JP5604869B2 - インクジェット用インク - Google Patents

Description

本発明はインクジェット用インクに関し、例えば電子部品製作において絶縁膜層を形成するためのシリコン化合物（Ａ）及び／又はシリコン化合物（Ａ’）を含むインクジェット用インク、該インクジェット用インクを用いて形成されるポリイミド膜、および該ポリイミド膜を形成したフィルム基板、該フィルム基板を有する電子部品に関する。

ポリイミドは耐熱性、電気絶縁性に優れるため、電子通信分野で広く用いられている材料である［例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３を参照］。
ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であったが、近年、インクジェットにより所望のパターン膜を形成する方法が検討されている。

インクジェット用インクは各種提案されているが［例えば、特許文献４、特許文献５を参照］、ポリイミド系のインクジェットインクを調製しようとすると、比較的高分子であるため、インクジェットインクとして最適な粘度のインクを調製するためには、溶媒の割合を増やしてインク中のポリアミド酸含有量を少なくする必要がある。しかしながら、これによって、１回のインクジェッティングで得られる膜の厚さが薄くなってしまうという問題があった。

一方、シリコンアミド酸化合物（シランカップリング剤）は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂と併用すると、金属と反応或いは錯体を形成するため膜の密着性が高くなり耐半田クラック性が向上することが知られている［例えば、特許文献６を参照］。

特開２０００−０３９７１４号公報 特開２００３−２３８６８３号公報 特開２００４−０９４１１８号公報 特開２００３−２１３１６５号公報 特開２００６−１３１７３０号公報 特開２００３−１０５０５９号公報

上述する状況において、１回のジェッティング（吐出）で比較的厚いポリイミド膜（１μｍ以上）を形成できる、インクジェット用インクが求められてきた。

本発明者らは、上記状況に鑑みて、少なくとも１種のシリコン化合物（Ａ）及び／又は少なくとも１種のシリコン化合物（Ａ’）を含むインクジェット用インク、さらに高分子化合物（Ｂ）を含むインクジェット用インク、さらにアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）を含むインクジェット用インク、さらに溶媒（Ｄ）を含むインクジェット用インクを見出した。
本発明は以下のようなインクジェット用インク等を提供する。

［１］ 酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを用いて得られるシリコン化合物（Ａ）、および、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを用いて得られるシリコン化合物（Ａ’）から選ばれる少なくとも１種を含むインクジェット用インク。

［２］ 酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）が、下記一般式（１）で表されるテトラカルボン酸二無水物であり、モノアミン（ａ２）が、下記一般式（２）で表されるアミノシリコン化合物である、上記［１］記載のインクジェット用インク。
（一般式（１）中、Ｘは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、一般式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素、ハロゲンまたは一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。）

［３］ 前記テトラカルボン酸二無水物が、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４ージカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物およびブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上であり、
前記アミノシリコン化合物が、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシランおよびアミノプロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれる１つ以上である、
上記［２］記載のインクジェット用インク。

［４］ 前記シリコン化合物（Ａ）が、下記一般式（３）で表されるシリコンアミド酸（Ａ）である、上記［１］記載のインクジェット用インク。
（一般式（３）中、Ｘは、炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素、ハロゲンまたは一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。）

［５］ 前記シリコンアミド酸が、下記一般式(4-1)、(4-2)又は(4-3)で表されるシリコンアミド酸である、上記［４］記載のインクジェット用インク。
（一般式(4-1)、(4-2)又は(4-3)中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、ａは、１〜２０の整数である。）

［６］ 前記酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）と前記モノアミン（ａ２）との比が、１モル：０．５〜８．０モルである、上記［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［７］ 前記酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）が、下記一般式（１’）で表されるカルボン酸無水物であり、前記ジアミン（ａ２’）が、下記一般式（２’）で表されるジアミンである、上記［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
（一般式（１’）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素、ハロゲンまたは一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙ’は、炭素数１〜２０の有機基であり、一般式（２’）中、Ｘ’は炭素数２〜１００の二価の有機基である。）

［８］ 前記カルボン酸無水物が、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１つ以上であり、
前記ジアミンが、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−３−メチルフェニル）エタン、ビス（４−アミノ−２−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−２−メチルフェニル）エタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニル−２，２’−プロパン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、１，４−ビス［（４−アミノフェニル）メチル］ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］フルオロプロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ビフェニル、１，３−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］プロパン、１，６−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］ヘキサン、５−フェニルメチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−アルキルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−（４−アルキルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［（（アルキルシクロヘキシル）エチルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンからなる群から選ばれる１つ以上である、
上記［７］記載のインクジェット用インク。

［９］ 前記シリコン化合物（Ａ’）が、下記一般式（３’）で表されるシリコンアミド酸（Ａ’）である、上記［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
（一般式（３’）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素、ハロゲンまたは一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙ’は、炭素数１〜２０の有機基であり、Ｘ’は炭素数２〜１００の有機基である。）

［１０］ 前記シリコンアミド酸（Ａ’）が、下記一般式(4'-1)、(4'-2)、(4'-3)、(4'-4)又は(4'-5)で表されるシリコンアミド酸（Ａ’）である、上記［９］記載のインクジェット用インク。
（一般式(4'-1)、(4'-2)、(4'-3)、(4'-4)又は(4'-5)中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、一般式(4'-3)のＲは炭素数２〜３０の有機基であり、一般式(4'-4)のＲは水素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、ａは、１〜２０の整数である。）

［１１］ 前記酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）と前記ジアミン（ａ２’）との比が、０．５〜８．０モル：１モルである、上記［１］〜［１０］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１２］ 高分子化合物（Ｂ）をさらに含む、上記［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１３］ 前記高分子化合物（Ｂ）が、ポリアミド酸およびポリイミドから選ばれる少なくとも１種である、上記［１２］記載のインクジェット用インク。

［１４］ 前記高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が、１，０００〜５，０００である、上記［１２］又は［１３］記載のインクジェット用インク。

［１５］ アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）をさらに含む、上記［１］〜［１４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［１６］ 前記アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）が、モノアミン、ジアミン、トリアミン又はテトラアミンと下記式（５’）で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物を反応させてなるアルケニル置換ナジイミドである、上記［１５］に記載のインクジェット用インク。
式（５’）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかである。

［１７］ 前記アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）が、下記一般式（５）で表される化合物である、上記［１５］又は上記［１６］に記載のインクジェット用インク。
式（５）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、ｎは１〜４の整数であり、
ｎ＝１のとき、式（５）中のＲ^３は水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のヒドロキシアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（Ｃ_ｑＨ_２ｑ）Ｏ_ｔ（Ｃ_ｒＨ_２ｒＯ）_ｕＣ_ｓＨ_２ｓＸ｝（ただしｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数、Ｘは水素または水酸基である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^４（ここで、ａは０または１の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキレン、Ｒ^４は水素若しくは炭素数１〜４のアルキルをそれぞれ表す）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_５｛ここで、Ｔは−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｓ−若しくは−ＳＯ_２−である｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基であり、
ｎ＝２のとき、式（５）中のＲ^３は炭素数２〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数５〜８のシクロアルキレン、−｛（Ｃ_ｑＨ_２ｑＯ）_ｔ（Ｃ_ｒＨ_２ｒＯ）_ｕＣ_ｓＨ_２ｓ｝−（ただしｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数である）で表されるポリオキシアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ及びＲ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−または−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ_６Ｈ_４Ｃ（ＣＨ_３）_２Ｃ_６Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり、Ｔ’は−ＣＨ_２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、下記式(6-1)で表される基または式(6-2)で表される基であり、式(6-1)中、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数であり、
ｎ＝３のとき、式（５）中のＲ^３は下記式(7-1)で表される基又は式(7-2)で表される基であり、
式(7-1)中、Ｒは、水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＦ_２Ｈ、−ＣＦ_３、−ＣＦ_２Ｈ、−ＣＦＨ_２、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ、−ＯＣＦ_２ＣＦＨＣＦ_３、または炭素数１〜１０のアルキルであり、
式（7-1）及び式（7-2）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、
ｎ＝４のとき、式（５）中のＲ^３は下記式（８）で表される基である。
式（８）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。

［１８］ ｎが２である、上記［１７］に記載のインクジェット用インク。

［１９］ ｎが２であり、式（５）中のＲ^３が、炭素数２〜１５のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えらされていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ及びＲ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−または−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−｛ただしＴは単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ_６Ｈ_４Ｃ（ＣＨ_３）_２Ｃ_６Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり、Ｔ’は−ＣＨ_２−または−Ｏ−である。｝で表される基である、上記［１７］に記載のインクジェット用インク。

［２０］ 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
ｎが２であり、式（５）中のＲ^３が炭素数２〜１５のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、式(6-1)で表される基、式(6-2)で表される基、式(6-3)で表される基、式(6-4)で表される基または式(6-5)で表される基である、上記［１７］に記載のインクジェット用インク。
式(6-1)中、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数であり、
式(6-3)及び式(6-5)中、Ｒは、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−からなる有機基であり、
式(6-5)中、Ｘは、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、からなる有機基である。

［２１］ 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
ｎが３であり、式（５）中のＲ^３が、式(7-1-1)、式(7-2-1)または式(7-2-2)で表される上記［１７］に記載のインクジェット用インク。
式(7-1-1)中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルまたは−ＯＨであり、
式(7-2-2)中、Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６は、それぞれ独立して、１，２−エチレン、１，４−ブチレンである。

［２２］ 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
ｎが４であり、式（５）中のＲ^３が、下記式（8-1）で表される上記［１７］に記載のインクジェット用インク。

［２３］ ｎが１であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、ｎが２であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、ｎが３であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、およびｎが４であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）から選ばれる少なくとも２種のアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）を含む、上記［１７］に記載のインクジェット用インク。

