JP5735428B2 - ハニカム構造体 - Google Patents

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Description

本発明は、ハニカム構造体に関し、さらに詳しくは、体積電気抵抗が所定の範囲にあり、触媒担体であると共にヒーターとしても機能するハニカム構造体に関する。
従来、コージェライト製のハニカム構造体に触媒を担持したものを、自動車エンジンから排出された排ガス中の有害物質の処理に用いていた。また、炭化珪素質焼結体によって形成されたハニカム構造体を排ガスの浄化に使用することも知られている（例えば、特許文献１を参照）。
ハニカム構造体に担持した触媒によって排ガスを処理する場合、触媒を所定の温度まで昇温する必要があるが、エンジン始動時には、触媒温度が低いため、排ガスが十分に浄化されないという問題があった。
そのため、触媒が担持されたハニカム構造体の上流側に、金属製のヒーターを設置して、排ガスを昇温させる方法が検討されている（例えば、特許文献２を参照）。
特許第４１３６３１９号公報 特許第２９３１３６２号公報
上記のようなヒーターを、自動車に搭載して使用する場合、自動車の電気系統に使用される電源が共通で使用され、例えば２００Ｖという高い電圧の電源が用いられる。しかし、金属製のヒーターは、電気抵抗が低いため、２００Ｖという高い電圧の電源を用いた場合、過剰に電流が流れ、電源回路を損傷させることがあるという問題があった。
また、ヒーターが金属製であると、仮にハニカム構造に加工したものであっても、触媒を担持し難いため、ヒーターと触媒とを一体化させることは難しかった。
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、体積電気抵抗が所定の範囲にあり、触媒担体であると共にヒーターとしても機能するハニカム構造体を提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、本発明は、以下のハニカム構造体を提供する。
［１］ 流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有するハニカム構造部を備え、前記隔壁及び前記外周壁が、骨材としての炭化珪素粒子、及び前記炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素を含有し、前記隔壁の厚さが５０〜２００μｍであり、セル密度が５０〜１５０セル／ｃｍ２であり、前記骨材としての炭化珪素粒子の平均粒子径が３〜４０μｍであり、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍであるハニカム構造体。
［２］ 前記骨材としての炭化珪素粒子の質量と前記結合材としての珪素の質量の合計に対する、前記結合材としての珪素の質量の比率が、１０〜４０質量％である［１］に記載のハニカム構造体。
［３］ 前記隔壁の気孔率が３０〜６０％であり、前記隔壁の平均細孔径が２〜２０μｍである［１］又は［２］に記載のハニカム構造体。
［４］ ４００℃における電気抵抗が１〜３０Ωである［１］〜［３］のいずれかに記載のハニカム構造体。
［５］ 前記隔壁の厚さが７０〜１３０μｍであり、セル密度が７０〜１００セル／ｃｍ２であり、前記隔壁の気孔率が３５〜４５％であり、前記隔壁の平均細孔径が１０〜２０μｍであり、前記骨材としての炭化珪素粒子の質量と前記結合材としての珪素の質量の合計に対する、前記結合材としての珪素の質量の比率が、１５〜３５質量％であり、４００℃における体積電気抵抗が１０〜３５Ωｃｍである［１］〜［４］のいずれかに記載のハニカム構造体。
［６］ 前記セルの延びる方向に直交する断面における前記セルの形状が、四角形又は六角形である［１］〜［５］のいずれかに記載のハニカム構造体。
本発明のハニカム構造体は、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。また、隔壁厚さが５０〜２００μｍであるため、ハニカム構造体を触媒担体として用いて、触媒を担持しても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。
本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。
次に本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜設計の変更、改良等が加えられることが理解されるべきである。
（１）ハニカム構造体：
本発明のハニカム構造体の一の実施形態は、図１及び図２に示すように、流体の流路となる一方の端面１１から他方の端面１２まで延びる複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁１と、最外周に位置する（隔壁１全体の外周を取り囲むように配設された）外周壁３とを有するハニカム構造部４を備えるものであり、隔壁１及び外周壁３が、骨材としての炭化珪素粒子（炭化珪素）、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素を含有し、隔壁１の厚さが５０〜２００μｍであり、セル密度が５０〜１５０セル／ｃｍ２であり、骨材としての炭化珪素の平均粒子径が３〜４０μｍであり、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍである。本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４からなるものである。図１は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。図２は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。
