JP6126434B2 - ハニカム構造体 - Google Patents

Description

本発明は、ハニカム構造体に関する。さらに詳しくは、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができるとともに、耐熱衝撃性を向上することができるハニカム構造体に関する。

従来、コージェライト製のハニカム構造体に触媒を担持したものを、自動車エンジンから排出された排ガス中の有害物質の処理に用いていた。また、炭化珪素質焼結体によって形成されたハニカム構造体を排ガスの浄化に使用することも知られている（例えば、特許文献１を参照）。

ハニカム構造体に担持した触媒によって排ガスを処理する場合、触媒を所定の温度まで昇温する必要があるが、エンジン始動時には、触媒温度が低いため、排ガスが十分に浄化されないという問題があった。

そのため、触媒が担持されたハニカム構造体の上流側に、金属製のヒーターを設置して、排ガスを昇温させる方法が検討されている（例えば、特許文献２を参照）。また、金属製のヒーターに触媒を担持して使用する方法が検討されている（例えば、特許文献３を参照）。

また、セラミック製のハニカム構造体を「加熱可能な触媒担体」として使用することが提案されている（例えば、特許文献４を参照）。

特許第４１３６３１９号公報 特許第２９３１３６２号公報 特開平５−１４４５４９号公報 国際公開第２０１１／１２５８１５号

上記のようなヒーターを、自動車に搭載して使用する場合、自動車の電気系統に使用される電源が共通で使用され、例えば２００Ｖという高い電圧の電源が用いられる。しかし、金属製のヒーターは、電気抵抗が低いため、このような高い電圧の電源を用いた場合、過剰に電流が流れ、電源回路を損傷させることがあるという問題があった。

また、特許文献２，３では、ヒーターに抵抗調節機構であるスリットを設けて、過剰な電流が流れることを防止し、通電により良好に発熱させようとしている。このスリットは、電流が、一対の電極間を、最短距離で（直線的に）流れないように形成されている。

また、特許文献４に記載のハニカム構造体は、所定の電気抵抗率のセラミック製であるため、通電により、電気回路の損傷等もなく、良好に発熱するものであった。引用文献４に記載のハニカム構造体は、通電発熱式の触媒担体として優れたものであるが、耐熱衝撃性という点で、更なる改良が求められていた。

本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものである。本発明は、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができるとともに、耐熱衝撃性を向上することができるハニカム構造体を提供することを目的とする。

上述の課題を解決するため、本発明は、以下のハニカム構造体を提供する。

［１］ 流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成す
る多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有し、底面が点対称な形状である筒状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍであり、前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、前記電極部が配設されている領域である電極部領域と、前記ハニカム構造部の側面が露出した領域であるハニカム構造部領域とから構成される外周を有し、前記電極部領域に開口するスリットである電極部スリットが１本以上形成され、前記ハニカム構造部領域に開口するスリットであるハニカム構造部スリットが１本以上形成され、前記電極部スリットの前記電極部領域に開口する部分である電極部スリット開口部が、前記セルの延びる方向に延びるように形成され、前記ハニカム構造部スリットの前記ハニカム構造部領域に開口する部分であるハニカム構造部スリット開口部が、前記セルの延びる方向に延びるように形成され、前記セルの延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の前記電極部スリットの長さ（深さ）が、少なくとも１本の前記ハニカム構造部スリットより長く、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部スリットの前記電極部領域に開口している側の端部とは反対側の端部が、前記ハニカム構造部の内部に達しているハニカム構造体。

［２］ 前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部スリットの全てが、全ての前記ハニカム構造部スリットより、長さ（深さ）が長く（深く）、前記電極部領域の中央部に近い位置に前記電極部スリット開口部を有する前記電極部スリットほど、長さ（深さ）が長く（深く）、前記ハニカム構造部領域の中央部に近い位置に前記ハニカム構造部スリット開口部を有する前記ハニカム構造部スリットほど、長さ（深さ）が短い（浅い）［１］に記載のハニカム構造体。

［３］ 前記電極部領域の外周方向における中央部に前記電極部スリット開口部が形成された前記電極部スリットを有し、前記ハニカム構造部領域の外周方向における中央部に前記ハニカム構造部スリット開口部が形成された前記ハニカム構造部スリットを有する［１］又は［２］に記載のハニカム構造体。

［４］ 前記電極部スリット及び前記ハニカム構造部スリットの中の少なくとも１本が、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部のそれぞれの中央部同士を結んだ直線と交差しないように形成されている［１］〜［３］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［５］ 前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部スリット及び前記ハニカム構造部スリットの長さ（深さ）が、前記ハニカム構造部の半径の１〜８０％の長さ（深さ）である［１］〜［４］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［６］ 前記電極部スリット開口部及び前記ハニカム構造部スリット開口部の、外周方向における長さ（幅）が、前記ハニカム構造部の外周の長さの０．３〜５．０％の長さ（幅）である［１］〜［５］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［７］ 前記電極部スリットが、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部の中央部同士を結んだ直線に平行に形成されている［１］〜［６］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［８］ 前記電極部スリットの本数と前記ハニカム構造部スリットの本数との合計が、２〜２０本である［１］〜［７］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［９］ 少なくとも１本の前記スリットに充填される充填材を有し、前記充填材が、前記スリットの空間の少なくとも一部に充填される［１］〜［８］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［１０］ 前記充填材が、前記スリットの空間の全部に充填される［９］に記載のハニカム構造体。

［１１］ 前記充填材のヤング率が、０．００１〜２０ＧＰａである［９］又は［１０］に記載のハニカム構造体。

［１２］ 前記充填材の気孔率が、４０〜８０％である［９］〜［１１］のいずれかに記載のハニカム構造体。

［１３］ 前記充填材の電気抵抗率が、前記ハニカム構造部の電気抵抗率の１００〜１０００００％である［９］〜［１２］のいずれかに記載のハニカム構造体。

本発明のハニカム構造体は、ハニカム構造部の電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。

また、本発明のハニカム構造体は、一対の電極部のそれぞれが、ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成されている。そして、本発明のハニカム構造体は、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部における一方の電極部が、一対の電極部における他方の電極部に対して、ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設されている。そのため、本発明のハニカム構造体は、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができる。

更に、本発明のハニカム構造体には、外周における電極部領域に開口する電極部スリットが形成され、外周におけるハニカム構造部領域に開口するハニカム構造部スリットが形成されている。そして、セルの延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の電極部スリットが、少なくとも１本のハニカム構造部スリットより長くなるように形成されている。そのため、耐熱衝撃性を向上することができる。

本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の他の実施形態を模式的に示す斜視図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す斜視図である。 実施例１のハニカム構造体（スリット構造Ａ）を模式的に示す斜視図である。 実施例８のハニカム構造体（スリット構造Ｂ）を模式的に示す斜視図である。

次に本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明する。本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜設計の変更、改良等が加えられることが理解されるべきである。

