JP5499716B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は半導体装置に関し、特に異なる電源電圧に基づき、交流結合素子を介して入力信号を受信する半導体装置に関する。
近年、半導体プロセスの微細化により集積度を高めた半導体装置により情報処理能力を高めることが多く行われている。しかし、微細なプロセスにより形成された半導体装置は、高い電源電圧に基づき動作する半導体装置が出力する信号を受信すると、耐圧の問題から不具合が生じる。そこで、交流結合素子を介して異なる電源(例えば、基準電圧)に基づき動作する異なる半導体チップを接続することが行われている。この交流結合素子の例として、パルストランスフォーマ、フォトカプラ、トランスフォーマなどがある。
まず、パルストランスフォーマを介して伝達信号を受信する半導体装置の例を図18に示す。図18に示す例では、半導体装置(例えば、MCU(Micro Computing Unit)、モータドライバ等)100は、パルストランスフォーマ101を介して伝達信号Vinを受信する。しかし、パルストランスフォーマ101は、低周波信号を通すことができない問題がある。
また、フォトカプラを介して伝達信号を受信する半導体装置の例を図19に示す。図19に示す例では、半導体装置100は、フォトカプラ102を介して伝達信号Vinを受信する。しかし、フォトカプラ102は、一般に10MHz以上の高周波信号を伝達できない問題がある。また、送信側の発光ダイオードPDに数mAから10mA程度の電流を流す必要があり、消費電力が大きくなる問題がある。また、発光ダイオードPDは使用を続けることにより輝度が低下する素子の劣化が生じる。そのため、発光ダイオードPDを用いた方式では経年劣化によって特性が変動するという問題がある。
また、一次側コイルと二次側コイルとにより構成されるトランスフォーマを介して伝達信号Vinを受信する半導体装置の例が特許文献1に開示されている。特許文献1に記載の半導体装置200を図20に示す。図20に示す例では、トランスフォーマが一次側コイル206と二次側コイル204とにより構成する。そして、半導体装置200では、入力端子INから入力された伝達信号Vinを多段に接続されたバッファ回路(図中の231〜237)により構成されるバッファ回路により増幅して、当該伝達信号Vinの信号レベルに応じた駆動電流を一次側コイル206に供給することで、一次側コイル206を駆動する。そして、二次側コイルに生じた電圧変化を受信回路215により受信して伝達信号Vinを再生する。ここで、受信回路215は、ヒステリシスコンパレータ238及びバッファ回路239を有する。また、特許文献1では、トランスフォーマをMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術によりコイルを形成する。これにより、特許文献1では、コイルに外来ノイズが混入することを防止して、信号の誤受信を防止する。
上記の例では、いずれも交流結合素子が半導体集積回路とは異なるプロセスで形成されており、当該交流結合素子を実装するに当たり実装面積・体積が大きくなる問題がある。
そこで、交流結合素子として用いられるトランスフォーマを半導体集積回路と同じ半導体基板上に形成することが行われている。このようなトランスフォーマを特にオンチップトランスフォーマと称す。オンチップトランスフォーマにより信号を伝達する半導体装置の例を図21に示す。図21に示すオンチップトランスフォーマを用いる方式では、一般に2つの半導体チップを1つのパッケージに封入する。オンチップトランスフォーマ113は、インダクタンスがおおよそ100nH以下と小さいため、高周波信号しか伝播できない。そのため、オンチップトランスフォーマ113ではベースバンド信号をそのまま伝播することができない。そこで、オンチップトランスフォーマ113を用いる方式では、送信回路Txで伝達信号を高周波信号に変調してからトランスフォーマ113を伝播させ、受信回路Rxで復調する必要がある。図22において、オンチップトランスフォーマ113を用いて伝達される信号のタイミングチャートを示す。図22に示すように、送信回路Txは、入力される伝達信号Vinがハイレベルの期間に高周波信号を出力して、二次側コイルの両端に高周波の電圧信号Vcoilを生成する。そして、受信回路Rxは、電圧信号Vcoilとして高周波信号が入力されている期間に出力端子OUTの信号をハイレベルとする。