このように、本実施形態のハニカム構造体１００は、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。また、隔壁厚さが５０〜２００μｍであるため、触媒を担持して触媒担体として用いても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。
本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁１及び外周壁３が、骨材としての炭化珪素粒子、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素を含有するものである。本実施形態のハニカム構造体１００においては、複数の炭化珪素粒子が、炭化珪素粒子間に細孔を形成するようにして、珪素によって結合されている。
骨材としての炭化珪素粒子の質量と結合材としての珪素の質量との合計に対する、結合材としての珪素の質量の比率が、１０〜４０質量％であることが好ましく、１５〜３５質量％であることが更に好ましい。１０質量％より低いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。４０質量％より高いと、焼成時に形状を保持できないことがある。
本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁１及び外周壁３が、骨材としての炭化珪素粒子、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素のみから形成されていてもよいが、他の物質を含有してもよい。隔壁１及び外周壁３に含有される他の物質としては、ストロンチウム等を挙げることができる。
隔壁１の気孔率は、３０〜６０％であることが好ましく、３５〜４５％であることが更に好ましい。気孔率が、３０％未満であると、焼成時の変形が大きくなってしまうため好ましくない。気孔率が６０％を超えるとハニカム構造体の強度が低下するため好ましくない。気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
隔壁１の平均細孔径は、２〜２０μｍであることが好ましく、１０〜２０μｍであることが更に好ましい。平均細孔径が２μｍより小さいと、体積電気抵抗が大きくなりすぎるため好ましくない。平均細孔径が２０μｍより大きいと、体積電気抵抗が小さくなりすぎるため好ましくない。平均細孔径は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
骨材である炭化珪素粒子の平均粒子径は、３〜４０μｍであり、１０〜３５μｍであることが好ましい。平均粒子径をこのような範囲とすることにより、ハニカム構造体１００の４００℃における体積電気抵抗を１〜４０Ωｃｍにすることができる。炭化珪素粒子の平均粒子径が３μｍより小さいと、ハニカム構造体１００の４００℃における体積電気抵抗が大きくなるため好ましくない。炭化珪素粒子の平均粒子径が４０μｍより大きいと、ハニカム構造体１００の４００℃における体積電気抵抗が小さくなるため好ましくない。また、炭化珪素粒子の平均粒子径が４０μｍより大きいと、ハニカム成形体を押出成形するときに、押出成形用の口金に成形用原料が詰まることがあるため好ましくない。炭化珪素粒子の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。
本実施形態のハニカム構造体１００は、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍであり、１０〜３５Ωｃｍであることが好ましい。４００℃における体積電気抵抗が１Ωｃｍより小さいと、２００Ｖの電源によってハニカム構造体１００に通電したときに、電流が過剰に流れるため好ましくない。４００℃における体積電気抵抗が４０Ωｃｍより大きいと、２００Ｖの電源によってハニカム構造体１００に通電したときに、電流が流れ難くなり、十分に発熱しないことがあるため好ましくない。ハニカム構造体の４００℃における体積電気抵抗は、二端子法により測定した値である。
また、ハニカム構造体１００の４００℃における電気抵抗は、１〜３０Ωであることが好ましく、１０〜２５Ωであることが更に好ましい。４００℃における電気抵抗が１Ωより小さいと、２００Ｖの電源によってハニカム構造体１００に通電したときに、電流が過剰に流れるため好ましくない。４００℃における電気抵抗が３０Ωより大きいと、２００Ｖの電源によってハニカム構造体１００に通電したときに、電流が流れ難くなるため好ましくない。ハニカム構造体の４００℃における電気抵抗は、二端子法により測定した値である。
本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁厚さが５０〜２００μｍであり、７０〜１３０μｍであることが好ましい。隔壁厚さをこのような範囲にすることにより、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持しても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。隔壁厚さが５０μｍより薄いと、ハニカム構造体の強度が低下するため好ましくない。隔壁厚さが２００μｍより厚いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなるため好ましくない。