（１）ハニカム構造体：
本発明のハニカム構造体の一の実施形態は、図１〜図４に示すように、筒状のハニカム構造部４と、ハニカム構造部４の側面５に配設された一対の電極部２１，２１とを備えるものである。筒状のハニカム構造部４は、流体の流路となる一方の端面１１から他方の端面１２まで延びる複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁１と、最外周に位置する外周壁３とを有するものである。そして、ハニカム構造部４の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍである。そして、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成されている。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設されている。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、電極部２１が配設されている領域である電極部領域Ｐと、ハニカム構造部４の側面５が露出した領域であるハニカム構造部領域Ｑとから構成される外周２２を有する。そして、本実施形態のハニカム構造体１００には、電極部領域Ｐに開口するスリット６である電極部スリット６ａが１本以上形成され、ハニカム構造部領域Ｑに開口するスリット６であるハニカム構造部スリット６ｂが１本以上形成されている。そして、電極部スリット６ａの電極部領域Ｐに開口する部分（開口部８）である電極部スリット開口部８ａが、セル２の延びる方向に延びるように形成されている。そして、ハニカム構造部スリット６ｂのハニカム構造部領域Ｑに開口する部分（開口部８）であるハニカム構造部スリット開口部８ｂが、セル２の延びる方向に延びるように形成されている。そして、セル２延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の電極部スリット６ａの長さが、少なくとも１本のハニカム構造部スリット６ｂより長く形成されている。なお、セルの延びる方向に直交する断面におけるスリットの長さを、スリットの「深さ」ということがある。また、ハニカム構造部４の側面５は、ハニカム構造部４の外周壁３の表面のことである。また、ハニカム構造体１００の外周は、電極部領域Ｐとハニカム構造部領域Ｑとにより構成され、電極部２１の表面と「露出した、ハニカム構造部の表面」とから構成されているということもできる。図１は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。図２は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。図３は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。図４は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。図２においては、セル及び隔壁は省略されている。図４においては、セル、隔壁、スリット及び充填材は省略されている。

このように、本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４の電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。また、本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成されている。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設されている。そのため、本実施形態のハニカム構造体１００は、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができる。外周２２における電極部領域Ｐに開口する電極部スリット６ａが形成され、外周２２におけるハニカム構造部領域Ｑに開口するハニカム構造部スリット６ｂが形成されている。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の電極部スリット６ａが、少なくとも１本のハニカム構造部スリット６ｂより長くなるように形成されている。そのため、耐熱衝撃性を向上することができる。更に、セル２の延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の電極部スリット６ａが、全てのハニカム構造部スリット６ｂより長くなるように形成されていることが好ましい。これにより、耐熱衝撃性を更に向上することができる。

ここで、「セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設される」の意味は、以下の通りである。つまり、図４に示されるように、まず、セルの延びる方向に直交する断面において、「一方の電極部２１の中央部Ｃ（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」を線分Ｌ１とする。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、「他方の電極部２１の中央部Ｃ（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」を線分Ｌ２とする。そのとき、線分Ｌ１と線分Ｌ２とにより形成される角度β（「中心Ｏ」を中心とする角度）が、１７０°〜１９０°の範囲となるような位置関係になるように、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４に配設されていることを意味する。

本実施形態のハニカム構造体１００においては、セル２延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の電極部スリット６ａの深さＤ１が、少なくとも１本のハニカム構造部スリット６ｂの深さＤ２より深く形成されている。そして、電極部スリット６ａの全てが、全てのハニカム構造部スリット６ｂより、深さが深く形成されていることが好ましい。このように、電極部スリット６ａの深さＤ１が、ハニカム構造部スリット６ｂの深さＤ２より深く形成されていることにより、温度変化、熱衝撃等が生じたときにも、電極部付近にクラックが発生しないようにすることができる。図１に示されるハニカム構造体１００においては、２箇所の電極部領域Ｐのそれぞれに、１本ずつのスリット（電極部スリット６ａ）が形成されている。そして、２箇所のハニカム構造部領域Ｑのそれぞれに、３本ずつのスリット（ハニカム構造部スリット６ｂ）が形成されている。

図５に示されるハニカム構造体２００は、「電極部領域Ｐの中央部に近い位置に電極部スリット開口部８ａを有する電極部スリット６ａ」ほど、深さが深くなっている。そして、「ハニカム構造部領域Ｑの中央部に近い位置にハニカム構造部スリット開口部８ｂを有するハニカム構造部スリット６ｂ」ほど、深さが深くなっている。更に、電極部スリット６ａの全てが、全てのハニカム構造部スリット６ｂより、深さが深く形成されている。これにより、より効果的に、耐熱衝撃性を向上させることができる。図５に示されるハニカム構造体２００においては、２箇所の電極部領域Ｐのそれぞれに、３本ずつのスリット（電極部スリット６ａ）が形成されている。そして、２箇所のハニカム構造部領域Ｑのそれぞれに、３本ずつのスリット（ハニカム構造部スリット６ｂ）が形成されている。ハニカム構造体２００においては、電極部スリット６ａは、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部の中央部同士を結んだ直線に平行に形成されている。また、ハニカム構造部スリット６ｂは、セルの延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部の中央部に向かう方向に延びるように形成されている。図５に示されるハニカム構造体２００は、スリットの切り方が異なる以外は、図１に示されるハニカム構造体１００と同様の条件であることが好ましい。図５は、本発明のハニカム構造体の他の実施形態（ハニカム構造体２００）を模式的に示す斜視図である。

また、電極部領域Ｐの外周方向における中央部を電極中央部２３と称することがあり、ハニカム構造部領域Ｑの外周方向における中央部をハニカム中央部２４と称することがある。このとき、電極中央部２３に、電極部スリット開口部８ａが形成された電極部スリット６ａを有し、ハニカム中央部２４に、ハニカム構造部スリット開口部８ｂが形成されたハニカム構造部スリット６ｂを有することが好ましい。電極部スリット開口部８ａは、電極部２１の表面に開口するものであり、電極部スリット開口部８ａによって、電極部２１が分断されていることが好ましい。電極部スリット開口部８ａによって、電極部２１が完全に分断されている場合には、分断されたそれぞれの電極部２１に、電源を繋ぐ必要がある。

本実施形態のハニカム構造体１００のセル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１のそれぞれの中央部Ｃ，Ｃ同士を結んだ直線と交差しないように形成されたスリット６を「非交差スリット」と称することがある。このとき、電極部スリット６ａ及びハニカム構造部スリット６ｂの中の少なくとも１本が、非交差スリットであることが好ましい。そして、スリット６の中の５０％以上のスリット６が、非交差スリットであることが好ましい。そして、ハニカム構造部４に形成されたスリット６の全てが、非交差スリットであることが更に好ましい。非交差スリットが、スリット６全体の５０％以上であることにより、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することを防止できる（本実施形態のハニカム構造体１００が機械的強度に優れたものとなる）。非交差スリットが、スリット６全体の５０％未満であると、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。また、非交差スリットが、スリット６全体の５０％未満であると、一対の電極２１，２１間を流れる電流の流れがスリットによって大きく妨げられ、均一な発熱が阻害され、不均一な発熱となることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００において、スリット６の深さは、ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における半径（以下、「ハニカム構造部の半径」と称することがある。）の１〜８０％であることが好ましい。そして、スリット６の深さは、ハニカム構造部の半径の１〜６０％であることが更に好ましく、１〜３０％であることが特に好ましい。スリット６の深さが、ハニカム構造部の半径の１％より小さいと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性を低減する効果が低下することがある。スリット６の深さが、ハニカム構造部の半径の８０％より大きいと、一対の電極２１，２１間を流れる電流の流れがスリットによって大きく妨げられ、均一な発熱が阻害され、不均一な発熱となることがある。ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」において、中心方向を向いていないスリットについても、スリット深さは、「ハニカム構造部の半径」を基準とした、上記範囲が好ましい。スリット６の深さは、スリット６の「側面５における開口部」から、スリット６の最も深い位置までの距離のことである。スリットが複数本存在する場合には、スリット６の深さは、スリットによって異なっていてもよく、全て同じでもよい。

