JP5519442B2 - アバランシェフォトダイオード - Google Patents
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Description
はじめに、本発明の実施の形態1について説明する。図1は、本発明の実施1の形態におけるアバランシェフォトダイオードの構成を示す構成図である。図1では、断面を模式的に示している。このアバランシェフォトダイオードは、基板101の上に形成された、n型の半導体からなる第1半導体層102、アンドープの半導体からなる増倍層103、p型の半導体からなる電界制御層104、半導体からなる光吸収層105、およびp型の半導体からなる第2半導体層106からなる積層構造と、第2半導体層106の上に形成された第1電極と、第1半導体層102に形成された第2電極とを備える。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図2は、本発明の実施の形態2におけるアバランシェフォトダイオードの構成を示す構成図である。図2では、断面を模式的に示している。このアバランシェフォトダイオードは、基板201の上に形成された、n型の半導体からなる第1半導体層202、アンドープの半導体からなる増倍層203、p型の半導体からなる電界制御層204、半導体からなる光吸収層205、およびp型の半導体からなる第2半導体層206からなる積層構造と、第2半導体層206の上に形成された第1電極と、第1半導体層202に形成された第2電極とを備える。
次に、本発明の実施の形態3について説明する。図6は、本発明の実施3の形態におけるアバランシェフォトダイオードの構成を示す構成図である。このアバランシェフォトダイオードは、基板601の上に形成されたn型の半導体からなる第1半導体層602と、第1半導体層602の上に形成されたアンドープの半導体からなる増倍層603と、増倍層603の上に形成されたp型の半導体からなる電界制御層604とを備える。
次に、本発明の実施の形態4について説明する。図7は、本発明の実施の形態4におけるアバランシェフォトダイオードの構成を示す構成図である。図7では、断面を模式的に示している。このアバランシェフォトダイオードは、基板201の上に形成された、n型の半導体からなる第1半導体層202、アンドープの半導体からなる増倍層703、p型の半導体からなる電界制御層204、半導体からなる光吸収層205、およびp型の半導体からなる第2半導体層206からなる積層構造と、第2半導体層206の上に形成された第1電極と、第1半導体層202に形成された第2電極とを備える。
Claims (3)
- 基板の上に形成された、n型の半導体からなる第1半導体層、アンドープの半導体からなる増倍層、p型の半導体からなる電界制御層、半導体からなる光吸収層、およびp型の半導体からなる第2半導体層からなる積層構造と、
前記第2半導体層の上に形成された第1電極と、
前記第1半導体層に形成された第2電極と
を少なくとも備え、
前記第1半導体層の側より、前記増倍層、前記電界制御層、前記光吸収層、および前記第2半導体層は、これらの順に配置され、
前記光吸収層は、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有した半導体から構成され、
前記第1半導体層,増倍層,電界制御層,および前記第2半導体層は、前記光吸収層を構成する半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有する半導体から構成され、
前記第1半導体層,電界制御層,および前記第2半導体層は、不純物を導入することで各々の導電型とされ、
前記光吸収層は、前記第1半導体層および前記第2半導体層よりも不純物濃度が低い状態とされ、
前記増倍層の格子緩和状態での格子定数は、前記第1半導体層,前記電界制御層,前記光吸収層,および前記第2半導体層とは異なり、
前記増倍層の層厚は、臨界膜厚より小さい範囲とされている
ことを特徴とするアバランシェフォトダイオード。 - 請求項1記載のアバランシェフォトダイオードにおいて、
前記増倍層の格子緩和状態での格子定数は、前記第1半導体層,前記電界制御層,前記光吸収層,および前記第2半導体層より大きいことを特徴とするアバランシェフォトダイオード。 - 請求項1または2記載のアバランシェフォトダイオードにおいて、
前記光吸収層の上に形成されたp型の半導体からなるp型光吸収層を備え、
前記p型光吸収層は、前記光吸収層と同じ半導体から構成され、
前記p型光吸収層の不純物濃度は、動作電圧の印加により前記光吸収層が空乏化した状態で前記p型光吸収層の前記光吸収層との接続面のみが空乏化される範囲とされている
ことを特徴とするアバランシェフォトダイオード。
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JP2010180066A JP5519442B2 (ja) | 2010-08-11 | 2010-08-11 | アバランシェフォトダイオード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010180066A JP5519442B2 (ja) | 2010-08-11 | 2010-08-11 | アバランシェフォトダイオード |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2012039026A JP2012039026A (ja) | 2012-02-23 |
JP5519442B2 true JP5519442B2 (ja) | 2014-06-11 |
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ID=45850660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010180066A Active JP5519442B2 (ja) | 2010-08-11 | 2010-08-11 | アバランシェフォトダイオード |
Country Status (1)
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-
2010
- 2010-08-11 JP JP2010180066A patent/JP5519442B2/ja active Active
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