の上部に配置されている。基材支持台１５は、レンズ基材１１０に形成される反射防止層の均一性を確保し、かつ量産性を高めるために回転機構を有することが好ましい。   The base material support base 15 is a support base on which a predetermined number of lens base materials 110 are placed, and is disposed in the upper part of the vacuum container 11 facing the evaporation sources 12 and 13. The substrate support 15 preferably has a rotation mechanism in order to ensure the uniformity of the antireflection layer formed on the lens substrate 110 and to improve mass productivity.

基材加熱用ヒーター１６は、例えば赤外線ランプからなり、基材支持台１５の上部に配置されている。基材加熱用ヒーター１６は、レンズ基材１１０を加熱することによりレンズ基材１１０のガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズ基材１１０の表面に形成される層の密着性を確保する。
なお、基材加熱用ヒーター１６には、赤外線ランプの他に抵抗加熱ヒーター等を用いることができる。但し、レンズ基材１１０の材質がプラスチックの場合には、赤外線ランプを用いることが好ましい。 The substrate heating heater 16 is made of, for example, an infrared lamp, and is disposed on the substrate support 15. The substrate heating heater 16 heats the lens substrate 110 to degas or remove moisture from the lens substrate 110 to ensure the adhesion of the layer formed on the surface of the lens substrate 110.
In addition to the infrared lamp, a resistance heater or the like can be used as the substrate heating heater 16. However, when the material of the lens substrate 110 is plastic, it is preferable to use an infrared lamp.

排気装置２０は、真空容器１１内を高真空に排気する装置であり、ターボ分子ポンプ２１と、真空容器１１内の圧力を一定に保つ圧力調整バルブ２２とを備えている。
ガス供給装置３０は、Ａｒ、Ｎ₂、Ｏ₂などのガスを内蔵するガス容器３１０と、ガスの流量を制御する流量制御装置３２０とを備えている。ガス容器３１０に内蔵されたガスは、流量制御装置３２０を介して真空容器１１内に導入される。
圧力計５０は、真空容器１１内の圧力を検出する。圧力計５０によって検出された圧力値に基づき、排気装置２０の圧力調整バルブ２２が、図示しない制御部からの制御信号により制御されて、真空容器１１内の圧力が所定の圧力値に保たれる。 The exhaust device 20 is a device that exhausts the inside of the vacuum vessel 11 to a high vacuum, and includes a turbo molecular pump 21 and a pressure adjustment valve 22 that keeps the pressure inside the vacuum vessel 11 constant.
The gas supply device 30 includes a gas container 310 containing a gas such as Ar, N ₂ , and O _2, and a flow rate control device 320 that controls the flow rate of the gas. The gas built in the gas container 310 is introduced into the vacuum container 11 via the flow rate control device 320.
The pressure gauge 50 detects the pressure in the vacuum vessel 11. Based on the pressure value detected by the pressure gauge 50, the pressure adjustment valve 22 of the exhaust device 20 is controlled by a control signal from a control unit (not shown), and the pressure in the vacuum vessel 11 is maintained at a predetermined pressure value. .

前述した真空容器１１内の基材支持台１５に、ハードコート層１２０の形成されたレンズ基材１１０が載置されてから、蒸着装置１０を稼動する。
ここで、透明導電層１３７、および高屈折率層を構成する第２層１３２、第４層１３４、第６層１３６を形成するにあたり、その成膜条件は、電子銃の加速電圧が５〜１０ｋＶ、電流値が５０〜５００ｍＡ、イオン銃１８の電圧値が２００〜１０００Ｖ、電流値が１００〜５００ｍＡである。
ここで、電子銃の電流値を大きくするとＩＴＯ材料中の低沸点成分の蒸発割合が多くなり、ＩＴＯ膜の透明性が低下する傾向がある。そこで、電子銃の電流値は、１００ｍＡ以下がより好ましい。
低屈折率層を構成する第１層１３１、第３層１３３、第５層１３５及び第８層１３８を形成するためには、前述のイオンアシスト法を用いてもよいが、他の方法、例えば、タングステン等の抵抗体に通電し蒸着材料を溶融／気化する方法（いわゆる、抵抗加熱蒸着）、高エネルギーのレーザー光を蒸発させたい材料に照射する方法等を採用してもよい。 The vapor deposition apparatus 10 is operated after the lens substrate 110 on which the hard coat layer 120 is formed is placed on the substrate support 15 in the vacuum container 11 described above.
Here, in forming the transparent conductive layer 137 and the second layer 132, the fourth layer 134, and the sixth layer 136 constituting the high refractive index layer, the film formation conditions are such that the acceleration voltage of the electron gun is 5 to 10 kV. The current value is 50 to 500 mA, the voltage value of the ion gun 18 is 200 to 1000 V, and the current value is 100 to 500 mA.
Here, when the current value of the electron gun is increased, the evaporation rate of low boiling point components in the ITO material increases, and the transparency of the ITO film tends to decrease. Therefore, the current value of the electron gun is more preferably 100 mA or less.
In order to form the first layer 131, the third layer 133, the fifth layer 135, and the eighth layer 138 constituting the low refractive index layer, the above-described ion assist method may be used, but other methods, for example, Alternatively, a method of melting / vaporizing a deposition material by energizing a resistor such as tungsten (so-called resistance heating deposition), a method of irradiating a material to be vaporized with high energy laser light, or the like may be employed.

