JP5181405B2 - 描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置に関し、特に、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ASICに代表される種々のLSlには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
上記ASIC等のLSIは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データを作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
【0003】
このような中、LSI産業界では、一般的に、LSI設計工程及びフォトマスク製造工程における、LSIレイアウトデータのファイルフォーマットとし、ストリームフォーマット(Stream Format)を使用しているが、更に、このストリームフォーマットからなるLSIレイアウトデータをデータフォーマット変換して、描画装置用のフォトマスクデータとして、各描画装置に供されている。
描画装置用のフォトマスクデータとしては、例えば、ラスター型の電子線描画装置用ではMEBESフォーマット(パーキンエルマー社製描画装置用)やEBMフォーマット(東芝製描画装置用)等があり、ベクター型の電子線描画装置用としては、Jeolフォーマット(日本電子株式会社製描画装置用)等があるが、他にも種々ある。
【0004】
そして、ウエハ上の回路が所定の複数のフォトマスクを用いて投影転写され作製されることより、例えば、ラスター型の電子線描画装置に対しては、その描画用のデータを、1つ以上のセルデータとも呼ばれる描画装置用のパターンデータにて構成される描画装置用のマスクのデータ(これを、レイヤーデータとも言う)を複数有する構造の、JOBファイルとして管理している。
尚、JOBファイルは、階層構造を表すもので、1つのマスクデータは、JOBファイルの中の1つの作製するマスクに対するレイヤーとして、それを構成する描画装置用パターンデータ名や配置座標情報や他の描画条件等が組み込まれたものとして記述され、描画装置用のパターンデータとは別ファイルとして管理されるのが一般的である。
ここでは、JOBデータ、マスクデータと言う場合、それぞれ、1枚以上の複数のマスクを作製するためのデータ、マスクを1枚作製するためのデータを意味し、階層構造や描画装置用パターンデータや配置座標情報や他の描画条件等を含めたデータを意味する。
この場合、セルデータともよばれる描画装置用のパターンデータ、描画装置用のマスクデータ、JOBデータとが、図5に示すように、階層構造になっており、通常、マスクデータはそれを構成する各パターンデータを所定の位置に配置して表され、JOBデータは、このようなマスクデータを1つ以上持つ形態で表される。
図5中、JOBはJOBファイル、M1、M2、M3・・は描画装置用のマスクデータ、P11、P12、・・、P21、P22、・・、P31、P32、・・は描画装置用のパターンデータである。
ここでは、同じ描画装置用のパターンデータが複数のマスクデータのパターンデータとなる場合もある。
描画装置用のマスクデータは1枚のフォトマスクを作成するための、パターンデータ群からなるデータで、JOBデータは複数枚のフォトマスクを作成するためデータである。
【0005】
このようなJOBファイルを作成する際、所望の位置に指定したパターンがあるか否かを確認する場合がある。
また、JOBファイル中の描画装置用のパターンデータに誤りがあり、フォトマスクに不良が発生した際に、それがJOBのどこにあるかを確認する場合がある。
従来、このような作業を簡単に行なえ、且つ、容易に確認ができる装置は無かった。
従来のものとしては、例えば、データ表示画面にて対象とするパターンデータを認識する手段として、パターンデータの表示色を変更する、又は、対象のパターンデータを非表示とするなどの方法はあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、近年、描画装置用のフォトマスクデータの大規模化がますます進む中、図5に示すように、階層構造になっているマスクデータ(レイヤーデータ)、JOBデータについては、マスクデータ、JOBデータの作成の際の確認作業、あるいは不良部の確認作業が簡単にでき、且つ、確認が容易な確認方法が求められていた。
本発明は、これ対応するもので、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置は、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置であって、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のJOBデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることを特徴とするものである。
そして、上記の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、領域パターンを記憶手段から抽出するパターンデータ検索手段は、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含む、前記描画装置用のパターンデータのデータサイズ以下のサイズの四角形領域パターンを抽出するものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリックにより指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものであることを特徴とするものであり、パターンデータ検索手段は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部を有するものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれか1項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与するものであることを特徴とするものである。
【0008】
【作用】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置は、このような構成にすることにより、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを図形表示させながら、前記のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置の提供を可能としている。
