JP5545965B2 - 流体吐出ヘッド、流体を流体吐出モジュールから排出する方法、及び流体吐出ヘッドを作製する方法 - Google Patents
流体吐出ヘッド、流体を流体吐出モジュールから排出する方法、及び流体吐出ヘッドを作製する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5545965B2 JP5545965B2 JP2010040543A JP2010040543A JP5545965B2 JP 5545965 B2 JP5545965 B2 JP 5545965B2 JP 2010040543 A JP2010040543 A JP 2010040543A JP 2010040543 A JP2010040543 A JP 2010040543A JP 5545965 B2 JP5545965 B2 JP 5545965B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- volume
- module
- fluid ejection
- manifold
- fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims description 154
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 title claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 85
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 81
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims description 81
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 46
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 8
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 claims description 4
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl VIFIHLXNOOCGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 101710162828 Flavin-dependent thymidylate synthase Proteins 0.000 description 2
- 101710135409 Probable flavin-dependent thymidylate synthase Proteins 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
Claims (32)
- 複数の流体吐出モジュールを備えるダイであって、各流体吐出モジュールは駆動電極を有するポンプアクチュエータを含む、ダイと、
前記ダイの第1面に接触することで、排液容積部と流体連通するモジュール容積部を画成するマニフォールドであって、前記モジュール容積部の一部分は前記マニフォールドと前記複数の流体吐出モジュールの少なくとも一部との間に画成され、前記排液容積部は前記流体吐出モジュールから離れた位置にある、マニフォールドと、を備え、
前記モジュール容積部は、前記排液容積部と比較して、内部表面積の対容積比がより大きく、かつ内部表面のうち非濡れ性コーティングによって覆われている部分の割合がより大きい、
流体吐出ヘッド。 - 前記モジュール容積部の前記内部表面の一部分は、前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータの一部によって画成される、請求項1に記載の流体吐出ヘッド。
- 前記非濡れ性コーティングは、前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータを被覆する、請求項1又は2に記載の流体吐出ヘッド。
- 前記モジュール容積部は、前記排液容積部の各寸法より実質的に小さい少なくとも一つの寸法によって画成される、請求項1乃至3のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記マニフォールドは、前記モジュール容積部内の前記流体吐出モジュールと約1μm〜約20μmだけ離れている、請求項1乃至4のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記非濡れ性コーティングは、前記モジュール容積部における前記マニフォールドの内部表面を被覆する、請求項1乃至5のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記非濡れ性コーティングは、前記モジュール容積部の内部表面と前記排液容積部の内部表面とを被覆する、請求項1乃至6のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドと前記ダイの前記第1面との間に実質的に画成される、請求項1乃至7のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記排液容積部における前記ダイの前記第1面は、前記非濡れ性コーティングで被覆される、請求項1乃至8のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドの内部に実質的に画成される、請求項1乃至7のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記ポンプアクチュエータは、圧電変位素子、サーマルバブルジェット発生素子、又は静電変位素子である、請求項1乃至10のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記非濡れ性コーティングは、自己組織化単分子膜、分子凝集物、又はシード層と結合した非濡れ性層である、請求項1乃至11のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 前記モジュール容積部及び前記排液容積部は、密閉されずに開放されている、請求項1乃至12のいずれかに記載の流体吐出ヘッド。
- 流体を流体吐出モジュールから排出する方法であって、
複数の流体吐出モジュールを備えるダイを提供する工程であって、各流体吐出モジュールは駆動電極を有するポンプアクチュエータを含む、工程と、
排液容積部と流体連通するモジュール容積部を提供する工程であって、前記モジュール容積部の一部分はマニフォールドと前記複数の流体吐出モジュールの少なくとも一部との間に画成され、前記排液容積部は前記流体吐出モジュールから離れた位置にある、工程と、
前記排液容積部と比較して、より大きい内部表面積の対容積比、かつ、より大きい内部表面のうち非濡れ性コーティングによって覆われている部分の割合を、前記モジュール容積部に提供する工程と、
前記モジュール容積部から前記排液容積部に流体を排出する工程と、
を含む方法。 - 前記モジュール容積部の前記内部表面の一部分は、前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータの一部によって画成される、請求項14に記載の方法。
- 前記非濡れ性コーティングは、前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータを被覆する、請求項14又は15に記載の方法。
