JP5802092B2 - 被覆金属板 - Google Patents
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Description
(R1)m−Si−(OR2)4−m …(1)
(式中のR1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基若しくはアリール基である。mは0又は1である。)
シリケート系化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ジメチルシクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルビニルトリエトキシシラン及びこれらをフッ素変性した化合物又はその縮合物、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びそのフッ素変性した化合物等のシランカップリング剤、これらの縮合物等が挙げられる。これらの化合物は一種単独で用いられ、或いは複数種が併用される。
[M2+ 1−XM3+ X(OH)2]X+[An− X/n・mH2O]X− …(2)
一般式(2)において、M2+は、Mg2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+などの2価の金属イオンを示す。M3+は、Al3+、Fe3+、Cr3+、Co3+、In3+などの3価の金属イオンを示す。An−は、OH−、F−、Cl−、Br−、NO2−、CO3 2−、SO4 2−、Fe(CN)3 3−、CH3COO−、シュウ酸イオン、サリチル酸イオンなどのn価のアニオンを示す。また、Xは0より大きく0.33以下の値を示す。ハイドロタルサイト類の中でも安定した物質として、化学名がマグネシウム・アルミニウム・ハイドロオキサイド・カーボネート・ハイドレート(Mg6Al2(OH)16CO3・4H2O)があり、これを用いるのが好ましい。また、ハイドロタルサイト類としては、脱水処理がされていないものを用いるのが好ましく、これにより、脱水処理がされているハイドロタルサイト類を用いる場合よりも被覆層の親水性を向上させることができる。
CH2=CHCOOCH2CH2C8F17
CH2=CHCOOCH2CH2C12F25
CH2=CHCOOCH2CH2C10F21
CH2=CHCOOCH2CH2C6F13
CH2=CHCOOCH2CH2C4F9
CH2=CFCOOCH2CH2C6F13
CH2=CHCOOCH2CF3
CH2=CHCOOCH2C8F17
CH2=CHCOOCH2C20F41
CH2=CFCOOCH2C2F5
CH2=CHCOOCH2(CH2)6CF(CF3)2
CH2=CHCOOCH2(CF2)2H
CH2=CHCOOCH2(CF2)4H
CH2=CHCOOCH2CF3
CH2=CHCOOCH2CH(OH)CH2C8F17
CH2=CHCOOCH2CH2N(C3H7)SO2C8F17
CH2=CHCOOCH2CH2N(C2H5)COC7F15
CH2=CHCOO(CH2)8N(CH3)COC12F25
CH2=CHCOO(CH2)2N(CF2)8CF(CF3)2
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C8F17
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C12F25
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C10F21
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C6F13
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C20F41
CH2=C(CH3)COOCH2CH2C4F9
CH2=C(CH3)COO(CH2)6C10F21
CH2=C(CH3)COOCH2CF3
CH2=C(CH3)COOCH2C8F17
CH2=C(CH3)COOCH2C20F41
CH2=C(CH3)COOCH2CF(CF3)2
CH2=C(CH3)COOCH2CFHCF3
CH2=C(CH3)COOCHCF2CFHCF3
CH2=C(CH3)COOCH2(CF2)2H
CH2=C(CH3)COO(CF2)4H
CH2=C(CH3)COO(CF2)6H
CH2=C(CH3)COOCH2CH(OH)(CH2)4C18F37
CH2=C(CH3)COOCH2CH2N(CH3)SO2C6F13
CH2=C(Cl)COO(CH2)6NHSO2C12F25
これらの化合物のうち、一種のみが用いられても、二種以上が併用されてもよい。
シリケート系化合物を含有しないポリエステル樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番HCT1230N)を、そのまま塗料組成物とした。
シリケート系化合物を含有しないポリエステル樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番HCT1230N)に、ジメチルスルファミドを含有する粉体(インナーミル303、株式会社エプロ製)を、ジメチルスルファミドが表1に示す割合(固形分比率)となるように配合することで、塗料組成物を調製した。
メチルメトキシシリケートを2.5質量%含有するポリエステル樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番HCT1230SK)を、そのまま塗料組成物とした。