［２４］ 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
式（５）中のＲ^３が炭素数１〜１２のアルキル（ｎ＝１）、炭素数６〜１２のアリール（ｎ＝１）、−（ＣＨ_２）_ｐ−（ｎ＝２、ｐは６〜１２の整数である）、式(6-1-1)で表される基、式(6-2)で表される基、式(6-3-1)で表される基、式(6-4)で表される基、式(6-5-1)で表される基、式(7-1-2)で表される基、式(7-1-3)で表される基、式(7-2-1)で表される基、式7-2-3)で表される基、式(8-1)で表される基であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも２種を含む、上記［１７］に記載のインクジェット用インク。

なお、本発明のインクジェット用インクは次のものであってもよい。
ｎが１であり、式（５）中のＲ^３が炭素数１〜１２のアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（Ｃ_ｑＨ_２ｑ）Ｏ_ｔ（Ｃ_ｒＨ_２ｒＯ）_ｕＣ_ｓＨ_２ｓ＋１｝（ここで、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^４（ここで、ａは０または１の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキレン、Ｒ^４は水素もしくは炭素数１〜４のアルキルをそれぞれ表す）で表される基、または−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_５（ここで、Ｔは−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｓ−もしくはＳＯ_２−である）で表される基であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種と、
ｎが２であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種とを含む、上記［１７］記載のインクジェット用インク。

また、本発明のインクジェット用インクは次のものであってもよい。
式（５）中のＲ^１およびＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、ｎが１であり、式（５）中のＲ^３が炭素数１〜１２のアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、またはベンジルであるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種と、
ｎが２であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種とを含む、上記［１７］記載のインクジェット用インク。

さらに、本発明のインクジェット用インクは次のものであってもよい。
式（５）中のＲ^１およびＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、ｎが１であり、式（５）中のＲ^３が炭素数１〜１２のアルキルまたは炭素数６〜１２のアリールであるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種と、
式（５）中のＲ^１およびＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、ｎが２であり、式（５）中のＲ^３が−（ＣＨ_２）_６−、上記式(6-3-1)で表される基または上記式(6-4)で表される基であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも１種とを含む、上記［１７］記載のインクジェット用インク。

［２５］ 溶媒（Ｄ）をさらに含む、上記［１］〜［２４］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２６］ 溶媒（Ｄ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノンおよびγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる１つ以上である、上記［２５］記載のインクジェット用インク。

［２７］ インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコン化合物（Ａ）及び前記シリコン化合物（Ａ’）の合計含有量が１〜９９重量部である、上記［１］〜［２６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２８］ インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコン化合物（Ａ）及び前記シリコン化合物（Ａ’）の合計含有量が１０〜８０重量部である、上記［１］〜［２６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［２９］ インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコン化合物（Ａ）及び前記シリコン化合物（Ａ’）の合計含有量が２２〜７０重量部である、上記［１］〜［２６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。

［３０］ 上記［１］〜［２９］のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成した後、該塗膜を硬化処理してポリイミド膜を形成して得られるポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜。

［３１］ 上記［１］〜［２９］のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および該塗膜を硬化処理してポリイミド膜を形成する工程を含むポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜の形成方法。

［３２］ 上記［３１］に記載された方法で基板上に形成されたポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜を有する、フィルム基板。

［３３］ 上記［３２］に記載されたフィルム基板を有する電子部品。

本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いると、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚を有するポリイミド膜を形成できる。また、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクから形成されたポリイミド膜は、例えば、耐熱性、電気絶縁性が高く、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させる。

本発明は、シリコン化合物（Ａ）及び／又はシリコン化合物（Ａ’）を含むインクジェット用インク、当該インクを用いたポリイミド膜形成方法等を提供する。なお、本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
該インクジェット用インクは、少なくとも１種のシリコン化合物（Ａ）及び／又は少なくとも１種のシリコン化合物（Ａ）を含むインクジェット用インク、さらに高分子化合物（Ｂ）を含むインクジェット用インク、さらにアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）を含むインクジェット用インク、さらに溶媒（Ｄ）を含むインクジェット用インクである。

シリコン化合物（Ａ）は、少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを用いて得ることができるが、例えば、これらを反応させて得られる生成物（シリコンアミド酸（Ａ））であってもよいし、例えば、これらが塩を形成している化合物であってもよく、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを用いて得ることができるシリコン化合物であれば、これらに限定されない。
また、シリコン化合物（Ａ）におけるシリコンは、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）由来であっても、モノアミン（ａ２）由来であってもよく、両者由来であってもよい。以下の詳細な説明では、モノアミン（ａ２）由来のシリコンを用いてシリコン化合物（Ａ）を得ているが、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）がシリコンを有する例としては、例えば、特開昭61-205285号公報、特開平5-271245号公報又は特開平5-320172号公報などに記載された化合物が挙げられる。

また、シリコン化合物（Ａ’）は、少なくとも、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを用いて得ることができるが、例えば、これらを反応させて得られる生成物（シリコンアミド酸（Ａ’））であってもよいし、例えば、これらが塩を形成している化合物であってもよく、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを用いて得ることができるシリコン化合物であれば、これらに限定されない。
また、シリコン化合物（Ａ’）におけるシリコンは、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）由来であっても、ジアミン（ａ２’）由来であってもよく、両者由来であってもよい。以下の詳細な説明では、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）由来のシリコンを用いてシリコン化合物（Ａ’）を得ているが、ジアミン（ａ２’）がシリコンを有する例としては、例えば、下記一般式（XV）で表されるシロキサン系ジアミンなどが挙げられる。

１ シリコンアミド酸（Ａ）およびシリコンアミド酸（Ａ’）
本発明のインクジェット用インクに含まれるシリコンアミド酸（Ａ）は、少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを用いて以下に説明する製法により得ることができるが、当該製法で得られたシリコンアミド酸に限定されるものではない。シリコンアミド酸（Ａ）としては、上記一般式（３）で表される化合物が挙げられ、上記一般式(4-1)、(4-2)又は(4-3)で表される化合物が好ましい。
また、本発明のインクジェット用インクに含まれるシリコンアミド酸（Ａ’）は、少なくとも、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを用いて以下に説明する製法により得ることができるが、当該製法で得られたシリコンアミド酸に限定されるものではない。シリコンアミド酸（Ａ’）としては、上記一般式（３’）で表される化合物が挙げられ、上記一般式(4'-1)、(4'-2)、(4'-3)又は(4'-4)で表される化合物が好ましい。

１．１ シリコンアミド酸（Ａ）及びシリコンアミド酸（Ａ’）を得るための反応条件
本発明で用いることのできるシリコンアミド酸（Ａ）は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）１モルに対して、０．５〜８．０モルのモノアミン（ａ２）を反応させて得られるものであることが好ましい。また、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）１モルに対して、１．０〜４．０モルのモノアミン（ａ２）を反応させて得られるものであることがさらに好ましい。より好ましくは、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）１モルに対して、１．５〜２．５モルのモノアミン（ａ２）を反応させて得られるものである。
また、本発明で用いることのできるシリコンアミド酸（Ａ’）は、１モルのジアミン（ａ２’）に対して、０．５〜８．０モルの酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）を反応させて得られるものであることが好ましい。また、１モルのジアミン（ａ２’）に対して、１．０〜４．０モルの酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）を反応させて得られるものであることがさらに好ましい。より好ましくは、１モルのジアミン（ａ２’）に対して、１．５〜２．５モルの酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）を反応させて得られるものである。

１．１（１） 反応溶媒
本発明のシリコンアミド酸（Ａ）及び（Ａ’）を得るために用いられる溶媒は、当該化合物が合成できれば特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、などを挙げることができる。
これらの中でもプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびγ−ブチロラクトンを用いると、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。
これらの反応溶媒は単独でも、２種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。

反応溶媒は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、あるいは酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は０℃〜１００℃（好ましくは、８℃〜７０℃）で、０．２〜２０時間（好ましくは、２時間〜１０時間）反応させるのが好ましい。

１．１（２） 反応系への添加順序
また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、シリコンアミド酸（Ａ）については酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを同時に反応溶媒に加える、モノアミン（ａ２）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）を添加する、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）にモノアミン（ａ２）を添加する、などいずれの方法も用いることができる。
また、シリコンアミド酸（Ａ’）については酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを同時に反応溶媒に加える、ジアミン（ａ２’）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）を添加する、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）にジアミン（ａ２’）を添加する、などいずれの方法も用いることができる。

１．２ シリコンアミド酸（Ａ）およびシリコンアミド酸（Ａ’）の優位性
シリコンアミド酸（Ａ）は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂と併用すると、シランカップリング剤として作用して、金属と反応或いは錯体を形成するため膜の密着性が高くなり耐半田クラック性が向上することが知られている。また、シリコンアミド酸（Ａ’）については、エポキシ樹脂、フェノール樹脂と併用すると、シランカップリング剤として作用して、金属と反応或いは錯体を形成するため膜の密着性が高くなり耐半田クラック性が向上することが予測される。
さらに、本発明者らが鋭意検討した結果、シリコンアミド酸（Ａ）は加熱することによって加水分解、脱水縮合して、イミド結合を有する固体生成物（ポリイミド）となり得る熱硬化性の化合物であることを見出した。また、シリコンアミド酸（Ａ’）についても加熱することによって加水分解、脱水縮合して、イミド結合を有する固体生成物（ポリイミド）となり得る熱硬化性の化合物であることを見出した。
シリコン化合物の三次元架橋により膜が得られるため、従来の線状のポリイミドよりも加工が容易である。また、良好な耐熱性を示し、硬化に際してボイドやクラックの発生が少ないため、成形材料や積層材料のマトリックス樹脂として優れた特性を有している。

１．３ シリコンアミド酸（Ａ）及び（Ａ’）を得るための各成分の説明
以下に、シリコンアミド酸（Ａ）を得るために用いることができる、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）を説明する。さらに、シリコンアミド酸（Ａ’）を得るために用いることができる、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）を説明する。

１．３（１） 酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）
本発明で用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）としては、上記一般式（１）で表されるテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
本発明で用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）の具体例としては、スチレン−無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸共重合体等の無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他のラジカル重合性モノマーとの共重合体やテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、エタンテトラカルボン酸二無水物、４−（２,５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１,２,３,４−テトラヒドロナフタレン−１,２−ジカルボン酸無水物、５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸無水物が挙げられ、具体的には、下記式（b1-1）〜（b1-73）で表される化合物等のテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。

