JP2011060686A - パターン電極の製造方法及びパターン電極 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。
【選択図】図1
Description
本発明のパターン電極の製造方法の概要を図1に示す。図1は、支持体10の上に形成された金属微粒子を含有する導電層2を、金属微粒子除去液20で処理することで、パターン電極30が作製できる製造法を示した概念図である。
本発明に用いられる支持体としては、特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚さ、硬度等については公知のものの中から適宜選択することができるが、高い光透過性を有していることが好ましい。
本発明における導電層は、金属微粒子を含有することを特徴とする。本発明における導電層の形成方法は、金属微粒子を含む分散液を塗布、乾燥して膜形成する液相成膜法であれば特に制限はなく、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等の塗布法を用いることが好ましい。導電層表面に平滑性が必要な場合は、離型性を有する平滑な第一の支持体に金属微粒子を含む分散液を塗布、乾燥して膜形成したのち、樹脂層を介して第二の支持体に転写して導電層を形成してもよい。樹脂層を構成する樹脂としては、可視領域で透明であれば(すなわち、十分な透過率を有すれば)特に限定されない。樹脂としては、硬化型樹脂でもよいし、熱可塑性樹脂でもよいが、硬化型樹脂が好ましい。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられるが、これらの硬化型樹脂のうちでは、樹脂硬化のための設備が簡易で作業性に優れることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。樹脂層は、透明性の観点からは、アクリル系重合体又はエポキシ系重合体が好ましい。また必要に応じて、導電性高分子又は金属酸化物を含有する導電層又はバインダー樹脂を設置してもよい。
本発明に係る「金属微粒子」とは、粒子径が原子スケールからnmサイズの微粒子状の金属のことをいう。金属微粒子の平均粒径としては10〜300nmが好ましく、30〜200nmであることがより好ましい。本発明に係る金属微粒子に用いられる金属としては、導電性の観点から銀又は銅が好ましく、銀又は銅単独でもよいし、それぞれの組み合わせでもよく、銀と銅の合金、銀又は銅が一方の金属でめっきされていてもよい。
一般に、「金属ナノワイヤ」とは、金属元素を主要な構成要素とする、原子スケールからnmサイズの直径を有する線状構造体のことをいう。
〔金属微粒子除去液〕
本発明に用いられる金属微粒子除去液の組成としては、取り扱いの安全性、及び金属微粒子、特に銀微粒子のエッチング性の観点から、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の現像処理に使用する漂白定着液を好ましく用いることができる。溶液は水溶液であることが好ましいが、下記に記載される漂白剤や定着剤等を溶解することができれば、エタノール等の有機溶媒でもよい。
本発明に用いられる水溶性バインダーとしては、例えば合成水溶性バインダーと天然水溶性バインダーが挙げられる。
本発明における金属微粒子除去液をパターン印刷する方法としては、凸版(活版)印刷法、孔版(スクリーン)印刷法、平版(オフセット)印刷法、凹版(グラビア)印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法等の印刷法を用いることができる。本発明における金属微粒子除去液を、本発明における金属微粒子を含有する導電層にパターン電極を形成する上で不要となる部分にパターン印刷し、次いで洗浄処理を行うことで、パターン電極を形成する上で不要となる部分の金属微粒子を除去し、簡便にパターン電極を形成することができる。
本発明における「パターン電極」とは、本発明のパターン電極の製造方法を用いて、前記金属微粒子を含有する導電層からなる導電部と、前記金属微粒子除去液を金属微粒子を含有する導電層の上にパターン状に印刷して、当該金属微粒子が除去された非導電部を有する電極のことをいう。
金属微粒子として、Adv.Mater.,2002,14,833〜837に記載の方法を参考に、ポリビニルピロリドンK30(分子量5万;ISP社製)を利用して、平均短径75nm、平均長さ35μmの銀ナノワイヤを作製し、限外濾過膜を用いて銀ナノワイヤを濾別、水洗処理した後、ヒドロキシプロピルメチルセルロース60SH−50(信越化学工業社製)を銀に対し25質量%加えた水溶液に再分散し、銀ナノワイヤ分散液を調製した。
グラビア塗布機Kプリンティングプルーファー(松尾産業株式会社製)に、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを形成した版を取り付け、TCF−1の作製で用いた銀ナノワイヤ分散液の粘度をカルボキシメチルセルロースナトリウム(SIGMA−ALDRICH社製;C5013 以下、CMCと略記する)で1Pa・s(1000cP)に調整し、易接着加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム支持体コスモシャイン(登録商標)A4100に、パターン部の銀ナノワイヤの目付け量が0.05g/m2となるように印刷回数を調整してグラビア印刷を行い、ストライプ状パターン電極TCF−2を作製した。
〈金属微粒子除去液BF−1の調製〉
エチレンジアミン4酢酸第2鉄アンモニウム 60g
エチレンジアミン4酢酸 2g
メタ重亜硫酸ナトリウム 15g
チオ硫酸アンモニウム 70g
マレイン酸 5g
純水で1Lに仕上げ、硫酸又はアンモニア水でpHを5.5に調整し金属微粒子除去液BF−1を調製した。
TCF−3の作製において、グラビア印刷を行う代わりに、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを形成したスクリーン印刷用ポリエステルメッシュ(ミタニマイクロニクス株式会社製;255T)を用いて、TCF−3で作製した金属微粒子除去液BF−1の粘度をCMCで10Pa・s(10000cP)に調整し、銀ナノワイヤ塗布層の上に塗布膜厚30μmとなるようスクリーン印刷を行った。印刷後1分間放置し、次いで流水による水洗処理を1分間行い、ストライプ状パターン電極TCF−4を作製した。
TCF−3の作製において、グラビア印刷を行う代わりに、インクジェットプリンター用いて、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを、TCF−3で作製した金属微粒子除去液BF−1の粘度をCMCで30mPa・s(30cP)に調整し、銀ナノワイヤ塗布層の上に塗布膜厚30μmとなるよう印刷回数を調整してインクジェット印刷を行った。印刷後1分間放置し、次いで流水による水洗処理を1分間行い、ストライプ状パターン電極TCF−5を作製した。
TCF−4の作製において、金属微粒子除去液BF−1の粘度を増粘剤アエロジル#200(微粒子シリカ;日本アエロジル社製)で10Pa・s(10000cP)に調整して用いた以外はTCF−4と同様にして、ストライプ状パターン電極TCF−6を作製した。印刷後のスクリーンメッシュを確認したところ、部分的に版目詰まりが見られた。
片面に親水化処理を行った二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製 ルミラー(登録商標)U46)の親水化処理層上に、金属微粒子として、下記の様に調製した自己組織化銀微粒子層形成溶液C−1を塗布してから25℃で1分間経過させ、銀微粒子を網目形状に自己組織化させてランダムな網目状に銀微粒子層を積層し、その後、150℃で1分間処理した。次に、フィルムごと、25℃のアセトン(ナカライテスク(株)製 特級)に30秒間浸け、フィルムを取り出し、25℃で3分間乾燥させた。続いて、フィルムごと25℃の1N(1mol/L)の塩酸(ナカライテスク(株)製 N/10−塩酸)に1分間浸け、フィルムを取り出し、水洗した後、150℃で1分間乾燥して網目状銀微粒子層形成フィルムを得た。
BYK−410(BYKケミー製) 0.11
SPAN−80(東京化成工業製) 0.11
ジクロロエタン 75.63
シクロヘキサノン 0.42
銀粉末(平均粒径70nm) 3.59
BYK−348(0.02%水溶液;BYKケミー製)19.98
ZonylFSH(デュポン製) 0.08
Butver B−76(Solutia製) 0.08
TCF−3と同様に、グラビア塗布機Kプリンティングプルーファー(松尾産業株式会社製)に、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを形成した版を取り付け、作製した金属微粒子除去液BF−1の粘度をCMCで0.5Pa・s(500cP)に調整し、網目状銀微粒子層の上に塗布膜厚30μmとなるよう印刷回数を調整してグラビア印刷を行った。印刷後3分間放置し、次いで流水による水洗処理を1分間行い、ストライプ状パターン電極TCF−7を作製した。
TCF−3の作製において、銀ナノワイヤの代わりに、特開2002−266007号公報に記載の方法を参考にして作製した、平均短径20nm、平均長さ10μmの銅ナノワイヤを用いる以外はTCF−3と同様にして、ストライプ状パターン電極TCF−8を作製した。