次に製造工程について説明する。
まず、ハードコート層１２０を塗布したレンズ基材１１０（以下、レンズ基材１１０と記載する）を基材支持台１５に装着し、基材加熱用ヒーター１６で加熱処理を行い、レンズ基材１１０に付着した水分を蒸発させる。
次に、レンズ基材１１０の表面にイオンクリーニングを実施する。具体的には、イオン銃１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズ基材１１０の表面に照射し、レンズ基材１１０の表面に付着した有機物の除去を行う。この方法により、レンズ基材１１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばアルゴン（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）、窒素（Ｎ₂）を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。 Next, the manufacturing process will be described.
First, a lens base material 110 (hereinafter referred to as a lens base material 110) coated with a hard coat layer 120 is mounted on the base material support base 15 and subjected to a heat treatment with a base material heating heater 16, whereby the lens base material 110. Evaporate water adhering to.
Next, ion cleaning is performed on the surface of the lens substrate 110. Specifically, the ion gun 18 is used to irradiate the surface of the lens substrate 110 with an energy of several hundreds eV to remove organic substances adhering to the surface of the lens substrate 110. By this method, the adhesion of the film formed on the surface of the lens substrate 110 can be strengthened. Note that the same treatment may be performed using an inert gas such as argon (Ar), xenon (Xe), or nitrogen (N ₂ ) instead of oxygen ions, or irradiation with oxygen radicals or oxygen plasma may be performed. Good.

そして、排気装置２０により真空容器１１内を十分に排気した後、反射防止層１３０の形成を実施する。具体的には、蒸発源１２および１３に蒸着材料であるＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂およびＩＴＯをそれぞれの層形成時にセットし、図示しない電子銃を蒸着材料に照射することで蒸着材料を加熱蒸発させ、レンズ基材１１０の表面に蒸着させる。特に、ＴｉＯ₂およびＩＴＯを蒸着させる場合には、酸素イオンビームをイオン銃１８からレンズ基材１１０に対して照射するイオンアシスト蒸着を行うことが好ましい。
各層は、層厚を測定しながら形成され、所望の層厚になった時点で蒸着を停止する。
なお、各層を形成するには、これ以外にも通常の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等を用いても良い。
以上のようにして各層が形成され、反射防止層１３０となる。 Then, after the inside of the vacuum vessel 11 is sufficiently exhausted by the exhaust device 20, the antireflection layer 130 is formed. Specifically, SiO ₂ , TiO _2, and ITO, which are vapor deposition materials, are set in the evaporation sources 12 and 13 when each layer is formed, and the vapor deposition material is heated and evaporated by irradiating the vapor deposition material with an electron gun (not shown). Vapor deposition is performed on the surface of the lens substrate 110. In particular, when depositing TiO ₂ and ITO, it is preferable to perform ion-assisted deposition in which an oxygen ion beam is irradiated from the ion gun 18 to the lens substrate 110.
Each layer is formed while measuring the layer thickness, and the deposition is stopped when the desired layer thickness is reached.
In addition, in order to form each layer, you may use normal vacuum evaporation, ion plating, sputtering, etc. besides this.
Each layer is formed as described above to become the antireflection layer 130.

