JP5712436B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
(2) バックバイアス効果による閾値電圧の上昇が無視できること、
(3) 短チャネル効果が抑制可能なこと、
(4) サブスレッショルドスイングが減少可能なこと、
(5) ドレイン電流密度の増大化ができること、
等が挙げられる。例えば特許文献1には、縦型MOSトランジスタの構造や製造方法が開示されている。しかしながら、実際の半導体装置においては、縦型MOSトランジスタの特長を活かす提案が具体的になされていなかった。
図54において、M0−M4はダイオード接続のMOSトランジスタ、C1−C4は昇圧用キャパシタ、Coutは出力負荷キャパシタを示す。昇圧用クロックF1とF2は逆位相である。ポンプ回路の各段のノードN1−N4の昇圧電位差(ΔV)は(1)式で表わされる。
ここで、VFは昇圧クロックの電位振幅、Csは各ポンプノードの寄生容量、fは昇圧用クロックの周波数、IM1−M4はMOSトランジスタM1−M4の出力電流である。電荷転送後のノードNi+1とノードNiの電位差はMOSトランジスタMiの閾値電圧である。
ここで、ViとVi+1は、それぞれノードNiとNi+1の電位であり、Vth(Mi+1)はMOSトランジスタMi+1の閾値電圧である。
図55は、従来のNAND型フラッシュメモリの読み出し動作を説明する図である。図55(A)に示すように、選択されたメモリセル105のゲートには0Vが印加され、同一のNAND列(ストリング)のメモリセル105のゲートには読み出し電圧4.5Vが印加される。この4.5Vは外部の供給電圧3Vから昇圧され、生成される。従って、図55(B)に示すように、選択メモリセル以外のメモリセルトランジスタはトランスファーゲートとして機能する。その結果、論理“1”がメモリセルに記憶されている場合、メモリセルトランジスタはディプレーション型となり、セル電流は流れる。
1B:p型の縦型MOSトランジスタ
2:半導体柱
3:ソース領域
4:ソース電極
5:ドレイン領域
6:ドレイン電極
6A,6C:第1のドレイン電極
6B,6D:第1のドレイン電極
7:ゲート酸化膜
8:ゲート電極
9:基板
11:nウェル
12:p+領域
13:n+拡散層
14:配線交差領域
15:ドレイン寄生抵抗
20:チャージ・ポンプ回路
25;NAND型フラッシュメモリ
26:メモリセルアレイ
27:ロウデコーダ回路
28:ドライバートランジスタ
30:CMOSインバータ
31,35:n型の縦型MOSトランジスタ
35A:第1のn型の縦型MOSトランジスタ
35B:第2のn型の縦型MOSトランジスタ
35C:第3のn型の縦型MOSトランジスタ
32,36:p型の縦型MOSトランジスタ
36A:第1のp型の縦型MOSトランジスタ
36B:第2のp型の縦型MOSトランジスタ
36C:第3のp型の縦型MOSトランジスタ
40:CMOSインバータ
45:2入力のCMOS NANDゲート
46:3入力のCMOS NANDゲート
47:2入力のCMOS NOR
48:3入力のCMOS NORゲート
49:E/R型インバータ
50:CMOSクロスカップル型のセンスアンプ
55:マルチピラー型の縦型MOSトランジスタ
(第1の実施形態)
図1(A)は本発明の第1の実施形態に係るN縦型MOSトランジスタのデバイス構造を示す斜視図であり、図1(B)はN縦型MOSトランジスタのデバイス構造の断面図である。
図1に示すように、本発明の第1の実施形態の縦型MOSトランジスタ1は、チャネルとなるp型半導体柱2と、p型半導体柱2の一端に形成されソース領域3となるn+不純物拡散層と、ソース領域3に形成されるソース電極4と、p型半導体柱の他端に形成されドレイン領域5となるn+不純物拡散層と、ドレイン領域5に形成されるドレイン電極6と、p型半導体柱2の側面を取り囲むように配設されるゲート酸化膜7と、ゲート酸化膜7を被覆するゲート電極8と、から構成されている。半導体柱2は、例えばシリコン(Si)から形成することができ、シリコン柱2とも呼ぶ。縦型MOSトランジスタ1は、Si等の半導体からなる基板9やSOI基板上に形成することができる。図1に示したソース領域3は、半導体柱2の上面に形成し、ドレイン領域5は半導体柱2の下面側に形成した場合を示している。つまり、半導体柱2は、基板9に垂直に配置している。半導体柱2とソース領域3とドレイン領域5とはそれぞれ円柱形状に形成されている。半導体柱2は基板9に水平に配置してもよい。つまり、半導体柱2は、その長軸方向が基板9に平行になるように基板9上に載置されてもよい。