- 前記モジュール容積部は、前記排液容積部の各寸法より実質的に小さい少なくとも一つの寸法によって画成される、請求項14乃至16のいずれかに記載の方法。
- 前記マニフォールドは、前記モジュール容積部内の前記流体吐出モジュールと約1μm〜約20μmだけ離れている、請求項14乃至17のいずれかに記載の方法。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドと前記ダイの前記第1面との間に実質的に画成される、請求項14乃至18のいずれかに記載の方法。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドの内部に実質的に画成される、請求項14乃至18のいずれかに記載の方法。
- 前記ポンプアクチュエータは、圧電変位素子、サーマルバブルジェット発生素子、又は静電変位素子である、請求項14乃至20のいずれかに記載の方法。
- 前記各容積部内の圧力を周囲圧力と均等化する工程を更に含む、請求項14乃至21のいずれかに記載の方法。
- 前記非濡れ性コーティングは、自己組織化単分子膜、分子凝集物、又はシード層と結合した非濡れ性層である、請求項14乃至22のいずれかに記載の方法。
- 流体吐出ヘッドを作製する方法であって、
複数の流体吐出モジュールを備えるダイを提供する工程であって、各流体吐出モジュールは駆動電極を有するポンプアクチュエータを含む、工程と、
マニフォールドを前記ダイの第1面に接触させて、排液容積部と流体連通するモジュール容積部を形成する工程であって、前記モジュール容積部の一部分は前記マニフォールドと前記複数の流体吐出モジュールの少なくとも一部との間に画成され、前記排液容積部は前記流体吐出モジュールから離れた位置にある、工程と、
前記排液容積部と比較して、より大きい内部表面積の対容積比、かつ、より大きい内部表面のうち非濡れ性コーティングによって覆われている部分の割合を、前記モジュール容積部に提供する工程と、
を含む方法。 - 前記モジュール容積部の前記内部表面の一部分は、前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータの一部によって画成されるように、前記モジュール容積部が提供される、請求項24に記載の方法。
- 前記駆動電極又は前記ポンプアクチュエータは、前記非濡れ性コーティングで被覆される、請求項24又は25に記載の方法。
- 前記モジュール容積部に、前記排液容積部の各寸法より実質的に小さい少なくとも一つの寸法が提供される、請求項24乃至26のいずれかに記載の方法。
- 前記マニフォールドは、前記モジュール容積部内の前記流体吐出モジュールと約1μm〜約20μmだけ離れている、請求項24乃至27のいずれかに記載の方法。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドと前記ダイの前記第1面との間に実質的に画成される、請求項24乃至28のいずれかに記載の方法。
- 前記排液容積部は、前記マニフォールドの内部に実質的に画成される、請求項24乃至28のいずれかに記載の方法。
- 前記ポンプアクチュエータは、圧電変位素子、サーマルバブルジェット発生素子、又は静電変位素子である、請求項24乃至30のいずれかに記載の方法。
- 前記各容積部が、周囲雰囲気に通気される、請求項24乃至31のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/394,896 US8061810B2 (en) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | Mitigation of fluid leaks |
US12/394,896 | 2009-02-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010241122A JP2010241122A (ja) | 2010-10-28 |
JP5545965B2 true JP5545965B2 (ja) | 2014-07-09 |
Family
ID=42666874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010040543A Active JP5545965B2 (ja) | 2009-02-27 | 2010-02-25 | 流体吐出ヘッド、流体を流体吐出モジュールから排出する方法、及び流体吐出ヘッドを作製する方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8061810B2 (ja) |
JP (1) | JP5545965B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5113264B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2013-01-09 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 流体噴射カートリッジ及び方法 |
US8061810B2 (en) * | 2009-02-27 | 2011-11-22 | Fujifilm Corporation | Mitigation of fluid leaks |
JP5831081B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-12-09 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
JP6269259B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-01-31 | ブラザー工業株式会社 | 液体噴射装置の製造方法、液体噴射装置、及び、撥液層形成方法 |
CN106739503A (zh) * | 2015-11-19 | 2017-05-31 | 富泰华工业(深圳)有限公司 | 打印头及其喷墨打印机 |
KR20180099673A (ko) * | 2015-12-25 | 2018-09-05 | 가부시키가이샤 키엔스 | 공초점 변위계 |
JP6779234B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2020-11-04 | 株式会社キーエンス | 共焦点変位計 |
JP7408265B2 (ja) * | 2017-06-13 | 2024-01-05 | 株式会社キーエンス | 共焦点変位計 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5434606A (en) * | 1991-07-02 | 1995-07-18 | Hewlett-Packard Corporation | Orifice plate for an ink-jet pen |
US5812158A (en) * | 1996-01-18 | 1998-09-22 | Lexmark International, Inc. | Coated nozzle plate for ink jet printing |
WO2001011426A1 (en) * | 1999-05-27 | 2001-02-15 | Patterning Technologies Limited | Method of forming a masking pattern on a surface |