本実施形態のハニカム構造体１００において、電極部スリット開口部及びハニカム構造部スリット開口部の、外周方向における長さを、「スリットの幅」ということがある。スリット６の幅は、ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における外周の長さ（以下、「ハニカム構造部の外周長」と称することがある。）の０．３〜５％であることが好ましい。そして、スリット６の幅は、ハニカム構造部の外周長の０．３〜３％であることが更に好ましく、０．３〜１％であることが特に好ましい。スリット６の幅が、ハニカム構造部の外周長の０．３％より小さいと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性を低減する効果が低下することがある。スリット６の幅が、ハニカム構造部の外周長の５％より大きいと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。スリット６の幅は、「電極部スリット開口部及びハニカム構造部スリット開口部の、外周方向における長さ」のことである。「外周方向」とは、ハニカム構造体の「セル２の延びる方向に直交する断面」における、外周に沿う方向のことである。スリット６の幅は、スリットによって異なっていてもよく、全て同じでもよい。また、スリット６の幅は、スリットが複数本ある場合、１本当たりの幅のことである。

本実施形態のハニカム構造体１００において、スリット６の本数は、２〜２０本が好ましく、２〜１５本が更に好ましく、２〜１０本が特に好ましい。スリット６の本数が２０本を超えると、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。図１に示されるハニカム構造体１００においては、８本のスリット６が形成されている。

本実施形態のハニカム構造体１００において、スリット６の「セルの延びる方向」における長さは、ハニカム構造部の「セルの延びる方向」における長さと同じであることが好ましい。つまり、スリット６がハニカム構造部の両端面間に亘って（全長に亘って）形成されていることが好ましい。スリット６の「セルの延びる方向」における長さを、「スリットの長さ」ということがある。

また、スリット形成パターン（「本数」を含む）、スリットの深さ、スリットの幅、スリットの長さは、中心線（一対の電極部のそれぞれの中央部同士を結ぶ線）を対称軸とする線対称であることが好ましい。

本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部スリット６ｂの延びる方向が、ハニカム構造部４の中心Ｏに向かう方向であることが好ましい。これにより、「スリットによって、一対の電極部間の電流の流れが妨げられる」ことを抑制することができる。また、電極部スリット６ａは、一対の電極２１，２１のそれぞれの電極中央部２３，２３間を結ぶ線分に平行に形成されていることが好ましい。これにより、「スリットによって、一対の電極部間の電流の流れが妨げられる」ことを抑制することができる。

本実施形態のハニカム構造体１００においては、隔壁１及び外周壁３の材質が、金属珪素−炭化珪素複合材又は炭化珪素を主成分とするものであることが好ましく、金属珪素−炭化珪素複合材又は炭化珪素であることが更に好ましい。「隔壁１及び外周壁３の材質が、炭化珪素粒子及び金属珪素を主成分とするものである」というときは、隔壁１及び外周壁３が、炭化珪素粒子及び金属珪素（合計質量）を、全体の９０質量％以上含有していることを意味する。このような材質を用いることにより、ハニカム構造部の電気抵抗率を１〜２００Ωｃｍに調整することが可能になる。ここで、金属珪素−炭化珪素複合材は、骨材としての炭化珪素粒子、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての金属珪素を含有するものであり、複数の炭化珪素粒子が、炭化珪素粒子間に細孔を形成するようにして、金属珪素によって結合されていることが好ましい。また、炭化珪素は、炭化珪素が焼結したものである。ハニカム構造部の電気抵抗率は、４００℃における値である。

本実施形態のハニカム構造体１００は、少なくとも１本のスリット６に充填される充填材７を有し、充填材７が、スリット６の空間の少なくとも一部に充填されるものであることが好ましい。そして、スリット６の中の５０％以上のスリットに充填材が充填されていることが好ましい。更に、スリット６の全てに充填材が充填されていることが好ましい。また、充填材７は、「スリット６の空間」の全部に充填されることが好ましい。図１に示されるハニカム構造体１００においては、８本のスリット６が形成されている。そして、全てのスリット６のそれぞれにおいて、当該スリット６の空間全体に充填材７が充填されている。このように、スリット６に充填材が充填されることにより、ハニカム構造体のアイソスタティック強度を向上することができる。「少なくとも一部に充填」とは、スリットの深さ方向における「一部」でもよく、スリットの長さ方向における「一部」でもよく、これらの組合せでもよい。

充填材７は、ハニカム構造部の主成分が炭化珪素、又は金属珪素−炭化珪素複合材である場合、炭化珪素を２０質量％以上含有することが好ましく、２０〜５０質量％含有することが更に好ましい。これにより、充填材７の熱膨張係数を、ハニカム構造部の熱膨張係数に近い値にすることができ、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させることができる。充填材７は、シリカ、アルミナ等を５０質量％以上含有するものであってもよい。

本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７のヤング率は、０．００１〜２０ＧＰａであることが好ましく、０．００５〜１５ＧＰａであることが更に好ましく、０．０１〜１０ＧＰａであることが特に好ましい。０．００１ＧＰａより低いと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低くなることがある。２０ＧＰａより高いと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性が低くなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７の気孔率は、４０〜８０％であることが好ましく、４３〜７０％であることが更に好ましく、４５〜６５％であることが特に好ましい。４０％より低いと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低くなることがある。８０％より高いと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性が低くなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率の１００〜１０００００％であることが好ましい。更に、充填材７の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率の２００〜１０００００％であることが更に好ましく、３００〜１０００００％であることが特に好ましい。１００％より低いと、充填材７に電流が流れ易くなるため、ハニカム構造部に均一に電流を流すことが難しくなることがある。充填材７の電気抵抗率は、高過ぎても特に問題はない。充填材７は絶縁体であってもよい。充填材７の電気抵抗率は、実際には、ハニカム構造部４の電気抵抗率の１０００００％程度が上限となる。充填材７としては、複数種の充填材を併用してもよい。例えば、１本のスリットの中で部位によって使い分けたり、スリットによって使い分けたりすることができる。

本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４の側面５に一対の電極部２１，２１が配設されている。本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加することにより、発熱する。印加する電圧は１２〜９００Ｖが好ましく、６４〜６００Ｖが更に好ましい。

一対の電極部２１，２１のそれぞれは、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる「帯状」に形成されている。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心部Ｏを挟んで反対側に配設されている。そのため、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。そして、更に、図４に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍（中心角αの０．５倍の角度θ）が、１５〜６５°であることが好ましい。これにより、ハニカム構造部４内の発熱の偏りを、より効果的に抑制することができる。このように、「電極部２１の中心角αの０．５倍が１５〜６５°であるとともに、セルの延びる方向に延びている」という電極部２１の形状は、「帯状」の一態様である。また、「電極部２１の中心角α」は、図４に示されるように、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ２本の線分により形成される角度である。換言すると、「電極部２１の中心角α」は、直交断面において、「電極部２１」と「電極部２１の一方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」と「電極部２１の他方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」とにより形成される形状（扇形、等）における、中心Ｏの部分の内角である。ここで、「直交断面」とは、「ハニカム構造体のセルの延びる方向に直交する断面」のことである。

セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の上限値は、６０°が更に好ましく、５５°が特に好ましい。また、セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の下限値は、２０°が更に好ましく、３０°が特に好ましい。また、一方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」は、他方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」に対して、０．８〜１．２倍の大きさであることが好ましく、１．０倍の大きさ（同じ大きさ）であることが更に好ましい。これにより、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。