また、本実施形態のハニカム構造体１００の最外周を構成する外周壁３の厚さは、０．１〜２ｍｍであることが好ましい。０．１ｍｍより薄いと、ハニカム構造体１００の強度が低下することがある。２ｍｍより厚いと、触媒を担持する隔壁の面積が小さくなることがある。
本実施形態のハニカム構造体１００は、セル密度が５０〜１５０セル／ｃｍ２であり、７０〜１００セル／ｃｍ２であることが好ましい。セル密度をこのような範囲にすることにより、排ガスを流したときの圧力損失と触媒の浄化性能のバランスがとれるという利点がある。セル密度が５０セル／ｃｍ２より低いと、触媒担持面積が少なくなるため好ましくない。セル密度が１５０セル／ｃｍ２より高いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなるため好ましくない。
本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面におけるセル２の形状が、四角形又は六角形であることが好ましい。セル形状をこのようにすることにより、排ガスを流したときの圧力損失が小さく、触媒の浄化性能が優れるという利点がある。
本実施形態のハニカム構造体の形状は特に限定されず、例えば、底面が円形の筒状（円筒形状）、底面がオーバル形状の筒状、底面が多角形（四角形、五角形、六角形、七角形、八角形等）の筒状等の形状とすることができる。また、ハニカム構造体の大きさは、ハニカム構造体が筒状の場合、底面の面積が２０００〜２００００ｍｍ２であることが好ましく、４０００〜１００００ｍｍ２であることが更に好ましい。また、ハニカム構造体の中心軸方向の長さは、５０〜２００ｍｍであることが好ましく、７５〜１５０ｍｍであることが更に好ましい。
本実施形態のハニカム構造体１００のアイソスタティック強度は、１ＭＰａ以上であることが好ましい。アイソスタティック強度が１ＭＰａ未満であると、ハニカム構造体を触媒担体等として使用する際に、破損し易くなることがある。アイソスタティック強度は水中にて静水圧をかけて測定した値である。
（２）ハニカム構造体の製造方法：
次に、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の製造方法について説明する。
まず、炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素（金属珪素粉末）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して成形原料を作製する。炭化珪素粉末の質量と金属珪素の質量との合計に対して、金属珪素の質量が１０〜３０質量％となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、３〜４０μｍが好ましく、１０〜３５μｍが更に好ましい。金属珪素（金属珪素粉末）の平均粒子径は、２〜２０μｍであることが好ましい。２μｍより小さいと、体積電気抵抗が小さくなりすぎることがある。２０μｍより大きいと、体積電気抵抗が大きくなりすぎることがある。炭化珪素粒子及び金属珪素（金属珪素粒子）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。炭化珪素粒子及び金属珪素の合計質量は、成形原料全体の質量に対して３０〜７８質量％であることが好ましい。
バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、成形原料全体に対して２〜１０質量％であることが好ましい。
水の含有量は、成形原料全体に対して２０〜６０質量％であることが好ましい。
界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、成形原料全体に対して２質量％以下であることが好ましい。
造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、成形原料全体に対して１０質量％以下であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０〜３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、成形時に口金に詰まることがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。
次に、成形原料を混練して坏土を形成する。成形原料を混練して坏土を形成する方法としては特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。
次に、坏土を押出成形してハニカム成形体を形成する。押出成形に際しては、所望の全体形状、セル形状、隔壁厚さ、セル密度等を有する口金を用いることが好ましい。口金の材質としては、摩耗し難い超硬合金が好ましい。ハニカム成形体は、流体の流路となる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と最外周に位置する外周壁とを有する構造である。
ハニカム成形体の隔壁厚さ、セル密度、外周壁の厚さ等は、乾燥、焼成における収縮を考慮し、作製しようとする本発明のハニカム構造体の構造に合わせて適宜決定することができる。
得られたハニカム成形体について、焼成前に乾燥を行うことが好ましい。乾燥の方法は特に限定されず、例えば、マイクロ波加熱乾燥、高周波誘電加熱乾燥等の電磁波加熱方式と、熱風乾燥、過熱水蒸気乾燥等の外部加熱方式とを挙げることができる。これらの中でも、成形体全体を迅速かつ均一に、クラックが生じないように乾燥することができる点で、電磁波加熱方式で一定量の水分を乾燥させた後、残りの水分を外部加熱方式により乾燥させることが好ましい。乾燥の条件として、電磁波加熱方式にて、乾燥前の水分量に対して、３０〜９９質量％の水分を除いた後、外部加熱方式にて、３質量％以下の水分にすることが好ましい。電磁波加熱方式としては、誘電加熱乾燥が好ましく、外部加熱方式としては、熱風乾燥が好ましい。
次に、ハニカム成形体の中心軸方向長さが、所望の長さではない場合は、両端面（両端部）を切断して所望の長さとすることが好ましい。切断方法は特に限定されないが、丸鋸切断機等を用いる方法を挙げることができる。
次に、ハニカム成形体を焼成して、図１、図２に示すようなハニカム構造体１００を作製することが好ましい。焼成の前に、バインダ等を除去するため、仮焼成を行うことが好ましい。仮焼成は大気雰囲気において、４００〜５００℃で、０．５〜２０時間行うことが好ましい。仮焼成及び焼成の方法は特に限定されず、電気炉、ガス炉等を用いて焼成することができる。焼成条件は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気において、１４００〜１５００℃で、１〜２０時間加熱することが好ましい。また、焼成後、耐久性向上のために、１２００〜１３５０℃で、１〜１０時間、酸素化処理を行うことが好ましい。
以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
（実施例１）
セラミックス原料として、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを８０：２０の質量割合で混合し、これに、焼結助剤として炭酸ストロンチウム、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を添加すると共に、水を添加して成形原料とし、成形原料を混練し、真空土練機により円柱状の坏土を作製した。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計に対し７質量％であり、炭酸ストロンチウムの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計に対し１質量％であり、造孔材の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計に対し３質量％であり、水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計に対し４２質量％であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は２０μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。また、造孔材の平均粒子径は、２０μｍであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
得られた円柱状の坏土を押出成形機を用いて成形し、ハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で２時間乾燥し、両端面を所定量切断した。
得られたハニカム成形体を、大気雰囲気にて脱臭装置付き大気炉を用いて５５０℃で３時間かけて脱脂し、その後、Ａｒ不活性雰囲気にて約１４５０℃で２時間焼成し、更に、１３００℃で１時間、酸素化処理を行った。ＳｉＣ結晶粒子がＳｉで結合された、多孔質のハニカム構造体を得た。
得られたハニカム構造体の平均細孔径は８．６μｍであり、気孔率は４５％であった。平均細孔径および気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。また、ハニカム構造体の、隔壁の厚さは９０μｍであり、セル密度は９０セル／ｃｍ２であった。また、ハニカム構造体の底面は直径９３ｍｍの円形であり、ハニカム構造体のセルの延びる方向における長さは１００ｍｍであった。また、得られたハニカム構造体のアイソスタティック強度は２．５ＭＰａであった。アイソスタティック強度は水中で静水圧をかけて測定した破壊強度である。
得られたハニカム構造体について、以下の方法で、「４００℃における体積電気抵抗（体積電気抵抗）」、「ハニカム構造体の電気抵抗（担体電気抵抗）」、「電流値安定性」及び「圧力損失」を求めた。結果を表１に示す。表１において、「電流値安定性」の欄の「Ａ」は、電流が、３０〜１００Ａで安定して流れていたことを示す。また、「Ｂ」は、電流が、「２０Ａ以上、３０Ａ未満」又は「１００Ａ超、７００Ａ以下」となることがあったことを示す。また、「Ｃ」は、電流が、「２０Ａ未満」又は「７００Ａ超」となることがあり、非常に不安定であったことを示す。Ａ及びＢは合格であり、Ｃは不合格である。また、表１において、「圧力損失」の欄の「Ａ」は、開口率８０％以上を示す。また「Ｂ」は、開口率８０％未満を示す。
（体積電気抵抗）