酸無水物を２つ以上有する化合物の上記具体例の中でも、スチレン−無水マレイン酸共重合体、式（b1-1）、（b1-5）、（b1-6）、（b1-7）、（b1-8）、（b1-9）、（b1-14）、（b1-18）、（b1-20）で表される化合物が溶媒への溶解性が高く高濃度のインクを調製できるので好ましい。また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされるが、このような場合には、スチレン−無水マレイン酸共重合体、式（b1-6）、（b1-7）、（b1-8）、（b1-9）、（b1-14）、（b1-18）等で表される化合物を用いるが特に好ましい。

また、上記記載の酸無水物基を２つ以上有する化合物は１種単独でも、または２種以上組み合わせて使用してもよい。

１．３（２） モノアミン（ａ２）
本発明で用いられるモノアミン（ａ２）としては、上記一般式（２）で表されるアミノシリコン化合物が挙げられる。
本発明において用いられるモノアミン（ａ２）は、特に限定されないが、具体例としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリエトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランなどを挙げることができる。

これらの中でも、得られる膜の耐久性が優れるという点から、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシランおよび３−アミノプロピルトリエトキシシランが好ましく、３−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。

これらのモノアミンは１種単独でまたは２種以上組み合わせても使用できる。

１．３（３） 酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）
本発明で用いられる酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）としては、上記一般式（１’）で表されるカルボン酸無水物が挙げられる。
本発明において用いられる酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）は、特に限定されないが、具体例としては、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、メチルジメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、メチルジエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルブチルサクシニックアンヒドリド、トリエトキシシリルブチルサクシニックアンヒドリド、メチルジエトキシシリルブチルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（メチルジメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（メチルジエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（メチルジエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリドなどを挙げることができる。

これらの中でも、得られる膜の耐久性が優れるという点から、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが好ましく、トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが特に好ましい。

これらの酸無水物基を１つ有する化合物は１種単独でまたは２種以上組み合わせても使用できる。

１．３（４） ジアミン（ａ２’）
本発明で用いられるジアミン（ａ２’）としては、上記一般式（２’）で表されるジアミンが挙げられる。
本発明において用いられるジアミン（ａ２’）はアミノ基を２つ有していれば特に限定されるものではないが、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−３−メチルフェニル）エタン、ビス（４−アミノ−２−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−２−メチルフェニル）エタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニル−２，２’−プロパン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、１，４−ビス［（４−アミノフェニル）メチル］ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］フルオロプロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ビフェニル、１，３−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］プロパン、１，６−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］ヘキサン、５−フェニルメチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−アルキルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−（４−アルキルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［（（アルキルシクロヘキシル）エチルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンが挙げられ、下記一般式（II）〜（VIII）で表される化合物が挙げられる。

（一般式（II）中、
Ａ^１は、−（ＣＨ_２）_ｍ−であり、ここでｍは１〜６の整数であり、
一般式（IV）及び（VI）〜（VIII）中、
Ａ^１は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−（ＣＨ_２）_ｍ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｓ−であり、ここでｍは１〜６の整数であり、
Ａ^２は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−または炭素数１〜３のアルキレンであり、
シクロヘキサン環またはベンゼン環に結合している水素は、−Ｆ、−ＣＨ_３と置き換えられていてもよい。）

一般式（II）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（II-1）〜（II-3）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（III）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（III-1）及び（III-2）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（IV）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（IV-1）〜（IV-3）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（V）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（V-1）〜（V-5）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（VI）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（VI-1）〜（VI-30）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（VII）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（VII-1）〜（VII-6）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（VIII）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（VIII-1）〜（VIII-11）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（II）〜（VIII）で表されるジアミン（ａ２’）の上記具体例の中でも、より好ましくは、式（V-1）〜（V-5）、式（VI-1）〜（VI-12）、式（VI-26）、式（VI-27）、式（VII-1）、式（VII-2）、式（VII-6）、式（VIII-1）〜（VIII-5）で表されるジアミンが挙げられ、さらに好ましくは式（V-6）、式（V-7）、式（VI-1）〜（VI-12）で表されるジアミンが挙げられる。

本発明において用いられるジアミン（ａ２’）としては、さらに下記一般式（IX）で表されるジアミンが挙げられる。
（一般式（IX）中、
Ａ^３は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−または−（ＣＨ_２）_ｍ−（式中、ｍは１〜６の整数である）であり、
Ｒ^６は、ステロイド骨格を有する基、下記一般式（Ｘ）で表される基、または、ベンゼン環に結合している２つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは炭素数１〜３０のアルキル、もしくは該位置関係がメタのときは炭素数１〜３０のアルキルまたはフェニルであり、
該アルキルにおいては、任意の−ＣＨ_２−が−ＣＦ_２−、−ＣＨＦ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、−ＣＨ_３が−ＣＨ_２Ｆ、−ＣＨＦ_２または−ＣＦ_３で置き換えられていてもよく
該フェニルの環形成炭素に結合している水素は、−Ｆ、−ＣＨ_３、−ＯＣＨ_３、−ＯＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＨＦ_２または−ＯＣＦ_３と置き換えられていてもよい。）

（一般式（Ｘ）中、
Ａ^４およびＡ^５はそれぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または炭素数１〜１２のアルキレンであり、
Ｒ^７およびＲ^８はそれぞれ独立して、−Ｆまたは−ＣＨ_３であり、
環Ｓは１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイルまたはアントラセン−９，１０−ジイルであり、
Ｒ^９は−Ｈ、−Ｆ、炭素数１〜３０のアルキル、炭素数１〜３０のフッ素置換アルキル、炭素数１〜３０のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＨＦ_２または−ＯＣＦ_３であり、
ａおよびｂはそれぞれ独立して０〜４の整数を表し、
ｃ、ｄおよびｅはそれぞれ独立して０〜３の整数を表し、ｅが２または３であるとき複数の環Ｓは同一の基であっても異なる基であってもよく、
ｆおよびｇはそれぞれ独立して０〜２の整数を表し、かつ
ｃ＋ｄ＋ｅ≧１である。）

一般式（IX）において、２つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、２つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに２つのアミノ基はそれぞれ、「Ｒ^６−Ａ^３−」の結合位置を１位としたときに３位と５位、または２位と５位に結合していることが好ましい。
一般式（IX）で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式（IX-1）〜（IX-11）で表されるジアミンが挙げられる。

上記一般式（IX-1）、（IX-2）、（IX-7）および（IX-8）中、Ｒ^１８は水素、または炭素数１〜３０の有機基であるが、これらの中でも炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシが好ましく、炭素数５〜１２のアルキルまたは炭素数５〜１２のアルコキシがさらに好ましい。また、上記一般式（IX-3）〜（IX-6）および（IX-9）〜（IX-11）中、Ｒ^１９は水素、または炭素数１〜３０の有機基であるが、これらの中でも炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数１〜１０のアルコキシが好ましく、炭素数３〜１０のアルキルまたは炭素数３〜１０のアルコキシがさらに好ましい。

一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記一般式（IX-12）〜（IX-17）で表されるジアミンが挙げられる。

上記一般式（IX-12）〜（IX-15）においてＲ^２０は炭素数２〜３０の有機基であり、炭素数４〜１６のアルキルが好ましく、炭素数６〜１６のアルキルがさらに好ましい。一般式（IX-16）と式（IX-17）においてＲ^２１は炭素数２〜３０の有機基であり、炭素数６〜２０のアルキルが好ましく、炭素数８〜２０のアルキルがさらに好ましい。

一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記一般式（IX-18）〜（IX-38）で表されるジアミンが挙げられる。

上記一般式（IX-18）、（IX-19）、（IX-22）、（IX-24）、（IX-25）、（IX-28）、（IX-30）、（IX-31）、（IX-36）および（IX-37）においてＲ^２２は水素、または炭素数１〜３０の有機基であり、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシが好ましく、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシがさらに好ましい。また、上記一般式（IX-20）、（IX-21）、（IX-23）、（IX-26）、（IX-27）、（IX-29）、（IX-32）〜（IX-35）および（IX-38）において、Ｒ^２３は−Ｈ、−Ｆ、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のアルコキシ、−ＣＮ、−ＯＣＨ_２Ｆ、−ＯＣＨＦ_２または−ＯＣＦ_３であり、炭素数３〜１２のアルキルまたは炭素数３〜１２のアルコキシがさらに好ましい。上記一般式（IX-33）と（IX-34）において、Ａ^９は炭素数１〜１２のアルキレンである。

一般式（IX）で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記式（IX-39）〜（IX-48）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（IX）で表されるジアミン（ａ２’）のうち、一般式（IX-1）〜（IX-11）で表されるジアミンが好ましく、一般式（IX-2）、（IX-4）、（IX-5）及び（IX-6）で表されるジアミンがさらに好ましい。

本発明において用いられるジアミン（ａ２’）としては、さらに下記一般式（XI）及び（XII）で表される化合物が挙げられる。
（一般式（XI）と（XII）中、
Ｒ^１０，Ｒ^１１は、それぞれ独立して、−Ｈまたは炭素数１〜２０のアルキルもしくはアルケニルであり、
Ａ^６はそれぞれ独立して、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＨ_２−であり、
Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ独立して、−Ｈ、炭素数１〜２０のアルキルまたはフェニルである。）

前記一般式（XI）において、２つの「ＮＨ_２−Ｐｈ−Ａ^６−Ｏ−」（ここで、Ｐｈは、フェニレンを示す。）の一方はステロイド核の３位に結合し、もう一方は６位に結合していることが好ましい。また、２つのアミノ基はそれぞれ、フェニル環炭素に結合しており、Ａ^６の結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XI）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（XI-1）〜（XI-4）で表されるジアミンが挙げられる。