（４．本実施形態の作用効果）
以上説明した本実施形態によれば、次のような作用効果を得ることができる。
上記実施形態では、反射防止層１３０の一部に透明導電層１３７を設け、透明導電層１３７の厚みを４ｎｍとしたので、帯電防止効果を十分に得ることができるとともに、ガスや水分の透過性にも優れ、むくみの発生を防止することができ、耐久性に優れている。 (4. Effects of this embodiment)
According to the present embodiment described above, the following operational effects can be obtained.
In the above embodiment, since the transparent conductive layer 137 is provided on a part of the antireflection layer 130 and the thickness of the transparent conductive layer 137 is 4 nm, a sufficient antistatic effect can be obtained and gas and moisture permeability can be obtained. In addition, it can prevent the occurrence of swelling and has excellent durability.

上記実施形態では、反射防止層１３０の各層の形成に、真空蒸着法を用いた。特に、透明導電層１３７を成膜する際は、イオンアシスト蒸着により成膜しているので、ＩＴＯで形成される透明導電層１３７の酸化度が促進され、透明性を向上させることができる。   In the above embodiment, the vacuum deposition method is used for forming each layer of the antireflection layer 130. In particular, since the transparent conductive layer 137 is formed by ion-assisted deposition, the degree of oxidation of the transparent conductive layer 137 formed of ITO is promoted, and the transparency can be improved.

（５．変形例）
なお、本発明を実施するための構成、方法などは、以上の記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。 (5. Modifications)
In addition, although the structure, method, etc. for implementing this invention are disclosed by the above description, this invention is not limited to this.

例えば、上記実施形態においてレンズ表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層１３０の上にフッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる防汚層を形成してもよい。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液を用いて有機系反射防止層上に塗布する方法を採用することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法等を用いることができる。なお、撥水処理液を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて防汚層を形成することも可能である。防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下するため好ましくない。   For example, an antifouling layer made of an organosilicon compound containing fluorine may be formed on the antireflection layer 130 for the purpose of improving the water and oil repellency performance of the lens surface in the above embodiment. As the organosilicon compound containing fluorine, for example, a fluorine-containing silane compound can be preferably used. The fluorine-containing silane compound can be applied on the organic antireflection layer using a water-repellent treatment solution dissolved in an organic solvent and adjusted to a predetermined concentration. As a coating method, a dipping method, a spin coating method, or the like can be used. It is also possible to form the antifouling layer by using a dry method such as vacuum deposition after filling the water repellent liquid into the metal pellet. The layer thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 0.5 μm. More preferably, it is 0.001-0.03 micrometer. If the antifouling layer is too thin, the water and oil repellency is poor, and if it is too thick, the surface becomes sticky, which is not preferable. On the other hand, if the antifouling layer is thicker than 0.03 μm, the antireflection effect is lowered, which is not preferable.

また、反射防止層１３０の形成方法に制限はなく、イオンアシスト蒸着法以外にも、高周波スパッタリング法、直流スパッタリング法、ＣＶＤ法（化学気相成長法）イオンプレーティング法等種々の方法が採用できる。   Moreover, there is no restriction | limiting in the formation method of the anti-reflective layer 130, Various methods, such as a high frequency sputtering method, a direct current | flow sputtering method, CVD method (chemical vapor deposition method) ion plating method, can be employ | adopted besides an ion assist vapor deposition method. .

さらに、上記実施形態では、光学物品を眼鏡レンズとして説明したが、本発明の光学物品は眼鏡レンズ以外、例えば、カメラ用レンズ、顕微鏡レンズを始め各種光学レンズとしてもよく、あるいは、プリズム等の光学素子としてもよい。   Furthermore, although the optical article has been described as an eyeglass lens in the above embodiment, the optical article of the present invention may be various optical lenses such as a camera lens and a microscope lens other than a spectacle lens, or an optical element such as a prism. It is good also as an element.

次に、本発明の実施例について説明する。本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。   Next, examples of the present invention will be described. The present invention is not limited to the following examples, but includes modifications and improvements as long as the object of the present invention can be achieved.