電極部２１の厚さは、０．０１〜５ｍｍであることが好ましく、０．０１〜３ｍｍであることが更に好ましい。このような範囲とすることにより、均一に発熱することができる。電極部２１の厚さが０．０１ｍｍより薄いと、電気抵抗が高くなり均一に発熱できないことがある。５ｍｍより厚いと、キャニング時に破損することがある。

電極部２１が、炭化珪素粒子及び金属珪素を主成分とすることが好ましく、通常含有される不純物以外は、炭化珪素粒子及び金属珪素を原料として形成されていることが更に好ましい。ここで、「炭化珪素粒子及び金属珪素を主成分とする」とは、炭化珪素粒子と金属珪素との合計質量が、電極部全体の質量の９０質量％以上であることを意味する。このように、電極部２１が炭化珪素粒子及び金属珪素を主成分とすることにより、電極部２１の成分とハニカム構造部４の成分とが同じ成分又は近い成分（ハニカム構造部の材質が炭化珪素である場合）となる。そのため、電極部２１とハニカム構造部４の熱膨張係数が同じ値又は近い値になる。また、材質が同じもの又は近いものになるため、電極部２１とハニカム構造部４との接合強度も高くなる。そのため、ハニカム構造体に熱応力がかかっても、電極部２１がハニカム構造部４から剥れたり、電極部２１とハニカム構造部４との接合部分が破損したりすることを防ぐことができる。

図１、図２に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセルの延びる方向に延びると共に「両端部間（両端面１１，１２間）に亘る」帯状に形成されている。このように、一対の電極部２１，２１が、ハニカム構造部４の両端部間に亘るように配設されていることにより、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りをより効果的に抑制することができる。そして、これにより、ハニカム構造部４内の発熱の偏りをより効果的に抑制することができる。ここで、「電極部２１が、ハニカム構造部４の両端部間に亘るように形成（配設）されている」というときは、電極部２１の一方の端部がハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面）に接し、電極部２１の他方の端部がハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面）に接していることを意味する。

本実施形態のハニカム構造体１００においては、電極部２１の「ハニカム構造部４のセル２の延びる方向」における両端部が、ハニカム構造部４の両端部（両端面１１，１２）に接していない（到達していない）状態も好ましい態様である。また、電極部２１の一方の端部が、ハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面１１）に接し（到達し）、電極部２１の他方の端部が、ハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面１２）に接していない（到達していない）状態も好ましい態様である。このように、電極部２１の少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いない構造であると、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させることができる。つまり、一対の電極部２１，２１のそれぞれは、「ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる」という観点からは、少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いない構造であることが好ましい。以上より、「ハニカム構造部４内の、電流の偏りをより効果的に抑制することにより、発熱の偏りをより効果的に抑制する」という観点を重視する場合には、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４の両端部間に亘るように形成されていることが好ましい。一方、「ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる」という観点を重視する場合には、一対の電極部２１，２１のそれぞれにおける少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いないことが好ましい。電極部の少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部の端部（端面）に接して（到達して）いない構造の場合、電極部領域は、「電極部が、ハニカム構造部の両端部に亘って形成されていると仮定したとき」の、当該両端部間に亘る電極部が配設された領域となる。

本実施形態のハニカム構造体においては、例えば、図１に示されるように、電極部２１は、平面状の長方形の部材を、円筒形状の外周に沿って湾曲させたような形状となっている。ここで、湾曲した電極部２１を、湾曲していない平面状の部材に変形したときの形状を、電極部２１の「平面形状」と称することにする。上記、図１に示される電極部２１の「平面形状」は、長方形になる。そして、「電極部の外周形状」というときは、「電極部の平面形状における外周形状」を意味する。本実施形態のハニカム構造体においては、図１に示されるように、帯状の電極部２１の外周形状が長方形であってもよいが、帯状の電極部２１の外周形状が、長方形の角部が曲線状（例えば、外側に凸の円弧状、等）に形成された形状であってもよい。また、帯状の電極部２１の外周形状が、長方形の角部が直線状に面取りされた（切り取られた）形状であってもよい。

電極部２１の電気抵抗率は、０．１〜１００Ωｃｍであることが好ましく、０．１〜５０Ωｃｍであることが、更に好ましい。電極部２１の電気抵抗率をこのような範囲にすることにより、一対の電極部２１，２１が、高温の排ガスが流れる配管内において、効果的に電極の役割を果たす。電極部２１の電気抵抗率が０．１Ωｃｍより小さいと、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端付近のハニカム構造部の温度が上昇し易くなることがある。電極部２１の電気抵抗率が１００Ωｃｍより大きいと、電流が流れ難くなるため、電極としての役割を果たし難くなることがある。電極部の電気抵抗率は、４００℃における値である。

電極部２１は、気孔率が３０〜６０％であることが好ましく、３０〜５５％であることが更に好ましい。電極部２１の気孔率がこのような範囲であることにより、好適な電気抵抗率が得られる。電極部２１の気孔率が、３０％より低いと、製造時に変形してしまうことがある。電極部２１の気孔率が、６０％より高いと、電気抵抗率が高くなりすぎることがある。気孔率は、水銀ポロシメータで測定した値である。

電極部２１は、平均細孔径が５〜４５μｍであることが好ましく、７〜４０μｍであることが更に好ましい。電極部２１の平均細孔径がこのような範囲であることにより、好適な電気抵抗率が得られる。電極部２１の平均細孔径が、５μｍより小さいと、電気抵抗率が高くなりすぎることがある。電極部２１の平均細孔径が、４５μｍより大きいと、電極部２１の強度が弱くなり破損し易くなることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータで測定した値である。

電極部２１の主成分が炭化珪素粒子及び金属珪素である場合に、電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が１０〜６０μｍであることが好ましく、２０〜６０μｍであることが更に好ましい。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径がこのような範囲であることにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１〜１００Ωｃｍの範囲で制御することができる。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が、１０μｍより小さいと、電極部２１の電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が、６０μｍより大きいと、電極部２１の強度が弱くなり破損し易くなることがある。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。

電極部２１に含有される「炭化珪素粒子と金属珪素のそれぞれの質量の合計」に対する、電極部２１に含有される金属珪素の質量の比率が、２０〜４０質量％であることが好ましく、２５〜３５質量％であることが更に好ましい。電極部２１に含有される炭化珪素粒子と金属珪素のそれぞれの質量の合計に対する、金属珪素の質量の比率が、このような範囲であることにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１〜１００Ωｃｍの範囲にすることができる。電極部２１に含有される炭化珪素粒子と金属珪素のそれぞれの質量の合計に対する、金属珪素の質量の比率が、２０質量％より小さいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがあり、４０質量％より大きいと、製造時に変形し易くなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁厚さが５０〜２００μｍであり、７０〜１３０μｍであることが好ましい。隔壁厚さをこのような範囲にすることにより、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持しても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。隔壁厚さが５０μｍより薄いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。隔壁厚さが２００μｍより厚いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００は、セル密度が４０〜１５０セル／ｃｍ^２であることが好ましく、７０〜１００セル／ｃｍ^２であることが更に好ましい。セル密度をこのような範囲にすることにより、排ガスを流したときの圧力損失を小さくした状態で、触媒の浄化性能を高くすることができる。セル密度が４０セル／ｃｍ^２より低いと、触媒担持面積が少なくなることがある。セル密度が１５０セル／ｃｍ^２より高いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４を構成する炭化珪素粒子（骨材）の平均粒子径は、３〜５０μｍであることが好ましく、３〜４０μｍであることが更に好ましい。ハニカム構造部４を構成する炭化珪素粒子の平均粒子径をこのような範囲とすることにより、ハニカム構造部４の４００℃における電気抵抗率を１〜２００Ωｃｍにすることができる。炭化珪素粒子の平均粒子径が３μｍより小さいと、ハニカム構造部４の電気抵抗率が大きくなることがある。炭化珪素粒子の平均粒子径が５０μｍより大きいと、ハニカム構造部４の電気抵抗率が小さくなることがある。更に、炭化珪素粒子の平均粒子径が５０μｍより大きいと、ハニカム成形体を押出成形するときに、押出成形用の口金に成形用原料が詰まることがある。炭化珪素粒子の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。