図2(A)に示す縦型MOSトランジスタ1Aのドレイン領域5は、p型のシリコン基板9に形成されるnウェル11又はn+ウェル内に形成し、ドレイン電極6をnウェル11又はn+ウェル内の表面に形成している。nウェル11又はn+ウェルは基板9に拡散した不純物拡散層で形成される。
図2(B)に示す縦型MOSトランジスタ1Aでは、p型シリコン柱2の底面側をn+拡散層でドレインを形成しているので、寄生ドレイン抵抗RDが存在するが寄生ソース抵抗RSは生じない。
一方、図2(C)に示す縦型MOSトランジスタの比較例はp型シリコン柱2の底面側をn+拡散層でソース領域3を形成しているので、寄生ソース抵抗RSが存在するが寄生ドレイン抵抗RDは比較的に小さい。
図2(A)及び図2(B)に示すn型縦型MOSトランジスタ1Aでは、トランジスタの電流電圧特性が非対称性となり、同じ電流電圧特性を示さない。比較例の縦型MOSトランジスタは、本発明の縦型MOSトランジスタ1,1Aと比較すると、ドレイン電流が減少する。
図3に示すように、シリコン柱2の底面側をソース領域3とした場合に、シリコン柱2の底面をドレイン領域5とした場合よりもドレイン電流が減少するのは、寄生抵抗RSがソース側に挿入されると、そのIRドロップによって、実効的なドレイン・ソース間電圧VDSだけでなく、ドレイン電流の飽和領域の実効的なゲート・ソース間電圧VGSも低下するためである。
DS特性)の基板9のバイアス依存性についてのシミュレーション結果の図で、(A)は縦型MOSトランジスタ1,1Aを、(B)は平面型MOSトランジスを示している。図の横軸はVGS(V)、縦軸はIDS(A)である。縦型MOSトランジスタ1,1A及び平面型MOSトランジスタのW/Lは5μm/0.18μmであり、またゲート酸化膜7の厚みは5nmである。ドレイン・ソース電圧(VDS)は50mVとした。縦型MOSトランジスタ1,1Aの半導体柱2は完全に空乏化している。
図4(A)から明らかなように、縦型MOSトランジスタ1,1Aでは、基板9のバイアス電圧を、0V,−0.5V,−1.0V,−1.5Vと変化させても、VGS−IDS特性が全く変化しないことが分かる。
図4(B)から明らかなように、従来の平面型MOSトランジスタでは、基板のバイアス電圧を、0V,−0.5V,−1.0V,−1.5Vと変化させるにつれて、VGS−IDS特性が変化することが分かる。
図5から明らかなように、基板バイアス電圧(V)を0V〜−1.5Vまで変えても本発明の縦型MOSトランジスタ1,1Aでは、閾値電圧Vthが変化しない。これに対して、平面型MOSトランジスタの閾値電圧Vthは、基板バイアス電圧が0V〜‐1.5Vまで変化するにつれ、増大することが分かる。
これにより、本発明の縦型MOSトランジスタ1,1Aにおいては、シリコン柱2が完全に空乏化しており、その結果、基板バイアス依存性は全く無く、所謂バックバイアス効果による閾値電圧の上昇は完全に無視できる。
本発明の半導体装置を用いた種々の回路について説明する。
図6は、本発明の半導体装置を用いたチャージ・ポンプ回路20の構成を示すブロック図である。図6に示すチャージ・ポンプ回路20は、従来の平面型MOSトランジスタからなる4段のディクソンのチャージ・ポンプ回路の平面型MOSトランジスタを本発明の縦型MOSトランジスタ1,1Aに置換した回路である。本発明の半導体装置を用いた種々の回路では、少なくとも2個のMOSトランジスタが直列接続された半導体装置において、少なくとも1個のMOSトランジスタを縦型MOSトランジスタ1,1Aとする。
C1−C4:10pF
出力キャパシタ:100pF
出力抵抗:1MΩ
外部供給電圧(Vcc):1.8V
図12は、NAND型フラッシュメモリ25の部分的な回路図である。図12に示すように、NAND型フラッシュメモリ25は、メモリセルアレイ26と、チャージ・ポンプ回路20を含むロウデコーダ回路27とを含んで構成されている。メモリセルアレイ26は、NAND接続されたメモリセルアレイ26と、所謂XYアドレスのために、選択ゲート線(SSL、GSL)と、ワード線(WL0、WL1、WL14、WL15)線とを含んでいる。このワード線は、コントロールゲート線とも呼ばれている。