ハニカム構造体と同じ材質で１０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの試験片を作成した。両端部全面に銀ペーストを塗布し、配線して通電できるようにした。試験片に電圧印加電流測定装置をつなぎ電圧を印加した。試験片中央部に熱伝対を設置し、電圧印加時の試験片温度の経時変化をレコーダーにて確認した。１００〜２００Ｖ印加し、試験片温度が４００℃になった時点で流れた電流値及び電圧値と、試験片寸法から体積電気抵抗を算出した。
（担体電気抵抗）
底面（端面）が直径９３ｍｍの円形であり、セルの延びる方向における長さが１００ｍｍであるハニカム構造体（担体）の側面に、銀ペーストを塗布し、配線して通電できるようにした。担体に電圧印加電流測定装置をつなぎ電圧を印加した。熱電対を用いて、６００Ｖ印加時の担体内の温度分布を測定し（ハニカム構造体内を、均等に３９箇所、温度測定する。）、担体内の平均温度が４００℃になった時点で流れた電流値及び電圧値から、担体電気抵抗を算出した。
（電流値安定性）
上記「担体電気抵抗」の試験と同様にして、６００Ｖ印加し、担体内の平均温度が４００℃になった時点で流れた電流値を測定した。
（圧力損失）
ハニカム構造体の圧力損失はハニカム構造体の断面の開口率で評価した。開口率は、ハニカム構造体の断面積（セルの延びる方向に直交する断面の面積）に対する、ハニカム構造体の「セルの延びる方向」に直交する断面における「セル（開口部）の合計面積」、の比率とした。
Figure 0005735428
（実施例２〜２３、比較例１，２）
「ＳｉＣ平均粒子径（μｍ）」、「ＳｉＣ配合量（質量％）」、「Ｓｉ平均粒子径（μｍ）」、「Ｓｉ配合量（質量％）」、「造孔材平均粒子径（μｍ）」、「造孔材含有量（造孔材）（質量％）」、「水含有量（水）（質量％）」、「隔壁の気孔率（気孔率）（％）」、「隔壁の平均細孔径（平均細孔径）（μｍ）」、「隔壁厚さ（μｍ）」、「セル密度（セル／ｃｍ２）」及び「セル形状」を表１に示すように変化させた以外は、実施例１と同様にしてハニカム構造体を作製した。実施例１の場合と同様にして、「ハニカム構造体の体積電気抵抗（体積電気抵抗）（Ωｃｍ）」、「ハニカム構造体の電気抵抗（担体電気抵抗）（Ω）」、「電流値安定性」及び「圧力損失」を測定した。結果を表１に示す。
尚、「ＳｉＣ配合量（質量％）」は、炭化珪素と金属珪素の合計質量に対する、炭化珪素の配合比率を示し、「Ｓｉ配合量（質量％）」は、炭化珪素と金属珪素の合計質量に対する、金属珪素の配合比率を示す。また、「造孔材含有量（造孔材）（質量％）」は、成形原料全体に対する、造孔材の配合比率を示し、「水含有量（水）（質量％）」は、成形原料全体に対する、水の配合比率を示す。また、「セル形状」は、セルの延びる方向に直交する断面における、セルの形状を示す。
表１より、炭化珪素の平均粒子径が３〜４０μｍであると、ハニカム構造体の体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍになることがわかる。また、炭化珪素の平均粒子径が３μｍより小さいと、ハニカム構造体の体積電気抵抗が大きくなり過ぎることがわかる。また、炭化珪素の平均粒子径が４０μｍより大きいと、ハニカム構造体の体積電気抵抗が小さくなり過ぎることがわかる。また、比較例１のハニカム構造体は、炭化珪素の平均粒子径が大きいため、隔壁に多くの欠陥が発生していた。
本発明のハニカム構造体は、化学、電力、鉄鋼等の様々な分野において、内燃機関から排出される排ガスを浄化する触媒装置用の担体として好適に利用することができる。
１：隔壁、２：セル、３：外周壁、４：ハニカム構造部、１１：一方の端面、１２：他方の端面、１００：ハニカム構造体。

Claims (6)

  1. 流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有するハニカム構造部を備え、
    前記隔壁及び前記外周壁が、骨材としての炭化珪素粒子、及び前記炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素を含有し、
    前記隔壁の厚さが５０〜２００μｍであり、セル密度が５０〜１５０セル／ｃｍ２であり、前記骨材としての炭化珪素粒子の平均粒子径が３〜４０μｍであり、４００℃における体積電気抵抗が１〜４０Ωｃｍであるハニカム構造体。
  2. 前記骨材としての炭化珪素粒子の質量と前記結合材としての珪素の質量の合計に対する、前記結合材としての珪素の質量の比率が、１０〜４０質量％である請求項１に記載のハニカム構造体。
  3. 前記隔壁の気孔率が３０〜６０％であり、前記隔壁の平均細孔径が２〜２０μｍである請求項１又は２に記載のハニカム構造体。
  4. ４００℃における電気抵抗が１〜３０Ωである請求項１〜３のいずれかに記載のハニカム構造体。
  5. 前記隔壁の厚さが７０〜１３０μｍであり、セル密度が７０〜１００セル／ｃｍ２であり、前記隔壁の気孔率が３５〜４５％であり、前記隔壁の平均細孔径が１０〜２０μｍであり、前記骨材としての炭化珪素粒子の質量と前記結合材としての珪素の質量の合計に対する、前記結合材としての珪素の質量の比率が、１５〜３５質量％であり、４００℃における体積電気抵抗が１０〜３５Ωｃｍである請求項１〜４のいずれかに記載のハニカム構造体。
  6. 前記セルの延びる方向に直交する断面における前記セルの形状が、四角形又は六角形である請求項１〜５のいずれかに記載のハニカム構造体。
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