TCF−1で調製した銀ナノワイヤ分散液を、ハードコート加工を施したポリエチレンテレフタレートフィルム支持体のハードコート面に、銀ナノワイヤの目付け量が0.05g/m2となるように、銀ナノワイヤ分散液を、スピンコーターを用いて塗布、乾燥させた後、銀ナノワイヤの塗布層にカレンダー処理を施して銀ナノワイヤ塗布フィルムを作製した。次いで、易接着加工を施したポリエチレンテレフタレートフィルム支持体の易接着面に、樹脂層として紫外線硬化型樹脂(オプトマーNN、JSR製)を、スピンコーターを用いて3μmの厚さに塗布し、樹脂層と、先に準備した銀ナノワイヤ塗布フィルムの塗布面側とが対面するように圧着し、易接着フィルム支持体側から400mJ/cm2の条件で紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後ハードコートフィルム支持体を剥離し、銀ナノワイヤ転写フィルムを得た。TCF−3と同様に、グラビア塗布機Kプリンティングプルーファー(松尾産業株式会社製)に、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを形成した版を取り付け、作製した金属微粒子除去液BF−1の粘度をCMCで0.5Pa・s(500cP)に調整し、銀ナノワイヤ転写層の上に塗布膜厚30μmとなるよう印刷回数を調整してグラビア印刷を行った。印刷後1分間放置し、次いで流水による水洗処理を1分間行い、ストライプ状パターン電極TCF−9を作製した。
〈金属微粒子除去液BF−2の調製〉
ジエチレントリアミン五酢酸第二鉄アンモニウム2水塩 65g
ジエチレントリアミン五酢酸 3.0g
チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 100ml
2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール 2.0g
亜硫酸アンモニウム(40%水溶液) 27.5ml
水を加えて全量を1リットルとし、炭酸カリウム又は氷酢酸でpHを5.0に調整した。
易接着加工済みポリエチレンテレフタレートフィルム支持体コスモシャイン(登録商標)A4100に、銀ナノ粒子含有ペースト(三ツ星ベルト社製;MDot−SLP)を、印刷パターン幅25μm・パターン間隔500μmの格子状パターンを形成したスクリーン印刷用メッシュ(ミタニマイクロニクス株式会社製;MFT325)を用いてスクリーン印刷を行い、120℃で30分加熱して銀グリッドフィルムを得た。TCF−3と同様に、グラビア塗布機Kプリンティングプルーファー(松尾産業株式会社製)に、印刷パターン幅10mm・パターン間隔10mmのストライプ状パターンを形成した版を取り付け、作製した金属微粒子除去液BF−1の粘度をCMCで0.5Pa・s(500cP)に調整し、銀グリッド層の上に塗布膜厚30μmとなるよう印刷回数を調整してグラビア印刷を行った。印刷後5分間放置し、次いで流水による水洗処理を1分間行い、ストライプ状パターン電極TCF−11を作製した。
下記方法で、パターン電極TCF−1〜11の表面比抵抗及び透過率を評価した。
表面比抵抗は、ダイアインスツルメンツ製抵抗率計ロレスタGPを用いて、ストライプ状パターン部の表面比抵抗を四端子法で測定した。
透過率は、東京電色社製AUTOMATICHAZEMETER(MODEL TC−HIIIDP)を用いて、ストライプ状パターンの導電部の全光線透過率を測定した。
10 支持体
20 金属微粒子除去液
30 パターン電極
Claims (6)
- 支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。
- 前記金属微粒子が、金属ナノワイヤであることを特徴とする請求項1に記載のパターン電極の製造方法。
- 前記金属微粒子の金属が、銀又は銅であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のパターン電極の製造方法。
- 前記金属微粒子除去液が、有機金属錯塩及びチオ硫酸塩を含有することを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載のパターン電極の製造方法。
- 前記金属微粒子除去液が、水溶性バインダーを含有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載のパターン電極の製造方法。
- 請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載のパターン電極の製造方法により製造されたことを特徴とするパターン電極。
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