このような処理を行うため、半導体装置110では、片方の半導体基板111には送信回路Rxが搭載され、他方の半導体基板112に受信回路Rxが搭載され、その間をオンチップトランスフォーマ113で絶縁している。送信回路Txと受信回路Rxはそれぞれ、外部から入力される伝達信号の接地電位と、マイクロコントローラやゲートドライバなどが搭載される内部回路100の接地電位を基準に動作している。
特開2009−171333号公報
しかし、一般に半導体基板は導電性であるため、送信回路Txと受信回路Rxで半導体基板を分離しなければ、外部からの伝達信号と半導体集積回路内部の回路とを電気的に絶縁することができない。つまり、従来のオンチップトランスフォーマを有する半導体装置では、2つの半導体チップを搭載するため、回路面積の増大し、半導体装置の高価格化する問題がある。
このような課題に鑑み、本発明では、オンチップトランスフォーマを搭載する半導体装置の回路面積を小さくすることを目的とする。
本発明にかかる半導体装置は、入力される伝達信号の電流変化に応じて電圧が変化する受信信号を生成する交流結合素子と、前記伝達信号から前記受信信号への微分階数に応じた数の積分演算を行い、前記受信信号から前記伝達信号を再生する受信回路と、を有する。
本発明にかかる半導体装置の信号伝達方法は、半導体装置間に設けられ、半導体装置間を交流的に結合するトランスフォーマを有する半導体装置における信号伝達方法であって、送信回路から入力される伝達信号の電流変化に応じて電圧が変化する受信信号を前記受信回路側に生成し、前記伝達信号から前記受信信号への微分階数に応じた数の積分演算を行い、前記受信信号から前記伝達信号を再生する。
本発明にかかる半導体装置及びその信号伝達方法によれば、オンチップトランスフォーマを有する半導体装置の回路面積を抑制することができる。
実施の形態1にかかる半導体装置のブロック図である。 実施の形態1にかかる半導体装置の実装状態を示す模式図である。 実施の形態1にかかる半導体装置の詳細なブロック図である。 実施の形態1にかかる受信回路のブロック図である。 実施の形態1にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。 実施の形態2にかかる半導体装置のブロック図である。 実施の形態2にかかる半導体装置の実装状態を示す模式図である。 実施の形態2にかかる半導体装置の詳細なブロック図である。 実施の形態2にかかる受信回路のブロック図である。 実施の形態2にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。 実施の形態3にかかる半導体装置の詳細なブロック図である。 実施の形態3にかかる受信回路のブロック図である。 実施の形態3にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートである。 本発明にかかる半導体装置の応用例を示すブロック図である。 本発明にかかる半導体装置の応用例を示すブロック図である。 本発明にかかる半導体装置の応用例を示すブロック図である。 本発明にかかる半導体装置の応用例を示すブロック図である。 パルストランスフォーマを用いた従来の半導体装置のブロック図である。 フォトカプラを用いた従来の半導体装置のブロック図である。 特許文献1に記載の半導体装置のブロック図である。 オンチップトランスフォーマを用いた従来の半導体装置のブロック図である。 図21に示す半導体装置において伝達される信号のタイミングチャートである。
実施の形態1
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。まず、実施の形態1にかかる半導体装置のブロック図を示す。図1に示すように、実施の形態1にかかる半導体装置は、半導体パッケージ1に半導体チップ3が搭載される。半導体パッケージ1には、外部端子2が複数も受けられる。そして、半導体チップ3は、外部端子2とワイヤにより接続される。
