JP5815473B2 - 導電パターン形成基板の製造方法 - Google Patents
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例えば特許文献1には、マトリクス内に内蔵され得るナノワイヤーのネットワークを備えた透明導電体が開示されている。特許文献1に記載の透明導電体は、マトリクスがウェットエッチングによって除去されることにより、ナノワイヤーがパターン形成される。特許文献1に記載の透明導電体は、光学的に透明、かつパターン化可能であって、タッチスクリーン、液晶表示装置、プラズマ表示パネル等の視覚表示デバイス内の透明電極として使用することができる。
また、ウェットエッチングの効率を上げる目的で、エッチング前に、酸素プラズマやUVオゾンによる表面処理をすることにより、エッチング液に対する濡れ性が改善することも特許文献1に開示されている。
本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、導電粒子と光透過性樹脂とを含む透明導電膜を絶縁基板上に形成する成膜工程と、前記透明導電膜の一部を露出させる開口を有するマスクを前記透明導電膜上に形成するマスキング工程と、前記マスクの開口内に露出する前記光透過性樹脂の少なくとも一部をドライエッチングにより除去する第一除去工程と、前記第一除去工程の後、前記マスクの開口内に露出する前記導電粒子の少なくとも一部を除去する第二除去工程と、を含むことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法である。
まず、本実施形態の導電パターン形成基板の製造方法によって製造される導電パターン形成基板の構成について説明する。図1は、本実施形態の導電パターン形成基板を示す模式的な平面図である。図2は図1のA−A線における断面図である。
絶縁基板2の厚さは、0.05mm以上0.2mm以下であることが好ましい。また、絶縁基板2の厚さは、0.1mm以上0.15mm以下であるとより好ましい。絶縁基板2の厚さが0.05mm以上であれば、導電パターン4等の構造を絶縁基板2上に形成するのが容易である。また、絶縁基板2の厚さが0.2mm以下であると、絶縁基板2の厚さ方向への光透過性に優れ、また導電パターン形成基板1を薄型とすることができる。
また、絶縁基板2の材料としてガラスが採用されている場合、絶縁基板2の厚さは、0.05mm以上0.5mm以下であることが好ましく、0.1mm以上0.4mm以下であるとより好ましい。
さらに、絶縁基板2は、可撓性を有していてもよい。
なお、導電パターン4は、必ずしも電気が流れるパターンである必要はなく、例えば電気的に浮いた状態として構成されたシールド等のパターンも導電パターン4に含まれてよい。
すなわち、オーバーコート層6の材料としては、熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、あるいは接着剤などを採用することができる。例えば、オーバーコート層6の材料として好適に使用可能な熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル‐酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリアクリル樹脂、及びポリメチルメタクリレート等を挙げることができる。また、例えば、紫外線、熱、電子線、あるいは放射線が照射されることによって硬化する硬化性樹脂の例として、エーテル系ポリウレタン、エステル系ポリウレタン、ポリウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、及びポリイミド樹脂を挙げることができる。
ステップS1では、まず、導電粒子(銀ナノワイヤーNW)と水溶性ポリマーとが水系溶媒に含有された溶液を絶縁基板2の外面に一様に塗布し、この溶液を乾燥させることにより水系溶媒を除去する。すると、導電粒子の外面に水溶性ポリマーが付着した状態で、水溶性ポリマーによって導電粒子が絶縁基板2の外面に付着する。水溶性ポリマーによって導電粒子が絶縁基板2に付着した状態では、導電粒子は絶縁基板2に対して仮固定された状態である。
これでステップS1は終了し、ステップS2へ進む。
ステップS2において形成するマスク100は、導電パターン4及び絶縁パターン5の形状を規定するためのパターン状のマスクである。本実施形態では、マスク100は、フォトリソグラフィに使用されるフォトレジストからなる。フォトレジストは、図5に示すように導電性樹脂層3a上に塗布された後、絶縁パターン5の形状を規定する開口が露光及び現像によって形成される(図5、図6参照)。
これでステップS2は終了し、ステップS3へ進む。
ステップS3では、図7に示すように、導電性樹脂層3aに対して、マスク100が形成された側から、アルゴンプラズマや酸素プラズマによるドライエッチングを行なう。ステップS3におけるドライエッチングにより、導電性樹脂層3aのうちオーバーコート層6を構成する光透過性樹脂が、導電粒子を残した状態で削り取られる。本実施形態では、ステップS3における導電性樹脂層3aに対するドライエッチングは、導電性樹脂層3aの外面の粗面化や表面改質とは異なり、導電性樹脂層3aの層厚を減じることを目的としている。ステップS3におけるドライエッチングにより、導電性樹脂層3aの層厚はオーバーコート層6の形成直後と比較して薄くなり、また基材とオーバーコート層6との接触面から測ったオーバーコート層6の層厚は、マスク100の開口内に露出する領域内で略均一となる。
これでステップS3は終了し、ステップS4へ進む。
ステップS4では、過酸化水素水を主成分とするエッチング液をマスク100の開口内に露出する領域に付着させ、第一のウェットエッチングによりオーバーコート層6を剥離する(図8参照)。これにより、ステップS3におけるプラズマエッチング後に基材上に残ったオーバーコート層6が、マスク100に覆われた部分を残して除去される。
さらに、過マンガン酸カリウム等を主成分とする酸性エッチング液をマスク100の開口内に露出する領域に付着させ、第二のウェットエッチングにより導電粒子を除去する。
