JP5817742B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置 - Google Patents

Description

本発明は、各種ディスプレイ、表示装置及び照明等に適用される有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置に関する。

各種ディスプレイのバックライト、看板や非常灯等の表示板、照明等の光源として用いられる面発光体は、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有することから、近年注目されている。このような面発光体の中でも、有機材料を用いて正負の各電極からの電気エネルギーによって発光させる有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子ともいう）は、数Ｖ〜数十Ｖ程度の低電圧で発光が可能であり、薄膜型の完全固体素子であり、省スペースである等の理由から、特に近年注目されている。

有機ＥＬ素子の高効率化には光取り出し効率の向上が必須であるが、有機ＥＬ素子は発光層と金属電極との距離が数十ｎｍオーダーと近いため、表面プラズモンモード光の導波損失が大きく、光取り出し効率が上がらないという課題を有している。表面プラズモンモード光の導波損失を少なくする手段としては、トップエミッション型の構成を取ることが挙げられる。

トップエミッション型有機ＥＬ素子の課題の一つとして、透明導電性層の成膜工程での有機層ダメージによる素子の発光効率低下、電圧上昇及び寿命の低下等がある。特に透明導電性層の成膜プロセスとして生産性が高いスパッタ法を用いた場合に上述の課題が顕著となり、トップエミッション型有機ＥＬ素子の生産性と素子特性の両立は大きな課題であった。生産性と素子特性の両立する技術としては、透明導電性層と発光層との間に銅フタロシアニンなどの金属フタロシアニン系材料から成る層（以下、透明保護層と称する。）を設けることで、透明導電性層の成膜工程での有機層ダメージを抑制する技術が挙げられる（特許文献１、特許文献２参照。）。該技術は、透明保護層の材料として透過率が低い銅フタロシアニンを用いているため、発光効率が下がる欠点を有していることがわかった。

また、別の技術として、チタン酸化物、バナジウム酸化物、ジルコニウム酸化物又はランタン酸化物を酸素欠陥状態で成膜した層を透明保護層とする検討がなされている（特許文献３参照。）。これは上述の金属酸化物の酸素欠陥状態が不安定であることを利用して、透明導電性層を形成するスパッタ工程で発生する酸素ラジカルを透明保護層でトラップすることによって有機層の酸化ダメージの抑制を狙った技術である。従って、スパッタ工程による有機層の酸化ダメージ抑制には効果があるが、透明保護層の酸化により電圧が上昇する課題を有していることがわかった。特に生産性の観点から、スパッタの放電出力を上げて透明導電性層の成膜速度を高める場合、有機層のダメージ抑制のために透明保護層の膜厚を十分に厚くしておく必要があるので、透明保護層が厚い場合、上述のスパッタ工程での透明保護層の酸化により電圧上昇の課題がさらに大きくなることがわかった。

特開２０００−５８２６５号公報 特開２０００−６８０６３号公報 特許第４３６６６８６号公報

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、トップエミッション型及び両面エミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子の透明導電性層の形成に、生産性の高いスパッタ法を用いても駆動電圧の上昇が無く、駆動電圧が改良された有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。

１．少なくとも発光層及び透明導電性層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該発光層と該透明導電性層との間に透明保護層が配置されており、該発光層はリン光発光性化合物を含有し、かつ該透明保護層が金属酸化物を含有し、該金属酸化物がモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）であり、該モリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）及びニッケル酸化物（２価）は酸素欠損状態であり、前記透明導電性層上に補助電極を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
２．前記透明保護層がパターニングされており、かつ前記補助電極が透明保護層のパターニングされていない領域上に形成されていることを特徴とする前記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

３．前記透明保護層の膜厚が６０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする前記１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

４．前記発光層と前記透明保護層との間に電子輸送層を有することを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

５．前記発光層と前記透明保護層との間に正孔輸送層を有することを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

６．前記電子輸送層が下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする前記４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

一般式（１） （Ａｒ１）_ｎ１−Ｙ１
〔式中、ｎ１は１以上の整数を表し、Ｙ１はｎ１が１の場合は置換基を表し、ｎ１が２以上の場合は単なる結合手又はｎ１価の連結基を表す。Ａｒ１は下記一般式（Ａ）で表される基を表し、ｎ１が２以上の場合、複数のＡｒ１は同一でも異なっていてもよい。但し、前記一般式（１）で表される化合物は分子内に３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環を少なくとも２つ有する。〕

〔式中、Ｘは、Ｎ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ１〜Ｅ８は、Ｃ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。＊はＹ１との連結部位を表す。Ｙ２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｙ３及びＹ４は、各々５員又は６員の芳香族環から導出される基を表し、少なくとも一方は環構成原子として窒素原子を含む芳香族複素環から導出される基を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。〕
７．前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする前記６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

〔式中、Ｙ５は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。Ｅ５１〜Ｅ６６は、各々Ｃ（Ｒ３）又はＮを表し、Ｒ３は水素原子又は置換基を表す。Ｙ６〜Ｙ９は、各々芳香族炭化水素環から導出される基又は芳香族複素環から導出される基を表し、Ｙ６又はＹ７の少なくとも一方、及びＹ８又はＹ９の少なくとも一方は、Ｎ原子を含む芳香族複素環から導出される基を表す。ｎ３及びｎ４は０〜４の整数を表すが、ｎ３＋ｎ４は２以上の整数である。〕
８．前記一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする前記７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

〔式中、Ｙ５は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。Ｅ５１〜Ｅ６６、Ｅ７１〜Ｅ８８は、各々Ｃ（Ｒ３）又はＮを表し、Ｒ３は水素原子又は置換基を表す。但し、Ｅ７１〜Ｅ７９の少なくとも１つ及びＥ８０〜Ｅ８８の少なくとも１つはＮを表す。ｎ３及びｎ４は０〜４の整数を表すが、ｎ３＋ｎ４は２以上の整数である。〕
９．前記リン光発光性化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする前記１〜８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

〔式中、Ｐ、Ｑは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、Ａ１はＰ−Ｃと共に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ａ２はＱ−Ｎと共に芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２は２座の配位子を表し、Ｐ１、Ｐ２は各々独立に炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。Ｌ１はＰ１、Ｐ２と共に２座の配位子を形成する原子群を表す。ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３である。Ｍ１は元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素を表す。〕
１０．前記一般式（４）で表される化合物が下記一般式（５）で表される化合物であることを特徴とする前記９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

〔式中、Ｚは、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ｐ、Ｑは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、Ａ１はＰ−Ｃと共に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ａ３はＣ（Ｒ０１）＝Ｃ（Ｒ０２）、Ｎ＝Ｃ（Ｒ０２）、Ｃ（Ｒ０１）＝Ｎ又はＮ＝Ｎを表し、Ｒ０１、Ｒ０２は、各々水素原子又は置換基を表す。Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２は２座の配位子を表し、Ｐ１、Ｐ２は各々独立に炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を表す。Ｌ１はＰ１、Ｐ２と共に２座の配位子を形成する原子群を表す。ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３である。Ｍ１は元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素を表す。破線は単結合又は二重結合を表す。〕
１１．前記Ｍ１がイリジウムを表すことを特徴とする前記９又は１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

１２．両面エミッション型であることを特徴とする前記１〜１１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

１３．前記１〜１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。

本発明によれば、生産性が高く、駆動電圧が改良された有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置を提供することができる。

本発明の透明導電性層が陰極となる両面エミッション型有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を示す。 本発明の透明導電性層が陽極となるトップエミッション型有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を示す。 補助電極を有する両面エミッション型有機ＥＬ素子の一例を示す上面図である。 補助電極を有する両面エミッション型有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。 補助電極を有するトップエミッション型有機ＥＬ素子の一例を示す上面図である。 補助電極を有するトップエミッション型有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、透明導電性層と発光層との間に金属酸化物を主成分とした透明保護層を有しており、かつ発光層にリン光発光性化合物を含有していることを特徴とする。該透明保護層は透明保護層の成膜工程以降の工程での発光層へのダメージを抑制する層であることを特徴としており、発光層にリン光発光性化合物を含有した層を用いることで、該透明保護層の膜厚を上げなくても透明導電性層を形成するスパッタ工程に起因した電圧上昇が起こらない特徴を有している。さらに、金属酸化物として酸素欠陥状態のモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）を含有する透明保護層を用いることで、本発明の効果をさらに高めることができる。これはモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）は酸素欠陥状態の安定性が比較的高いため、スパッタ工程での透明保護層自体の酸化が起こりづらいためか、モリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）を含有する透明保護層はその他の金属酸化物を含有する透明保護層よりも膜厚を上げることができ、スパッタ工程での発光性のダメージをさらに低減できることによる。