まず、以下の実施例および比較例に示す眼鏡用のプラスチックレンズを作製した。
ハードコート層付きレンズ基材として、セイコースーパーソブリン（セイコーエプソン（株）製）を用いた。
次に、イオンアシスト蒸着法にて反射防止層を以下のように形成した。
まず、ハードコート層付きレンズ基材をアセトンにて洗浄後、真空チャンバー内にて約７０℃の加熱処理を行い、ハードコート層付きレンズ基材に付着した水分を蒸発させた。
次に、ハードコート層付きレンズ基材の表面にイオンクリーニングを実施した（実施形態参照）。
イオンクリーニング終了後、十分に真空排気を行い、電子ビームで材料を加熱蒸発させて薄膜を得る真空蒸着法によって以下の表１に示す膜厚（単位：ｎｍ）となるように各層
を成膜した。なお、第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層および第８層を成膜するときの成膜レートは２ｎｍ／ｓｅｃであり、第７層を成膜するときの成膜レートは０．１ｎｍ／ｓｅｃであった。
各層に使用した材料は、以下の通りである。
ＳｉＯ₂：顆粒状のＳｉＯ₂材料。
ＴｉＯ₂：顆粒状のＴｉＯ₂材料。
ＩＴＯ：酸化インジウム（ＩｎＯ₂）に対して酸化スズ（ＳｎＯ₂）を５質量％混入さ
せた焼結体材料。
なお、各層の屈折率は膜材料によって決まっており、波長５５０ｎｍにおける屈折率は、ＳｉＯ₂は１．４６２、ＴｉＯ₂は２．４３１、ＩＴＯは２．１であった。 First, plastic lenses for spectacles shown in the following examples and comparative examples were produced.
As a lens substrate with a hard coat layer, Seiko Super Sovereign (manufactured by Seiko Epson Corporation) was used.
Next, an antireflection layer was formed as follows by ion-assisted vapor deposition.
First, after the lens substrate with a hard coat layer was washed with acetone, heat treatment at about 70 ° C. was performed in a vacuum chamber to evaporate water adhering to the lens substrate with a hard coat layer.
Next, ion cleaning was performed on the surface of the lens substrate with a hard coat layer (see the embodiment).
After completion of the ion cleaning, each layer was formed by vacuum evacuation sufficiently and by vacuum evaporation method to obtain a thin film by heating and evaporating the material with an electron beam so as to have a film thickness (unit: nm) shown in Table 1 below. . The film formation rate when forming the first layer, the second layer, the third layer, the fourth layer, the fifth layer, the sixth layer, and the eighth layer is 2 nm / sec, and the seventh layer is formed. The film formation rate when forming the film was 0.1 nm / sec.
The materials used for each layer are as follows.
SiO ₂ : Granular SiO ₂ material.
TiO ₂ : Granular TiO ₂ material.
ITO: A sintered body material in which 5% by mass of tin oxide (SnO ₂ ) is mixed with indium oxide (InO ₂ ).
The refractive index of each layer is determined by the film material, a refractive index at a wavelength of 550nm is, SiO ₂ is 1.462, TiO ₂ is 2.431, ITO was 2.1.

また、ＩＴＯ膜の成膜は、以下の条件にて行なった。電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとし、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために真空容器内に毎分１５ミリリットルの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。また、イオン銃へは毎分３５ミリリットルの酸素ガスを導入し、電圧値を５００Ｖ、電流値を２５０ｍＡとして酸素イオンビームを照射した。酸素ガスとしては、合計で毎分５０ミリリットルの酸素ガスが導入されたことになる。レンズ基材の温度は約６０℃であった。光吸収特性を示す消衰係数は、５５０ｎｍで０．００１であった。   The ITO film was formed under the following conditions. The acceleration voltage of the electron gun was 7 kV, the current value was 50 mA, and in order to promote the oxidation of the ITO film, 15 ml of oxygen gas was introduced into the vacuum vessel to create an oxygen atmosphere. Further, an oxygen gas of 35 milliliters per minute was introduced into the ion gun, and the oxygen ion beam was irradiated with a voltage value of 500 V and a current value of 250 mA. As the oxygen gas, a total of 50 milliliters of oxygen gas was introduced per minute. The temperature of the lens substrate was about 60 ° C. The extinction coefficient indicating the light absorption characteristic was 0.001 at 550 nm.