ドライバートランジスタ28においては、ドレインに第1の電位(ドレイン電位と呼ぶ。)、ソースに第2の電位(ソース電位と呼ぶ。)、ゲートに第3の電位(ゲート電位と呼ぶ。)が印加されるものとする。
先ず、ソース電位の上昇に伴いドライバートランジスタ28の閾値電圧の上昇が無く、ゲート電位が、第1の電位よりも高いか同一の場合、又はドライバートランジスタ28の閾値電圧よりも高いか同一の場合には、ドレイン電位がソース電位として伝達される。
一方、ゲート電位が、ドレイン電位よりも低い場合、又はドライバートランジスタ28の閾値電圧よりも低い場合には、ゲート電位からドライバートランジスタ28の閾値電圧分を差し引いた電圧がドレインよりソースへ伝達される。
本発明の縦型MOSトランジスタ1,1Aはn型の縦型MOSトランジスタ単体あるいはその組み合わせに限らずに、p型の縦型MOSトランジスタ単体あるいはその組み合わせにも適用することができる。CMOSインバータを例に取って、以下に説明する。
図13(A)に示すように、本発明のCMOSインバータ30は、半導体柱2の底面側をドレイン領域5としたn型の縦型MOSトランジスタ31とp型の縦型MOSトランジスタ32とが直列接続されて構成されている。n型及びp型の縦型MOSトランジスタ31、32のゲート電極8同士が接続され、入力VINが印加される。さらにドレイン電極6同士が接続され、次段へ出力(VOUT)される。p型の縦型MOSトランジスタ32のソース電極4には電源VCCが接続され、n型の縦型MOSトランジスタ31のソース電極4には電源VSSが接続される。電源VSSは0電位であってもよい。
一方、比較例のCMOSインバータは、図13(B)に示すように、シリコン柱2の底面側をソース領域3とした以外は、本発明のCMOSインバータ30と同じである。
上記CMOSインバータ30の1段当たりのゲート遅延時間のシミュレーションを行った。用いた縦型MOSトランジスタは、図3と同じ寸法を有している。
図14から明らかなように、寄生抵抗の値が大きくなるほど、インバータ1段当たりのゲート遅延時間は、寄生抵抗成分の無い場合、つまり、R=0Ωに比べて長くなる。半導体柱2の底面をソース領域3にした場合には、半導体柱2の底面をドレイン領域5にした場合よりもゲート遅延時間の劣化が著しい。その理由は、前述したようにトランジスタのドレイン電流が実効的なゲート電圧VGSの低下により、減少するためである。
以下、図面を参照しながら本発明の第2の実施形態を具体的に説明する。
図15は、本発明の第2の実施形態に係る縦型MOSトランジスタのデバイス構造を示す模式的な斜視図である。図15に示すように、本発明の第2の実施形態に係る縦型MOSトランジスタ35は、半導体柱2の下面に形成されドレイン領域5となるn+不純物拡散層の表面に少なくとも2つ以上のドレイン電極6A,6Bを配設した構造を有している。縦型MOSトランジスタ35の構造は、図1及び図2(A)に示した縦型MOSトランジスタ1,1Aの構造とは異なる。他の構成は縦型MOSトランジスタ,1Aの構造と同様であるので、説明は省略する。
ここで、本発明の縦型MOSトランジスタを用いたロジック回路を、縦型ロジック回路(Vertical Logic Circuit)、すなわち、VLCと呼ぶことにする。本発明の半導体装置を用いた種々の回路では、少なくとも2個のMOSトランジスタが直列接続された半導体装置において、少なくとも1個のMOSトランジスタを縦型MOSトランジスタ35とする。
図16は、本願のVLC構成を用いた2段のCMOSインバータ40を示す回路図である。図16に示ように、CMOSインバータ40で、n型の縦型MOSトランジスタ35のドレイン領域5に形成する2つの第1及び第2のドレイン電極6A、6Bにおいて、大電流を流すのは第1のドレイン電極6A経由とし、p型の縦型MOSトランジスタ36の第1のドレイン電極6Cに向かう経路とすることができる。
一方、N型縦型MOSトランジスタの第1のドレイン電極6Bの小電流経路は、次段のCMOSインバータ回路やNANDゲート、NORゲート等のゲート電路のP型縦型MOSトランジスタのゲートに入力し、P型縦型MOSトランジスタ36の第2のドレイン電極6Dの小電流経路は、上記した次段のゲート回路のN型縦型MOSトランジスタのゲートに入力させている。
図17Aに示すように、左側がp基板9に設けたnウェル11に形成した1段目のCMOSインバータ40のp型の縦型MOSトランジスタ36である。右側がp基板9に設けたn+拡散層13上に形成した次段のCMOSインバータ40のn型の縦型MOSトランジスタ35である。1段目のp型の縦型MOSトランジスタ36のソース電極4は電源Vccに接続され、第2のドレイン電極6Cは次段のn型の縦型MOSトランジスタのゲート電極8に接続されている。
図17Bに示すように、図の上部左側がp基板9に設けたnウェル11に形成した次段のCMOSインバータ40のp型の縦型MOSトランジスタ36であり、右側がp基板9に設けたn+拡散層13上に形成した1段目のCMOSインバータ40のn型の縦型MOSトランジスタ35である。図の上部左側がp基板9に設けたnウェル11に形成した1段目のCMOSインバータ40のp型の縦型MOSトランジスタ36であり、右側がp基板9に設けたn+拡散層上に形成した次段目のCMOSインバータ40のn型の縦型MOSトランジスタ35である。図17Bでは、各段のドレイン電極6A及び6Bが、符号14を附している箇所、つまり配線交差領域を有しているパターンのレイアウト例を示している。これらのパターンを形成する配線は、複数の層間絶縁膜や複数の電極層からなる多層配線構造で形成することができる。
ここで、ファンアウトF=1とF=3の2例のシミュレーションを行った。VGS−IDS及び閾値電圧VTHは図4及び図5と同様の特性を示している。
図19は、本発明のVLC構成を用いた2入力のCMOS・NANDゲート45を示す回路図である。
図19に示すように、2入力CMOS・NAND45ゲートの構成は、平面型MOSトランジスタを用いた場合と同様に構成されている。つまり、第1のn型縦型MOSトランジスタ35Aと第2のn型縦型MOSトランジスタ1Aとが直列接続され、第1のn型縦型MOSトランジスタ35Aのドレイン電極6Aと並列接続された第1及び第2のp型縦型MOSトランジスタ36A,36Bのドレイン6Cとが接続されている。
本発明のVLC構成は、各種のCMOS・NORゲートにも適用することができる。
図22は、本発明のVLC構成を用いた2入力のCMOS・NORゲート47を示す回路図である。図22に示すように、2入力CMOS・NORゲート47の構成は、平面型MOSトランジスタを用いた場合と同様に構成されている。つまり、第1のp型縦型MOSトランジスタ1Bと第2のp型縦型MOSトランジスタ36Bとが直列接続され、この第2のp型縦型MOSトランジスタ36Bの第1のドレイン電極6Cと並列接続された第1及び第2のn型縦型MOSトランジスタ35A,35Bの第1のドレイン電極6A,6Bとが接続されている。第1のp型縦型MOSトランジスタ1Bのソースが電源(Vcc)に接続され、第1及び第2のn型縦型MOSトランジスタ35A,35Bのソースが電源(Vss)に接続されている。電源(Vss)は、ゼロ電位でもよい。
本発明のVLC構成は、E/R型等のインバータにも適用することができる。E/R型インバータは、エンハンスメント型のMOSトランジスタとこのMOSトランジスタのドレイン電極に接続される負荷抵抗からなり、MOSトランジスタのドレインが次段に接続される回路構成を有している。
図24に示すように、1段のE/R型インバータ49は、2つのドレイン電極6A,6Bを有する縦型MOSトランジスタ35から構成されている。
図25に示すように、本発明のVLC構成を用いた各段のE/R型インバータ49は、p型の基板9のn+拡散層に形成されている。図示しない層間絶縁膜を介して、電源を供給するVcc、Vss、入力Vin、各段のドレインと次段のゲートを接続する配線及び出力Voutが配線されている。
本発明の縦型MOSトランジスタによるVLC構成は論理回路に限らず、アナログ回路にも適用することができ、メモリのセンスアンプ等にも適用することができる。
図26は、本発明のVLC構成を用いたCMOSクロスカップル型のセンスアンプ50の回路図である。図26に示すように、CMOSクロスカップル型のセンスアンプ50は、図16に示す2段のCMOS型インバータ40のVcc側のソース電極4同士を接続し、この接続点(ノード)にp型の縦型MOSトランジスタ36のドレイン電極を接続し、このp型の縦型MOSトランジスタ36のソース電極4には電源VCCが接続されている。さらに、2段のCMOS型インバータのVSS側のソース電極4同士が接続され、この接続点(ノード)にn型の縦型MOSトランジスタ35のドレイン電極が接続され、このn型の縦型MOSトランジスタ35のソース電極4には電源Vssが接続されている。1段目のCMOSインバータ40のダブルエンド型のセンスノードN1と2段目のCMOSインバータ40のダブルエンド型のセンスノードN2には、信号が入力される。
次に、半導体柱を多数設けた所謂多柱構造のマルチピラー型の縦型MOSトランジスタ55について説明する。
縦型MOSトランジスタ1,1A等において、所定のドレイン電流を得るためにはマルチチャンネル化を図る必要がある。例えばVLCにおいて、出力段の縦型MOSトランジスタは、負荷に応じてドレイン電流を変える必要がある。
図29は、5×5のマトリクス状に単体の縦型MOSトランジスタ1Aを配設したマルチピラー型の縦型MOSトランジスタ55の模式的斜視図である。図29に示すように、マルチピラー型の縦型MOSトランジスタ55は、基板9上に形成されている。図示の場合、マルチピラー型の縦型MOSトランジスタ55は、5行×5列のマトリクス状に配列された単体の縦型MOSトランジスタ1Aから構成されている。
図31は、本発明のマルチピラー型の縦型MOSトランジスタのドレイン電極の配置例を示す図である。この図に示すように、5×5マトリクスの中央に1個のドレイン電極が配設されている。つまり、5×5マトリクスには24個の縦型MOSトランジスタと1個のドレイン電極6が配設される。
図35は、比較例1のマルチピラー型の縦型MOSトランジスタ55においてドレイン電極配線パターンを示す図である。図35に示すように、ドレイン電極6は、5×5マトリクスの一列目の辺に沿って、かつ、辺の左側に沿って5個のドレイン電極6が配設されている。つまり、25個の半導体柱2と5個のドレイン電極6が形成されている。この場合の配置面積は、5×6マトリクスとなり、図4に示したドレイン電極配線パターン2と同じである。
最初に、単体の縦型MOSトランジスタ1AのIV特性を説明する。
図38は、縦型MOSトランジスタ1AのIV特性のシミュレーション結果を示す図である。図38の横軸はドレイン・ソース間電圧VDS(V)、縦軸はドレイン・ソース間電流IDS(A)である。ここで、縦型MOSトランジスタ1Aの各寸法は図3に示した縦型MOSトランジスタ1Aと同じであり、ゲート長Lとゲート幅Wは、W/L=5μm/0.18μmである。ゲート酸化膜8の膜厚は50Å(5nm)である。ドレインとソースの寄生抵抗(RD、RDS)は何れも200Ωである。寄生抵抗が0Ω(R=0Ω)の場合も併せて示している。
図41は、比較例3の縦型MOSトランジスタの等価回路図であり、(A)は半導体柱2の底面側をドレイン電極6とした場合、(B)は半導体柱2の底面側をソース電極4とした場合である。
図41(A)に示すように、各縦型MOSトランジスタ(M31〜M35)の各ドレインには、ドレイン寄生抵抗が(D31〜D35)が接続されている。同様に、図41(B)に示すように、各縦型MOSトランジスタ(M31〜M35)の各ソース領域3には、ソース寄生抵抗が(S31〜S35)が接続されている。
図42(A)に示すように、ドレイン電極から離れるに従いドレイン寄生抵抗が増大するので、各縦型MOSトランジスタでは、M31〜M35の順にドレイン電流が減少することが分かる。一方、図42(B)に示すように、半導体柱2の底面をソース領域3とした場合は、ドレイン電流は本発明のマルチピラー型の縦型MOSトランジスタに比較してさらに低下することが分かる。
縦型MOSトランジスタを用いたVSL等のレイアウトについて説明する。
本発明の第2の実施形態では、本発明の縦型MOSトランジスタ1,1A,35,36を用いた論理回路においてCMOS・NANDゲート45等のゲート回路の説明をした。例えば、NANDゲート45では、入力数と同じ数の縦型MOSトランジスタ1A,35が直列接続される。
(シミュレーション1):M1のゲート幅をW1とし、M2のゲート幅をW1とした。この場合を、(W1×1、W1×1)と表記する。
(シミュレーション2):M1のゲート幅をW1の半分とし、M2のゲート幅をW1とした。この場合を、(W1×0.5、W1×1)と表記する。
(シミュレーション3):M1のゲート幅をW1とし、M2のゲート幅をW1の半分とした。この場合を、(W1×1、W1×0.5)と表記する。
(シミュレーション4):M1のゲート幅をW1の半分とし、M2のゲート幅の半分とした。この場合を、(W1×0.5、W1×0.5)と表記する。
図48(A)に示すように、本発明の第4の実施形態に係る2入力CMOS・NANDゲート45は、図56に示した従来の2入力CMOS・NANDゲートと同様に、p型の縦型MOSトランジスタ1Bのドレインに接続される第1のn型の縦型MOSトランジスタM1と、この第1のn型の縦型MOSトランジスタM1に直列接続される第2のn型の縦型MOSトランジスタM2とを含んでいる。他の構成は、図19の2入力CMOS・NANDゲートと同様であるので説明は省略する。
図49A及び図49Bにおいて、n型の縦型MOSトランジスタM1、M2は、p型の基板9のn+拡散層13に形成されている。p型の縦型MOSトランジスタP1、P2は、p型の基板9に形成されたnウェル11内のp+領域12に形成されている。図49A及び図49Bでは、n型及びp型の縦型MOSトランジスタの入力側の各ゲートの接続は模式的に示している。ゲート以外の他の配線や、電源を供給するVcc、Vss、入力Vin、各段のドレインと次段のゲートを接続する配線及び出力Voutの具体的な配線は省略している。これらの配線は、図17A及び図17Bで説明したように、層間絶縁膜や電極層からなる多層配線構造で形成することができる。
CMOS・NORゲートについて説明する。
上記したCMOS・NANDゲート45,55の場合と同様に、CMOS・NORゲートで直列接続されるp型の縦型MOSトランジスタの半導体柱2の本数の設計にも適用することができる。つまり、直列接続されるp型の縦型MOSトランジスタのうち、最も電源VCCに近いp型の縦型MOSトランジスタ1Bの半導体柱2の本数を少なくすればよい。
Claims (16)
- 少なくとも2個のMOSトランジスタが直列接続された半導体装置において、
少なくとも1個のMOSトランジスタは縦型MOSトランジスタであり、
上記縦型MOSトランジスタは、チャネルとなる半導体柱と、該半導体柱の一端に形成されるソース領域と、該ソース領域に形成されるソース電極と、上記半導体柱の他端に形成されるドレイン領域と、該ドレイン領域に形成されるドレイン電極と、上記半導体柱の側面に配設されるゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜を被覆するゲート電極と、ドレイン寄生抵抗と、を備え、
上記ドレイン領域は、基板上に形成された不純物拡散層からなり、
上記ドレイン寄生抵抗は、上記不純物拡散層と上記ドレイン電極との間に形成され、
少なくとも2つ以上のドレイン電極が、上記ドレイン領域となる不純物拡散層上に配設され、
該ドレイン領域と上記ドレイン電極との間に生じる少なくとも2つ以上のドレイン寄生抵抗は、その抵抗値が1桁以上異なり、
上記縦型MOSトランジスタは、平面型MOSトランジスタで観測される基板バイアスの絶対値の上昇に伴う閾値電圧の上昇を示すバックバイアス効果が無いことを特徴とする、半導体装置。 - 前記ソース領域は、前記半導体柱の上面に形成され、前記ドレイン領域は、前記半導体柱の下面に形成されることを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体柱は、その長軸方向が前記基板に平行になるように前記基板上に載置されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記縦型MOSトランジスタは、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、からなるn型MOSトランジスタであることを特徴とする、請求項1〜3の何れかに記載の半導体装置。
- 前記縦型MOSトランジスタは、n型半導体柱と、p型ソース領域と、p型ドレイン領域と、第3のドレイン電極と、第3のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第4のドレイン電極と、からなるp型MOSトランジスタであることを特徴とする、請求項1〜3の何れかに記載の半導体装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載の半導体装置において、