以下、本発明に係る電子注入層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子について説明する。

《有機ＥＬ素子》
まず、面発光体の一例である本発明の有機ＥＬ素子の実施形態を詳細に説明するが、以下に記載する内容は、本発明の実施態様の代表例であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に限定されない。

はじめに、有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を以下に示す。

（ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明保護層／陰極
（ii）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明保護層／陰極
（iii）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層／透明保護層／陰極
（iv）陽極／透明保護層／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｖ）陽極／透明保護層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層／陰極
本発明の有機ＥＬ素子は透明保護層の後に形成する電極が透明導電性層であることを特徴とし、対向する電極はアプリケーションによって透明、不透明のどちらも選択することができる。本発明の有機ＥＬ素子はトップエミッション型又は両面エミッション型の構成を取ることが好ましい。

図１Ａに前記（ii）の構成に対応する、透明導電性層９が陰極となる両面エミッション型の構成の一例を示す。ここでは陽極２ａが基材１側となる。

また、図１Ｂに前記（iv）の構成に対応する、透明導電性層９が陽極となるトップエミッション型の構成の一例を示す。陰極２ｂが基材１側となる。

本発明に係る透明保護層は、スパッタ等により形成される透明導電性層と発光層を含む有機層の間に形成されている。

発光層は、少なくとも発光色の異なる２種以上の発光材料を含有していることが好ましく、単層でも複数の発光層からなる発光層ユニットを形成していてもよい。また、正孔輸送層には正孔注入層、電子阻止層も含まれる。

《透明保護層》
本発明に係る透明保護層とは、実質的に透明であり、かつ透明保護層の後工程での発光層へのプロセスダメージを抑制する層であることを特徴とする。本発明でいう実質的に透明とは可視光透過率が５０％以上のことを指す。

本発明の有機ＥＬ素子は、透明導電性層と発光層との間に透明保護層を有している。透明導電性層と発光層との間に透明保護層を有していると透明保護層以降のプロセスでの発光層の劣化が抑制される。

本発明に係る透明保護層は主成分が金属酸化物であることを特徴とし、本発明に係る金属酸化物はモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）である。

本発明に係る金属酸化物は酸素欠陥状態である。酸素欠陥状態とは、酸素不足型の非化学量論組成となっている状態をいう。例えば、モリブデン酸化物（６価）の酸素欠陥状態は、モリブデン酸化物が、６価より小さな価数のモリブデン酸化物を有することを意味している。

本発明に係る透明保護層の成膜方法としては蒸着法が好ましい。

本発明に係る透明保護層の膜厚は、充分な有機層の酸化ダメージの抑制のために、６０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。膜厚が薄過ぎると、透明導電性層の成膜工程での発光層の劣化が課題となり、膜厚が厚過ぎると光取り出し効率の低下が課題となる。

本発明に係る透明保護層は、電極形成の際の、有機層の酸化ダメージを抑制する。該透明保護層に含有されるモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）及びニッケル酸化物（２価）は、酸素欠陥状態であり、膜厚が６０ｎｍ以上と厚い場合でも、駆動電圧の上昇がそれほど起きない。モリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）及びニッケル酸化物（２価）は、試薬メーカー等により、市販されており、容易に入手できる。

本発明に係る透明保護層の成膜方法としては蒸着法が好ましく、例えば、酸化モリブデン（６価）等、蒸着材料として用いられる材料を用いて、系中（蒸着装置内）に酸素を導入せずに成膜する。酸素を導入せず蒸着を行うことで化学量論的に充足した組成を形成せず酸素欠陥状態の金属酸化物からなる透明保護層を得ることができる。

また、成膜条件としては系中に酸素を導入しないほかは、加熱温度、また蒸着速度等蒸着材料に応じて適宜変更できる。また、成膜された金属酸化物膜の組成はＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓｉ）により分析することで確認できる。

本発明に係る透明保護層は必要に応じてパターニングされていても良い。透明保護層をパターニングすることで透明導電性層と電子注入層又は透明導電性層と正孔輸送層が電気的に接触した構成となるため、透明導電性層から輸送された電子又は正孔が透明保護層を通らずに電子注入層又は正孔輸送層に輸送されるため、より低い電圧で発光させることが可能となる。本発明に係る透明保護層をパターニングする場合は５００μｍ以上５，０００μｍ以下の間隔でパターニングされていることが好ましい。パターニングの形状に特に制限がないが、例えば、ライン状のパターニングや格子状のパターニング形態を取ることができる。本発明に係る透明保護層のパターニング方法としては、シャドーマスク方法、レーザー熱転写法、レーザー蒸着法、レーザーアブレーション法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。本発明に係る透明保護層のパターニング方法として好ましい形態は、蒸着によるシャドーマスク法である。

《補助電極》
本発明の有機ＥＬ素子は、透明導電性層上に抵抗を下げる目的で補助電極を設けることができる。補助電極を形成する材料としては、金、白金、銀、銅、アルミ等の抵抗が低い金属が好ましい。補助電極の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法、印刷法、インクジェット法、エアロゾルジェット法などが挙げられる。本発明に係る補助電極の線幅は透明導電性層の開口率の観点から５０μｍ以下であることが好ましく、補助電極の厚さは導電性の観点から、１μ以上であることが好ましい。本発明に係る補助電極は透明保護層がパターニングされている場合は、透明保護層のパターニングされていない領域上に形成することが好ましい。本発明でいう、透明保護層のパターニングされていない領域とは透明保護層がない領域上のことを指す。

《透明導電性層：電極》
本発明に係る有機ＥＬ素子における透明導電性層としては、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ等の導電性光透過性材料が好ましく用いられる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＺｎＯ）等非晶質で光透過性の導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。本発明に係る透明導電性層の形成方法としては生産性の観点から、スパッタリング法が好ましい。本発明に係る透明導電性層は必要に応じて、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度を余り必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。本発明に係る透明導電性層のシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。

〔発光層〕
本発明に係る発光層は発光材料としてリン光発光性化合物が含有されていることを特徴とする。

発光層は、電極又は電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。

発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。また、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。

発光層の膜厚の総和は１〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、より低い駆動電圧を得ることができることから１ｎｍ以上、３０ｎｍ以下である。なお、発光層の膜厚の総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む膜厚である。

個々の発光層の膜厚としては、１〜５０ｎｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは１〜２０ｎｍの範囲に調整することである。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はない。

発光層の作製には、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等の公知の薄膜形成方法により製膜して形成することができる。

各発光層は複数の発光材料を混合してもよく、またリン光発光材料と蛍光発光材料を同一発光層中に混合して用いてもよい。

発光層の構成として、ホスト化合物、発光材料（発光ドーパント化合物ともいう）を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。

〈ホスト化合物〉
有機ＥＬ素子の発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）における燐光発光の燐光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。更に好ましくは燐光量子収率が０．０１未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。

用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。

公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、発光の長波長化を防ぎ、かつ高Ｔｇ（ガラス転移温度）化合物が好ましい。ここでいうガラス転移点（Ｔｇ）とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠した方法により求められる値である。

公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が挙げられる。例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等が挙げられる。

〈発光材料〉
次に、発光材料について説明する。

発光材料としては、リン光発光材料（リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう）を用いることができる。

リン光発光材料とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、燐光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましい燐光量子収率は０．１以上である。

上記燐光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中での燐光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光材料を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて上記燐光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。

リン光発光材料の発光の原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光発光材料に移動させることでリン光発光材料からの発光を得るというエネルギー移動型であり、もう一つはリン光発光材料がキャリアトラップとなり、リン光発光材料上でキャリアの再結合が起こりリン光発光材料からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、いずれの場合においても、リン光発光材料の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。

リン光発光材料は、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。

本発明においては、少なくとも一つの発光層に２種以上の発光材料を含有していてもよく、発光層における発光材料の濃度比が発光層の厚さ方向で変化していてもよい。

本発明に係るリン光発光性化合物は下記一般式（４）で表される化合物であることが好ましい。

《一般式（４）で表される化合物》
本発明の有機ＥＬ素子に係るリン光発光性化合物としては、上記一般式（４）で表される化合物が好ましい。

以下、一般式（４）で表される化合物について説明する。なお、一般式（４）で表されるリン光発光性化合物（リン光発光性の金属錯体ともいう）は、本発明の有機ＥＬ素子の発光層に発光ドーパントとして含有されることが好ましい態様であるが、発光層以外の構成層（本発明の有機ＥＬ素子の構成層については後に詳細に説明する。）に含有されていても良い。