また、膜厚の測定は、光学式の膜厚計を用いて成膜時に実施した。
第７層である透明導電層（ＩＴＯ膜）の場合について具体的に説明する。
ＩＴＯ膜をガラス基板（白板ガラス）上に薄膜としてλ／４堆積させると、波長５５０ｎｍにおける光の反射光は図３に示されるように変化する。図３は、ＩＴＯ膜の厚みと反射率との関係を示すグラフである。
初期の反射率を２０％とすると、ＩＴＯを堆積した場合、光学膜厚λ／４を堆積したときに反射率が最高値６１．７％となる。例えば、５ｎｍ堆積したい場合は、２０．７４％の反射率のところで成膜を停止させればよい。また、１０ｎｍ堆積したい場合は、２２．９％の反射率のところで成膜を停止させる。このように、反射率のモニターを行いながら成膜を実施することにより、所望の膜厚の層を形成することができる。
他の層についても同様にして膜厚の測定を行った。
なお、光学式の膜厚計に限らず、水晶振動子膜厚計を用いて同じように測定を実施してもよい。また、スパッタ装置で成膜する場合は、成膜時間を制御することにより膜厚を調整することができる。 The film thickness was measured at the time of film formation using an optical film thickness meter.
The case of the transparent conductive layer (ITO film) as the seventh layer will be specifically described.
When an ITO film is deposited as a thin film on a glass substrate (white glass) as λ / 4, the reflected light of light at a wavelength of 550 nm changes as shown in FIG. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the thickness of the ITO film and the reflectance.
Assuming that the initial reflectivity is 20%, when ITO is deposited, the reflectivity reaches a maximum value of 61.7% when the optical film thickness λ / 4 is deposited. For example, when it is desired to deposit 5 nm, the film formation may be stopped at a reflectance of 20.74%. If it is desired to deposit 10 nm, the film formation is stopped at a reflectance of 22.9%. In this manner, a layer having a desired film thickness can be formed by performing film formation while monitoring the reflectance.
The film thickness was measured in the same manner for the other layers.
Note that the measurement may be performed in the same manner using a quartz crystal film thickness meter as well as the optical film thickness meter. In the case of forming a film using a sputtering apparatus, the film thickness can be adjusted by controlling the film formation time.

次に、反射防止層の上にフッ素系撥水層を成膜した。
そして、真空チャンバーを大気開放し、レンズ基材を反転して前述と同じ工程で反射防止層を形成し、レンズ基材の両面に反射防止層が形成されたプラスチックレンズを作製した。 Next, a fluorine-based water repellent layer was formed on the antireflection layer.
Then, the vacuum chamber was opened to the atmosphere, the lens base material was inverted, and an antireflection layer was formed in the same process as described above, thereby producing a plastic lens having antireflection layers formed on both surfaces of the lens base material.

実施例１から３および比較例１から４で作製したプラスチックレンズのシート抵抗、帯電効果およびむくみの有無を以下の方法で測定した。
（シート抵抗の測定方法）
図４（Ａ）および（Ｂ）に示す金属電極を用いてシート抵抗を測定する。図４（Ａ）は金属電極をプラスチックレンズに当接させた状態を示す断面図、図４（Ｂ）は金属電極をプラスチックレンズに当接させた状態を示す上面図である。
図４（Ａ）および（Ｂ）に示すように、プラスチックレンズ１の凸面１Ａに金属電極６１を当接させ、電極間に１ｋＶの電圧を印加し、このときのシート抵抗値を計測した。 The sheet resistance, charging effect, and presence or absence of swelling of the plastic lenses produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were measured by the following methods.
(Measuring method of sheet resistance)
Sheet resistance is measured using the metal electrodes shown in FIGS. 4A is a cross-sectional view showing a state in which the metal electrode is in contact with the plastic lens, and FIG. 4B is a top view showing a state in which the metal electrode is in contact with the plastic lens.
As shown in FIGS. 4A and 4B, the metal electrode 61 was brought into contact with the convex surface 1A of the plastic lens 1, a voltage of 1 kV was applied between the electrodes, and the sheet resistance at this time was measured.

（帯電効果の判定方法）
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を１ｋｇの垂直荷重にて１０往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ごみの付着がない場合は帯電効果に優れ、ごみの付着がある場合は帯電効果が劣っている。 (Evaluation method of charging effect)
On the surface of the plastic lens, a spectacle lens wipe was rubbed 10 times with a vertical load of 1 kg, and the presence or absence of dust due to static electricity generated at this time was examined. When there is no dust adhesion, the charging effect is excellent, and when there is dust adhesion, the charging effect is inferior.

（むくみの判定方法）
プラスチックレンズの表面または裏面の表面反射光を観察する。具体的には、図５に示すように、プラスチックレンズ１の凸面１Ａにおける蛍光灯７１の反射光を観察し、図６（Ａ）に示すように反射光７２の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定し、図６（Ｂ）に示すように反射光７３の像の輪郭がぼやけているまたはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定する。
これらの測定結果を以下の表２および図７に示す。 (Judgment method of swelling)
Observe the light reflected from the front or back surface of the plastic lens. Specifically, as shown in FIG. 5, the reflected light of the fluorescent lamp 71 on the convex surface 1A of the plastic lens 1 is observed, and the contour of the image of the reflected light 72 is clearly and clearly shown in FIG. 6 (A). When the image can be observed, it is determined that there is no swelling, and when the image of the reflected light 73 is blurred or blurred as shown in FIG. 6B, it is determined that there is swelling.
These measurement results are shown in Table 2 below and FIG.