即ち、目的とする描画装置用のパターンデータを強調して図形表示ができ、パターンデータの配置位置、サイズ等の目視確認を容易にできるものとしている。
具体的には、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のJOBデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることにより、これを達成している。
【0009】
パターンデータ検索手段としては、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリック等により指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものが挙げられる。
また、強調処理部としては、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものが挙げられる。
例えば、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくことにより、表示手段にて、ビットマップ化されたパターンデータ領域に対し、ベタ等のハッチング表示ができる。
そして、表示手段において、このビットマップ化されたパターンデータ領域のベタ等のハッチング表示を、描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータのデータの表示に重ねて表示して、重なった部分が強調された表示状態となるのである。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。
図1は本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の1例の構成図で、図2は図1に示す装置の動作の1例を説明するためのフロー図で、図3(a)はパターンデータ検索手段の設定画面の1例で、図3(b)はパターンデータを反転表示した図で、図4(a)はマスクデータの表示状態を示した図で、図4(b)はその実行画面において強調表示された図で、図4(b1)、図4(b2)は強調処理されたパターンデータに対応する表示図形の一部を示した図である。
図1、図3、図4において、110は記憶手段、120はパターンデータ検索手段、130は強調処理部、140は図形表示制御手段、150は表示手段(ディスプレイ)、160は制御部、165は入力部、170は強調処理対象の描画装置用パターンデータ、171は強調処理パタンデータ、180は強調処理対象でない描画装置用パターンデータ、171は強調処理パタンデータ、190は表示パターンデータ、210は設定画面、211は描画装置用パターンデータ名、212は表示色指定部、221、222、223は表示画面、231、232、233は表示されたマスクデータ、240は強調処理パターンデータ、241は(強調処理パターンデータの)強調処理図形である。
【0011】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の1例を、図1に基づいて説明する。
本例は、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置で、記憶手段110、パターンデータ検索手段120、強調処理部130、図形表示制御手段140、表示手段150とこれら各部を制御し全体を制御する制御部160と制御部への入力手段165とを備えている。
記憶手段110は、パターンデータ群からなる描画装置用のマスクデータあるいは描画装置用のマスクデータを1つ以上有する構造のJOBデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを記憶蓄積するものである。
尚、本例では、1つの記憶手段110にこれらを蓄積するが、複数の記憶手段を用いても良いことは言うまでもない。
本例におけるパターンデータ検索手段120は、強調表示を行なう描画装置用のパターンデータを指定し、記憶手段110から該当する描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含むそのデータサイズ以下の四角形領域パターンを抽出するものである。
ここでのキャッシュファイルは、簡単には、パターンデータ毎に、記憶装置110に格納されているアドレスに対応したシークアドレスを持たせたもので、キャッシュファイルを用いることにより、JOBファイルサイズが大規模化した場合でも、サイズに依存せず、描画装置用パターンデータの検索を容易とする。
更に、ここでのキャッシュファイルには、強調処理を行なうため、このパターンデータの領域であるデータサイズ(チップサイズとも言う)以下の、このパターンデータの全の図形を含む四角領域であるフィットゾーンを指定する領域情報を備えている。
フィットゾーン領域に対応したパターンが前述の四角形領域パターンである。
尚、パターンデータ検索手段120は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部(図示していないが、図3(a)の表示ON/OFFにて判断する)を有するものである。
強調処理部130は、パターンデータ検索手段120により抽出された四角形領域パターンに対して、強調処理を施し、対応する強調処理パターンデータ171を作成するものである。
本例の強調処理部130は、パターンデータ検索手段120にて得られたフィットゾーン領域に対応した四角形領域パターンを処理対象のパターンデータとして、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうもので、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくものである。
これにより、表示手段にて、ビットマップ化されたパターンデータ領域に対し、ベタ等のハッチング表示ができる。
図形表示制御手段140は、パターンデータ検索手段120により抽出された強調処理対象でない描画装置用のパターンデータ180、あるいは、強調処理が施された強調処理パターンデータ171を受けとり、表示するための表示パターンデータ190を作成するものである。
表示手段150は、図形表示制御手段140により作製された表示パターンデータ190の図形表示を、指示された表示属性にしたがい行なうものである。
【0012】
次いで、図2を基に、図1、図3、図4を参照にしながら、本例の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の動作の1例を説明する。
尚、図2中、S11〜S22は処理ステップを示す。