一般式（XII）において、２つの「ＮＨ_２−（Ｒ^１４−）Ｐｈ−Ａ^６−Ｏ−」（ここで、Ｐｈは、フェニレンを示す。）は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、好ましくはステロイド核が結合している炭素に対してメタ位またはパラ位の炭素に結合している。また、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ^６に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XII）で表されるジアミンとしては、例えば下記式（XII-1）〜（XII-8）で表されるジアミンが挙げられる。

本発明において用いられるジアミン（ａ２’）としては、さらに下記一般式（XIII）及び（XIV）で表される化合物が挙げられる。
（一般式（XIII）中、
Ｒ^１５は−Ｈまたは炭素数１〜２０のアルキルであり、該アルキルのうち炭素数２〜２０のアルキルの任意の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよく、
Ａ^７はそれぞれ独立して−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンであり、
Ａ^８は単結合または炭素数１〜３のアルキレンであり、
環Ｔは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロヘキシレンであり、
ｈは０または１である。）
（一般式（XIV）中、
Ｒ^１６は炭素数６〜２２のアルキルであり、
Ｒ^１７は−Ｈまたは炭素数１〜２２のアルキルであり、
Ａ^７はそれぞれ独立して−Ｏ−または炭素数１〜６のアルキレンである。）

前記一般式（XIII）において、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ^７に対してメタ位またはパラに結合していることが好ましい。
一般式（XIII）で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式（XIII-1）〜（XIII-9）で表されるジアミンが挙げられる。

上記一般式（XIII-1）〜（XIII-3）において、Ｒ^２４は−Ｈ、炭素数１〜２０のアルキルが好ましく、（XIII-4）〜（XIII-9）においてＲ^２５は−Ｈ、炭素数１〜１０のアルキルがさらに好ましい。

前記一般式（XIV）において、２つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、Ａ^７に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式（XIV）で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式（XIV-1）〜（XIV-3）で表されるジアミンが挙げられる。

上記一般式（XIV-1）〜（XIV-3）式中、Ｒ^２６は炭素数２〜３０の有機基であり、これらの中でも炭素数６〜２０のアルキルが好ましく、Ｒ^２７は炭素数２〜３０の有機基であり、これらの中でも−Ｈまたは炭素数１〜１０のアルキルがさらに好ましい。

上述のとおり、本発明において用いられるジアミン（ａ２’）は、例えば、一般式（II）〜（XIV）で表されるジアミンを用いることができるが、これらのジアミン以外のジアミンも用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、またはシロキサン結合を有するシロキサン系ジアミンなどを単独または他のジアミンと混合して用いることができる。

シロキサン系ジアミンは特に限定されるものではないが、下記一般式（XV）で表されるものが本発明において、好ましく使用され得る。
（上記一般（XV）式中、Ｒ^３およびＲ^４は独立して炭素数１〜３のアルキルまたはフェニルであり、Ｒ^５は独立してはメチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。ここで、より好ましいｙは１〜１５の整数である。）

さらに、好ましくは、本発明において用いられるジアミン（ａ２’）として、下記一般式（XVI-1）〜（XVI-8）で表されるジアミンが使用され得る。
（上記一般式（XVI-1）〜（XVI-8）中、Ｒ^３０およびＲ^３１は独立して炭素数３〜２０のアルキルである。）

なお、本発明で用いることができるジアミン（ａ２’）は、本明細書のジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。
また、本発明で用いることができるジアミン（ａ２’）は、１種単独、または、２種以上を組み合わせて用いることができる。すなわち、２種以上の組み合わせとしては、上記ジアミン同士、上記ジアミンとそれ以外のジアミン、または、上記ジアミン以外のジアミン同士を用いることができる。

また、インクジェット用インクの用途によっては高い透明性が必要とされるが、そのような場合には、３，３’−ジアミノジフェニルスルホンおよび上記一般（XV）式においてｙ＝１〜１５の整数であるジアミンを用いることが特に好ましい。

２ 高分子化合物（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクにさらに含むことができる高分子化合物（Ｂ）は、ポリアミド酸、可溶性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸エステル、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン等の高分子化合物であるが、これに限定されるものではない。好ましくはポリアミド酸または可溶性ポリイミド等のポリイミド系高分子化合物であり、例えば特願2006-235336号に記載されている、ポリアミド酸、或いはそのイミド化重合体を好ましく挙げることができるが、これに限定されるものではない。
該ポリアミド酸は、少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）とを用いて得ることができるが、当該製法で得られたポリアミド酸に限定されるものではない。

以下に、高分子化合物（Ｂ）を得るために用いることができる、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）を説明する。

２．１ 酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）
本発明で用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）の具体例としては、前述したシリコンアミド酸（Ａ）を得るために用いることができる、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）と同様のものを用いることができる。
酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）と同じものでも良いし、異なるものでも良い。また、上記記載の酸無水物基を有する化合物は１種単独でも、または２種以上組み合わせて使用してもよい。

２．２ ジアミン（ｂ２）
本発明で用いられるジアミン（ｂ２）の具体例としては、前述したシリコンアミド酸（Ａ’）を得るために用いることができるジアミン（ａ２’）と同様のものを用いることができる。
ジアミン（ｂ２）はジアミン（ａ２’）と同じものでも良いし、異なるものでも良い。また、上記記載のジアミンは１種単独でも、または２種以上組み合わせて使用してもよい。

２．３ モノアミン（ｂ３）
本発明で用いられるモノアミン（ｂ３）の具体例としては、前述したシリコンアミド酸（Ａ）を得るために用いることができる、モノアミン（ａ２）と同様のものを用いることができる。
モノアミン（ｂ３）は、モノアミン（ａ２）と同じものでも良いし、異なるものでも良い。また、上記記載のモノアミンは１種単独でも、または２種以上組み合わせて使用してもよい。

２．４ ポリアミド酸の反応条件
本発明で用いることのできるポリアミド酸は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）１モルに対して、０．０５〜０．８モルのジアミン（ｂ２）、０．４〜１．９モルのモノアミン（ｂ３）を反応させて得られるものであることが好ましい。また、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）１モルに対して、０．１〜０．６モルのジアミン（ｂ２）、０．８〜１．８モルのモノアミン（ｂ３）を反応させて得られるものであることがさらに好ましい。より好ましくは、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）１モルに対して、０．１５〜０．３５モルのジアミン（ｂ２）、１．３〜１．７モルのモノアミン（ｂ３）を反応させて得られるものである。

２．４（１） 反応溶媒
本発明で用いることのできるポリアミド酸を得るために用いられる溶媒は、前述したシリコンアミド酸（Ａ）又は（Ａ’）を得るために用いることができる溶媒と同様のものを用いることができる。反応溶媒は単独でも、２種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。

反応溶媒は、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）、ジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は０℃〜１００℃（好ましくは、８℃〜７０℃）で、０．２〜２０時間（好ましくは、２時間〜１０時間）反応させるのが好ましい。

２．４（２） 反応系への添加順序
また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）とを同時に反応溶媒に加える、ジアミン（ｂ２）とモノアミン（ｂ３）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）を添加する、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とモノアミン（ｂ３）をあらかじめ反応させた後にジアミン（ｂ２）を添加する、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）とジアミン（ｂ２）とをあらかじめ反応させて共重合体を合成した後に、その共重合体にモノアミン（ｂ３）を添加する、などいずれの方法も用いることができる。

２．５ 高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量
重量平均分子量が１，０００〜２０，０００である高分子化合物（Ｂ）が特に溶媒に対する溶解性が優れていてインクジェット用インクとして好ましい。本発明において、高分子化合物（Ｂ）の溶媒に対する「溶解性」をさらに向上させるためには、その重量平均分子量は１，０００〜１０，０００であることが好ましく、１，０００〜７，５００であることがより好ましく、１，０００〜５，０００であることがさらに好ましく、１，０００〜３，５００であることが特に好ましい。
１，０００以上の重量平均分子量を有する高分子化合物（Ｂ）は、加熱処理によって蒸発することがなく、化学的・機械的に安定であり、２０，０００以下の重量平均分子量を有する高分子化合物（Ｂ）は、溶媒に対する溶解性を向上させることができるので、得られる塗膜の膜厚を大きくすることが可能であり、インクジェット用インクとして好ましく用いることができるからである。

高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。具体的には、得られた高分子化合物（Ｂ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等で濃度が約１重量％になるように希釈し、東ソー株式会社製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬを用いて、ＴＨＦを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。

３ アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクに含まれるアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）は、分子内に少なくとも１つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物であり、好ましくは、モノアミン、ジアミン、トリアミン又はテトラアミンと上記式（５’）で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物を反応させてなるアルケニル置換ナジイミドであり、より好ましくは上記一般式（５）で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物を挙げることができるが、これに限定されるものではない。

アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）には、ｎが１であるアルケニル置換ナジイミド化合物（ｃ１：以下、単に「アルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）、およびｎが２であるアルケニル置換ナジイミド化合物（ｃ２：以下、単に「ビスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）があり、ｎが３であるアルケニル置換ナジイミド化合物（ｃ３：以下、単に「トリスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）、ｎが４であるアルケニル置換ナジイミド化合物（ｃ４：以下、単に「テトラキスアルケニル置換ナジイミド」と言うことがある）がある。

３．１ アルケニル置換ナジイミド（ｃ１）
本発明で用いられるｎが１であるアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。

アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシ−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’−ヒドロキシエチル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ−（２’，２’−ジメチル−３’−ヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’，２’−ジメチル−３’−ヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’，３’−ジヒドロキシプロピル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２’，３’−ジヒドロキシプロピル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３’−ヒドロキシ−１’−プロペニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４’−ヒドロキシ−シクロヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（４’−ヒドロキシフェニル）−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３’−ヒドロキシフェニル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（３’−ヒドロキシフェニル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（ｐ−ヒドロキシベンジル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛２’−（２’−ヒドロキシエトキシ）エチル｝−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２’−｛２’−（２”−ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル〕−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−｛４’−（４’−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン）フェニル｝−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、これらのアルケニル置換ナジイミド（ｃ１）は、単独で用いてもよいし、これらの混合物として用いてもよい。

上記のアルケニル置換ナジイミド（ｃ１）として、好ましいものは
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。

