JP2022052111A - 基板位置検出方法、描画方法、基板位置検出装置および描画装置 - Google Patents
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Abstract
Description
3 撮像部
4 描画部
5 基板位置検出装置
9 基板
21 ステージ
71 基準画像
72,72a,72b 線分
73 仮想頂点
81 撮像画像
82 拡張画像
83 部分画像
84 ベース画像
93 分割予定ライン
94 基板要素
94a 選択基板要素
95 パターン領域
113 検出部
114 描画制御部
951 領域外縁
S11~S14 ステップ
Claims (10)
- 基板の位置を検出する基板位置検出方法であって、
a)格子状の分割予定ラインによりそれぞれが矩形状に区画された複数の基板要素を有する基板を保持する工程と、
b)前記複数の基板要素から選択された2つ以上の選択基板要素をそれぞれ撮像して2つ以上の撮像画像を取得する工程と、
c)前記2つ以上の撮像画像のそれぞれに対して基準画像を用いたパターンマッチングを行うことにより、前記2つ以上の選択基板要素の位置をそれぞれ求め、前記基板の位置を検出する工程と、
を備え、
前記複数の基板要素はそれぞれ、略矩形状の領域外縁の内側に所定のパターンが形成されているパターン領域を有し、
前記基準画像は、前記領域外縁の各辺において角部を除いて設定された線分の集合であることを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1に記載の基板位置検出方法であって、
前記基準画像は、前記領域外縁の前記各辺における最長の線分を含むことを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1または2に記載の基板位置検出方法であって、
前記基準画像では、前記領域外縁の前記各辺における線分は、前記各辺の他の辺との仮想的な交点から前記各辺の長さの10%以上離間することを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の基板位置検出方法であって、
前記c)工程において、前記基準画像とのパターンマッチング前に前記2つ以上の撮像画像に対してクロージング処理が行われることを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1ないし4のいずれか1つに記載の基板位置検出方法であって、
前記b)工程において1回の撮像で取得可能な撮像可能領域の大きさが前記各選択基板要素よりも小さく、
前記2つ以上の撮像画像はそれぞれ、前記b)工程において複数回の撮像により得られた複数の部分画像をベース画像上に合成することにより生成され、
前記複数の部分画像の周囲における前記ベース画像の画素値と、前記複数の部分画像全体の平均画素値との差は、前記パターン領域を背景領域と区別するために設定されている画素値の差よりも小さいことを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1ないし5のいずれか1つに記載の基板位置検出方法であって、
前記b)工程において取得された撮像画像に選択基板要素の一部のみが含まれている場合、前記c)工程では、前記撮像画像の周囲に枠状の拡張画像が付加された状態で前記パターンマッチングが行われ、
前記撮像画像の周囲における前記拡張画像の画素値と、前記撮像画像全体の平均画素値との差は、前記パターン領域を背景領域と区別するために設定されている画素値の差よりも小さいことを特徴とする基板位置検出方法。 - 請求項1ないし5のいずれか1つに記載の基板位置検出方法であって、
前記b)工程において取得された撮像画像に選択基板要素の一部のみが含まれている場合、前記c)工程に代えて、または、前記c)工程の後に、前記基板がエラー基板である旨が通知されることを特徴とする基板位置検出方法。 - 基板に対する描画を行う描画方法であって、
d)請求項1ないし7のいずれか1つに記載の基板位置検出方法により基板の位置を検出する工程と、
e)前記d)工程において検出された前記基板の位置に基づいて描画位置を調節しつつ、前記基板の前記複数の基板要素に対して光を照射して描画を行う工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。 - 基板の位置を検出する基板位置検出装置であって、
格子状の分割予定ラインによりそれぞれが矩形状に区画された複数の基板要素を有する基板を保持する基板保持部と、
前記複数の基板要素から選択された2つ以上の選択基板要素をそれぞれ撮像して2つ以上の撮像画像を取得する撮像部と、
前記2つ以上の撮像画像のそれぞれに対して基準画像を用いたパターンマッチングを行うことにより、前記2つ以上の選択基板要素の位置をそれぞれ求め、前記基板の位置を検出する検出部と、
を備え、
前記複数の基板要素はそれぞれ、略矩形状の領域外縁の内側に所定のパターンが形成されているパターン領域を有し、
前記基準画像は、前記領域外縁の各辺において角部を除いて設定された線分の集合であることを特徴とする基板位置検出装置。 - 基板に対する描画を行う描画装置であって、
請求項9に記載の基板位置検出装置と、
基板に対して光を照射して描画を行う描画部と、
前記基板位置検出装置により検出された前記基板の位置に基づいて前記描画部を制御することにより、描画位置を調節しつつ前記基板の前記複数の基板要素に対して描画を行わせる描画制御部と、
を備えることを特徴とする描画装置。
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