表２および図７からわかるように、実施例１から３では、シート抵抗値も問題なく、むくみも発生しない。また、ごみの付着がないことから、帯電防止性にも優れている。
一方、比較例１および２はＩＴＯの膜厚が薄いのでむくみは発生しないが、シート抵抗値が大きくごみが付着しており、帯電防止性が劣っている。比較例３および４は膜厚が厚いのでシート抵抗値が低く帯電防止性に優れるが、むくみが発生する。 As can be seen from Table 2 and FIG. 7, in Examples 1 to 3, there is no problem with sheet resistance, and swelling does not occur. Moreover, since there is no adhesion of dust, it is excellent in antistatic properties.
On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 do not generate swelling because the ITO film is thin, but the sheet resistance value is large and dust is attached, and the antistatic property is inferior. In Comparative Examples 3 and 4, since the film thickness is large, the sheet resistance value is low and the antistatic property is excellent, but swelling occurs.

また、実施例２および比較例１で作製したプラスチックレンズの光学特性に変化がないことを確認するために、一般に使用されている分光光度計を用いて各プラスチックレンズの反射率を測定し、図８に示す視感度曲線を得た。
図８からわかるように、実施例２と比較例１とを比較しても、反射率に関して大きな差はなく、光学特性に問題ないことを確認できた。 Further, in order to confirm that there is no change in the optical characteristics of the plastic lenses produced in Example 2 and Comparative Example 1, the reflectance of each plastic lens was measured using a commonly used spectrophotometer. The visibility curve shown in FIG. 8 was obtained.
As can be seen from FIG. 8, even when Example 2 and Comparative Example 1 were compared, there was no significant difference in reflectance, and it was confirmed that there was no problem in optical characteristics.

本発明は、眼鏡レンズに利用できる他、カメラ用レンズを始め各種光学レンズ等に利用することができる。   The present invention can be used not only for eyeglass lenses but also for various optical lenses including camera lenses.

１１０…レンズ基材、１２０…ハードコート層、１３０…反射防止層、１３１…第１層（低屈折率層）、１３２…第２層（高屈折率層）、１３３…第３層（低屈折率層）、１３４…第４層（高屈折率層）、１３５…第５層（低屈折率層）、１３６…第６層（高屈折率層）、１３７…透明導電層（第７層）、１３８…第８層（低屈折率層）。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 ... Lens base material, 120 ... Hard-coat layer, 130 ... Antireflection layer, 131 ... 1st layer (low refractive index layer), 132 ... 2nd layer (high refractive index layer), 133 ... 3rd layer (low refraction) Index layer), 134 ... fourth layer (high refractive index layer), 135 ... fifth layer (low refractive index layer), 136 ... sixth layer (high refractive index layer), 137 ... transparent conductive layer (seventh layer) 138. Eighth layer (low refractive index layer).

Claims (4)

レンズ基材の表面に低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されてなる反射防止層を備えた光学物品であって、
前記反射防止層は、３ｎｍ以上９ｎｍ以下の厚みである透明導電層を１層有していることを特徴とする光学物品。 An optical article including an antireflection layer in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are alternately laminated on the surface of a lens substrate,
An optical article, wherein the antireflection layer has one transparent conductive layer having a thickness of 3 nm or more and 9 nm or less. 請求項１に記載の光学物品において、
前記透明導電層は、３．５ｎｍ以上７ｎｍ以下の厚みであることを特徴とする光学物品。 The optical article according to claim 1.
The optical article, wherein the transparent conductive layer has a thickness of 3.5 nm to 7 nm. 請求項１または請求項２に記載の光学物品において、
前記透明導電層は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含む材料で形成されることを特徴とする光学物品。 The optical article according to claim 1 or 2,
The said transparent conductive layer is formed with the material containing indium tin oxide (ITO), The optical article characterized by the above-mentioned. 請求項１から請求項３のいずれかに記載された光学物品の製造方法であって、
前記反射防止層を真空蒸着にて前記レンズ基材の表面に形成することを特徴とする光学物品の製造方法。 It is a manufacturing method of the optical article according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing an optical article, wherein the antireflection layer is formed on a surface of the lens substrate by vacuum deposition.

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