KR101137643B1 (ko) * | 2003-10-10 | 2012-04-19 | 후지필름 디마틱스, 인크. | 박막을 구비한 프린트 헤드 |
ATE470571T1 (de) * | 2004-05-03 | 2010-06-15 | Fujifilm Dimatix Inc | Biegsame druckkopfleiterplatte |
JP2006116767A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 |
JP4096318B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2008-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
JP2007013009A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、電子デバイスおよび電子機器 |
JP2007216474A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
CN101541544B (zh) * | 2006-12-01 | 2012-06-20 | 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司 | 在流体喷射器上的非润湿涂层 |
WO2009143354A2 (en) | 2008-05-23 | 2009-11-26 | Fujifilm Corporation | Insulated film use in a mems device |
BRPI0920169A2 (pt) | 2008-10-30 | 2016-08-30 | Fujifilm Corp | revestimento não-umectante sobre um ejetor de fluido |
US8061810B2 (en) * | 2009-02-27 | 2011-11-22 | Fujifilm Corporation | Mitigation of fluid leaks |
-
2009
- 2009-02-27 US US12/394,896 patent/US8061810B2/en active Active
-
2010
- 2010-02-25 JP JP2010040543A patent/JP5545965B2/ja active Active
-
2011
- 2011-09-13 US US13/231,763 patent/US8517511B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120001982A1 (en) | 2012-01-05 |
US20100220143A1 (en) | 2010-09-02 |
JP2010241122A (ja) | 2010-10-28 |
US8061810B2 (en) | 2011-11-22 |
US8517511B2 (en) | 2013-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5545965B2 (ja) | 流体吐出ヘッド、流体を流体吐出モジュールから排出する方法、及び流体吐出ヘッドを作製する方法 | |
JP4630084B2 (ja) | インクジェットプリントヘッドのノズルプレート表面への疏水性コーティング膜の形成方法 | |
US9278528B2 (en) | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus | |
US20170072692A1 (en) | Print fluid passageway thin film passivation layer | |
JP5266624B2 (ja) | 液滴噴射装置及び液滴噴射装置の製造方法 | |
KR100773554B1 (ko) | 기포 제거를 위한 베젤 구조를 가진 잉크젯 프린트헤드 | |
JP2010214633A (ja) | 圧電型アクチュエータ、液適吐出ヘッド、液滴ヘッドカートリッジ、液滴吐出装置、マイクロポンプ及び圧電型アクチュエータの製造方法 | |
JP2013028101A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
US8075106B2 (en) | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus | |
JP2009143002A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JPH11300957A (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JP2004154987A (ja) | 液体噴射ヘッド及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP6714829B2 (ja) | 液体噴射装置 | |
JP4397129B2 (ja) | 静電型アクチュエータ及び該静電型アクチュエータを使用したインクジェットヘッド、インクジェットプリンタ | |
JP5112094B2 (ja) | 静電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、及び画像形成装置、並びに静電型アクチュエータの製造方法 | |
JP5073561B2 (ja) | 静電型アクチュエータとその製造方法と液滴吐出ヘッド及び画像形成装置 | |
JP2010228276A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエーター装置 | |
JP2004216581A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JPH11320871A (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 | |
JP2009172939A (ja) | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP2011189599A (ja) | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP2016007815A (ja) | インクジェットヘッド、および、インクジェットプリンタ | |
US8820886B2 (en) | Liquid discharging head and liquid discharging apparatus with liquid repellant film | |
JP2007190911A (ja) | インクジェットプリントヘッド及びその駆動方法 | |
JP2006321059A (ja) | 液滴吐出ヘッド、インクジェットプリントヘッド及びインクジェットプリンタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130725 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140512 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5545965 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |