JP5618663B2 - インプリント用のテンプレート及びパターン形成方法 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description
104 充填速度制御膜
120 被加工基板
121 インプリント材料
200 テンプレート
204 充填速度制御膜
220 被加工基板
221 インプリント材料
300 テンプレート
305 充填速度制御膜
320 被加工基板
321 インプリント材料
Claims (5)
- 一方の面に凹凸を有するパターンが形成された第1部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第1部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートであって、
前記インプリント材料に対する接触角が、前記第1部材の前記インプリント材料に対する接触角より大きい第2部材が端部領域に設けられており、
前記第2部材は、凹凸パターンを有することを特徴とするテンプレート。 - 前記第2部材は、前記被加工基板に対する位置合わせを行うためのアライメントマークの表面の少なくとも一部に設けられることを特徴とする請求項1に記載のテンプレート。
- 一方の面に凹凸を有する複数のパターンが形成された第1部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第1部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートであって、
前記インプリント材料に対する接触角が、前記第1部材の前記インプリント材料に対する接触角より小さい第2部材が、前記複数のパターンのうち最も寸法が大きいパターンの表面の少なくとも一部に設けられていることを特徴とするテンプレート。 - 前記インプリント材料に対する接触角が、前記第1部材の前記インプリント材料に対する接触角より大きい第3部材が端部領域に設けられていることを特徴とする請求項3に記載のテンプレート。
- 被加工基板上にインプリント材料を塗布する工程と、
請求項1乃至4のいずれかに記載のテンプレートのパターン面を前記インプリント材料に接触させる工程と、
前記テンプレートを前記インプリント材料に接触させた状態で前記インプリント材料を硬化する工程と、
前記インプリント材料から前記テンプレートを離型する工程と、
を備えるパターン形成方法。
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