JP5603685B2 - 生成方法、作成方法、露光方法、デバイスの製造方法及びプログラム - Google Patents
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Description
<実施例1>
実施例1では、基板に塗布されるレジストをポジレジストとし、光強度が所定の値以上の箇所でパターンが形成されるものとする。露光装置として、投影光学系のNAが1.20、露光光の波長λが193nmであり、屈折率1.44の水を液浸液として用いる液浸露光装置を考える。なお、投影光学系は無収差とする。また、マスクはハーフトーンマスク(ハーフトーン位相シフトマスク)とし、パターンと背景との位相差はπ(180度)、パターンの透過率は100%、背景の透過率は6%とする。
条件(1)
第3の近似空中像の主要部の値が、第1の近似空中像(又は第2の近似空中像)の主要部における目標パターン(主パターン)の位置での近似空中像の値の符号と同じ符号である。
条件(2)
第1の近似空中像(又は第2の近似空中像)の主要部における目標パターンの位置での近似空中像の値の符号が正であり、且つ、2階微分マップの主要部における2階微分値が負(山)となる。
或いは
第1の近似空中像(又は第2の近似空中像)の主要部における目標パターンの位置での近似空中像の値の符号が負であり、且つ、2階微分マップの主要部における2階微分値が正(谷)となる。
条件(3)
2階微分マップの主要部における2階微分値の絶対値が閾値以上となる。
条件(A)
第3の近似空中像の非主要部(虚部)において近似空中像の値の絶対値がC2以上となる位置で、第1の近似空中像(又は第2の近似空中像)における目標パターン(主パターン)の位置での近似空中像の値と異なる符号又は同じ符号となる。
<実施例2>
実施例2では、基板に塗布されるレジストをポジレジストとし、光強度が所定の値以上の箇所でパターンが形成されるものとする。露光装置として、投影光学系のNAが1.35、露光光の波長λが193nmであり、屈折率1.44の水を液浸液として用いる液浸露光装置を考える。なお、投影光学系は無収差とし、マスクを照明する光(露光光)は無偏光とする。また、マスクはハーフトーンマスク(ハーフトーン位相シフトマスク)とし、パターンと背景との位相差はπ(180度)、パターンの透過率は100%、背景の透過率は6%とする。
Claims (10)
- 光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる原版のパターンのデータをコンピュータによって生成する生成方法であって、
前記基板に形成すべき目標パターンに相当するパターンを前記投影光学系の物体面に配置したときに前記投影光学系の像面に形成される光強度分布を評価する分布として、実部と虚部とを含む複素数で表される第1の近似空中像分布を算出する第1のステップと、
前記目標パターンに相当するパターンを前記投影光学系の物体面に配置したときに前記投影光学系の像面からデフォーカスした面に形成される光強度分布を評価する分布として、実部と虚部とを含む複素数で表される第2の近似空中像分布を算出する第2のステップと、
前記第2のステップで算出された前記第2の近似空中像分布から前記第1のステップで算出された前記第1の近似空中像分布を差し引いた第3の近似空中像分布を算出する第3のステップと、
前記第3の近似空中像分布の実部における絶対値の最大値と前記第3の近似空中像分布の虚部における絶対値の最大値とを比較して、前記第3の近似空中像分布の実部と虚部のうち、絶対値の最大値が大きい方を主要部、他方を非主要部として決定する第4のステップと、
前記主要部における前記目標パターンの位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に主パターンを配置し、前記第1の近似空中像分布又は前記第2の近似空中像分布における前記目標パターンの位置での近似空中像の値の符号と同じ符号となる前記主要部における位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に前記主パターンと同じ透過率及び位相を有する仮補助パターンを配置した仮パターンを決定する第5のステップと、
前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の絶対値が閾値未満となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンを実補助パターンとし、前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の絶対値が閾値以上となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンの透過率及び位相の少なくとも一方を前記主パターンの透過率及び位相と異ならせて実補助パターンとし、前記実補助パターンと、前記主パターンとを含むパターンのデータを、前記原版のパターンのデータとして生成する第6のステップと、
を有することを特徴とする生成方法。 - 前記第6のステップでは、前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の値の符号と異なる符号で、且つ、絶対値が閾値以上となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンの透過率を前記主パターンの透過率よりも小さくすることを特徴とする請求項1に記載の生成方法。
- 前記第6のステップでは、前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の値の符号と異なる符号で、且つ、絶対値が閾値以上となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンの透過率をゼロにすることを特徴とする請求項2に記載の生成方法。
- 前記第4のステップでは、前記第3の近似空中像分布に対して位置に関する2階微分を施し、
前記第5のステップでは、前記第3の近似空中像分布に対して位置に関する2階微分を施した結果に基づいて、前記仮パターンを決定することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の生成方法。 - 前記第6のステップでは、前記原版のパターンのデータからの算出される像と前記目標パターンとの差分が許容範囲内になるように変形された前記主パターンと、前記実補助パターンとを含むデータを、前記原版のパターンのデータとして生成することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の生成方法。
- 前記第1の近似空中像分布の実部における絶対値の最大値と前記第1の近似空中像分布の虚部における絶対値の最大値とを比較して、前記第1の近似空中像分布の実部と虚部のうち、絶対値の最大値が大きい方を主要部とし、
前記第2の近似空中像分布の実部における絶対値の最大値と前記第2の近似空中像分布の虚部における絶対値の最大値とを比較して、前記第2の近似空中像分布の実部と虚部のうち、絶対値の最大値が大きい方を主要部とし、
前記第1の近似空中像の主要部又は前記第2の近似空中像の主要部において、前記目標パターンの中心位置の縦方向又は横方向の径における近似空中像の絶対値の等高線を、前記主パターンの境界線として定めることを特徴とする請求項5に記載の生成方法。 - 請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の生成方法で生成されたデータに基づいて原版を作成することを特徴とする原版の作成方法。
- 請求項7に記載の原版の作成方法で作成された原版を照明するステップと、
投影光学系を介して前記原版のパターンの像を基板に投影するステップと、
を有することを特徴とする露光方法。 - 請求項8に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。 - 光源からの光を用いて原版を照明する照明光学系と、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられる原版のパターンのデータを生成する生成方法をコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
前記基板に形成すべき目標パターンに相当するパターンを前記投影光学系の物体面に配置したときに前記投影光学系の像面に形成される光強度分布を評価する分布として、実部と虚部とを含む複素数で表される第1の近似空中像分布を算出する第1のステップと、
前記目標パターンに相当するパターンを前記投影光学系の物体面に配置したときに前記投影光学系の像面からデフォーカスした面に形成される光強度分布を評価する分布として、実部と虚部とを含む複素数で表される第2の近似空中像分布を算出する第2のステップと、
前記第2のステップで算出された前記第2の近似空中像分布から前記第1のステップで算出された前記第1の近似空中像分布を差し引いた第3の近似空中像分布を算出する第3のステップと、
前記第3の近似空中像分布の実部における絶対値の最大値と前記第3の近似空中像分布の虚部における絶対値の最大値とを比較して、前記第3の近似空中像分布の実部と虚部のうち、絶対値の最大値が大きい方を主要部、他方を非主要部として決定する第4のステップと、
前記主要部における前記目標パターンの位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に主パターンを配置し、前記第1の近似空中像分布又は前記第2の近似空中像分布における前記目標パターンの位置での近似空中像の値の符号と同じ符号となる前記主要部における位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に前記主パターンと同じ透過率及び位相を有する仮補助パターンを配置した仮パターンを決定する第5のステップと、
前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の絶対値が閾値未満となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンを実補助パターンとし、前記仮補助パターンのうち、前記非主要部における前記目標パターンの位置での近似空中像の絶対値が閾値以上となる位置に対応する前記投影光学系の物体面における位置に配置された仮補助パターンの透過率及び位相の少なくとも一方を前記主パターンの透過率及び位相と異ならせて実補助パターンとし、前記実補助パターンと、前記主パターンとを含むパターンのデータを、前記原版のパターンのデータとして生成する第6のステップと、
を実行させることを特徴とするプログラム。
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