先ず、入力手段165にて処理対象とするJOBファイルをオープンする。(S11)
ここでは、対象のマスクデータについて、検索を容易とするため、予め、キャッシュファイルを用意しておく。
また、JOBファイルについての階層情報を抽出し、これをデータとして保管しておく。
尚、抽出されたJOBファイルについての階層情報は、通常、記憶手段110とはことなる所定のメモリーに蓄積しておく。
また、ここでのキャッシュファイルは、先にも述べた通り、シークアドレスと強調処理を行なうためのフィットゾーンデータとを備えている。
次いで、表示レイヤーを指定し(S12)、マスクデータ毎に画面表示する。(S13)
ここでは、表示するマスクパターンデータを1つ以上指定し、マスクパターンデータ毎に表示画面を持たせる。
勿論、実行画面は指定された1つである。
先に抽出し、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で、これを構成する表示対象のパターンデータが図形表示制御手段140を介して表示手段150へ送られる。
図4(a)に示すように1つの表示手段の表示部に複数の表示画面(ウインドウとも言う)を持たす。
尚、パターンデータ検索手段120にて、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定し、不要のパターンデータの図形表示はしないようにしても良い。
【0013】
次に、パターンデータ検索手段120の設定画面を表示する。(S14)
設定画面は、例えば図3(a)にようになっており、表示されているパターンデータ名毎に表示色指定や、表示のOFFもできる。
次いで、強調処理対象のパターンデータ名をダブルクリックすると(S15)、そのパターンデータ名が反転表示される。(S16)
これにより、ダブルクリックされたパターンデータ名のパターンデータが強調処理対象に指定される。
例えば、図3(a)のパターンデータ名「・・・PAT11」の部分C1がダブルクリックされると、その部分C1は図3(b)のように反転表示され、これにより、パターンデータ名「・・・PAT11」が強調表示に指定されたことが分かる。
【0014】
次いで、実行画面である、マスクデータ表示画面をクリックし(S17)、強調表示対象のパターンデータを検索する。(S18)
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有るか否かを確認する。(S19)
先に抽出し、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で行なう。
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手段120は、記憶手段110から該当する描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータのフィットゾーンに対応する四角形領域パターンを抽出し、抽出された四角形領域パターンを強調処理対象パターンデータ170とする。
次いで、強調処理部130にて強調対象パターンデータ170に強調処理を施し、強調処理された強調処理パターンデータ171とし、図形表示制御手段140に送り、対応した表示パターンデータ190を作成し、実行画面にこれをあわせて表示することにより、強調対象パターンデータの強調表示を行ない(S20)、所望の確認をすることができる。
この場合、強調処理されたパターンデータに対応する表示図形は、例えば図4(b1)のようになる。
そして、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し(S21)、必要がある場合には、同様にS17〜S20の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
【0015】
実行画面に強調表示対象のパターンデータが無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し(S21)、必要がある場合には、同様にS17〜S20の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
このようにして、マスクデータ毎に、強調対象パターンデータの強調表示を行ない、所望の確認をすることができる。
【0016】
本例においては、強調処理として、描画装置用パターンデータのフィットゾーンをビットマップ化し、塗りつぶしを行ったが、塗りつぶす領域はフィットゾーンに限定されるものでない。
【0017】
別の実施の形態例としては、フィットゾーンに代え、強調処理の対象の描画装置用パターンデータの各図形をビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくものも挙げられる。
この例の場合も、同様、パターンデータ群からなる描画装置用のマスクデータをあるいは描画装置用のマスクデータを1つ以上有する構造のJOBデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータを指定して、該当する描画装置用のパターンデータを検索し、検索した描画装置用のパターンデータを記憶手段から抽出する、パターンデータ検索手段と、パターンデータ検索手段により抽出された、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、描画装置用のパターンデータおよび/または強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えていることが必要であるが、キャッシュファイルには、フィットゾーン情報を持たせておく必要はない。
【0018】
この例の場合の処理の1例も、図2に基づいて簡単に説明する。
図2に示すS11〜S17までを行った後、実行画面である、強調表示対象のパターンデータを検索し(S18)、実行画面に強調表示対象のパターンデータが有るか否かを確認する。(S19)
この場合も、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で行なう。
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手段120は、記憶手段110から該当する描画装置用のパターンデータを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータを抽出し、これを強調処理対象パターンデータ170とする。
次いで、強調処理部130にて強調対象パターンデータ170に強調処理を施し、強調処理された強調処理パターンデータ171とし、図形表示制御手段140に送り、対応した表示パターンデータ190を作成し、実行画面にこれをあわせて表示することにより、強調対象パターンデータの強調表示を行ない(S20)、所望の確認をすることができる。
この場合、強調処理されたパターンデータに対応する表示図形は、例えば図4(b2)のようになる。
そして、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し(S21)、必要がある場合には、同様にS17〜S20の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
【0019】
実行画面に強調表示対象のパターンデータが無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し(S21)、必要がある場合には、同様にS17〜S20の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
このようにして、この例の場合も、マスクデータ毎に、強調対象パターンデータの強調表示を行ない、所望の確認をすることができる。
【0020】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置の提供を可能とした。
これにより、実用レベルでJOBファイル作成が容易になり、データの誤りがJOBファイルのどこにあるかを容易に確認できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の1例の構成図である。
【図2】図1に示す装置の動作の1例を説明するためのフロー図である。
【図3】図3(a)はパターンデータ検索手段の設定画面の1例で、図3(b)はパターンデータを反転表示した図である。
【図4】図4(a)はマスクデータの表示状態を示した図で、図4(b)はその実行画面において強調表示された図で、図4(b1)、図4(b2)は強調処理されたパターンデータに対応する表示図形の一部を示した図である。
【図5】JOBファイルのデータの階層構造を説明するための図である。
【符号の説明】
110 記憶手段
120 パターンデータ検索手段
130 強調処理部
140 図形表示制御手段
150 表示手段(ディスプレイ)
160 制御部
165 入力部
170 強調処理対象の描画装置用パターンデータ
171 強調処理パタンデータ
180 強調処理対象でない描画装置用パターンデータ
171 強調処理パタンデータ
190 表示パターンデータ
210 設定画面
211 描画装置用パターンデータ名
212 表示色指定部
221、222、223 表示画面
231、232、233 表示されたマスクデータ
240 強調処理パターンデータ
241 (強調処理パターンデータの)強調処理図形

Claims (5)

  1. 描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置であって、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のJOBデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
  2. 請求項1に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、領域パターンを記憶手段から抽出するパターンデータ検索手段は、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含む、前記描画装置用のパターンデータのデータサイズ以下のサイズの四角形領域パターンを抽出するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
  3. 請求項1ないし2のいずれか1項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリックにより指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
  4. 請求項3に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部を有するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5852374B2 (ja) * 2011-09-07 2016-02-03 株式会社Screenホールディングス 描画装置および描画方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07114180B2 (ja) * 1985-11-25 1995-12-06 富士通株式会社 半導体露光パタンデータ検査方法及び検査装置
JPS62273719A (ja) * 1986-05-22 1987-11-27 Toshiba Corp 荷電ビ−ム露光装置におけるデ−タ検証方法
JPS63150919A (ja) * 1986-12-16 1988-06-23 Toshiba Corp 荷電ビ−ム露光装置におけるデ−タ検証方法
JPH02247649A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Fujitsu Ltd パターン検査方法
JPH04288593A (ja) * 1991-02-14 1992-10-13 Mitsubishi Electric Corp 画像表示装置
JPH09212543A (ja) * 1996-02-02 1997-08-15 Dainippon Printing Co Ltd マスクパターン設計装置
JP2000150341A (ja) * 1998-11-09 2000-05-30 Nec Corp 荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置
JP2001033937A (ja) * 1999-07-19 2001-02-09 Sony Corp 半導体装置の製造方法
JP2001202399A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Mitsubishi Electric Corp パターン比較検証装置、パターン比較検証方法およびパターン比較検証プログラムを記録した媒体
JP4221874B2 (ja) * 2000-03-31 2009-02-12 Jfeスチール株式会社 溶接缶用めっき鋼板

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