また、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−シクロヘキシル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−フェニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等があげられる。

また、Ｎ−フェニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ベンジル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。

アルケニル置換ナジイミド（ｃ１）として、更に好ましいものは、
Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−メチル−メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。

また、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−アリル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−イソプロペニル−メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等が挙げられる。

３．２ ビスアルケニル置換ナジイミド（ｃ２）
また、本発明で用いられるｎが２であるアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。

Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、１，２−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
１，２−ビス｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
１，２−ビス｛３’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エタン、
ビス〔２’−｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
ビス〔２’−｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝エチル〕エーテル、
１，４−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
１，４−ビス｛３’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝ブタン、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
１，６−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３−ヒドロキシ−ヘキサン、
１，１２−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−３，６−ジヒドロキシ−ドデカン、
１，３−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−シクロヘキサン、
１，５−ビス｛３’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）プロポキシ｝−３−ヒドロキシ−ペンタン、
１，４−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−ベンゼン、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、１，４−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２，５−ジヒドロキシ−ベンゼン、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルメチルシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−（２−ヒドロキシ）キシリレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−（２，３−ジヒドロキシ）キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

また、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２’−ヒドロキシ−フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−２−ヒドロキシ−フェニル｝メタン、
ビス｛３−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−４−ヒドロキシ−フェニル｝エーテル、
ビス｛３−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）−５−ヒドロキシ−フェニル｝スルホン、
１，１，１−トリ｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）｝フェノキシメチルプロパン、
Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリ（エチレンメタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）イソシアヌレート、
及びこれらのオリゴマー等が挙げられる。

さらに、非対称なアルキレン・フェニレン基を含む次のようなものでもよい。

また、これらのビスアルケニル置換ナジイミド（ｃ２）は、単独で用いてもよいし、これらの混合物として用いてもよい。

上記のビスアルケニル置換ナジイミド（ｃ２）として、好ましいものは
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。

また、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。

また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝エーテル、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン等が挙げられる。

また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝スルホン等が挙げられる。

ビスアルケニル置換ナジイミド（ｃ２）として、更に好ましいものは、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−トリメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ドデカメチレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−シクロヘキシレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。

また、Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−｛（１−メチル）−２，４−フェニレン｝−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｐ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）、
Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）等が挙げられる。

また、２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４’−｛４’−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェノキシ｝フェニル〕プロパン、
ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（アリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。

また、ビス｛４−（メタリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン、
ビス｛４−（メタリルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン等が挙げられる。

３．３ トリスアルケニル置換ナジイミド（ｃ３）
本発明で用いられるｎが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の合成は、トリアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を３．０〜５．０モル混合し、常温で、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メチルナフタレン、テトラリン、クロロフォルム、トリクレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンエーテル、アニソール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド等の任意の溶媒、または、２種以上を混合した溶媒に溶解させて、溶液とし、０．５〜３０時間攪拌保持して反応させることができる。上記溶媒を２０〜８０℃で減圧乾燥除去し、アミド酸が得られる。上記アミド酸を上記溶媒中にて０．５〜３０時間、溶媒の沸点近傍でリフラックスあるいは、化合物そのものを１６０℃〜２００℃で加熱し、脱水閉環させた後、溶媒を減圧乾燥させて目的の化合物を得ることができる。目的の化合物であることはＮＭＲ、ＩＲにより確認できる。

本発明で用いられるｎが３であるトリスアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）トリエチル｝アミン（ＴｒｉｓＡＮＩＴＡＥＡ）
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）トリフェニル｝メタン（ＴｒｉｓＡＮＩＴｒｉｓＡＭ）
トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝ヒドロキシメタン（ＴｒｉｓＡＮＩＰＡＲＡＲＯ）

「ＴｒｉｓＡＮＩＴＡＥＡ」のＩＲおよび^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）を、それぞれ図１および図２に示す。

ＩＲスペクトルでは、アルケンＣ−Ｈ伸縮：３０７０、２９６６ｃｍ^-1；芳香族Ｃ−Ｈ伸縮：２９６６ｃｍ^-1；アルカンＣ−Ｈ伸縮：２９３８ｃｍ^-1；イミドＣ＝Ｏ伸縮：１７６２、１６９０ｃｍ^-1；Ｃ＝Ｃ伸縮：１６４０ｃｍ^-1；−ＣＨ_２−Ｎ−メチレンはさみ振動：１４４８ｃｍ^-1；イミドＣ−Ｎ伸縮：１３８２ｃｍ^-1等が帰属される。

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルでは、ａ、ｂ、ｅ、ｆ、ｇ、ｉ、ｌプロトン（３０Ｈ）：２．５０〜３．４９ｐｍのピーク；ｊ、ｋ、ｍ、ｎプロトン（１２Ｈ）：５．０１〜６．２７ｐｐｍのピーク；ｈプロトン（６Ｈ）：１．２５〜１．７６ｐｐｍのピーク等が帰属される。

「ＴｒｉｓＡＮＩＴｒｉｓＡＭ」のＩＲおよび^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）を、それぞれ図３および図４に示す。

ＩＲスペクトルでは、アルケンＣ−Ｈ伸縮：３０５６、２９７０ｃｍ^-1；芳香族Ｃ−Ｈ伸縮：２９７０ｃｍ^-1；アルカンＣ−Ｈ伸縮：２９３６ｃｍ^-1；イミドＣ＝Ｏ伸縮：１７７２、１７０６ｃｍ^-1；Ｃ＝Ｃ伸縮：１６３８ｃｍ^-1；イミドＣ−Ｎ伸縮：１４０２ｃｍ^-1等が帰属される。

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルでは、ａ〜ｄプロトン（１２Ｈ）：６．５０〜７．５９ｐｐｍのピーク；ｅ、ｆ、ｇ、ｉ、ｌプロトン（１８Ｈ）：２．２５〜３．７３ｐｐｍのピーク；ｈプロトン（６Ｈ）：１．２５〜１．８１ｐｐｍ；ｊ、ｋ、ｍ、ｎプロトン（１２Ｈ）：５．０１〜５．１４、５．７４〜６．３４ｐｐｍのピーク；ｏプロトン（１Ｈ）：５．３０〜５．６０ｐｐｍのピーク等が帰属される。

「ＴｒｉｓＡＮＩＰＡＲＡＲＯ」のＩＲおよび¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）を、それぞれ図５および図６に示す。

ＩＲスペクトルでは、アルケンＣ−Ｈ伸縮：３０５６、２９７２ｃｍ^-1；芳香族Ｃ−Ｈ伸縮：２９７２ｃｍ^-1；アルカンＣ−Ｈ伸縮：２９３６ｃｍ^-1；イミドＣ＝Ｏ伸縮：１７７６、１７０６ｃｍ^-1；Ｃ＝Ｃ伸縮：１６３６ｃｍ^-1；イミドＣ−Ｎ伸縮：１４０２ｃｍ^-1等が帰属される。

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルでは、ａ〜ｄプロトン（１２Ｈ）：６．９８〜７．５３ｐｐｍのピーク；ｅ、ｆ、ｇ、ｉ、ｌプロトン（１８Ｈ）：２．２７〜３．６０ｐｐｍのピーク；ｈプロトン（６Ｈ）：１．４７〜１．８１ｐｐｍのピーク；ｊ，ｋ、ｍ、ｎプロトン（１２Ｈ）：５．０１〜６．２４ｐｐｍのピーク等が帰属される。

３．４ テトラキスアルケニル置換ナジイミド（ｃ４）
本発明で用いられるｎが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の合成は、テトラアミン１．０モルに対して、アルケニル置換ナジック酸無水物を４．０〜６．０モル混合し、常温で、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メチルナフタレン、テトラリン、クロロフォルム、トリクレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ヘキサメチレンエーテル、アニソール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド等の任意の溶媒、または、２種以上を混合した溶媒に溶解させて、溶液とし、０．５〜３０時間攪拌保持して反応させることができる。上記溶媒を２０〜８０℃で減圧乾燥除去し、アミド酸が得られる。上記アミド酸を上記溶媒中にて０．５〜３０時間、溶媒の沸点近傍でリフラックスあるいは、化合物そのものを１６０℃〜２００℃で加熱し、脱水閉環させた後、溶媒を減圧乾燥させて目的の化合物を得ることができる。目的の化合物であることはＮＭＲ、ＩＲにより確認できる。

本発明で用いられるｎが４であるテトラキスアルケニル置換ナジイミド化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。
テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）テトラフェニル｝メタン（ＴｅｔｒａｋｉｓＡＮＩＴＡＭ）

「ＴｅｔｒａｋｉｓＡＮＩＴＡＭ」のＩＲおよび^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）を、それぞれ図７および図８に示す。

ＩＲスペクトルでは、アルケンＣ−Ｈ伸縮：３０６０、２９７２ｃｍ^-1；芳香族Ｃ−Ｈ伸縮：２９７２ｃｍ^-1；アルカンＣ−Ｈ伸縮：２９３６ｃｍ^-1；イミドＣ＝Ｏ伸縮：１７７６、１７０６ｃｍ^-1；Ｃ＝Ｃ伸縮：１６３８ｃｍ^-1；イミドＣ−Ｎ伸縮：１４０４ｃｍ^-1等が帰属される。

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルでは、ａ〜ｄプロトン（１６Ｈ）：６．８０〜７．５９ｐｐｍのピーク；ｅ、ｆ、ｇ、ｉ、ｌプロトン（２４Ｈ）：２．２５〜３．６０ｐｐｍのピーク；ｊ、ｋ、ｍ、ｎプロトン（１６Ｈ）：５．０４〜６．５０ｐｐｍのピーク；ｈプロトン（８Ｈ）：１．２５〜１．７５ｐｐｍのピーク等が帰属される。

本発明の好ましいアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）は、嵩高い構造を有した低分子量のイミドモノマーであるため、ほとんどの有機溶媒に可溶であり、溶液状態で長期間保存しても結晶の析出やゲル化が起こらず安定して使用できる。また、加熱することで三次元架橋構造のポリイミドを形成し、該ポリイミド硬化物は良好な耐熱性、機械的特性、電気的特性、耐薬品性を示す。