本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４の電気抵抗率は、１〜２００Ωｃｍであり、１０〜１００Ωｃｍであることが好ましい。電気抵抗率が１Ωｃｍより小さいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が過剰に流れることがある。電気抵抗率が２００Ωｃｍより大きいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が流れ難くなり、十分に発熱しないことがある。ハニカム構造部の電気抵抗率は、四端子法により測定した値である。

本実施形態のハニカム構造体１００においては、電極部２１の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率より低いものであることが好ましく、更に、電極部２１の電気抵抗率が、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下であることが更に好ましく、１〜１０％であることが特に好ましい。電極部２１の電気抵抗率を、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下とすることにより、電極部２１が、より効果的に電極として機能するようになる。

本実施形態のハニカム構造体１００においては、ハニカム構造部４の材質が、金属珪素−炭化珪素複合材である場合、ハニカム構造部４に含有される「骨材としての炭化珪素粒子の質量」と、ハニカム構造部４に含有される「結合材としての金属珪素の質量」との合計に対する、ハニカム構造部４に含有される「結合材としての金属珪素の質量」の比率が、１０〜４０質量％であることが好ましく、１５〜３５質量％であることが更に好ましい。１０質量％より低いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。４０質量％より高いと、焼成時に形状を保持できないことがある。

ハニカム構造部４の隔壁１の気孔率は、３５〜６０％であることが好ましく、３５〜４５％であることが更に好ましい。気孔率が、３５％未満であると、焼成時の変形が大きくなってしまうことがある。気孔率が６０％を超えるとハニカム構造体の強度が低下することがある。気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。

ハニカム構造部４の隔壁１の平均細孔径は、２〜１５μｍであることが好ましく、４〜８μｍであることが更に好ましい。平均細孔径が２μｍより小さいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。平均細孔径が１５μｍより大きいと、電気抵抗率が小さくなりすぎることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータにより測定した値である。

また、本実施形態のハニカム構造体１００の最外周を構成する外周壁３の厚さは、０．１〜２ｍｍであることが好ましい。０．１ｍｍより薄いと、ハニカム構造体１００の強度が低下することがある。２ｍｍより厚いと、触媒を担持する隔壁の面積が小さくなることがある。

本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面におけるセル２の形状が、四角形、六角形、八角形、又はこれらの組み合わせ、であることが好ましい。これ等のなかでも、四角形及び六角形が好ましい。セル形状をこのようにすることにより、ハニカム構造体１００に排ガスを流したときの圧力損失が小さくなり、触媒の浄化性能が優れたものとなる。

本実施形態のハニカム構造体の形状（ハニカム構造部の形状）は特に限定されず、例えば、底面が円形の筒状（円筒形状）、底面がオーバル形状の筒状、底面が多角形（四角形、五角形、六角形、七角形、八角形等）の筒状等の形状とすることができる。また、ハニカム構造体の大きさは、底面の面積が２０００〜２００００ｍｍ^２であることが好ましく、４０００〜１００００ｍｍ^２であることが更に好ましい。また、ハニカム構造体の中心軸方向の長さは、５０〜２００ｍｍであることが好ましく、７５〜１５０ｍｍであることが更に好ましい。

本実施形態のハニカム構造体１００のアイソスタティック強度は、１ＭＰａ以上であることが好ましく、３ＭＰａ以上であることが更に好ましい。アイソスタティック強度は、値が大きいほど好ましいが、ハニカム構造体１００の材質、構造等を考慮すると、６ＭＰａ程度が上限となる。アイソスタティック強度が１ＭＰａ未満であると、ハニカム構造体を触媒担体等として使用する際に、破損し易くなることがある。アイソスタティック強度は水中にて静水圧をかけて測定した値である。

本実施形態のハニカム構造体１００は、触媒が担持されて、触媒体として使用されることが好ましい。

次に、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態について説明する。

本実施形態のハニカム構造体３００は、図６に示されるように、図５に示されるハニカム構造体２００の端面に、スリット（端面スリット３１）が形成された構造である。端面スリット３１は、「電極中央部２３に形成された電極部スリット６ａ」に連通し、セルの延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部の中心を通るように形成されている。端面スリット３１は、電極部スリット６ａに連通するため、電極部領域に開口するスリット（電極部スリット）の一態様である（電極部領域の開口部を共有している）ということができる。ここで、「端面スリット３１」は、ハニカム構造体の端面において、「当該端面の外周上」の２点間を結ぶように形成されたスリットのことである。そのため、「端面スリット３１」は、ハニカム構造体の外周上に２つの開口部を有するものである。図６に示されるハニカム構造体３００においては、２つの電極部領域のそれぞれに、１つずつの開口部を有している。本実施形態のハニカム構造体３００は、このように、端面スリットを有するため、より効果的に温度変化時のクラック発生を抑制することができる。

ここで、ハニカム構造体３００の、セルの延びる方向に直交する断面における直径を「ハニカム外径」とする。そのとき、端面スリット３１の、セルの延びる方向における長さ（端面スリットの深さ）は、ハニカム外径に対して、０．５〜５０％が好ましく、１〜３０％が更に好ましい。０．５％より短いと、クラック発生を抑制する効果が少なくなることがある。５０％より長いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。また、ハニカム構造体３００の、セルの延びる方向に直交する断面における外周の長さを「ハニカム外周長」とする。そのとき、端面スリット３１の幅は、ハニカム外周長に対して、０．１〜１０％が好ましく、０．２〜５％が更に好ましい。ハニカム外周長の０．１％より短いと、クラック発生を抑制する効果が少なくなることがある。ハニカム外周長の１０％より長いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。

（２）ハニカム構造体の製造方法：
次に、本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態について説明する。

まず、以下の方法で、ハニカム成形体を作製する。炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して成形原料を作製する。炭化珪素粉末の質量と金属珪素の質量との合計に対して、金属珪素の質量が１０〜４０質量％となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、３〜５０μｍが好ましく、３〜４０μｍが更に好ましい。金属珪素（金属珪素粉末）の平均粒子径は、２〜３５μｍであることが好ましい。炭化珪素粒子及び金属珪素（金属珪素粒子）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。尚、これは、ハニカム構造部の材質を、金属珪素−炭化珪素系複合材とする場合の成形原料の配合であり、ハニカム構造部の材質を炭化珪素とする場合には、金属珪素は添加しない。

バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２．０〜１０．０質量部であることが好ましい。

水の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２０〜６０質量部であることが好ましい。

界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜２．０質量部であることが好ましい。

造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．５〜１０．０質量部であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０〜３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、成形時に口金に詰まることがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。造孔材が吸水性樹脂の場合には、造孔材の平均粒子径は吸水後の平均粒子径のことである。

