JP5599192B2 - 表示基板 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態による液晶表示装置の平面図であり、図2は、図1に示す「A」領域を拡大した平面図であり、図3は、図1に示す液晶表示装置の断面図である。
図11は、本発明の第2実施形態による液晶表示装置の平面図であり、図12は、図11に示す「B」領域を拡大した平面図である。本発明の第2実施形態による表示装置は、画素電極の構成を除いては、上記説明した本発明の第1実施形態による表示装置と実質的に同一であるか又は類似である。従って、本発明の第2実施形態を説明するにあたって、上記説明した本発明の第1実施形態と重複する説明は省略する。
図13は、本発明の第3実施形態による液晶表示装置の平面図であり、図14は、図13に示す「C」領域を拡大した平面図である。本発明の第3実施形態による表示装置は、画素電極の構成を除いては、上記説明した本発明の第1実施形態による表示装置と実質的に同一であるか又は類似である。従って、本発明の第3実施形態を説明するにあたって、上記説明した本発明の第1実施形態と重複する説明は省略する。
図15は、本発明の第4実施形態による液晶表示装置の平面図であり、図16は、図15に示す「D」領域を拡大した平面図である。本発明の第4実施形態による表示装置は、画素電極の構成を除いては、上記説明した本発明の第1実施形態による表示装置と実質的に同一であるか又は類似である。従って、本発明の第4実施形態を説明するにあたって、上記説明した本発明の第1実施形態と重複する説明は省略する。
110第1ベース基板
120ゲート絶縁膜
130半導体パターン
140パッシベーション膜
150有機膜
160、560、660、760 画素電極
170第1配向膜
200対向基板
210第2ベース基板
220遮光パターン
230カラーフィルタ
240オーバーコーティング層
250共通電極
Claims (7)
- PVAモードで液晶を駆動するために用いられる表示基板であって、
ゲートライン、前記ゲートラインと交差するデータライン、及び前記ゲートラインと前記データラインに電気的に接続された薄膜トランジスタが形成され、画素領域が定義されたベース基板と、
前記薄膜トランジスタに電気的に接続された画素電極と、を含み、
前記画素電極は、前記画素領域に形成された複数の枝電極及び前記複数の枝電極を接続する接続電極を含み、前記複数の枝電極のそれぞれは、折曲げ部を備え、隣接する前記複数の枝電極の折曲げ部は互いに離隔され、
前記複数の枝電極のそれぞれは、
前記ゲートラインに対して傾いた方向に延伸される第1パターン部と、
前記第1パターン部に対して傾いた方向に延伸される第2パターン部と、
前記第1パターン部の一端部と前記第2パターン部の一端部とが接して、前記折曲げ部が形成される接続部と、を含み、
前記接続部は、前記第1パターン部から折曲げられて延伸される第1サブパターン部と前記第2パターン部から折曲げられて延伸され、前記第1サブパターン部と接して前記折曲げ部を形成する第2サブパターン部とを含み、
前記第1サブパターン部と前記第2サブパターン部とが成す角度は、前記第1パターン部と前記第2パターン部とが成す角度より小さいことを特徴とする表示基板。 - 前記第1パターン部と前記第2パターン部とが成す角度は90°であり、
前記第1サブパターン部と前記第2サブパターン部とが成す角度は6°〜90°の範囲内に存在することを特徴とする請求項1に記載の表示基板。 - 前記接続電極の幅は、前記第1パターン部の幅及び前記第2パターン部の幅より大きく、前記第1パターン部の幅は、前記第2パターン部の幅と同一であることを特徴とする請求項1に記載の表示基板。
- 前記画素領域は、互いに隣接するサブ領域を含み、
前記第1パターン部及び前記第2パターン部は、前記サブ領域のそれぞれに形成され、前記接続部は、前記サブ領域の境界に沿って形成されることを特徴とする請求項1に記載の表示基板。 - 前記サブ領域は、前記ゲートラインの延伸方向に沿って隣接し、前記第1パターン部は、前記ゲートラインに対して−45°傾き、前記第2パターン部は、前記ゲートラインに対して−135°傾くことを特徴とする請求項4に記載の表示基板。
- 前記画素領域は、第1サブ領域、前記ゲートラインの延伸方向に沿って前記第1サブ領域に隣接する第2サブ領域、前記データラインの延伸方向に沿って前記第2サブ領域に隣接する第3サブ領域、及び前記ゲートラインの延伸方向に沿って前記第1サブ領域に隣接して前記データラインの延伸方向に沿って前記第3サブ領域に隣接する第4サブ領域を含み、
前記複数の枝電極は、
前記第1サブ領域に形成される第1パターン部、前記第2サブ領域に形成される第2パターン部、及び前記第1サブ領域と前記第2サブ領域の境界に沿って形成される接続部を備える第1枝電極と、
前記第2サブ領域に形成される第1パターン部、前記第3サブ領域に形成される第2パターン部、及び前記第2サブ領域と前記第3サブ領域の境界に沿って形成される接続部を備える第2枝電極と、
前記第3サブ領域に形成される第1パターン部、前記第4サブ領域に形成される第2パターン部、及び前記第3サブ領域と前記第4サブ領域の境界に沿って形成される接続部を備える第3枝電極と、
前記第4サブ領域に形成される第1パターン部、前記第1サブ領域に形成される第2パターン部、及び前記第2サブ領域と前記第1サブ領域の境界に沿って形成される接続部を備える第4枝電極と、を含むことを特徴とする請求項4に記載の表示基板。 - 前記画素領域は、互いに隣接するサブ領域を含み、
前記第1パターン部及び前記第2パターン部は第1幅を有し、前記サブ領域のそれぞれに形成され、
前記接続部は、前記サブ領域の境界に沿って形成されることを特徴とする請求項1に記載の表示基板。
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