一般式（４）において、Ａ１がＰ−Ｃと共に形成する芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。

これらの環は更に、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（４）において、Ａ１が、Ｐ−Ｃと共に形成する芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、アザカルバゾール環等が挙げられる。

ここで、アザカルバゾール環とは、前記カルバゾール環を構成するベンゼン環の炭素原子が１つ以上窒素原子で置き換わったものを示す。

これらの環は更に、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（４）において、Ａ２が、Ｑ−Ｎと共に形成する芳香族複素環としては、オキサゾール環、オキサジアゾール環、オキサトリアゾール環、イソオキサゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、イソチアゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。

これらの環は更に、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（４）において、Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２で表される２座の配位子としては、フェニルピリジン、フェニルピラゾール、フェニルイミダゾール、フェニルトリアゾール、フェニルテトラゾール、ピラザボール、アセチルアセトン、ピコリン酸等が挙げられる。

一般式（４）において、ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３を表す、中でも、ｊ２は０である場合が好ましい。

一般式（４）において、Ｍ１は元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素（単に遷移金属ともいう）が用いられるが、中でも、イリジウム好ましい。

本発明に係るリン光発光性化合物は下記一般式（５）で表される化合物であることがさらに好ましい。

《一般式（５）で表される化合物》
本発明に係る一般式（４）で表される化合物の中でも、一般式（５）で表される化合物が好ましい。

一般式（５）において、Ｚで表される炭化水素環基としては、非芳香族炭化水素環基、芳香族炭化水素環基が挙げられ、前記非芳香族炭化水素環基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの基は、無置換でも後述する置換基を有していてもよい。

また、前記芳香族炭化水素環基（芳香族炭化水素基、アリール基等ともいう）としては、例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。

これらの基は、無置換でもよく、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（５）において、Ｚで表される複素環基としては、非芳香族複素環基、芳香族複素環基等が挙げられ、前記非芳香族複素環基としては、例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε−カプロラクトン環、ε−カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、１，３−ジオキサン環、１，４−ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン−１，１−ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ［２，２，２］−オクタン環等から導出される基を挙げられる。

これらの基は、無置換でもよく、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

前記芳香族複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基（例えば、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，３−トリアゾール−１−イル基等）、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す）、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。

これらの基は、無置換でもよく、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

好ましくは、Ｚで表される基は芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基である。

一般式（５）において、Ａ１が、Ｐ−Ｃと共に形成する芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。

これらの環は更に、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（５）において、Ａ１がＰ−Ｃと共に形成する芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、カルボリン環、アザカルバゾール環等が挙げられる。

ここで、アザカルバゾール環とは、前記カルバゾール環を構成するベンゼン環の炭素原子が１つ以上窒素原子で置き換わったものを示す。

これらの環は更に、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（５）のＡ３で表される、−Ｃ（Ｒ０１）＝Ｃ（Ｒ０２）−、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ０２）−、−Ｃ（Ｒ０１）＝Ｎ−において、Ｒ０１、Ｒ０２で各々表される置換基は、後述の一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

一般式（５）において、Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２で表される２座の配位子としては、フェニルピリジン、フェニルピラゾール、フェニルイミダゾール、フェニルトリアゾール、フェニルテトラゾール、ピラザボール、アセチルアセトン、ピコリン酸等が挙げられる。

また、ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３を表す、中でも、ｊ２は０である場合が好ましい。

一般式（５）において、Ｍ１で表される元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素（単に遷移金属ともいう）は、一般式（４）において、Ｍ１で表される元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素と同義である。

本発明に係るリン光発光性化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。

上記のリン光発光性化合物（リン光発光性金属錯体等ともいう）は、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒ誌、ｖｏｌ３、Ｎｏ．１６、２５７９〜２５８１頁（２００１）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３０巻、第８号、１６８５〜１６８７頁（１９９１年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４０巻、第７号、１７０４〜１７１１頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４１巻、第１２号、３０５５〜３０６６頁（２００２年）、Ｎｅｗ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，第２６巻、１１７１頁（２００２年）、Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４巻、６９５〜７０９頁（２００４年）、更にこれらの文献中に記載の参考文献等の方法を適用することにより合成できる。

〔中間層〕
各発光層間に非発光性の中間層（非ドープ領域等ともいう）を設ける場合について説明する。

非発光性の中間層とは、複数の発光層を有する場合、その発光層間に設けられる層である。非発光性の中間層の膜厚としては１〜２０ｎｍの範囲にあるのが好ましく、更には３〜１０ｎｍの範囲にあることが隣接発光層間のエネルギー移動等相互作用を抑制し、且つ素子の電流電圧特性に大きな負荷を与えないということから好ましい。

この非発光性の中間層に用いられる材料としては、発光層のホスト化合物と同一でも異なっていてもよいが、隣接する２つの発光層の少なくとも一方の発光層のホスト材料と同一であることが好ましい。

非発光性の中間層は非発光層、各発光層と共通の化合物（例えば、ホスト化合物等）を含有していてもよく、各々共通ホスト材料（ここで、共通ホスト材料が用いられるとは、燐光発光エネルギー、ガラス転移点等の物理化学的特性が同一である場合やホスト化合物の分子構造が同一である場合等を示す。）を含有することにより、発光層−非発光層間の層間の注入障壁が低減され、電圧（電流）を変化させても正孔と電子の注入バランスが保ちやすいという効果を得ることができる。更に、非ドープ発光層に各発光層に含まれるホスト化合物と同一の物理的特性又は同一の分子構造を有するホスト材料を用いることにより、従来の有機ＥＬ素子作製の大きな問題点である素子作製の煩雑さをも併せて解消することができる。

ホスト材料はキャリアの輸送を担うため、キャリア輸送能を有する材料が好ましい。キャリア輸送能を表す物性としてキャリア移動度が用いられるが、有機材料のキャリア移動度は一般的に電界強度に依存性が見られる。電界強度依存性の高い材料は正孔と電子注入・輸送バランスを崩しやすいため、中間層材料、ホスト材料は移動度の電界強度依存性の少ない材料を用いることが好ましい。

また、一方では、正孔や電子の注入バランスを最適に調整するためには、非発光性の中間層は後述する阻止層、即ち正孔阻止層、電子阻止層として機能することも好ましい態様として挙げられる。

〔注入層：電子注入層、正孔注入層〕
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層又は正孔輸送層の間、及び陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させてもよい。

注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。

正孔注入層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン層、酸化バナジウムに代表される酸化物層、アモルファスカーボン層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子層等が挙げられる。

電子注入層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属層、フッ化カリウムに代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデンに代表される酸化物層等が挙げられる。本発明に係わる電子注入層は金属層とアルカリ金属ハライド層との積層構成か酸化物層と金属層とアルカリ金属ハライド層との積層構成が好ましく、金属酸化物にアルカリ金属がドープされていても良い。金属酸化物にドープするアルカリ金属の量は１〜１０質量％の範囲内が好ましい。上記電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は１ｎｍ〜１０μｍの範囲が好ましい。

〔阻止層：正孔阻止層、電子阻止層〕
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層のほかに必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。

正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。

一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層の膜厚としては好ましくは３〜１００ｎｍの範囲内であり、更に好ましくは５〜３０ｎｍの範囲内である。

〔正孔輸送層〕
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。

正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。

正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。

芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。

更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。

また、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような、いわゆるｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。

正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍの範囲内程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。この正孔輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。

また、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。

このようなｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。

〔電子輸送層〕
電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層又は複数層設けることができる。

従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有する。

本発明に係る電子輸送層は下記一般式（１）で表される化合物を含有していることが好ましい。

《一般式（１）で表される化合物》
本発明に係る一般式（１）で表される化合物について説明する。

一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す）、フタラジニル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基又はヘテロアリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、ピペリジル基（ピペリジニル基ともいう）、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、リン酸エステル基（例えば、ジヘキシルホスホリル基等）、亜リン酸エステル基（例えばジフェニルホスフィニル基等）、ホスホノ基等が挙げられる。

これらの置換基は、上記の置換基によって更に置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。

一般式（１）において、Ｙ１で表されるｎ１価の連結基としては、具体的には、２価の連結基、３価の連結基、４価の連結基等が挙げられる。

一般式（１）において、Ｙ１で表される２価の連結基としては、アルキレン基（例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、２，２，４−トリメチルヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、シクロヘキシレン基（例えば、１，６−シクロヘキサンジイル基等）、シクロペンチレン基（例えば、１，５−シクロペンタンジイル基など）等）、アルケニレン基（例えば、ビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、１−メチルビニレン基、１−メチルプロペニレン基、２−メチルプロペニレン基、１−メチルペンテニレン基、３−メチルペンテニレン基、１−エチルビニレン基、１−エチルプロペニレン基、１−エチルブテニレン基、３−エチルブテニレン基等）、アルキニレン基（例えば、エチニレン基、１−プロピニレン基、１−ブチニレン基、１−ペンチニレン基、１−ヘキシニレン基、２−ブチニレン基、２−ペンチニレン基、１−メチルエチニレン基、３−メチル−１−プロピニレン基、３−メチル−１−ブチニレン基等）、アリーレン基（例えば、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、ナフタセンジイル基、ピレンジイル基、ナフチルナフタレンジイル基、ビフェニルジイル基（例えば、［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジイル基、３，３′−ビフェニルジイル基、３，６−ビフェニルジイル基等）、テルフェニルジイル基、クアテルフェニルジイル基、キンクフェニルジイル基、セキシフェニルジイル基、セプチフェニルジイル基、オクチフェニルジイル基、ノビフェニルジイル基、デシフェニルジイル基等）、ヘテロアリーレン基（例えば、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環（モノアザカルボリン環ともいい、カルボリン環を構成する炭素原子のひとつが窒素原子で置き換わった構成の環構成を示す）、トリアゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、キノキサリン環、チオフェン環、オキサジアゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、インドール環からなる群から導出される２価の基等）、酸素や硫黄などのカルコゲン原子、３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基等（ここで、３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環としては、好ましくはＮ、Ｏ及びＳから選択されたヘテロ原子を、縮合環を構成する元素として含有する芳香族複素縮合環であることが好ましく、具体的には、アクリジン環、ベンゾキノリン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、カルボリン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ジアザカルバゾール環（カルボリン環を構成する炭素原子の任意の一つが窒素原子で置き換わったものを表す）、フェナントロリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環（ナフトチオフェン環）等）が挙げられる。

一般式（１）において、Ｙ１で表される３価の連結基としては、例えば、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ウンデカントリイル基、ドデカントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロペンタントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、ピリジントリイル基、カルバゾールトリイル基等が挙げられる。

一般式（１）において、Ｙ１で表される４価の連結基としては、上記の３価の基に更にひとつ結合基がついたものであり、例えば、プロパンジイリデン基、１，３−プロパンジイル−２−イリデン基、ブタンジイリデン基、ペンタンジイリデン基、ヘキサンジイリデン基、ヘプタンジイリデン基、オクタンジイリデン基、ノナンジイリデン基、デカンジイリデン基、ウンデカンジイリデン基、ドデカンジイリデン基、シクロヘキサンジイリデン基、シクロペンタンジイリデン基、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基、ピリジンテトライル基、カルバゾールテトライル基等が挙げられる。

なお、上記の２価の連結基、３価の連結基、４価の連結基は、各々更に、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有していても良い。

一般式（１）で表される化合物の好ましい態様としては、Ｙ１が３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基を表すことが好ましく、該３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環としては、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環が好ましい。また、ｎ１が２以上であることが好ましい。

更に、一般式（１）で表される化合物は、分子内に上記の３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環を少なくとも２つ有する。

また、Ｙ１がｎ１価の連結基を表す場合、一般式（１）で表される化合物の三重項励起エネルギーを高く保つために、Ｙ１は非共役であることが好ましく、更に、Ｔｇ（ガラス転移点、ガラス転移温度ともいう）を向上させる点から、芳香環（芳香族炭化水素環＋芳香族複素環）で構成されていることが好ましい。

ここで、非共役とは、連結基が単結合（一重結合ともいう）と二重結合の繰り返しによって表記できないか、又は連結基を構成する芳香環同士の共役が立体的に切断されている場合を意味する。

（一般式（Ａ）で表される基）
一般式（１）において、Ａｒ１は、前記一般式（Ａ）で表される基を表す。

一般式（Ａ）のＸで表されるＮ（Ｒ）又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）において、更に、Ｅ１〜Ｅ８で表されるＣ（Ｒ１）において、Ｒ、Ｒ’及びＲ１で各々表される置換基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

一般式（Ａ）において、Ｙ２で表される２価の連結基としては、一般式（１）において、Ｙ１で表される２価の連結基と同義である。

一般式（Ａ）において、Ｙ３及びＹ４で各々表される５員又は６員の芳香族環から導出される基の形成に用いられる５員又は６員の芳香族環としては、ベンゼン環、オキサゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ジアジン環、トリアジン環、イミダゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。

更に、Ｙ３及びＹ４で各々表される５員又は６員の芳香族環から導出される基の少なくとも一方は、環構成原子として窒素原子を含む芳香族複素環から導出される基を表すが、該環構成原子として窒素原子を含む芳香族複素環としては、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ジアジン環、トリアジン環、イミダゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。

（Ｙ３で表される基の好ましい態様）
一般式（Ａ）において、Ｙ３で表される基としては、上記６員の芳香族環から導出される基であることが好ましく、更に好ましくは、ベンゼン環から導出される基である。

（Ｙ４で表される基の好ましい態様）
一般式（Ａ）において、Ｙ４で表される基としては、上記６員の芳香族環から導出される基であることが好ましく、更に好ましくは、窒素原子を環構成原子と含む芳香族複素環から導出される基であり、特に好ましくは、Ｙ４がピリジン環から導出される基であることである。

（一般式（Ａ）で表される基の好ましい態様）
一般式（Ａ）で表される基の好ましい態様としては、下記一般式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）又は（Ａ−４）のいずれかで表される基が挙げられる。

式中、ＸはＮ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ１〜Ｅ８はＣ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。Ｙ２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｅ１１〜Ｅ２０は、Ｃ（Ｒ２）又はＮを表し、少なくとも１つはＮを表す。Ｒ２は、水素原子、置換基又は連結部位を表す。但し、Ｅ１１、Ｅ１２の少なくとも１つはＣ（Ｒ２）を表し、Ｒ２は連結部位を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。＊は、前記一般式（１）のＹ１との連結部位を表す。

式中、ＸはＮ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ１〜Ｅ８はＣ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。Ｙ２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｅ２１〜Ｅ２５はＣ（Ｒ２）又はＮを表し、Ｅ２６〜Ｅ３０はＣ（Ｒ２）、Ｎ、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ３）（Ｒ４）を表し、Ｅ２１〜Ｅ３０の少なくとも１つはＮを表す。Ｒ２は、水素原子、置換基又は連結部位を表し、Ｒ３及びＲ４は水素原子又は置換基を表す。但し、Ｅ２１又はＥ２２の少なくとも１つはＣ（Ｒ２）を表し、Ｒ２は連結部位を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。＊は、前記一般式（１）のＹ１との連結部位を表す。破線は単結合又は二重結合を表す。

式中、ＸはＮ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ_１〜Ｅ_８はＣ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。Ｙ_２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｅ_３１〜Ｅ_３５はＣ（Ｒ２）、Ｎ、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ３）（Ｒ４）を表し、Ｅ_３６〜Ｅ_４０はＣ（Ｒ２）又はＮを表し、Ｅ_３１〜Ｅ_４０の少なくとも１つはＮを表す。Ｒ２は、水素原子、置換基又は連結部位を表し、Ｒ３及びＲ４は水素原子又は置換基を表す。但し、Ｅ_３２又はＥ_３３の少なくとも１つは−Ｃ（Ｒ２）＝で表され、Ｒ２は連結部位を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。＊は、前記一般式（１）のＹ１との連結部位を表す。破線は単結合又は二重結合を表す。

式中、ＸはＮ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ_１〜Ｅ_８はＣ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。Ｙ２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｅ_４１〜Ｅ_５０はＣ（Ｒ２）、Ｎ、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ３）（Ｒ４）を表し、少なくとも１つはＮを表す。Ｒ２は、水素原子、置換基又は連結部位を表し、Ｒ３及びＲ４は水素原子又は置換基を表す。但し、Ｅ_４２又はＥ_４３の少なくとも１つはＣ（Ｒ２）で表され、Ｒ２は連結部位を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。＊は、上記一般式（１）のＹ１との連結部位を表す。破線は単結合又は二重結合を表す。

以下、一般式（Ａ−１）〜（Ａ−４）のいずれかで表される基について説明する。

一般式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表される基のいずれかのＸで表されるＮ（Ｒ）又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）において、更に、Ｅ１〜Ｅ８で表されるＣ（Ｒ１）において、Ｒ、Ｒ’及びＲ１で各々表される置換基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

一般式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表される基のいずれかにおいて、Ｙ２で表される２価の連結基としては、一般式（１）において、Ｙ１で表される２価の連結基と同義である。

一般式（Ａ−１）のＥ１１〜Ｅ２０、一般式（Ａ−２）のＥ２１〜Ｅ３０、一般式（Ａ−３）のＥ_３１〜Ｅ_４０、一般式（Ａ−４）のＥ_４１〜Ｅ_５０で、各々表されるＣ（Ｒ２）のＲ２で表される置換基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

本発明に係る電子輸送層は下記一般式（２）で表される化合物を含有していることが好ましい。

《一般式（２）で表される化合物》
本発明では、上記一般式（１）で表される化合物の中でも、上記一般式（２）で表される化合物が好ましい。以下、一般式（２）で表される化合物について説明する。

一般式（２）において、Ｙ５で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される２価の連結基の一例として記載されているアリーレン基、ヘテロアリーレン基と各々同義である。

Ｙ５で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基の好ましい態様としては、ヘテロアリーレン基の中でも、３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基を含むことが好ましく、また、該３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基としては、ジベンゾフラン環から導出される基又はジベンゾチオフェン環から導出される基が好ましい。

一般式（２）において、Ｅ５１〜Ｅ６６で各々表されるＣ（Ｒ３）のＲ３で表される置換基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

一般式（２）において、Ｅ５１〜Ｅ６６で各々表される基としては、Ｅ５１〜Ｅ５８のうちの６つ以上及びＥ５９〜Ｅ６６のうちの６つ以上が、各々Ｃ（Ｒ３）で表されることが好ましい。

一般式（２）において、Ｙ６〜Ｙ９は、各々芳香族炭化水素環から導出される基の形成に用いられる芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。

更に、前記芳香族炭化水素環は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（２）において、Ｙ６〜Ｙ９は、各々芳香族複素環から導出される基の形成に用いられる芳香族複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環（カルボリン環を構成する炭素原子の一つが更に窒素原子で置換されている環を示す）等が挙げられる。

更に、前記芳香族炭化水素環は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基を有してもよい。

一般式（２）において、Ｙ６又はＹ７の少なくとも一方、及びＹ８又はＹ９の少なくとも一方で表されるＮ原子を含む芳香族複素環から導出される基の形成に用いられるＮ原子を含む芳香族複素環としては、例えば、例えば、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環（カルボリン環を構成する炭素原子の一つが更に窒素原子で置換されている環を示す）等が挙げられる。

一般式（２）において、Ｙ７、Ｙ９で表される基としては、各々ピリジン環から導出される基を表すことが好ましい。

また、一般式（２）において、Ｙ６及びＹ８で表される基としては、各々ベンゼン環から導出される基を表すことが好ましい。

本発明に係る電子輸送層は下記一般式（３）で表される化合物を含有していることがより好ましい。

《一般式（３）で表される化合物》
以下、一般式（２）で表される化合物について説明する。

一般式（３）において、Ｙ５で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される２価の連結基の一例として記載されているアリーレン基、ヘテロアリーレン基と各々同義である。

Ｙ５で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基の好ましい態様としては、ヘテロアリーレン基の中でも、３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基を含むことが好ましく、また、該３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基としては、ジベンゾフラン環から導出される基又はジベンゾチオフェン環から導出される基が好ましい。

一般式（３）において、Ｅ５１〜Ｅ６６、Ｅ７１〜Ｅ７８で各々表される−Ｃ（Ｒ３）＝のＲ３で表される置換基は、一般式（１）において、Ｙ１で表される置換基と同義である。

一般式（３）において、Ｅ５１〜Ｅ５８のうちの６つ以上及びＥ５９〜Ｅ６６のうちの６つ以上が、各々Ｃ（Ｒ３）で表されることが好ましい。

一般式（３）において、Ｅ７５〜Ｅ７９の少なくとも１つ及びＥ８４〜Ｅ８８の少なくとも１つが−Ｎ＝を表すことが好ましい。

更には、一般式（３）において、Ｅ７５〜Ｅ７９のいずれか１つ及びＥ８４〜Ｅ８８のいずれか１つがＮを表すことが好ましい。

また、一般式（３）において、Ｅ７１〜Ｅ７４及びＥ８０〜Ｅ８３が、各々Ｃ（Ｒ３）で表されることが好ましい態様として挙げられる。

更に、一般式（２）又は一般式（３）で表される化合物において、Ｅ５３がＣ（Ｒ３）で表され、且つ、Ｒ３が連結部位を表すことが好ましく、更に、Ｅ６１も同時にＣ（Ｒ３）で表され、且つ、Ｒ３が連結部位を表すことが好ましい。

更に、Ｅ７５及びＥ８４がＮで表されることが好ましく、Ｅ７１〜Ｅ７４及びＥ８０〜Ｅ８３が、各々Ｃ（Ｒ３）で表されることが好ましい。

以下、本発明に係る一般式（１）、（２）又は（３）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

以下に代表的な化合物の合成例を示す。

《化合物５の合成例》

工程１：（中間体１の合成）
窒素雰囲気下、３，６−ジブロモジベンゾフラン（１．０モル）、カルバゾール（２．０モル）、銅粉末（３．０モル）、炭酸カリウム（１．５モル）をＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）３００ｍｌ中に混合し、１３０℃で２４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、トルエン１ｌを加え、蒸留水で３回洗浄し、有機層を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン：トルエン＝４：１〜３：１）にて精製し、中間体１を収率８５％で得た。

工程２：（中間体２の合成）
室温、大気下で中間体１（０．５モル）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、ＮＢＳ（２．０モル）を加え、一晩室温で撹拌した。得られた沈殿を濾過し、メタノールで洗浄し、中間体２を収率９２％で得た。

工程３：（化合物５の合成）
窒素雰囲気下、中間体２（０．２５モル）、２−フェニルピリジン（１．０モル）、ルテニウム錯体［（η６−Ｃ_６Ｈ_６）ＲｕＣｌ_２］_２（０．０５モル）、トリフェニルホスフィン（０．２モル）、炭酸カリウム（１２モル）をＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）３ｌ中で混合し、１４０℃で一晩撹拌した。

反応液を室温まで冷却後、ジクロロメタン５ｌを加え、反応液を濾過した。濾液は減圧下に溶媒を留去し（８００Ｐａ、８０℃）、（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：Ｅｔ_３Ｎ＝２０：１〜１０：１）にて精製した。

各フラクションを集めて溶媒を減圧下に留去後、残渣をジクロロメタンに再び溶解し、水で３回洗浄後した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して化合物５を収率６８％で得た。

一般式（１）で表される化合物以外に、前記電子輸送層に用いてもよい材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができ、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。

また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ_３）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。

電子輸送層は、上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍの範囲内程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。電子輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。

また、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、同１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。

本発明においては、このようなｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。

〔対向電極：陽極又は陰極〕
対向電極としては、前述の透明導電性を構成する材料を用いても良いし、金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いることもできる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。対向電極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、対向電極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。

《用途》
本発明の有機ＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特にカラーフィルターと組み合わせた液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

《両面エミッション型有機ＥＬ素子の作製》
有機ＥＬ素子１−１〜１−２６は発光面積が５ｃｍ×５ｃｍとなるように作製した。

〔有機ＥＬ素子１−１の作製〕
（陽極の形成）
透明な基板１の上に厚さ１００ｎｍとなる条件でＩＴＯをスパッタ法で成膜、パターニングして、ＩＴＯ層から成る陽極を形成した。次いで、ＩＴＯ層を設けた基板を、イソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。

（正孔注入層〜電子輸送層の形成）
このＩＴＯ層を設けた基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、タンタル製抵抗加熱ボートに下記のα−ＮＰＤ、ＤＰＶＢｉ、ＢＡｌｑ、Ａｌｑ_３及びフッ化カリウムをそれぞれ入れ、真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。

更に、タングステン製抵抗加熱ボートにアルミニウムを入れ、真空蒸着装置の第２真空槽に取り付けた。

まず、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒でＩＴＯ層上に膜厚２０ｎｍの正孔注入／正孔輸送層を設けた。

更に、ＤＰＶＢｉの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚３０ｎｍの発光層を設けた。

次いで、ＢＡｌｑの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。更に、Ａｌｑ_３の入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの電子輸送層を設けた。

（電子注入層の形成）
次に、フッ化カリウムの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．０１〜０．０２ｎｍ／秒で膜厚１ｎｍのフッ化カリウム層を設けた。更に、フッ化カリウム層まで成膜した素子を真空のまま第２真空槽に移し、第２真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、アルミニウムの入った前記加熱ボートに通電して、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚５ｎｍのアルミニウム層を形成し、電子注入層を設けた。

（透明導電性層（陰極）の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子をあらかじめＩＴＯターゲットを装着した市販の平行平板スパッタリング装置に移し、スパッタリング装置のチャンバー内を５×１０^−３Ｐａまで減圧した後、窒素ガスと酸素ガスを流しながら、ＤＣ出力５００Ｗで放電し、成膜速度１０ｎｍ／秒で膜厚１００ｎｍのＩＴＯ導電層の透明導電性層（陰極）を形成した。

（素子の封止）
最後に、上記で得られた素子をガラスケースで覆い、厚み３００μｍのガラス基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤（東亞合成社製ラックストラックＬＣ０６２９Ｂ）を適用し、これを前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−１を得た。

〔有機ＥＬ素子１−２の作製〕
（陽極〜電子注入層の形成）
陽極〜電子注入層までは有機ＥＬ素子１−１と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、真空蒸着装置に酸素ガスを導入せずに、酸化カルシウムＣａＯの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。なお、同様な方法で作製した素子を別途作製し、透明保護層をＥＳＣＡで分析したところ、透明保護層を構成している酸化カルシウムは酸素欠陥状態（非化学量論組成）になっていた。

（陰極の形成）
有機ＥＬ素子１−１と同様にして陰極を成膜した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子１−１と同様な方法で硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−２を得た。

〔有機ＥＬ素子１−３の作製〕
透明保護層の膜厚を２０ｎｍから７０ｎｍに変更した以外は有機ＥＬ素子１−２と同様な方法で両面エミッション型有機ＥＬ素子１−３を得た。

〔有機ＥＬ素子１−４の作製〕
透明保護層の材料を酸化カルシウムから酸化ランタンに変更した以外は有機ＥＬ素子１−２と同様な方法で両面エミッション型有機ＥＬ素子１−４を得た。

なお、透明保護層をＥＳＣＡで分析し、透明保護層を構成している酸化ランタンは酸素欠陥状態になっていることを確認した。

〔有機ＥＬ素子１−５の作製〕
透明保護層の膜厚を２０ｎｍから７０ｎｍに変更した以外は有機ＥＬ素子１−４と同様な方法で両面エミッション型有機ＥＬ素子１−５を得た。

〔有機ＥＬ素子１−６の作製〕
（陽極の形成）
有機ＥＬ素子１−１と同様な方法でＩＴＯ層から成る陽極を形成した。

（正孔注入層〜電子輸送層の形成）
このＩＴＯ層を設けた基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、タンタル製抵抗加熱ボートに前記α−ＮＰＤ、Ｈ４、Ｉｒ−４、ＢＡｌｑ、Ａｌｑ_３及び酸化バナジウムをそれぞれ入れ、真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。

更に、タングステン製抵抗加熱ボートにアルミニウムを入れ、真空蒸着装置の第２真空槽に取り付けた。

まず、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒でＩＴＯ層上に膜厚２０ｎｍの正孔注入／正孔輸送層を設けた。

更に、Ｈ４の入った前記加熱ボートとＩｒ−４の入ったボートをそれぞれ独立に通電して、発光ホストであるＨ４と発光ドーパントであるＩｒ−４の蒸着速度が１００：６になるように調節し、膜厚３０ｎｍの発光層を設けた。

次いで、ＢＡｌｑの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。更に、Ａｌｑ_３の入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの電子輸送層を設けた。

（電子注入層の形成）
次に、フッ化カリウムの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．０１〜０．０２ｎｍ／秒で膜厚１ｎｍのフッ化カリウム層を設けた。更に、フッ化カリウム層まで成膜した素子を真空のまま第２真空槽に移し、第２真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、アルミニウムの入った前記加熱ボートに通電して、蒸着速度０．１〜０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚５ｎｍのアルミニウム層を形成し、電子注入層を設けた。

（透明保護層の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化バナジウムの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で蒸着して膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。

なお、同様な方法で作製した素子を別途作製し、透明保護層をＥＳＣＡで分析したところ、透明保護層を構成している酸化バナジウムは酸素欠陥状態（非化学量論組成）になっていた。

（透明導電性層（陰極）の形成）
次に、透明保護層まで成膜した素子をあらかじめＩＴＯターゲットを装着した市販の平行平板スパッタリング装置に移し、スパッタリング装置のチャンバー内を５×１０^−３Ｐａまで減圧した後、窒素ガスと酸素ガスを流しながら、ＤＣ出力５００Ｗで放電し、成膜速度１０ｎｍ／秒で膜厚１００ｎｍのＩＴＯ導電層の透明導電性層（陰極）を形成した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子１−１と同様な方法で硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−６を得た。

〔有機ＥＬ素子１−７の作製〕
（陽極〜電子注入層の形成）
陽極〜電子注入層までは有機ＥＬ素子１−６と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化モリブデン（６価）の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で蒸着を行い膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。

（陰極の形成）
有機ＥＬ素子１−６と同様にして陰極を成膜した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子１−６と同様な方法で硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−７を得た。なお、同様な方法で作製した素子を別途作製し、透明保護層をＥＳＣＡで分析し、透明保護層を構成している酸化モリブデン（６価）は酸素欠陥状態になっていることを確認した。

〔有機ＥＬ素子１−８〜１−１２の作製〕
透明保護層の膜厚を表１に記載の値に変更した以外は有機ＥＬ素子１−７と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−８〜１−１２を作製した。

〔有機ＥＬ素子１−１３〜１−１５の作製〕
電子輸送層の化合物を表１に記載の化合物に変更した以外は有機ＥＬ素子１−９と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−１３〜１−１５を作製した。

〔有機ＥＬ素子１−１６〜１−１８の作製〕
リン光発光性化合物を表１に記載の化合物に変更した以外は有機ＥＬ素子１−１５と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−１６〜１−１８を作製した。

〔有機ＥＬ素子１−１９〜１−２０の作製〕
透明保護層の材料を表１に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子１−１８と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−１９〜１−２０を作製した。なお、表１に記した酸化モリブデンは６価であり、酸化レニウムは６価であり、酸化ニッケルは２価である。

〔有機ＥＬ素子１−２１の作製〕
（陽極〜陰極の形成）
陽極〜陰極までは有機ＥＬ素子１−１８と同様な方法で成膜した。

（補助電極の作製）
陰極上に、シャドーマスクを用いてスパッタ法で線幅５０μｍ、厚み１μｍ、ピッチ１，０００μｍの間隔でライン状の銀パターンから成る補助電極を作製した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子１−１８と同様な方法で硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−２１を得た。

〔有機ＥＬ素子１−２２〜１−２３の作製〕
透明保護層の材料を表１に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子１−２１と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−２２〜１−２３を作製した。

〔有機ＥＬ素子１−２４の作製〕
（陽極〜電子注入層の形成）
陽極〜電子注入層までは有機ＥＬ素子１−１８と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻した後、電子注入層の上にステンレス鋼製のマスクが配置されるように装置外部からリモートコントロールで設置した。このとき使用したマスクは１，０００μｍ間隔で幅５０μｍのライン状の穴が空いている。次に、第２真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化モリブデン（６価）の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で上記マスク越しに成膜し、膜厚７０ｎｍの図２に模式図で示したようにパターニングされた透明保護層を設けた。上面図と側面から見た断面図で示した。

（補助電極の作製）
陰極上に、シャドーマスクを用いてスパッタ法で線幅５０μｍ、厚み１μｍ、ピッチ１，０００μｍの間隔で図２のようなライン状の銀パターンから成る補助電極を透明保護層がパターニングされていない領域上に作製した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子１−１８と同様な方法で硬化・封止して、両面エミッション型有機ＥＬ素子１−２４を得た。

〔有機ＥＬ素子１−２５〜１−２６の作製〕
透明保護層の材料を表１に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子１−２４と同様な方法で、有機ＥＬ素子１−２５〜１−２６を作製した。

なお、試料１−８〜１−２６のいずれの透明保護層についてもＥＳＣＡで確認したところ酸素欠損状態であった。

《有機ＥＬ素子の評価》
上記作製した各有機ＥＬ素子について、下記の方法に従って電圧の測定を行った。

〔電圧の測定〕
上記で作製した各有機ＥＬ素子に対し、陽極側と陰極側の両側の正面輝度の和が１０００ｃｄ／ｍ^２となるときの電圧を各素子の電圧とした。なお、輝度の測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いた。得られた電圧の数値が小さいほど、好ましい結果であることを表す。

以上により得られた結果を、表１に示す。

（外部取り出し量子効率）
作製した有機ＥＬ素子に対し、２．５ｍＡ／ｃｍ^２で定電流を印加したときの外部取り出し量子効率（％）を測定した。外部取り出し量子効率は以下の式により算出される。

外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００
なお、測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いた。有機ＥＬ素子１−１〜１−２６の外部取り出し量子効率は、有機ＥＬ素子１−１（比較例）の測定値を１．０とした相対値で表した。外部取り出し量子効率の相対値を表１に記した。

表１に記載の結果より明らかなように、本発明に係る有機ＥＬ素子は、比較例に対し、発光効率及び駆動電圧に優れていることが分かる。

《トップエミッション型有機ＥＬ素子の作製》
有機ＥＬ素子２−１〜２−２３は発光面積が５ｃｍ×５ｃｍとなるように作製した。

〔有機ＥＬ素子２−１の作製〕
（陰極の形成）
透明な基板１の上に厚さ１００ｎｍとなる条件でアルミニウムをスパッタ法で成膜、パターニングして、アルミニウム層から成る陽極を形成した。次いで、アルミニウム層を設けた基板を、イソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。

（電子注入層〜正孔注入／正孔輸送の形成）
このアルミニウム層を設けた基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、タンタル製抵抗加熱ボートにフッ化カリウム、Ａｌｑ_３、ＢＡｌｑ、ＤＰＶＢｉ、α−ＮＰＤをそれぞれ入れ、真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。

まず、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、フッ化カリウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．０１〜０．０２ｎｍ／秒でアルミニウム層上に膜厚１ｎｍの電子注入層を設けた。

次に、Ａｌｑ_３の入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの電子輸送層を設けた。

更に、ＤＰＶＢｉの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚３０ｎｍの発光層を設けた。

次いで、ＢＡｌｑの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚１０ｎｍの電子阻止層を設けた。

更に、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの正孔注入／正孔輸送層を設けた。

（透明導電性層（陽極）の形成）
次に、正孔注入／正孔輸送層まで成膜した素子をあらかじめＩＴＯターゲットを装着した市販の平行平板スパッタリング装置に移し、スパッタリング装置のチャンバー内を５×１０^−３Ｐａまで減圧した後、窒素ガスと酸素ガスを流しながら、ＤＣ出力５００Ｗで放電し、成膜速度１０ｎｍ／秒で膜厚１００ｎｍのＩＴＯ導電層の透明導電性層（陽極）を形成した。

（素子の封止）
最後に、上記で得られた素子をガラスケースで覆い、厚み３００μｍのガラス基板を封止用基板として用い、周囲にシール材としてエポキシ系光硬化型接着剤（東亞合成社製ラックストラックＬＣ０６２９Ｂ）を適用し、これを前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からＵＶ光を照射して、硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−１を得た。

〔有機ＥＬ素子２−２の作製〕
（陰極〜正孔注入／正孔輸送層の形成）
陰極〜正孔注入／正孔輸送層までは有機ＥＬ素子２−１と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、正孔注入／正孔輸送層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化カルシウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、酸素ガスを導入せずに、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で蒸着を行って膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。

（陽極の形成）
有機ＥＬ素子２−１と同様にして陰極を成膜した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子２−１と同様な方法で硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−２を得た。

〔有機ＥＬ素子２−３の作製〕
透明保護層の膜厚を２０ｎｍから７０ｎｍに変更した以外は有機ＥＬ素子２−２と同様な方法でトップエミッション型有機ＥＬ素子２−３を得た。

〔有機ＥＬ素子２−４の作製〕
透明保護層の材料を酸化カルシウムから酸化ランタンに変更した以外は有機ＥＬ素子２−２と同様な方法でトップエミッション型有機ＥＬ素子２−４を得た。

〔有機ＥＬ素子２−５の作製〕
透明保護層の膜厚を２０ｎｍから７０ｎｍに変更した以外は有機ＥＬ素子２−４と同様な方法でトップエミッション型有機ＥＬ素子２−５を得た。

〔有機ＥＬ素子２−６の作製〕
（陰極の形成）
有機ＥＬ素子２−１と同様な方法でアルミニウム層から成る陰極を形成した。

（電子注入層〜正孔注入／正孔輸送の形成）
このアルミニウム層を設けた基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、タンタル製抵抗加熱ボートにフッ化カリウム、Ａｌｑ_３、ＢＡｌｑ、Ｈ４、Ｉｒ−４、α−ＮＰＤをそれぞれ入れ、真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。

まず、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、フッ化カリウムの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．０１〜０．０２ｎｍ／秒でアルミニウム層上に膜厚１ｎｍの電子注入層を設けた。

次に、Ａｌｑ_３の入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの電子輸送層を設けた。

更に、Ｈ４の入った前記加熱ボートとＩｒ−４の入ったボートをそれぞれ独立に通電して、発光ホストであるＨ４と発光ドーパントであるＩｒ−４の蒸着速度が１００：６になるように調節し、膜厚３０ｎｍの発光層を設けた。

次いで、ＢＡｌｑの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を設けた。更に、α−ＮＰＤの入った前記加熱ボートを通電して加熱し蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの正孔注入／正孔輸送層を設けた。

（透明保護層の形成）
次に、正孔注入／正孔輸送層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化バナジウムの入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で蒸着を行って膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。

（透明導電性層（陽極）の形成）
次に、透明保護層まで成膜した素子をあらかじめＩＴＯターゲットを装着した市販の平行平板スパッタリング装置に移し、スパッタリング装置のチャンバー内を５×１０^−３Ｐａまで減圧した後、窒素ガスと酸素ガスを流しながら、ＤＣ出力５００Ｗで放電し、成膜速度１０ｎｍ／秒で膜厚１００ｎｍのＩＴＯ導電層の透明導電性層（陽極）を形成した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子２−１と同様な方法で硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−６を得た。

〔有機ＥＬ素子２−７の作製〕
（陰極〜正孔注入／正孔輸送層の形成）
陰極〜正孔注入／正孔輸送層までは有機ＥＬ素子２−６と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、電子注入層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻し、第１真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化モリブデン（６価）の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で膜厚２０ｎｍの透明保護層を設けた。

（陽極の形成）
有機ＥＬ素子２−６と同様にして陽極を成膜した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子２−６と同様な方法で硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−７を得た。なお、同様な方法で作製した素子を別途作製し、透明保護層をＥＳＣＡで分析し、透明保護層を構成している酸化モリブデン（６価）は酸素欠陥状態になっていることを確認した。

〔有機ＥＬ素子２−８〜２−１２の作製〕
透明保護層の膜厚を表２に記載の値に変更した以外は有機ＥＬ素子２−７と同様な方法で、有機ＥＬ素子２−８〜２−１２を作製した。

〔有機ＥＬ素子２−１３〜２−１５の作製〕
リン光発光性化合物を表２に記載の化合物に変更した以外は有機ＥＬ素子２−９と同様な方法で、有機ＥＬ素子２−１３〜２−１５を作製した。

〔有機ＥＬ素子２−１６〜２−１７の作製〕
透明保護層の材料を表２に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子２−１５と同様な方法で、有機ＥＬ素子２−１６〜２−１７を作製した。なお、表２に記した酸化モリブデンは６価であり、酸化レニウムは６価であり、酸化ニッケルは２価である。

〔有機ＥＬ素子２−１８の作製〕
（陽極〜陰極の形成）
陰極〜陽極までは有機ＥＬ素子２−１５と同様な方法で成膜した。

（補助電極の作製）
陽極上に、シャドーマスクを用いてスパッタ法で線幅５０μｍ、厚み１μｍ、ピッチ１，０００μｍの間隔でライン状の銀パターンから成る補助電極を作製した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子２−１５と同様な方法で硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−１８を得た。

〔有機ＥＬ素子２−１９〜２−２０の作製〕
透明保護層の材料を表２に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子２−１５と同様な方法で、有機ＥＬ素子２−１９〜２−２０を作製した。

〔有機ＥＬ素子２−２１の作製〕
（陰極〜正孔注入／正孔輸送層の形成）
陰極〜正孔注入／正孔輸送層までは有機ＥＬ素子２−１８と同様な方法で成膜した。

（透明保護層の形成）
次に、正孔注入／正孔輸送層まで成膜した素子を真空のまま第１真空槽に戻した後、電子注入層の上にステンレス鋼製のマスクが配置されるように装置外部からリモートコントロールで設置した。このとき使用したマスクは１，０００μｍ間隔で幅５０μｍのライン状の穴が空いている。次に、第２真空槽を４×１０^−４Ｐａまで減圧した後、酸化モリブデン（６価）の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒で上記マスク越しに成膜し、膜厚７０ｎｍの図３のようにパターニングされた透明保護層を設けた。図３に、上面図及び側面から見た断面図を示した。

（補助電極の作製）
陰極上に、シャドーマスクを用いてスパッタ法で線幅５０μｍ、厚み１μｍ、ピッチ１，０００μｍの間隔で図３のようなライン状の銀パターンから成る補助電極を透明保護層がパターニングされていない領域上に作製した。

（素子の封止）
有機ＥＬ素子２−１５と同様な方法で硬化・封止して、トップエミッション型有機ＥＬ素子２−２１を得た。

〔有機ＥＬ素子２−２２〜２−２３の作製〕
透明保護層の材料を表２に記載の材料に変更した以外は有機ＥＬ素子２−２１と同様な方法で、有機ＥＬ素子２−２２〜２−２３を作製した。

なお、試料２−８〜２−２３のいずれの透明保護層についてもＥＳＣＡで確認したところ酸素欠損状態であった。

《有機ＥＬ素子の評価》
上記作製した各有機ＥＬ素子について、下記の方法に従って電圧の測定を行った。

〔電圧の測定〕
上記で作製した各有機ＥＬ素子に対し、陽極側の正面輝度が１０００ｃｄ／ｍ^２となるときの電圧を各素子の電圧とした。なお、輝度の測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いた。得られた電圧の数値が小さいほど、好ましい結果であることを表す。

（外部取り出し量子効率）
作製した有機ＥＬ素子に対し、２．５ｍＡ／ｃｍ^２で定電流を印加したときの外部取り出し量子効率（％）を測定した。外部取り出し量子効率は以下の式により算出される。

外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００
なお、測定には分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いた。有機ＥＬ素子２−１〜２−２３の外部取り出し量子効率は、有機ＥＬ素子２−１（比較例）の測定値を１．０とした相対値で表した。外部取り出し量子効率の相対値を表２に記した。

以上により得られた結果を、表２に示す。

表２に記載の結果より明らかなように、本発明に係る有機ＥＬ素子は、比較例に対し、発光効率及び駆動電圧に優れていることが分かる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、低い電圧で発光し、明るい画面を有するテレビやパソコン等の表示装置及び照明装置に利用することができる。

１ 基材
２ａ 陽極
２ｂ 陰極
３ 正孔注入層
４ 正孔輸送層
５ 発光層
６ 電子輸送層
７ 電子注入層
８ 透明保護層
９ 透明導電性層
１０ 補助電極

Claims (13)

1. 少なくとも発光層及び透明導電性層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該発光層と該透明導電性層との間に透明保護層が配置されており、該発光層はリン光発光性化合物を含有し、かつ該透明保護層が金属酸化物を含有し、該金属酸化物がモリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）又はニッケル酸化物（２価）であり、該モリブデン酸化物（６価）、レニウム酸化物（６価）及びニッケル酸化物（２価）は酸素欠損状態であり、前記透明導電性層上に補助電極を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
2. 前記透明保護層がパターニングされており、かつ前記補助電極が透明保護層のパターニングされていない領域上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
3. 前記透明保護層の膜厚が６０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
4. 前記発光層と前記透明保護層との間に電子輸送層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
5. 前記発光層と前記透明保護層との間に正孔輸送層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. 前記電子輸送層が下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
   一般式（１） （Ａｒ１）_ｎ１−Ｙ１
   〔式中、ｎ１は１以上の整数を表し、Ｙ１はｎ１が１の場合は置換基を表し、ｎ１が２以上の場合は単なる結合手又はｎ１価の連結基を表す。Ａｒ１は下記一般式（Ａ）で表される基を表し、ｎ１が２以上の場合、複数のＡｒ１は同一でも異なっていてもよい。但し、前記一般式（１）で表される化合物は分子内に３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環を少なくとも２つ有する。〕
   

   

   〔式中、Ｘは、Ｎ（Ｒ）、Ｏ、Ｓ又はＳｉ（Ｒ）（Ｒ’）を表し、Ｅ１〜Ｅ８は、Ｃ（Ｒ１）又はＮを表し、Ｒ、Ｒ’及びＲ１は水素原子、置換基又はＹ１との連結部位を表す。＊はＹ１との連結部位を表す。Ｙ２は単なる結合手又は２価の連結基を表す。Ｙ３及びＹ４は、各々５員又は６員の芳香族環から導出される基を表し、少なくとも一方は環構成原子として窒素原子を含む芳香族複素環から導出される基を表す。ｎ２は１〜４の整数を表す。〕
7. 前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
   

   

   〔式中、Ｙ５は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。Ｅ５１〜Ｅ６６は、各々Ｃ（Ｒ３）又はＮを表し、Ｒ３は水素原子又は置換基を表す。Ｙ６〜Ｙ９は、各々芳香族炭化水素環から導出される基又は芳香族複素環から導出される基を表し、Ｙ６又はＹ７の少なくとも一方、及びＹ８又はＹ９の少なくとも一方は、Ｎ原子を含む芳香族複素環から導出される基を表す。ｎ３及びｎ４は０〜４の整数を表すが、ｎ３＋ｎ４は２以上の整数である。〕
8. 前記一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
   

   

   〔式中、Ｙ５は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。Ｅ５１〜Ｅ６６、Ｅ７１〜Ｅ８８は、各々Ｃ（Ｒ３）又はＮを表し、Ｒ３は水素原子又は置換基を表す。但し、Ｅ７１〜Ｅ７９の少なくとも１つ及びＥ８０〜Ｅ８８の少なくとも１つはＮを表す。ｎ３及びｎ４は０〜４の整数を表すが、ｎ３＋ｎ４は２以上の整数である。〕
9. 前記リン光発光性化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
   

   

   〔式中、Ｐ、Ｑは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、Ａ１はＰ−Ｃと共に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ａ２はＱ−Ｎと共に芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２は２座の配位子を表し、Ｐ１、Ｐ２は各々独立に炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。Ｌ１はＰ１、Ｐ２と共に２座の配位子を形成する原子群を表す。ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３である。Ｍ１は元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素を表す。〕
10. 前記一般式（４）で表される化合物が下記一般式（５）で表される化合物であることを特徴とする請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
    

    

    〔式中、Ｚは、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ｐ、Ｑは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、Ａ１はＰ−Ｃと共に芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。Ａ３はＣ（Ｒ０１）＝Ｃ（Ｒ０２）、Ｎ＝Ｃ（Ｒ０２）、Ｃ（Ｒ０１）＝Ｎ又はＮ＝Ｎを表し、Ｒ０１、Ｒ０２は、各々水素原子又は置換基を表す。Ｐ１−Ｌ１−Ｐ２は２座の配位子を表し、Ｐ１、Ｐ２は各々独立に炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を表す。Ｌ１はＰ１、Ｐ２と共に２座の配位子を形成する原子群を表す。ｊ１は１〜３の整数を表し、ｊ２は０〜２の整数を表すが、ｊ１＋ｊ２は２又は３である。Ｍ１は元素周期表における８族〜１０族の遷移金属元素を表す。破線は単結合又は二重結合を表す。〕
11. 前記Ｍ１がイリジウムを表すことを特徴とする請求項９又は１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
12. 両面エミッション型であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする照明装置。

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