次に、成形原料を混練して坏土を形成する。成形原料を混練して坏土を形成する方法としては特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。

次に、坏土を押出成形してハニカム成形体を作製する。押出成形に際しては、所望の全体形状、セル形状、隔壁厚さ、セル密度等を有する口金を用いることが好ましい。口金の材質としては、摩耗し難い超硬合金が好ましい。ハニカム成形体は、流体の流路となる複数のセルを区画形成する隔壁と最外周に位置する外周壁とを有する構造である。

ハニカム成形体の隔壁厚さ、セル密度、外周壁の厚さ等は、乾燥、焼成における収縮を考慮し、作製しようとする本発明のハニカム構造体の構造に合わせて適宜決定することができる。

次に、得られたハニカム成形体について、乾燥を行うことが好ましい。乾燥後のハニカム成形体を「ハニカム乾燥体」と称することがある。乾燥の方法は特に限定されず、例えば、マイクロ波加熱乾燥、高周波誘電加熱乾燥等の電磁波加熱方式と、熱風乾燥、過熱水蒸気乾燥等の外部加熱方式とを挙げることができる。これらの中でも、成形体全体を迅速かつ均一に、クラックが生じないように乾燥することができる点で、電磁波加熱方式で一定量の水分を乾燥させた後、残りの水分を外部加熱方式により乾燥させることが好ましい。乾燥の条件として、電磁波加熱方式にて、乾燥前の水分量に対して、３０〜９９質量％の水分を除いた後、外部加熱方式にて、３質量％以下の水分にすることが好ましい。電磁波加熱方式としては、誘電加熱乾燥が好ましく、外部加熱方式としては、熱風乾燥が好ましい。

ハニカム成形体（ハニカム乾燥体）の中心軸方向長さが、所望の長さではない場合は、両端面（両端部）を切断して所望の長さとすることが好ましい。切断方法は特に限定されないが、丸鋸切断機等を用いる方法を挙げることができる。

次に、電極部を形成するための電極部形成原料を調合する。電極部の主成分を、炭化珪素及び金属珪素とする場合、電極部形成原料は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末に、所定の添加物を添加し、混練して形成することが好ましい。

具体的には、炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して、混練して電極部形成原料を作製する。炭化珪素粉末及び金属珪素の合計質量を１００質量部としたときに、金属珪素の質量が２０〜４０質量部となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、１０〜６０μｍが好ましい。金属珪素粉末（金属珪素）の平均粒子径は、２〜２０μｍであることが好ましい。２μｍより小さいと、電気抵抗率が小さくなりすぎることがある。２０μｍより大きいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。炭化珪素粒子及び金属珪素（金属珪素粒子）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。

バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜５．０質量部であることが好ましい。

水の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、１５〜６０質量部であることが好ましい。

界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜２．０質量部であることが好ましい。

造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜５．０質量部であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０〜３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、大気孔ができやすくなり、強度低下を起こすことがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。

次に、炭化珪素粉末（炭化珪素）、金属珪素（金属珪素粉末）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を混合して得られた混合物を混練して、ペースト状の電極部形成原料とすることが好ましい。混練の方法は特に限定されず、例えば、縦型の撹拌機を用いることができる。

次に、得られた電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体（ハニカム乾燥体）の側面に塗布することが好ましい。電極部形成原料をハニカム乾燥体の側面に塗布する方法は、特に限定されないが、例えば、印刷方法を用いることができる。また、電極部形成原料は、上記本発明のハニカム構造体における電極部の形状になるように、ハニカム乾燥体の側面に塗布することが好ましい。電極部の厚さは、電極部形成原料を塗布するときの厚さを調整することにより、所望の厚さとすることができる。このように、電極部形成原料をハニカム乾燥体の側面に塗布し、乾燥、焼成するだけで電極部を形成することができるため、非常に容易に電極部を形成することができる。

次に、ハニカム乾燥体の側面に塗布した電極部形成原料を乾燥させて、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製することが好ましい。乾燥条件は、５０〜１００℃とすることが好ましい。

次に、電極部原料付きハニカム乾燥体に、スリットを形成することが好ましい。スリットは、ルーター等を使用して形成することが好ましい。スリットは、電極部原料付きハニカム乾燥体の側面に開口するように形成する。そして、少なくとも１本のスリットを、電極部原料が塗工された領域に開口するように形成することが好ましい。そして、少なくとも１本の他のスリットを、電極部原料が塗工されずにハニカム乾燥体の側面が露出している領域に開口するように形成することが好ましい。電極部原料付きハニカム乾燥体に形成するスリットとしては、上記本発明のハニカム構造体に形成されるスリットの好ましい態様と同様のスリットが好ましい。例えば、電極部原料付きハニカム乾燥体に、図１に示されるハニカム構造体１００に形成されるスリット６と同様のスリットを形成することが好ましい。尚、電極部原料付きハニカム乾燥体を焼成した後に、スリットを形成してもよい。また、ハニカム乾燥体にスリットを形成した後に、電極部形成原料をハニカム乾燥体に塗付してもよい。

次に、電極部原料付きハニカム乾燥体を焼成してハニカム構造体を作製することが好ましい。尚、焼成の前に、バインダ等を除去するため、仮焼成を行うことが好ましい。仮焼成は大気雰囲気において、４００〜５００℃で、０．５〜２０時間行うことが好ましい。

焼成（本焼成）条件としては、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気において、１４００〜１５００℃で、１〜２０時間加熱することが好ましい。また、焼成後、耐久性向上のために、１２００〜１３５０℃で、１〜１０時間、酸素化処理を行うことが好ましい。仮焼成及び焼成の方法は特に限定されず、電気炉、ガス炉等を用いて焼成することができる。

次に、本発明のハニカム構造体の他の実施形態の製造方法について説明する。本実施形態のハニカム構造体の製造方法は、スリットに充填材が充填されている（充填材を備えた）ハニカム構造体の製造方法である。例えば、図１に示されるようなハニカム構造体を作製する方法である。

本実施形態のハニカム構造体の製造方法は、まず、上記本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態と同様の方法で、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製することが好ましい。

充填材として電極部と同じ材料を用いる場合には、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製した後に、上記本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態と同様に、電極部原料付きハニカム乾燥体にスリットを形成することが好ましい。そして、充填材用原料を調製することが好ましい。充填材用原料は、電極部形成原料の好ましい組成と同様の組成であることが好ましい。次に、充填材用原料をスリットに充填することが好ましい。充填材用原料をスリットに充填する際には、箆（へら）等を用いることが好ましい。次に、充填材用原料をスリットに充填した電極部原料付きハニカム乾燥体を乾燥することが好ましい。乾燥条件は、５０〜１００℃とすることが好ましい。次に、乾燥後の電極部原料付きハニカム乾燥体を焼成して、ハニカム構造体を得ることが好ましい。焼成条件は、上記本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態において好ましいとされた焼成条件と同様であることが好ましい。