４ 溶媒（Ｄ）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）、必要により高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）を溶媒（Ｄ）に溶解して得ることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒は、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）、必要により高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）を溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独ではシリコンアミド酸（Ａ）、シリコンアミド酸（Ａ’）、必要により高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって、インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｄ）として用いることが可能である。

インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｄ）の具体例としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジエチル、エタノール、２−プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール等を挙げることができる。

前記の通り、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒について特に制限はないが、インクジェット印刷機のインクヘッドの仕様によっては、その接合部材や内在するフィルター素材が使用する溶媒の種類によって腐食や膨潤する場合がある。あるいは、乾燥速度が速い溶媒ではインクヘッドの目詰まりが起こったりするので溶媒（Ｄ）の選択は非常に重要である。

本発明者が鋭意検討した結果、インクジェットヘッドの耐久性向上やヘッド目詰まり、インク吐出性の点で、乳酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトンが溶媒（Ｄ）として特に好ましいことを見出した。

さらに、インクジェット用インクの塗布性にインクの表面張力が大きく影響するため、インクの表面張力を好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、より好ましくは２７〜４２ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは３０〜４０ｍＮ／ｍに調整する。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲であればインク吐出口におけるインクメニスカスが安定になり、インクの吐出は良好となる。

表面張力を２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶媒選定が重要である。表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲にある１種の溶媒を用いても良いが、表面張力の大きな溶媒（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶媒（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶媒組成で表面張力を微調整できるので好ましい。

また、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステル等のアミド系の溶媒は、シリコンアミド酸（Ａ）、（Ａ’）や高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の良溶媒であることから好ましく用いることができるが、その一方でインクジェットヘッドの耐久性に難があり注意が必要である。
本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｄ）において、アミド系溶媒は全く含まないか、あるいは多くても溶媒（Ｄ）の全重量に対して２０重量％以下であることが好ましい。

これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。

５ 本発明のインクジェット用インクにおけるシリコンアミド酸（Ａ）、シリコンアミド酸（Ａ’）、高分子化合物（Ｂ）およびアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の濃度
本発明においてインクジェット用インク中のシリコンアミド酸（Ａ）及び（Ａ’）の合計の濃度は特に限定されないが１〜９９重量％が好ましく、１０〜８０重量％がさらに好ましく、２２〜７０重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、１回のインクジェッティングで得られる膜の厚さが最適となり、ジェッティング精度が高いので好ましい。

本発明においてインクジェット用インク中の高分子化合物（Ｂ）の濃度は特に限定されないが、０〜５０重量％が好ましく、０〜２５重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、絶縁膜として良好な特性が付与できることがあり好ましい。

本発明においてインクジェット用インク中のアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の濃度は特に限定されないが、０〜５０重量％が好ましく、０〜２５重量％がさらに好ましい。これらの濃度範囲であると、絶縁膜として良好な特性が付与できることがあり好ましい。

インクジェット用インクとして用いる場合、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又はシリコンアミド酸（Ａ’）、高分子化合物（Ｂ）及びアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の濃度は高いほど得られるポリイミド膜の膜厚が厚くなるため好ましいが、その一方で粘度も高くなる傾向にあるため、場合によってはインクジェット印刷機で吐出できなくなるという問題が生じる。本発明者らが鋭意検討した結果、特に上記の濃度範囲であれば膜厚の大きなポリイミド膜を形成可能なインクジェット用インクとして好ましく用いることができることを見出した。

６ 本発明のインクジェット用インクに添加される添加剤
本発明のインクジェット用インクは、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又はシリコンアミド酸（Ａ’）、必要により高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）、必要により溶媒（Ｄ）を混合して得られる。
さらに、目的とする特性によっては、本発明のインクジェット用インクは、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、アミノシリコン化合物、ｐＨ調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、顔料、染料等の添加剤を必要により選択して添加し、それらを均一に混合溶解することにより得ることができる。

６（１） エポキシ樹脂
本発明のインクジェット用インクは、エポキシ樹脂をさらに含んでもよい。本発明のインクジェット用インクに含まれるエポキシ樹脂は、オキシランやオキセタンを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。

本発明においてインクジェット用インク中のエポキシ樹脂の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキシランを有するモノマーの重合体、および、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体、などが挙げられる。

オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、およびメチルグリシジル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
また、オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドおよびＮ−フェニルマレイミドなどを挙げることができる。

オキシランを有するモノマーの重合体およびオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体およびスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体を挙げることができる。本発明のインクジェット用インクがこれらのエポキシ樹脂を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。

本発明のインクジェット用インクに含まれ得るエポキシ樹脂の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイド３０００」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラグリシジル−４,４’−ジアミノジフェニルメタンなどを挙げることができる。
これらの中でも、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」、商品名「エピコート８２８」は、得られるポリイミド膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。

エポキシ樹脂は１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。

６（２） アクリル樹脂
インクジェット用インクは、アクリル樹脂をさらに含んでもよい。インクジェット用インクに含まれるアクリル樹脂は、アクリル基やメタクリル基を有すれば特に限定されない。

インクジェット用インク中のアクリル樹脂の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。

アクリル樹脂としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレート、及び、三官能以上の多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。中でも形成される膜が柔軟である点から、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが特に好ましい。

ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ［５．２．１．０^２,６］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、またはシクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]等を挙げることができる。

二官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、またはジペンタエリスリトールジアクリレート等を挙げることができる。

三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、またはウレタン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
これらのアクリル樹脂は１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。

６（３） 界面活性剤
インクジェット用インクの塗布性の向上を望むときには、かかる目的に沿った界面活性剤を添加できる。本発明のインクジェット用インクに添加される界面活性剤の具体例としては、商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤；商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１」（ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」（ネオス（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベリング性、または塗布性を向上させるために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。

６（４） 帯電防止剤
本発明のインクジェット用インクに添加される帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。
これらの帯電防止剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。

６（５） カップリング剤
本発明のインクジェット用インクに添加されるカップリング剤は、特に限定されるものではなく、公知のカップリング剤を用いることができる。添加されるカップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物等を挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が例示できる。これらの中でも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。

これらのカップリング剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
カップリング剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜３重量部添加して用いられることが好ましい。

６（６） エポキシ硬化剤
本発明のインクジェット用インクに添加されるエポキシ硬化剤は、特に限定されるものではなく、公知のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾールおよびその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物等が挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチルイミダゾリル−（１’）］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物等の酸無水物等が挙げられる。
中でも透明性が良好なトリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物が好ましい。

これらのエポキシ硬化剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
エポキシ硬化剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．２〜５重量部添加して用いられることが好ましい。

６（７） アミノシリコン化合物
本発明のインクジェット用インクにおいてアミノシリコン化合物を添加することができる。アミノシリコン化合物としては、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらのアミノシリコン化合物は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
アミノシリコン化合物は、基板への密着性をよくするために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０５〜２重量部添加して用いられることが好ましい。

７ インクジェット用インクの粘度
本発明においてインクジェット用インクの粘度は特に限定されないが、常温でジェッティングを行う場合は、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する点で好ましくは１〜５０ｍＰａ・ｓ（２５℃）であり、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ（２５℃）、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓ（２５℃）である。
インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（シリコンアミド酸が硬化しない温度、好ましくは４０〜１２０℃）において、１〜５０ｍＰａ・ｓ、好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは８〜２０ｍＰａ・ｓであればよい。

８ ポリイミド膜
本発明のインクジェット用インクを、基板表面にインクジェットにより塗布し、ホットプレート、またはオーブンなどで加熱処理して全面または所定のパターン状（ライン状等）のポリイミド膜を形成することができる。また、本発明のポリイミド膜の形成は、加熱処理に限定されず、ＵＶ処理やイオンビーム、電子線、ガンマ線などの処理でもよい。
従来、パターン状のポリイミド膜を形成する場合はフォトリソグラィ技術を用いているが、フォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液が必要であり、さらに煩雑な工程を要するものであった。これに対して、本発明のインクジェット用インクを用いて形成されたパターン状ポリイミド膜は、インクジェット印刷により必要な部分のみに描画するため材料使用量は圧倒的に少なく、フォトマスクを使用しないので多品種大量生産が可能であり、且つ製造に要する工程数が少ないといった特徴を有するものである。

８．１ インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
インクジェット塗布方法には、インクの吐出方法により各種のタイプがある。例えば、圧電素子型、バブルジェット（登録商標）型、連続噴射型、静電誘導型などが挙げられる。本発明にかかるインクは、インクに含まれる各成分を適正に選択することにより、様々な方法でジェッティングが可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。

本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのにより好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。

インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となったものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。

また、塗布ヘッドに対し好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用するばね部とを有した形態などを採用することができる。塗布装置は、上述のようにシリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。

８．２ 溶媒乾燥
上述するインクジェット塗布方法を用いて、基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェットによって塗布した後、例えば、ホットプレート、またはオーブンなどを用いた加熱により溶媒（Ｄ）を気化等させて除去する、すなわち乾燥することによって、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）の膜を形成することができる。インクジェット用インクが、さらに高分子化合物（Ｂ）、アルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）を含む場合は、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）、高分子化合物（Ｂ）及びアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の複合膜を形成することができる。
加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、シリコンアミド酸（Ａ）及び（Ａ’）が硬化しない温度が好ましく、通常７０〜１２０℃で、オーブンを用いた場合は５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合は１〜５分間で乾燥膜が形成される。

８．３ ポリイミドの膜の形成
シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）の膜、あるいはシリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）、高分子化合物（Ｂ）及びアルケニル置換ナジイミド化合物（Ｃ）の複合膜を形成した後、シリコンアミド酸（Ａ）及び／又は（Ａ’）のイミド化・シリコン部位の硬化のために、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃で、加熱処理することによってポリイミド膜を得ることができる（オーブンを用いた場合は、３０〜９０分間、ホットプレートを用いた場合は、５〜３０分間である）。なお、高分子化合物（Ｂ）がポリアミド酸やポリアミド酸エステル等である場合は、加熱処理によるイミド化反応も同時に進行する。
膜がパターン状に形成されている場合には、パターン状のポリイミド膜が形成される。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜は、パターン状のポリイミド膜を含むものとする。