メチルメトキシシリケートを2.5質量%含有するポリエステル樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番HCT1230SK)に、ジメチルスルファミドを含有する粉体(インナーミル303、株式会社エプロ製)を、ジメチルスルファミドが表1に示す割合(固形分比率)となるように配合することで、塗料組成物を調製した。
メチルメトキシシリケートを含有するフッ素樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番No.8900)を、そのまま塗料組成物とした。
メチルメトキシシリケートを含有するフッ素樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番No.8900)に、ジメチルスルファミドを含有する粉体(インナーミル303、株式会社エプロ製)を、ジメチルスルファミドが表1に示す割合(固形分比率)となるように配合することで、塗料組成物を調製した。
シリケート系化合物を含有しないポリエステル樹脂塗料(BASFコーティングジャパン社製、品番HCT1230N)に、表1に示す添加剤を表1に示す割合(固形分比率)で配合することで、塗料組成物を調製した。
水とアルコールの混合溶媒(混合体積比70:30)に、平均粒経200nmのハイドロタルサイト類と、メチルジエトキシシランとを配合し、更に比較例14及び実施例4の場合はジメチルスルファミドを含有する粉体(インナーミル303、株式会社エプロ製)を、ジメチルスルファミドが表1に示す割合(固形分比率)となるように配合することで、塗料組成物を調製した。ハイドロタルサイト類としては、脱水処理が施されていないマグネシウム・アルミニウム・ハイドロオキサイド・カーボネート・ハイドレート(Mg6Al2(OH)16CO3・4H2O)(協和化学工業社製のキョーワード1000)を用いた。
各実施例及び比較例において、金属板として、板厚0.3mm、板幅250mmの溶融55%アルミニウム−亜鉛めっき鋼板(ガルバリウム鋼板(登録商標))を用意した。この金属板を脱脂後、塗布型クロメート処理を施した。続いて、金属板上に塗料組成物を塗布し、実施例5、比較例5、6では250℃、比較例13,14、実施例4では95℃、これら以外では230℃の温度で、焼付時間30秒の条件で成膜することで、厚み15μmの被覆層を形成した。
20℃の雰囲気下で塗装金属板にTベンド曲げ加工を施し評価した。ジメチルスルファミドを含まない塗膜にクラックが発生しない最小のT数と、ジメチルスルファミドを含む塗膜にクラックが発生しない最小のT数とを比較し、加工性が変化しないものを○、1ランクT数が悪化する場合を△、2ランク以上T数が悪化する場合を×とした。
各実施例及び比較例において、塗装金属板を20mm×20mmの寸法に切断することで試験サンプルを得た。この試験サンプルをポテト・デキストローズ・アガー培地に配置し、さらに試験サンプル上に25種類の藻類と、建築物内で検出される頻度の高い51種類の真菌とを配合した懸濁液をまきかけた。続いてこの試験サンプルを温度30℃±5℃、湿度90%以上の雰囲気中に28日間曝露した。この間、試験サンプルに1500Luxの光を1日あたり8時間照射し、更に0.1Luxの光を1日あたり16時間照射した。続いて、試験サンプルを目視で観察し、試験サンプル上に藻類及び真菌の発育が全く認められない場合を○(良)、藻類又は真菌の発育が僅かでも認められた場合を×(不良)と評価した。
降雨時に模擬屋根面(樹脂波板)から試験サンプルへ雨水が滴下する構造を有する雨筋汚染付着試験曝露架台を用意した。これを用いて、各実施例及び比較例で得られた塗装金属板の実曝露試験を実施した。曝露は3ヶ月間行い、曝露試験後の塗装金属板の表面の水接触角を、水接触角計(株式会社マツボー製、接触角計PG−X)を用いて測定した。
Claims (5)
- 金属板と、この金属板を被覆する被覆層とを備え、前記被覆層が、ポリエステル系樹脂又はその硬化物とフッ素系樹脂又はその硬化物とのうち少なくとも一方、サルファ剤、及びケイ素化合物を含有し、前記被覆層中の前記サルファ剤の割合が、0.7〜2.5質量%の範囲である被覆金属板。
- 前記サルファ剤が、ジメチルスルファミドを含む請求項1に記載の被覆金属板。
- 前記被覆層中のケイ素化合物の含有量が、2.0質量%以上である請求項1又は2に記載の被覆金属板。
- 前記ケイ素化合物が、シリケート系化合物又はその硬化物を含有する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の被覆金属板。
- 前記被覆層が、ハイドロタルサイト類を更に含有する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の被覆金属板。
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JP2011201044A JP5802092B2 (ja) | 2011-09-14 | 2011-09-14 | 被覆金属板 |
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JP2011201044A JP5802092B2 (ja) | 2011-09-14 | 2011-09-14 | 被覆金属板 |
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Family Applications (1)
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