充填材として、電極部の焼成温度より低温での熱処理を必要とする材料を用いる場合には、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製した後に、仮焼成及び本焼成を行い、「電極部付きハニカム焼成体」を得ることが好ましい。そして、その後に、電極部付きハニカム焼成体にスリットを形成することが好ましい。仮焼成、本焼成及びスリット形成のそれぞれの条件は、上記本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態の場合と同様にすることが好ましい。そして、スリットが形成された電極部付きハニカム焼成体に充填材用原料を充填し、乾燥し、熱処理することによりハニカム構造体を得ることが好ましい。充填材用原料をスリットに充填する際には、箆（へら）等を用いることが好ましい。充填材用原料としては、無機粒子及び無機接着剤を含有するものであることが好ましい。充填材用原料には、更に、有機バインダ、界面活性剤、発泡樹脂、水等が含有されることが好ましい。無機粒子としては、板状粒子、球状粒子、塊状粒子、繊維状粒子、針状粒子等を挙げることができる。また、無機粒子の材質としては、炭化珪素、マイカ、タルク、窒化ホウ素、ガラスフレーク等を挙げることができる。無機粒子としては、複数種類の無機粒子の混合物であってもよい。そして、無機粒子としては、少なくとも炭化珪素粒子を２０質量％以上含有するものであることが好ましい。無機接着剤としては、コロイダルシリカ（ＳｉＯ_２ゾル）、コルイダルアルミナ（アルミナゾル）、各種酸化物ゾル、エチルシリケート、水ガラス、シリカポリマー、リン酸アルミニウム等を挙げることができる。

以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。

（実施例１）
炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを８０：２０の質量割合で混合して、炭化珪素−金属珪素混合物を作製する。そして、炭化珪素−金属珪素混合物に、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を添加すると共に、水を添加して成形原料とし、成形原料を真空土練機により混練し、円柱状の坏土を作製した。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに７質量部であった。造孔材の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに３質量部であった。水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は２０μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。また、造孔材の平均粒子径は、２０μｍであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。

得られた円柱状の坏土を押出成形機を用いて成形し、ハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で２時間乾燥し、両端面を所定量切断した。

次に、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の質量割合で混合し、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、保湿剤としてグリセリン、分散剤として界面活性剤を添加すると共に、水を添加して、混合した。混合物を混練して電極部形成原料とした。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．５質量部であった。グリセリンの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに１０質量部であった。界面活性剤の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．３質量部であった。水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は５２μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。炭化珪素及び金属珪素の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。混練は、縦型の撹拌機で行った。

次に、電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体の側面に、厚さが１．５ｍｍ、「セルの延びる方向に直交する断面において中心角の０．５倍が５０°」になるようにして、ハニカム成形体の両端部間（両端面間）に亘るように帯状に塗布した。電極部形成原料は、乾燥させたハニカム成形体の側面に、２箇所塗布した。そして、セルの延びる方向に直交する断面において、２箇所の電極部形成原料を塗布した部分の中の一方が、他方に対して、ハニカム成形体の中心を挟んで反対側に配置されるようにした。

次に、ハニカム成形体に塗布した電極部形成原料を乾燥させて、電極部原料付きハニカム乾燥体を得た。乾燥条件は、７０℃とした。

次に、電極部原料付きハニカム乾燥体に、図７に示されるハニカム構造体４００のスリット６（６ａ，６ｂ）のように、６本のスリットを形成した。スリットは、ルーターを用いて形成した。

次に、スリットを形成した電極部原料付きハニカム乾燥体を、脱脂し、焼成し、更に酸化処理してハニカム構造体を得た。脱脂の条件は、５５０℃で３時間とした。焼成の条件は、アルゴン雰囲気下で、１４５０℃、２時間とした。酸化処理の条件は、１３００℃で１時間とした。

得られたハニカム構造体は、図７に示されるハニカム構造体４００のように、２箇所の電極部領域Ｐのそれぞれの中央部にそれぞれ１本ずつ、２箇所のハニカム構造部領域Ｑのそれぞれに２本ずつ、合計６本のスリット６が形成されたものであった。スリット深さは、５ｍｍであった。スリットの幅は、１ｍｍであった。電極部スリット開口部を、セルの延びる方向に延びるように形成した。ハニカム構造部スリット開口部を、セルの延びる方向に延びるように形成した。図７は、実施例１のハニカム構造体４００（スリット構造Ａ）を模式的に示す斜視図である。

得られたハニカム構造体の隔壁の平均細孔径（気孔径）は８．６μｍであり、気孔率は４５％であった。平均細孔径および気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。また、ハニカム構造体の、隔壁の厚さは９０μｍであり、セル密度は９０セル／ｃｍ^２であった。また、ハニカム構造体の底面は直径（外径）９３ｍｍの円形であり、ハニカム構造体のセルの延びる方向における長さは１００ｍｍであった。また、ハニカム構造体の、２つの電極部の、セルの延びる方向に直交する断面における中心角の０．５倍は、５０°であった。また、２つの電極部の厚さは、いずれも１．５ｍｍであった。また、電極部の電気抵抗率は、１．３Ωｃｍであり、ハニカム構造部の電気抵抗率は、１００Ωｃｍであった。また、ハニカム構造体の、セルの延びる方向に直交する断面における、セルの形状は六角形であった。

得られたハニカム構造体について、以下に示す方法で、「耐熱衝撃性試験」を行った。結果を表１に示す。

尚、ハニカム構造部及び電極部の電気抵抗率は、以下の方法で測定した。測定対象と同じ材質で１０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの試験片を作成した。つまり、ハニカム構造部の電気抵抗率を測定する場合にはハニカム構造部と同じ材質で、そして、電極部の電気抵抗率を測定する場合には電極部と同じ材質で、それぞれ試験片を作製した。試験片の両端部全面に銀ペーストを塗布し、配線して通電できるようにした。試験片に電圧印加電流測定装置をつないだ。試験片中央部に熱伝対を設置した。試験片に電圧を印加し、電圧印加時の試験片温度の経時変化をレコーダーにて確認した。更に具体的には、１００〜２００Ｖの電圧を印加し、試験片温度が４００℃の状態における電流値及び電圧値を測定し、得られた電流値及び電圧値、並びに試験片寸法から電気抵抗率を算出した。

（耐熱衝撃性試験）
「ハニカム構造体を収納する金属ケースと、当該金属ケース内に加熱ガスを供給することができるプロパンガスバーナーと、を備えたプロパンガスバーナー試験機」を用いてハニカム構造体の加熱冷却試験を実施した。上記加熱ガスは、ガスバーナー（プロパンガスバーナー）でプロパンガスを燃焼させることにより発生する燃焼ガスとした。そして、上記加熱冷却試験によって、ハニカム構造体にクラックが発生するか否かを確認することにより、耐熱衝撃性を評価した。具体的には、まず、プロパンガスバーナー試験機の金属ケースに、得られたハニカム構造体を収納（キャニング）した。そして、金属ケース内に、プロパンガスバーナーにより加熱されたガス（燃焼ガス）を供給し、ハニカム構造体内を通過するようにした。金属ケースに流入する加熱ガスの温度条件（入口ガス温度条件）を以下のようにした。まず、５分で指定温度まで昇温し、指定温度で１０分間保持し、その後、５分で１００℃まで冷却し、１００℃で１０分間保持した。このような昇温、冷却、保持の一連の操作を「昇温、冷却操作」と称する。その後、ハニカム構造体のクラックを確認した。そして、指定温度を８２５℃から２５℃ずつ上昇させながら上記「昇温、冷却操作」を繰り返した。指定温度は、８２５℃から２５℃ずつ、１４段階設定した。つまり、上記「昇温、冷却操作」は、指定温度が１１５０℃になるまで行った。指定温度が高くなると昇温峻度が大きくなり、中心部に対して外周部の昇温が遅れることにより、中心部と外周部の温度差が拡大し、発生応力が大きくなる。表１において、「耐熱衝撃性試験」の欄は、耐熱衝撃性試験において、ハニカム構造体にクラックが発生したときの指定温度を示している。