このようにして得られたポリイミド膜は、耐熱性、電気絶縁性に優れた絶縁膜である。また、原料のインクジェット用インクがエポキシ樹脂を含む場合、比較的強靭で、耐薬品性、平坦性、密着性および耐スパッタ性に優れた絶縁膜となるので好ましい。

９ フィルム基板
本発明のフィルム基板は、例えば、インクジェット等の方法により配線が形成されたポリイミドフィルム等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱してポリイミド膜が形成されて得られる。

１０ 電子部品
例えば、予め配線が形成されたポリイミドフィルム等のフィルム基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、当該フィルム基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するポリイミド膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例および比較例で用いる、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）、モノアミン（ａ２）、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）、ジアミン（ａ２’）、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ｂ１）、ジアミン（ｂ２）、モノアミン（ｂ３）、アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、および溶媒（Ｄ）の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。

酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）、（ｂ１）
ＯＤＰＡ：３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＢＴＤＡ：３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
６ＦＤＡ：４，４’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物

モノアミン（ａ２）、（ｂ３）
ＡＰＳＥ：３−アミノプロピルトリエトキシシラン

酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）
ＴＥＳＡ：トリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド

ジアミン（ａ２’）、（ｂ２）
ＤＤＳ ：３，３’−ジアミノジフェニルスルホン
ＰＤＡ ：ｐ−フェニレンジアミン
７ＨＨＰ：５−［（（ｎ−ヘプチルシクロヘキシル）エチルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン
７ＨＢ ：１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−ｎ−ヘプチルシクロヘキサン
ＢＡＰＰ：２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン

アルケニル置換ナジイミド（ｃ１）
ＡＮＩＭ：Ｎ−メチル−アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド

ビスアルケニル置換ナジイミド（ｃ２）
ＢＡＮＩＭ：ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン

トリスアルケニル置換ナジイミド（ｃ３）
TrisANITAEA：トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）トリエチル｝アミン
TrisANITrisAM：トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）トリフェニル｝メタン
TrisANIPARARO：トリス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝ヒドロキシメタン

テトラキスアルケニル置換ナジイミド（ｃ４）
TetrakisANITAM：テトラキス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）テトラフェニル｝メタン

溶媒（Ｄ）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＮＭＰ：Ｎ−メチルー２−ピロリドン

［実施例１］インクジェット用インク（１）
攪拌機及び原料投入仕込み口を備えた２００ｍｌの三つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下、室温で３ｈｒ攪拌したところ、透明なシリコンアミド酸（Ａ）３０重量％溶液を得た。この溶液をそのままインクジェット用インク（１）として使用した。
この溶液の粘度は１０．８ｍＰａ・ｓ（２５℃）であり、表面張力（２５℃）は数字ｍＮ／ｍであった。溶液の粘度は、Ｅ型粘度計（ＴＯＫＹＯ ＫＥＩＫＩ製 ＶＩＳＣＯＮＩＣ ＥＬＤ）で測定した。表面張力は、懸滴法による界面張力計（協和界面化学株式会社製 Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ５００）で測定した。
ａ１：ＯＤＰＡ １２．４ｇ
ａ２：ＡＰＳＥ １７．６ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ

［実施例２］インクジェット用インク（２）
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下４０℃で５ｈｒ攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸（Ｂ）の５０重量％溶液を得た。
この溶液の粘度は５８６ｍＰａ・ｓであった。ＧＰＣで測定した重量平均分子量は２，１００であった。ポリアミド酸の重量平均分子量は、得られたポリアミド酸をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）でポリアミド酸濃度が約１重量％になるように希釈し、ＧＰＣ装置：日本分光株式会社製、ＪＡＳＣＯ ＧＵＬＬＩＶＥＲ １５００ （インテリジェント示差屈折率計 ＲＩ−１５３０）を用いて、上記希釈液を展開剤としてＧＰＣ法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。カラムは、東ソー株式会社製カラムＧ４０００ＨＸＬ、Ｇ３０００ＨＸＬ、Ｇ２５００ＨＸＬおよびＧ２０００ＨＸＬの４本をこの順序に接続して使用し、カラム温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎの条件で測定した。
ｂ１：ＯＤＰＡ ５５．０ｇ
ｂ２：ＤＤＳ １１．０ｇ
ｂ３：ＡＰＳＥ ５９．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ２９１．０ｇ

実施例１のシリコンアミド酸（Ａ）溶液と、このポリアミド酸（Ｂ）溶液とを、以下に示すとおりに仕込み、２ｈｒ攪拌し、固形分濃度３０重量％溶液を得た。この溶液をインクジェット用インク（２）として使用した。この溶液の粘度は１２．９ｍＰａ・ｓ（２５℃）であり、表面張力（２５℃）は３１．７ｍＮ／ｍであった。
シリコンアミド酸（Ａ）溶液 ６４．０ｇ
ポリアミド酸（Ｂ）溶液 ３２．０ｇ
Ｄ：ＧＢＬ ２４．０ｇ
Ｄ：ＥＤＭ ４０．０ｇ

［実施例３］インクジェット用インク（３）
実施例１のシリコンアミド酸（Ａ）溶液と、アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）とを、以下に示すとおりに仕込み、固形分が完全に溶解するまで攪拌し、シリコンアミド酸（Ａ）／アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の４０重量％溶液を得た。この溶液をインクジェット用インク（３）として使用した。この溶液の粘度は１８．１ｍＰａ・ｓ（２５℃）であり、表面張力（２５℃）は３１．８ｍＮ／ｍであった。
シリコンアミド酸（Ａ）溶液 ５０ｇ
ｃ２：ＢＡＮＩＭ １５ｇ
Ｄ：ＧＢＬ ５ｇ
Ｄ：ＥＤＭ ５ｇ

［実施例４］
実施例１で調製されたインクジェット用インク（１）をインクジェットインクとして使用し、ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製インクジェット塗布装置ＤＭＰ−２８３１で１．５ｍｍ厚のガラスエポキシ樹脂両面銅張り板上に１ドット幅でドットピッチ４０ミクロンに設定し、長さ５ｃｍのライン塗布を行った。インクジェットヘッドのヒーターの設定を３０℃とし、ピエゾ電圧は１６Ｖ、駆動周波数は５ｋＨｚとした。基板を８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、２３０℃のオーブンで３０分間加熱し、ライン状に形成されたポリイミドの絶縁膜を得た。
得られたポリイミド膜のライン幅及びこのライン幅の均一性を光学顕微鏡で観察し、膜厚を測定した。膜厚はＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ株式会社製の触針式膜厚計αステップ２００を使用し、３箇所の測定値の平均値を膜厚とした。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。

［実施例５］
実施例２で調製されたインクジェット用インク（２）をインクジェットインクとして使用し、実施例４と同じ条件でポリイミドの絶縁膜を得た。
得られたポリイミド膜について、実施例４と同じ条件で評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。

［実施例６］
実施例３で調製されたインクジェット用インク（３）をインクジェットインクとして使用し、ドットピッチを２０ミクロンとした以外は実施例４と同じ条件でポリイミドの絶縁膜を得た。
得られたポリイミド膜について、実施例４と同じ条件で評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは十分な厚みを有していた。

［比較例１］インクジェット用インク（４）
実施例２のポリアミド酸（Ｂ）５０％溶液を、以下に示すとおりに仕込み、乾燥窒素気流下室温で攪拌し、淡黄色透明なポリアミド酸（Ｂ）の２５重量％溶液を得た。この溶液をインクジェット用インク（４）として使用した。この溶液の粘度は１２．３ｍＰａ・ｓ、表面張力（２５℃）は３３．２ｍＮ／ｍであった。
ポリアミド酸（Ｂ）溶液 ４０．０ｇ
Ｄ：ＥＤＭ ３０．０ｇ
Ｄ：ＧＢＬ １０．０ｇ

［比較例２］
比較例１で調製されたインクジェット用インク（４）をインクジェットインクとして使用した以外は、実施例４と同じ条件でポリイミドの絶縁膜を得た。
得られたポリイミド膜について、実施例４と同じ条件で評価を行った。その結果を表１に示す。ラインは１ミクロンを超えるほどの厚みを有していなかった。

［実施例７］インクジェット用インク（５）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１：ＢＴＤＡ １２．６ｇ
ａ２：ＡＰＳＥ １７．４ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例８］インクジェット用インク（６）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１：６ＦＤＡ １５．０ｇ
ａ２：ＡＰＳＥ １５．０ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例９］インクジェット用インク（７）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１’：ＴＥＳＡ ２１．３ｇ
ａ２’：ＤＤＳ ８．７ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例１０］インクジェット用インク（８）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１’：ＴＥＳＡ ２５．５ｇ
ａ２’：ＰＤＡ ４．５ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例１１］インクジェット用インク（９）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１’：ＴＥＳＡ １６．６ｇ
ａ２’：７ＨＨＰ １３．４ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例１２］インクジェット用インク（１０）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１’：ＴＥＳＡ １５．８ｇ
ａ２’：７ＨＢ １４．２ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ
さらに、実施例４に準じた方法でポリイミド絶縁膜を形成した。

［実施例１３］インクジェット用インク（１１）の調製およびポリイミド絶縁膜の形成
以下に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例１に準じた方法でインクジェットインクを調製し粘度を測定した。
ａ１’：ＴＥＳＡ １７．９ｇ
ａ２’：ＢＡＰＰ １２．１ｇ
Ｄ ：ＥＤＭ ３５．０ｇ
Ｄ ：ＧＢＬ ３５．０ｇ