第一のウェットエッチングと第二のウェットエッチングとにより、導電粒子が除去された部分が絶縁パターン5となり、導電粒子が残された部分が導電パターン4となる。これにより、導電性樹脂層3aから、導電パターン4及び絶縁パターン5を有する透明導電層3が形成される。
これでステップS4は終了し、ステップS5へ進む。
ステップS5では、図9に示すように、透明導電層3からマスク100を除去する。マスク100が除去された状態の透明導電層3において、導電パターン4部分では、オーバーコート層6の外面から導電粒子の一部が露出している。このため、ステップS5において、必要に応じて、導電パターン4に導通する配線8等をオーバーコート層6上に形成することもできる。本実施形態では、導電パターン4の一部に、銀、金、銅やカーボン等を有する配線8が形成される。
これでステップS5は終了し、ステップS6へ進む。
ステップS6では、図10に示すように、光透過性樹脂やガラス等を接着剤や粘着剤によって透明導電層3に貼り付ける。これにより、透明導電層3が外力から保護される。
これでステップS6は終了する。
以上が本実施形態の導電パターン形成基板1の製造方法である。
次に、上述の実施形態の変形例について説明する。図11ないし図14は、本変形例における導電パターン形成基板の製造工程を示す図である。なお、図12は図11に符号Xで示す部分の拡大図である。
本変形例では、上述のステップS3において、光透過性樹脂を除去する第一のウェットエッチングをせず、光透過性樹脂が残存した状態で上述の第二のウェットエッチングにより導電粒子を除去する点が異なっている。
本変形例のステップS4では、図11及び図12に示すように、絶縁基板2の厚さ方向から見たときにマスク100の開口内に存する導電粒子の少なくとも一部を、透明導電層3の外面に露出した部分を始点としてウェットエッチングにより漸次除去する。ステップS4において導電粒子を除去するためのエッチング液は、上述の実施形態と同様に酸性エッチング液であり、光透過性樹脂を好適に除去できるエッチング液でなくてもかまわない。
また、本変形例においても、マスク100の除去後に、配線8を形成し(図13参照)、保護層9を形成する(図14参照)。
これにより、上述の実施形態の導電パターン形成基板1と電気的に同等の導電パターン形成基板を製造することができる。
本変形例では、光透過性樹脂が残存した状態で導電粒子が除去されるので、導電パターン4と絶縁パターン5との段差が少ない。このため、絶縁パターン5の形成後にオーバーコート層6を形成したときにオーバーコート層6の外面を容易に平坦とすることができる。
また、導電パターン4と絶縁パターン5とが共通の光透過性樹脂を有した状態であるので、導電パターン4と絶縁パターン5との屈折率の差が小さい。このため、パターン見えを軽減できる。
次に、上述の実施形態の他の変形例について説明する。
本変形例では、ステップS3において、絶縁基板2の厚さ方向から見たときにおけるマスク100の開口内において光透過性樹脂の全部をドライエッチングにより除去する。さらに、ステップS3の後、ステップS4において、光透過性樹脂を除去するウェットエッチングをせずに、マスク100の開口内に存する導電粒子をウェットエッチングにより除去する。
本変形例では、光透過性樹脂をウェットエッチングにより除去する必要がなくなるので、工程を簡略化することができる。
次に、上述の実施形態のさらに他の変形例について説明する。
本変形例では、ステップS4におけるウェットエッチングに代えて、マスク100の開口内に存する導電粒子を洗浄用流体(例えば水)により洗い流す点で上述の変形例2と工程が異なっている。
本変形例において、マスク100の開口内において導電粒子を強固に保持していた光透過性樹脂はドライエッチングによって除去されているので、マスク100の開口内に存する導電粒子は弱い力で容易に除去できる。このため、エッチング液を用いて導電粒子を除去する必要がなく、例えば水で洗い流すだけで十分に導電粒子を除去できる。
また、本変形例では、マスク100の開口内から除去された導電粒子を、フィルター等によって分離することによって回収できる。回収された導電粒子は別の導電パターン形成基板1を製造するための材料として再利用することができる。これにより、材料を無駄に廃棄することなく製造効率を高めることができる。
例えば、マスク100は、所定の硬化処理により硬化し、硬化後に導電性樹脂層から剥離可能な易剥離性レジストによって形成されてもよい。易剥離性レジストの一例としては、硬化前は流動体状態であり、上述のステップS2において、絶縁基板2の厚さ方向から見たときに導電パターン4の形状をなし、さらに絶縁パターン5の形状に開口されたパターンとしてスクリーン印刷によって導電性樹脂層上に塗布される。その後、上記所定の硬化処理によって易剥離性レジストは硬化し、透明導電層3のうち絶縁パターン5に対応する部分を露出させる開口を有するマスク100となる。このような構成であっても上述の実施形態と同様の効果を奏する。
なお、上記具体的な構成に対する設計変更等は上記事項には限定されない。
2 絶縁基板
3 透明導電層
4 導電パターン
5 絶縁パターン
6 オーバーコート層
8 配線
9 保護層
10 固定手段
100 マスク
NW 銀ナノワイヤー(導電粒子)
Claims (6)
- 導電粒子と光透過性樹脂とを含む透明導電膜を絶縁基板上に形成する成膜工程と、
前記透明導電膜の一部を露出させる開口を有するマスクを前記透明導電膜上に形成するマスキング工程と、
前記マスクの開口内に露出する前記光透過性樹脂の少なくとも一部をドライエッチングにより除去する第一除去工程と、
前記第一除去工程の後、前記マスクの開口内に露出する前記導電粒子の少なくとも一部を除去する第二除去工程と、
を含むことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 - 請求項1に記載の導電パターン形成基板の製造方法であって、
前記導電粒子は金属ナノワイヤーであることを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 - 請求項1に記載の導電パターン形成基板の製造方法であって、