（実施例２〜１２、比較例１〜６）
各条件を、表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてハニカム構造体を作製した。実施例１の場合と同様にして、「耐熱衝撃性試験」を行った。結果を表１に示す。

実施例４〜７のハニカム構造体には、全てのスリットの空間全体に充填材を充填した。充填材の充填方法は以下の通りとした。実施例１と同様にして、「スリットを形成した電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製した。そして、「スリットを形成した電極部原料付きハニカム乾燥体」に充填材用原料を、箆（へら）を用いて充填し、「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を得た。その後、「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を７０℃で乾燥し、実施例１と同様にして脱脂、焼成し、ハニカム構造体を得た。充填材用原料は、電極部形成原料と同じ組成とした。

表１において、「スリット構造」の欄の「Ａ」（スリット構造Ａ）は、図７に示されるハニカム構造体４００に形成されたスリットの配置（構造）を意味する。「スリット構造」の欄の「Ｂ」（スリット構造Ｂ）は、図８に示されるハニカム構造体５００に形成されたスリットの配置（構造）を意味する。図８に示されるハニカム構造体５００は、２箇所の電極部領域Ｐのそれぞれの中央部にそれぞれ１本ずつ、２箇所のハニカム構造部領域Ｑのそれぞれに３本ずつ、合計８本のスリット６が形成されたものであった。図８は、実施例８のハニカム構造体（スリット構造Ｂ）を模式的に示す斜視図である。

表１において、「ハニカム構造部スリット１」は、ハニカム構造部スリットの中で、電極部との境界付近に形成されたスリットのことである。図７に示されるハニカム構造体４００に形成されたハニカム構造部スリットは、「ハニカム構造部スリット１」である。また、「ハニカム構造部スリット２」は、ハニカム構造部スリットの中で、ハニカム構造部領域の「外周方向における中央部」に形成されたスリットのことである。図８に示されるハニカム構造体５００における、２のハニカム構造部領域のそれぞれには、２つの「ハニカム構造部スリット１」と、１つの「ハニカム構造部スリット２」とが形成されている。

「充填材のヤング率」は、ＪＩＳ Ｒ１６０２に準拠して、曲げ共振法によって測定した値である。充填材を形成する原料を用いて、３ｍｍ×４ｍｍ×４０ｍｍの棒状の試験片を作製し、当該試験片を用いてヤング率の測定を行った。また、充填材気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。

表１より、「少なくとも１本の電極部スリットの深さが、少なくとも１本のハニカム構造部スリットの深さよりも深い」ハニカム構造体は、耐熱衝撃性に優れていることがわかる。例えば、実施例１と比較例１とは、ハニカム構造部スリットの深さが同じで、電極部スリットの深さが実施例１のほうが深い。その結果、実施例１のハニカム構造体のほうが、耐熱衝撃性が良好である。

本発明のハニカム構造体は、自動車等の排ガスを浄化する排ガス浄化装置用の触媒担体として好適に利用することができる。

１：隔壁、２：セル、３：外周壁、４：ハニカム構造部、５：側面、６：スリット、６ａ：電極部スリット、６ｂ：ハニカム構造部スリット、７：充填材、８：開口部、８ａ：電極部スリット開口部、８ｂ：ハニカム構造部スリット開口部、１１：一方の端面、１２：他方の端面、２１：電極部、２２：外周、２３：電極中央部、２４：ハニカム中央部、３１：端面スリット、１００，２００，３００，４００，５００：ハニカム構造体、Ｐ：電極部領域、Ｑ：ハニカム構造部領域、Ｄ１：電極部スリットの深さ、Ｄ２：ハニカム構造部スリットの深さ、Ｏ：中心、Ｃ：（電極部の）中央部、Ｌ１，Ｌ２：線分、α：中心角、β：角度、θ：中心角の０．５倍の角度。

Claims (13)

1. 流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有し、底面が点対称な形状である筒状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、
   前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍであり、
   前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、
   前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、
   前記電極部が配設されている領域である電極部領域と、前記ハニカム構造部の側面が露出した領域であるハニカム構造部領域とから構成される外周を有し、
   前記電極部領域に開口するスリットである電極部スリットが１本以上形成され、前記ハニカム構造部領域に開口するスリットであるハニカム構造部スリットが１本以上形成され、
   前記電極部スリットの前記電極部領域に開口する部分である電極部スリット開口部が、前記セルの延びる方向に延びるように形成され、前記ハニカム構造部スリットの前記ハニカム構造部領域に開口する部分であるハニカム構造部スリット開口部が、前記セルの延びる方向に延びるように形成され、
   前記セルの延びる方向に直交する断面において、少なくとも１本の前記電極部スリットの長さが、少なくとも１本の前記ハニカム構造部スリットより長く、
   前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部スリットの前記電極部領域に開口している側の端部とは反対側の端部が、前記ハニカム構造部の内部に達しているハニカム構造体。
2. 前記セルの延びる方向に直交する断面において、
   前記電極部スリットの全てが、全ての前記ハニカム構造部スリットより、長さが長く、前記電極部領域の中央部に近い位置に前記電極部スリット開口部を有する前記電極部スリットほど、長さが長く、前記ハニカム構造部領域の中央部に近い位置に前記ハニカム構造部スリット開口部を有する前記ハニカム構造部スリットほど、長さが短い請求項１に記載のハニカム構造体。
3. 前記電極部領域の外周方向における中央部に前記電極部スリット開口部が形成された前記電極部スリットを有し、
   前記ハニカム構造部領域の外周方向における中央部に前記ハニカム構造部スリット開口部が形成された前記ハニカム構造部スリットを有する請求項１又は２に記載のハニカム構造体。
4. 前記電極部スリット及び前記ハニカム構造部スリットの中の少なくとも１本が、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部のそれぞれの中央部同士を結んだ直線と交差しないように形成されている請求項１〜３のいずれかに記載のハニカム構造体。
5. 前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部スリット及び前記ハニカム構造部スリットの長さが、前記ハニカム構造部の半径の１〜８０％の長さである請求項１〜４のいずれかに記載のハニカム構造体。
6. 前記電極部スリット開口部及び前記ハニカム構造部スリット開口部の、外周方向における長さが、前記ハニカム構造部の外周の長さの０．３〜５．０％の長さである請求項１〜５のいずれかに記載のハニカム構造体。
7. 前記電極部スリットが、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部の中央部同士を結んだ直線に平行に形成されている請求項１〜６のいずれかに記載のハニカム構造体。
8. 前記電極部スリットの本数と前記ハニカム構造部スリットの本数との合計が、２〜２０本である請求項１〜７のいずれかに記載のハニカム構造体。
9. 少なくとも１本の前記スリットに充填される充填材を有し、
   前記充填材が、前記スリットの空間の少なくとも一部に充填される請求項１〜８のいずれかに記載のハニカム構造体。
10. 前記充填材が、前記スリットの空間の全部に充填される請求項９に記載のハニカム構造体。
11. 前記充填材のヤング率が、０．００１〜２０ＧＰａである請求項９又は１０に記載のハニカム構造体。
12. 前記充填材の気孔率が、４０〜８０％である請求項９〜１１のいずれかに記載のハニカム構造体。
13. 前記充填材の電気抵抗率が、前記ハニカム構造部の電気抵抗率の１００〜１０００００％である請求項９〜１２のいずれかに記載のハニカム構造体。

Images