実施例７〜実施例１３について、得られたポリイミド膜について、実施例４と同じ条件で評価を行った。その結果を表２に示す。ラインは十分な厚みを有していた。

本発明の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、それを用いた電子部品を挙げることができる。

「ＴｒｉｓＡＮＩＴＡＥＡ」のＩＲスペクトルである。 「ＴｒｉｓＡＮＩＴＡＥＡ」の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 「ＴｒｉｓＡＮＩＴｒｉｓＡＭ」のＩＲスペクトルである。 「ＴｒｉｓＡＮＩＴｒｉｓＡＭ」の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 「ＴｒｉｓＡＮＩＰＡＲＡＲＯ」のＩＲスペクトルである。 「ＴｒｉｓＡＮＩＰＡＲＡＲＯ」の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 「ＴｅｔｒａｋｉｓＡＮＩＴＡＭ」のＩＲスペクトルである。 「ＴｅｔｒａｋｉｓＡＮＩＴＡＭ」の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

Claims (27)

1. 酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とモノアミン（ａ２）とを用いて得られるシリコンアミド酸化合物（Ａ）、および、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）とジアミン（ａ２’）とを用いて得られるシリコンアミド酸化合物（Ａ’）から選ばれる少なくとも１種を含むインクジェット用インクであって、
   前記酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）が、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４ージカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物およびブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上であり、
   前記モノアミン（ａ２）が、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシランおよびアミノプロピルトリエトキシシランからなる群から選ばれる１つ以上であり、
   前記酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）が、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１つ以上であり、
   前記ジアミン（ａ２’）が、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−１，３−ジフェニルプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−３−メチルフェニル）エタン、ビス（４−アミノ−２−メチルフェニル）メタン、１，２−ビス−（４−アミノ−２−メチルフェニル）エタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニル−２，２’−プロパン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、１，４−ビス［（４−アミノフェニル）メチル］ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］フルオロプロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ビフェニル、１，３−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］プロパン、１，６−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］ヘキサン、５−フェニルメチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−アルキルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［４−（４−（４−アルキルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、５−［（（アルキルシクロヘキシル）エチルシクロヘキシル）フェニル］メチル−１，３−ジアミノベンゼン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−アルキルシクロヘキサン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−テトラメチルジシロキサンからなる群から選ばれる１つ以上である、
   インクジェット用インク。
2. 前記シリコンアミド酸化合物（Ａ）が、下記一般式(4-1)、(4-2)又は(4-3)で表される、請求項１に記載のインクジェット用インク。
   （一般式(4-1)、(4-2)又は(4-3)中、Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 及びＲ ^３ はメトキシ又はエトキシであり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 及びＲ ^６ はメトキシ又はエトキシであり、ａは３である。）
3. 前記酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）と前記モノアミン（ａ２）との比が、１モル：０．５〜８．０モルである、請求項１又は２に記載のインクジェット用インク。
4. 前記シリコンアミド酸化合物（Ａ’）が、下記一般式(4'-1)、(4'-2)、(4'-3)、(4'-4)又は(4'-5)で表される、請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
   （一般式(4'-1)、(4'-2)、(4'-3)、(4'-4)又は(4'-5)中、Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 及びＲ ^３ はメトキシ又はエトキシであり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 及びＲ ^６ はメトキシ又はエトキシであり、一般式(4'-3)のＲは炭素数２〜３０のアルキルであり、一般式(4'-4)のＲは水素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、ａは３である。）
5. 前記酸無水物基を１つ有する化合物（ａ１’）と前記ジアミン（ａ２’）との比が、０．５〜８．０モル：１モルである、請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット用インク。
6. 高分子化合物（Ｂ）をさらに含む、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
7. 前記高分子化合物（Ｂ）が、ポリアミド酸およびポリイミドから選ばれる少なくとも１種である、請求項６に記載のインクジェット用インク。
8. 前記高分子化合物（Ｂ）の重量平均分子量が、１，０００〜５，０００である、請求項６又は７に記載のインクジェット用インク。
9. アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）をさらに含む、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
10. 前記アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）が、モノアミン、ジアミン、トリアミン又はテトラアミンと下記式（５’）で表されるアルケニル置換ナジック酸無水物を反応させてなるアルケニル置換ナジイミドである、請求項９に記載のインクジェット用インク。
    式（５’）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかである。
11. 前記アルケニル置換ナジイミド（Ｃ）が、下記一般式（５）で表される化合物である、請求項９又は１０に記載のインクジェット用インク。
    式（５）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、ｎは１〜４の整数であり、
    ｎ＝１のとき、式（５）中のＲ^３は水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のヒドロキシアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（Ｃ_ｑＨ_２ｑ）Ｏ_ｔ（Ｃ_ｒＨ_２ｒＯ）_ｕＣ_ｓＨ_２ｓＸ｝（ただしｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数、Ｘは水素または水酸基である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^４（ここで、ａは０または１の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキレン、Ｒ^４は水素若しくは炭素数１〜４のアルキルをそれぞれ表す）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_５｛ここで、Ｔは−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｓ−若しくは−ＳＯ_２−である｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基であり、
    ｎ＝２のとき、式（５）中のＲ^３は炭素数２〜２０のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、炭素数５〜８のシクロアルキレン、−｛（Ｃ_ｑＨ_２ｑＯ）_ｔ（Ｃ_ｒＨ_２ｒＯ）_ｕＣ_ｓＨ_２ｓ｝−（ただしｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数である）で表されるポリオキシアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ及びＲ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−または−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−｛ただし、Ｔは単結合、炭素数１〜６のアルキレン、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ_６Ｈ_４Ｃ（ＣＨ_３）_２Ｃ_６Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり、Ｔ’は−ＣＨ_２−または−Ｏ−である。｝で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置き換えられた基、下記式(6-1)で表される基または式(6-2)で表される基であり、式(6-1)中、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数であり、
    ｎ＝３のとき、式（５）中のＲ^３は下記式(7-1)で表される基又は式(7-2)で表される基であり、
    式(7-1)中、Ｒは、水素、フッ素、塩素、−ＯＨ、−ＯＣＦ_３、−ＯＣＦ_２Ｈ、−ＣＦ_３、−ＣＦ_２Ｈ、−ＣＦＨ_２、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ、−ＯＣＦ_２ＣＦＨＣＦ_３、または炭素数１〜１０のアルキルであり、
    式（7-1）及び式（7-2）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、
    ｎ＝４のとき、式（５）中のＲ^３は下記式（８）で表される基である。
    式（８）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７は、それぞれ独立して、単結合、トランス−１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、水素がフッ素で置き換えられていてもよい１，４−フェニレン、または炭素数１〜１０のアルキレンであり、アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい。
12. ｎが２である、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
13. ｎが２であり、式（５）中のＲ^３が、炭素数２〜１５のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えらされていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、−（Ｒ）_ａ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^５−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ及びＲ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−または−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｔ’−Ｃ_６Ｈ_４−｛ただしＴは単結合、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ_６Ｈ_４Ｃ（ＣＨ_３）_２Ｃ_６Ｈ_４Ｏ−、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり、Ｔ’は−ＣＨ_２−または−Ｏ−である。｝で表される基である、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
14. 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
    ｎが２であり、式（５）中のＲ^３が炭素数２〜１５のアルキレン｛アルキレン中の互いに隣接しない任意のメチレンは−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられていてもよく、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよい｝、式(6-1)で表される基、式(6-2)で表される基、式(6-3)で表される基、式(6-4)で表される基または式(6-5)で表される基である、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
    式(6-1)中、ｘは独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数であり、
    式(6-3)及び式(6-5)中、Ｒは、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−からなる有機基であり、
    式(6-5)中、Ｘは、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、からなる有機基である。
15. 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
    ｎが３であり、式（５）中のＲ^３が、式(7-1-1)、式(7-2-1)または式(7-2-2)で表される請求項１１に記載のインクジェット用インク。
    式(7-1-1)中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルまたは−ＯＨであり、
    式(7-2-2)中、Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６は、それぞれ独立して、１，２−エチレン、１，４−ブチレンである。
16. 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
    ｎが４であり、式（５）中のＲ^３が、下記式（8-1）で表される請求項１１に記載のインクジェット用インク。
    
17. ｎが１であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、ｎが２であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、ｎが３であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）、およびｎが４であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）から選ばれる少なくとも２種のアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）を含む、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
18. 式（５）中のＲ^１及びＲ^２がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
    式（５）中のＲ^３が炭素数１〜１２のアルキル（ｎ＝１）、炭素数６〜１２のアリール（ｎ＝１）、−（ＣＨ_２）_ｐ−（ｎ＝２、ｐは６〜１２の整数である）、式(6-1-1)で表される基、式(6-2)で表される基、式(6-3-1)で表される基、式(6-4)で表される基、式(6-5-1)で表される基、式(7-1-2)で表される基、式(7-1-3)で表される基、式(7-2-1)で表される基、式7-2-3)で表される基、式(8-1)で表される基であるアルケニル置換ナジイミド（Ｃ）の少なくとも２種を含む、請求項１１に記載のインクジェット用インク。
    
19. 溶媒（Ｄ）をさらに含む、請求項１〜１８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
20. 溶媒（Ｄ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノンおよびγ−ブチロラクトンからなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１９記載のインクジェット用インク。
21. インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコンアミド酸化合物（Ａ）及び前記シリコンアミド酸化合物（Ａ’）の合計含有量が１〜９９重量部である、請求項１〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
22. インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコンアミド酸化合物（Ａ）及び前記シリコンアミド酸化合物（Ａ’）の合計含有量が１０〜８０重量部である、請求項１〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
23. インクジェット用インク１００重量部に対して、前記シリコンアミド酸化合物（Ａ）及び前記シリコンアミド酸化合物（Ａ’）の合計含有量が２２〜７０重量部である、請求項１〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
24. 請求項１〜２３のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成した後、該塗膜を硬化処理してポリイミド膜を形成して得られるポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜。
25. 請求項１〜２３のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して塗膜を形成する工程、および該塗膜を硬化処理してポリイミド膜を形成する工程を含むポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜の形成方法。
26. 請求項２５に記載された方法で基板上に形成されたポリイミド膜またはパターン状ポリイミド膜を有する、フィルム基板。
27. 請求項２６に記載されたフィルム基板を有する電子部品。