前記第一除去工程では、前記絶縁基板の厚さ方向から見たときにおける前記マスクの開口内において、前記透明導電膜の外面に前記導電粒子が露出し且つ前記絶縁基板上に前記光透過性樹脂の一部が残存した状態となるように前記光透過性樹脂を部分的にドライエッチングにより除去し、
前記第二除去工程では、前記絶縁基板の厚さ方向から見たときに前記マスクの開口内に存する前記導電粒子の少なくとも一部を、前記透明導電膜の外面に露出した部分を始点としてウェットエッチングにより漸次除去する
ことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 - 請求項3に記載の導電パターン形成基板の製造方法であって、
前記第二除去工程後、前記絶縁基板の厚さ方向から見たときに前記マスクの開口内に全体が存する前記導電粒子は前記マスクの開口の外側領域に少なくとも一部が存する前記導電粒子から離間して電気的に絶縁状態であることを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 - 請求項1に記載の導電パターン形成基板の製造方法であって、
前記第一除去工程では、前記絶縁基板の厚さ方向から見たときにおける前記マスクの開口内において前記光透過性樹脂の全部をドライエッチングにより除去し、
前記第二除去工程では、前記開口内に存する前記導電粒子をウェットエッチングにより除去する
ことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 - 請求項1に記載の導電パターン形成基板の製造方法であって、
前記第一除去工程では、前記絶縁基板の厚さ方向から見たときにおける前記マスクの開口内において前記光透過性樹脂の全部をドライエッチングにより除去し、
前記第二除去工程では、前記開口内に存する前記導電粒子を洗浄用流体により洗い流す
ことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012126949A JP5815473B2 (ja) | 2012-06-04 | 2012-06-04 | 導電パターン形成基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012126949A JP5815473B2 (ja) | 2012-06-04 | 2012-06-04 | 導電パターン形成基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013251220A JP2013251220A (ja) | 2013-12-12 |
JP5815473B2 true JP5815473B2 (ja) | 2015-11-17 |
Family
ID=49849681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012126949A Expired - Fee Related JP5815473B2 (ja) | 2012-06-04 | 2012-06-04 | 導電パターン形成基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5815473B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015188196A1 (en) * | 2014-06-06 | 2015-12-10 | Innova Dynamics, Inc. | Patterned transparent conductors and related compositions and manufacturing methods |
KR102248460B1 (ko) | 2014-08-08 | 2021-05-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법 |
KR102264037B1 (ko) * | 2014-12-11 | 2021-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 투명 전극 패턴, 그 제조 방법 및 이를 포함한 터치 센서 |
JP6777486B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2020-10-28 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | 導電体、その製造方法、およびこれを含む素子 |
KR101914382B1 (ko) | 2017-07-27 | 2018-11-01 | 한양대학교 산학협력단 | 금속 나노와이어 패턴의 제조 방법, 이를 이용한 금속 나노와이어 전극 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5361162B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-12-04 | 株式会社東芝 | グラファイトナノチューブの製造方法 |
JP5259368B2 (ja) * | 2008-12-15 | 2013-08-07 | 日本写真印刷株式会社 | 導電性ナノファイバーシート及びその製造方法 |
JP2011060686A (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-24 | Konica Minolta Holdings Inc | パターン電極の製造方法及びパターン電極 |
-
2012
- 2012-06-04 JP JP2012126949A patent/JP5815473B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013251220A (ja) | 2013-12-12 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |