JP5852374B2 - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Description
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の描画装置であって、前記部分ラスタデータの解像度が、前記描画ラスタデータの解像度と同じである。
請求項10に記載の発明は、請求項6ないし9のいずれかに記載の描画方法であって、前記部分ラスタデータの解像度が、前記描画ラスタデータの解像度と同じである。
9 基板
51 描画データセット
100 描画部
511 描画ラスタデータファイル
512 部分ラスタデータファイル
601 表示制御部
602 ディスプレイ
741 画像表示領域
811 データ変換部
821 記憶部
A1 円
S3,S11,S13,S25 ステップ
Claims (10)
- パターンを描画する描画装置であって、
各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータを生成するデータ変換部と、
前記描画ラスタデータと、前記部分ラスタデータとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶する記憶部と、
前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる部分ラスタデータの画像を、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像として表示部に表示する表示制御部と、
描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する描画部と、
を備え、
前記描画ラスタデータの生成時に、前記データ変換部が、入力部を介して特定される特徴領域の位置および大きさを示す情報を受け付けることを特徴とする描画装置。 - 請求項1に記載の描画装置であって、
一の描画データセットにおける部分ラスタデータが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すことを特徴とする描画装置。 - 請求項1または2に記載の描画装置であって、
一の描画データセットに対応するパターンを更新する際に、前記データ変換部が、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータを生成するとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータを生成し、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示制御部により前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の描画装置であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示制御部により前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の描画装置であって、
前記部分ラスタデータの解像度が、前記描画ラスタデータの解像度と同じであることを特徴とする描画装置。 - パターンを描画する描画方法であって、
a)データ変換部により、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータを生成するとともに、前記描画ラスタデータの生成時に前記各パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータを生成する工程と、
b)前記描画ラスタデータと、前記部分ラスタデータとを含む集合を描画データセットとして、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセットを記憶部にて記憶する工程と、
c)前記複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセットに含まれる部分ラスタデータの画像を、前記選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像として表示部に表示する工程と、
d)描画ラスタデータに従って対象物上にパターンを描画する工程と、
を備え、
前記描画ラスタデータの生成時に、前記データ変換部が、入力部を介して特定される特徴領域の位置および大きさを示す情報を受け付けることを特徴とする描画方法。 - 請求項6に記載の描画方法であって、
一の描画データセットにおける部分ラスタデータが、特徴領域を示す画像に参照情報を付加したものを示すことを特徴とする描画方法。 - 請求項6または7に記載の描画方法であって、
一の描画データセットに対応するパターンを更新する際に、更新済みのパターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して更新済み描画ラスタデータが生成されるとともに、前記更新済み描画ラスタデータの生成時に、前記更新済みのパターンにおける、前記部分ラスタデータと同じ特徴領域を示す更新済み部分ラスタデータが生成され、
前記描画データセットにおいて、前記描画ラスタデータが前記更新済み描画ラスタデータに更新され、前記描画データセットが前記部分ラスタデータおよび前記更新済み部分ラスタデータの双方を含み、
前記更新済みのパターンが選択された際に、前記部分ラスタデータが示す画像および前記更新済み部分ラスタデータが示す画像が、前記表示部に表示可能であることを特徴とする描画方法。 - 請求項6ないし8のいずれかに記載の描画方法であって、
各描画データセットが、複数の特徴領域のそれぞれを示す部分ラスタデータを含み、
前記各描画データセットに対応するパターンが選択された際に、前記パターンにおける複数の特徴領域を示す複数の画像が、前記表示部に個別に表示可能であることを特徴とする描画方法。 - 請求項6ないし9のいずれかに記載の描画方法であって、
前記部分ラスタデータの解像度が、前記描画ラスタデータの解像度と同じであることを特徴とする描画方法。
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