前記縦型MOSトランジスタとして、n型MOSトランジスタ1個と、p型MOSトランジスタ複数個を備えて、CMOS・NANDゲート回路が一段以上構成され、
上記n型MOSトランジスタが、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、からなり、
上記p型MOSトランジスタが、n型半導体柱と、p型ソース領域と、p型ドレイン領域と、第3のドレイン電極と、第3のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第4のドレイン電極と、からなり、
上記n型MOSトランジスタの上記第1のドレイン電極が、並列接続された上記p型MOSトランジスタの上記第3のドレイン電極と接続され、
上記n型MOSトランジスタの上記第2のドレイン電極と、並列接続された上記p型MOSトランジスタの上記第4のドレイン電極とは、それぞれ次段の回路を構成する縦型MOSトランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする、半導体装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の半導体装置において、
前記縦型MOSトランジスタとして、n型MOSトランジスタ2個とp型MOSトランジスタ2個とを備えて、CMOSクロスカップル型のセンスアンプ回路が構成され、
上記n型MOSトランジスタが、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、からなり、
上記p型MOSトランジスタが、n型半導体柱と、p型ソース領域と、p型ドレイン領域と、第3のドレイン電極と、第3のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第4のドレイン電極と、からなり、
一方の上記n型MOSトランジスタの上記第1のドレイン電極が、一方の上記p型MOSトランジスタの上記第3のドレイン電極と接続され、
他方の上記n型MOSトランジスタの上記第1のドレイン電極が、他方の上記p型MOSトランジスタの上記第3のドレイン電極と接続され、
一方及び他方の上記n型MOSトランジスタの上記第2のドレイン電極、一方及び他方の上記p型MOSトランジスタの上記第4のドレイン電極が、それぞれクロスカップル構成の、上記n型MOSトランジスタ及び上記p型MOSトランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする、半導体装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の半導体装置において、
前記縦型MOSトランジスタとして、n型MOSトランジスタとp型MOSトランジスタを備えて、CMOSインバータ回路が構成され、
上記n型MOSトランジスタが、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、からなり、
上記p型MOSトランジスタが、n型半導体柱と、p型ソース領域と、p型ドレイン領域と、第3のドレイン電極と、第3のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第4のドレイン電極と、からなり、
上記第1のドレイン電極と上記第3のドレイン電極とが接続され、
上記第2のドレイン電極、上記第4のドレイン電極が、それぞれ次段の回路を構成する縦型MOSトランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする、半導体装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の半導体装置において、
前記縦型MOSトランジスタとして、n型MOSトランジスタ複数個と、p型MOSトランジスタ1個を備えて、CMOS・NORゲート回路が構成され、
上記n型MOSトランジスタが、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、からなり、
上記p型MOSトランジスタが、n型半導体柱と、p型ソース領域と、p型ドレイン領域と、第3のドレイン電極と、第3のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第4のドレイン電極と、からなり、
並列接続された上記n型MOSトランジスタの上記第1のドレイン電極が、上記p型MOSトランジスタの上記第3のドレイン電極と接続され、
並列接続された上記n型MOSトランジスタの上記第2のドレイン電極と、上記p型MOSトランジスタの上記第4のドレイン電極とは、それぞれ次段の回路を構成する縦型MOSトランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする、半導体装置。 - 請求項1〜3の何れかに記載の半導体装置において、
前記ドレイン電極が、第1のドレイン電極と、第1のドレイン電極よりも寄生抵抗の大きい第2のドレイン電極と、を備え、
上記第1のドレイン電極は、ドレイン電源に接続され、かつ上記ソース電極はソース電源に接続されて、E/R型インバータ回路を構成し、
上記第2のドレイン電極が、上記E/R型インバータ回路の出力ノードとして、次段の縦型MOSトランジスタのゲート電極に接続されることを特徴とする、半導体装置。 - 4個以上の縦型MOSトランジスタがドレイン電極の配設される位置を除いてマトリクスに配設され、
該縦型MOSトランジスタにMOSトランジスタが直列接続され、
上記縦型MOSトランジスタは、チャネルとなる半導体柱と、該半導体柱の一端に形成されるソース領域と、該ソース領域に形成されるソース電極と、上記半導体柱の他端に形成されるドレイン領域と、上記半導体柱の側面に配設されるゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜を被覆するゲート電極と、を備え、
上記ドレイン領域は、基板上に形成された不純物拡散層からなり、
上記縦型MOSトランジスタの各々の上記半導体柱の間でドレイン寄生抵抗が形成され、
上記ドレイン電極が、上記マトリクスの内部、中央又は中央周辺に配設される、半導体装置。 - 前記マトリクスが3×3以上であり、該マトリクスの中央又は中央周辺に前記ドレイン電極が配設されることを特徴とする、請求項11に記載の半導体装置。
- 前記縦型MOSトランジスタは、p型半導体柱と、n型ソース領域と、n型ドレイン領域と、からなるn型MOSトランジスタであることを特徴とする、請求項11又は12に記載の半導体装置。
- 複数の縦型MOSトランジスタとMOSトランジスタとが直列接続された半導体装置において、
上記複数の縦型MOSトランジスタと上記MOSトランジスタとでゲート回路が構成され、
上記縦型MOSトランジスタは、チャネルとなる半導体柱と、該半導体柱の一端に形成されるソース領域と、該ソース領域に形成されるソース電極と、上記半導体柱の他端に形成されるドレイン領域と、該ドレイン領域に形成されるドレイン電極と、上記半導体柱の側面に配設されるゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜を被覆するゲート電極と、ドレイン寄生抵抗と、を備え、
上記ドレイン領域は、基板上に形成された不純物拡散層からなり、
上記ドレイン寄生抵抗は、上記不純物拡散層と上記ドレイン電極との間に形成され、
上記複数の縦型MOSトランジスタのうち同一型の第1の縦型MOSトランジスタと第2の縦型MOSトランジスタとが直列接続されており、
上記第1の縦型MOSトランジスタが電源VCC側に接続され、
上記第2の縦型MOSトランジスタが電源VSS側に接続され、
上記第1の縦型MOSトランジスタの半導体柱の本数が、上記記第2の縦型MOSトランジスタの半導体柱の本数よりも少ないことを特徴とする、半導体装置。 - 前記ゲート回路は、少なくとも2入力以上のNANDゲート回路であり、前記第1の縦型MOSトランジスタ及び前記第2の縦型MOSトランジスタは、n型の縦型MOSトランジスタであることを特徴とする、請求項14に記載の半導体装置。
- 前記ゲート回路の遅延時間が短く消費電力が小さくなる、請求項14又は15に記載の半導体装置。
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