半導体チップ3には、受信回路4、内部回路5、交流結合素子6を有する。本実施の形態では、交流結合素子6は、一次側コイルL1と二次側コイルL2により構成される。そして、一次側コイルの両端には第1の外部端子、第2の外部端子に接続される。受信回路4は、二次側コイルL2に接続され、交流結合素子6を介して受信した受信信号から伝達信号(例えば、第1、第2の外部端子を介して入力される信号)を再生する。内部回路5は、受信回路4により再生された伝達信号に基づき信号処理を行う。内部回路5は、MCU(Micro Computing Unit)、ゲートドライバ、バッファ回路の少なくとも1つを含む。MCUは、伝達信号に応じた信号処理を行う。ゲートドライバは、別途設けられるパワートランジスタを駆動する。バッファ回路は、伝達信号を別の回路に伝達する。上記第1の外部端子、第2の外部端子は、半導体パッケージ1の外部端子のうち一次側コイルL1に接続されるものである。
本実施の形態では、交流結合素子6として、半導体基板上の配線層によりコイルが形成されるオンチップトランスフォーマを用いる。そこで、本実施の形態で用いるオンチップトランスフォーマを有する半導体チップ3の実装形態の模式図を図2に示す。図2に示すようにオンチップトランスフォーマを構成する一次側コイルL1と二次側コイルL2とが半導体チップ3に形成される。一次側コイルL1は、半導体基板の表面に最も近い最上層配線に形成され、二次側コイルL2は、最上層配線の下層位置する配線層に形成される。このとき、一次側コイルL1と二次側コイルL2とが形成される配線層間の距離が大きくなるほどオンチップトランスフォーマの絶縁耐圧が高まる。
また、一次側コイルL1は、半導体チップ3の外部接続パッドが形成される配線層と同じそうに形成される。そして、一次側コイルL1の両端は、外部接続パッド及びワイヤを介して第1、第2の外部端子に接続される。
次いで、本実施の形態にかかる半導体装置についてさらに詳細に説明する。そこで、図3に実施の形態1にかかる半導体装置の詳細なブロック図を示す。図3に示すように、実施の形態1では、受信回路4として積分回路を用いる。積分回路は、二次側コイルL2の両端に生じた受信信号V2に対して積分演算を行うことで伝達信号V1(例えば、第1、第2の外部端子を介して入力される信号)を再生する。以下の説明では、再生された伝達信号にVoutの符号を付す。実施の形態1では、受信信号V2が伝達信号V1を一階微分に比例した大きさを有するため、積分回路は、一階積分を行う。
また、実施の形態1では、一次側コイルL1の他端と第2の外部端子との間に終端抵抗Rgを設ける。当該終端抵抗Rgは、第1の外部端子から第2の外部端子に流れる直流電流を削減する。また、終端抵抗Rgの抵抗値を高周波信号で一般的に用いられる50オームの抵抗とすることで、信号配線のターミネーションを行うことができる。終端抵抗Rgは省略することが可能である。
ここで、伝達信号V1と受信信号V2、伝達信号Voutとの関係について詳細に説明する。まず、本実施の形態では、交流結合素子6が一次側コイルL1、終端抵抗Rg、二次側コイルL2により構成されるため、受信信号V2は、(1)式により現すことができる。(1)式において、L1は一次側コイルのインダクタンスであり、L2は二次側コイルのインダクタンスであり、Rgは終端抵抗の抵抗値であり、kはトランスフォーマの磁気結合係数である。なお、二次側コイルL2に接続される負荷(例えば、受信回路4)の入力インピーダンスが高い場合(例えば、MOSトランジスタのゲートにより受信信号V2を受信する場合)、二次側コイルL2の起電力に二次側コイルL2の寄生抵抗は影響しない。
Figure 0005499716
また、終端抵抗Rgをなくした場合(例えば、終端抵抗Rgを0オームとした場合)、(1)式は、(2)式により変形できる。
Figure 0005499716
また、オンチップトランスフォーマのインダクタンスが10nHから100nHである。ここで、一次側コイルのインダクタンスを30nHと仮定し、伝達信号の周波数が1MHz〜1GHzの周波数帯であると仮定すると、一次側コイルL1のインピーダンスjωL1は、30mオーム〜30オームとなる。つまり、伝達信号が100MHz以下の場合は、一次側コイルL1のインピーダンスjωL1は、3mオーム以下となり、終端抵抗Rg(50オーム)に比べて無視できる程度の大きさとなることがわかる。このことから、(1)式の受信信号V2の大きさは、(3)式により近似できる。
Figure 0005499716
上記(1)〜(3)式より、受信信号V2は、伝達信号V1を一階微分したものに比例することがわかる。つまり、受信信号V2を一階積分することで伝達信号V1を再生できる。そこで、本実施の形態では受信回路4として一階積分を行う積分回路を用いる。積分回路の詳細なブロック図を図4に示す。
図4に示すように受信回路4は、トランスコンダクタンス増幅器7とコンデンサCo1を有する。トランスコンダクタンス増幅器7は、一方の入力端子(正転入力端子)が二次側コイルL2の一端に接続され、他方の入力端子(反転入力端子)が二次側コイルL2の他端に接続され、一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じた電流ioutを出力する。コンデンサCo1は、トランスコンダクタンス増幅器の出力に一端が接続され、他端が前記二次側コイルの前記他端に接続される。つまり、積分回路は、2つの入力端子間の電圧差に応じた電流ioutをコンデンサCo1に充放電することで伝達信号Voutを再生する。
続いて、本実施の形態にかかる半導体装置の動作について説明する。図5に本実施の形態にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートを示す。図5に示すように、伝達信号V1がロウレベルからハイレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が増加する。そして、電流i1の増加に応じて受信信号V2として正のパルスが生成される。積分回路は、この正のパルスに対して一階積分を行うことで伝達信号Voutをロウレベルからハイレベルに遷移させる。また、伝達信号V1がハイレベルからロウレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が減少する。そして、電流i1の減少に応じて受信信号V2として負のパルスが生成される。積分回路は、この負のパルスに対して一階積分を行うことで伝達信号Voutをハイレベルからロウレベルに遷移させる。
以上の説明より、実施の形態1にかかる半導体装置は、一次側コイルL1に流れる電流の変化の一階微分として現れる二次側コイルL2の受信信号V2の電圧変化を一階積分する積分回路を備える。つまり、実施の形態1にかかる半導体装置は、一次側コイルL1に与えられた伝達信号V1を積分回路により再生して伝達信号Voutを得る。これにより、実施の形態1にかかる半導体装置では、オンチップトランスフォーマにより交流結合素子の回路面積を抑制すると共に受信回路の回路面積を抑制することができる。
また、実施の形態1にかかる半導体装置では、伝達信号V1を高周波信号により変調することなく一次側コイルL1に与えることで当該一次側コイルL1に生じた電流変化から伝達信号Voutを再生することができる。これにより、1チップのみにより絶縁された送信回路から出力される伝達信号V1を受信できることから、変調回路を不要として半導体装置の回路面積を抑制することができる。
実施の形態2
実施の形態2にかかる半導体装置のブロック図を図6に示す。図6に示すように、実施の形態2にかかる半導体装置は、実施の形態1にかかる半導体装置の一次側コイルL1と直列にコンデンサCが接続される。なお、実施の形態2にかかる半導体装置において実施の形態1と同じ構成要素については実施の形態1と同一の符号を付して説明を省略する。
このコンデンサCは、半導体チップ3の配線層を利用して形成される。そこで、実施の形態2で用いるオンチップトランスフォーマとコンデンサCを有する半導体チップ3の実装形態の模式図を図7に示す。図7に示すようにオンチップトランスフォーマは、一次側コイルL1と二次側コイルL2とが半導体チップ3に形成される。また、コンデンサCは、一次側コイルL1が形成される最上層配線に形成される。そして、コンデンサCは、最上層配線により2つの電極が形成され、電極間の層間絶縁膜を誘電体膜として利用する。なお、コンデンサCの2つの電極は、同一の配線層に形成されている必要はない。
次いで、実施の形態2にかかる半導体装置についてさらに詳細に説明する。そこで、図8に実施の形態2にかかる半導体装置の詳細なブロック図を示す。図8に示すように、実施の形態2では、受信回路4として第1の積分回路8と第2の積分回路9を用いる。第1の積分回路8は、二次側コイルL2の両端に生じた受信信号V2に対して一階積分演算を行うことで中間信号V3を出力する。第2の積分回路9は、中間信号V3に対してさらに一階積分を行って伝達信号V1(例えば、第1、第2の外部端子を介して入力される信号)を再生する。以下の説明では、再生された伝達信号にVoutの符号を付す。実施の形態1では、受信信号V2が伝達信号V1を二階微分に比例した大きさを有するため、積分回路は、二階積分を行う。
また、実施の形態2では、一次側コイルL1の他端と第2の外部端子との間に終端抵抗Rgを設ける。当該終端抵抗Rgは、第1の外部端子から第2の外部端子に流れる直流電流を削減する。また、終端抵抗Rgの抵抗値を高周波信号で一般的に用いられる50オームの抵抗とすることで、信号配線のターミネーションを行うことができる。終端抵抗Rgは省略することが可能である。
ここで、伝達信号V1と受信信号V2、伝達信号Voutとの関係について詳細に説明する。まず、実施の形態2では、交流結合素子6が一次側コイルL1、終端抵抗Rg、コンデンサC、二次側コイルL2により構成されるため、受信信号V2は、(4)式により現すことができる。(4)式において、L1は一次側コイルのインダクタンスであり、L2は二次側コイルのインダクタンスであり、Rgは終端抵抗の抵抗値であり、Cはコンデンサの容量値であり、kはトランスフォーマの磁気結合係数である。なお、二次側コイルL2に接続される負荷(例えば、受信回路4)の入力インピーダンスが高い場合(例えば、MOSトランジスタのゲートにより受信信号V2を受信する場合)、二次側コイルL2の起電力に二次側コイルL2の寄生抵抗は影響しない。
Figure 0005499716
また、終端抵抗Rgをなくした場合(例えば、終端抵抗Rgを0オームとした場合)、(4)式は、(5)式により変形できる。
Figure 0005499716
また、オンチップトランスフォーマのインダクタンスが10nHから100nHであることを考える。この場合、一次側コイルのインダクタンスを30nHと仮定し、伝達信号の周波数が1MHz〜1GHzの周波数帯であると仮定すると、一次側コイルL1のインピーダンスjωL1は、30mオーム〜30オームとなり、コンデンサCのインピーダンスは、1Mオームから1kオームとなる。つまり、一次側コイルL1のインピーダンスjωL1と、終端抵抗Rg(50オーム)は、コンデンサCのインピーダンスに比べて無視できる程度の大きさとなることがわかる。このことから、(4)式の受信信号V2の大きさは、(6)式により近似できる。
Figure 0005499716
上記(4)〜(6)式より、受信信号V2は、伝達信号V1を二階微分したものに比例することがわかる。つまり、受信信号V2を二階積分することで伝達信号V1を再生できる。そこで、本実施の形態では受信回路4として二階積分を行う積分回路(例えば、第1の積分回路8、第2の積分回路9)を用いる。積分回路の詳細なブロック図を図9に示す。
図9に示すように第1の積分回路8は、トランスコンダクタンス増幅器10とコンデンサCo1を有する。トランスコンダクタンス増幅器10は、一方の入力端子(正転入力端子)が二次側コイルL2の一端に接続され、他方の入力端子(反転入力端子)が二次側コイルL2の他端に接続され、一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じた電流ioutを出力する。コンデンサCo1は、トランスコンダクタンス増幅器10の出力端子に一端が接続され、他端が前記二次側コイルの前記他端に接続される。つまり、第1の積分回路8は、2つの入力端子間の電圧差に応じた電流ioutをコンデンサCo1に充放電することで中間信号V3を生成する。
また、図9に示すように第2の積分回路9は、トランスコンダクタンス増幅器11とコンデンサCo2を有する。トランスコンダクタンス増幅器11は、一方の入力端子(正転入力端子)が第1の積分回路8の出力端子に接続され、他方の入力端子(反転入力端子)が二次側コイルL2の他端に接続され、一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じた電流ioutを出力する。コンデンサCo2は、トランスコンダクタンス増幅器11の出力端子に一端が接続され、他端が前記二次側コイルの前記他端に接続される。つまり、第2の積分回路9は、2つの入力端子間の電圧差に応じた電流ioutをコンデンサCo2に充放電することで伝達信号Voutを再生する。
続いて、実施の形態2にかかる半導体装置の動作について説明する。図10に本実施の形態にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートを示す。図10に示すように、伝達信号V1がロウレベルからハイレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が増加する。そして、電流i1の増加に応じて受信信号V2として正のパルスと負のパルスが生成される。第1の積分回路8は、この正のパルス及び負のパルスに対して一階積分を行うことで中間信号V3として正のパルスを生成する。そして、第2の積分回路9は、中間信号V3として生成された正のパルスに対して一階積分を行うことで伝達信号Voutをロウレベルからハイレベルに遷移させる。
また、伝達信号V1がハイレベルからロウレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が減少する。そして、電流i1の減少に応じて受信信号V2として負のパルスと正のパルスが生成される。第1の積分回路8は、負のパルス及び正のパルスに対して一階積分を行うことで中間信号V3として負のパルスを生成する。そして、第2の積分回路9は、中間信号V3として生成された負のパルスに対して一階積分を行うことで伝達信号Voutをハイレベルからロウレベルに遷移させる。
以上の説明より、実施の形態2にかかる半導体装置は、一次側コイルL1と直列にコンデンサCを設ける。これにより、実施の形態2にかかる半導体装置では、半導体チップ3とは絶縁されて設けられる送信回路において流れる直流電流を削減することができる。つまり、実施の形態2にかかる半導体装置を用いることで、送信回路側の消費電力を削減することができる。
また、実施の形態2にかかる半導体装置では、受信信号V2が伝達信号V1の二階微分に比例することから、積分回路を2つ備え、受信信号V2を二階積分することで伝達信号V1を再生した伝達信号Voutを生成する。
実施の形態3
上記実施の形態では、受信回路4として積分回路を用いる例について説明したが、受信信号V2又は中間信号V3が伝達信号V1の一階微分に比例する場合、当該受信信号V2又は中間信号V3を受信する受信回路4としてヒステリシスコンパレータを用いることも可能である。
そこで、実施の形態2にかかる半導体装置の第2の積分回路9をヒステリシスコンパレータ12に置き換えた半導体装置のブロック図を図11に示す。図11に示すように、ヒステリシスコンパレータ12は、第1の積分回路8によって生成された中間信号V3に基づき伝達信号Voutを再生する。また、ヒステリシスコンパレータ12を有する半導体装置の詳細なブロック図を図12に示す。図12に示すようにヒステリシスコンパレータ12は、一方の入力端子(正転入力端子)が第1の積分回路8の出力端子に接続され、他方の入力端子(反転入力端子)が二次側コイルL2の他端に接続され、一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じて伝達信号Voutの論理レベルを切り替える。
続いて、実施の形態3にかかる半導体装置の動作について説明する。図13に本実施の形態にかかる半導体装置の動作を示すタイミングチャートを示す。図13に示すように、伝達信号V1がロウレベルからハイレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が増加する。そして、電流i1の増加に応じて受信信号V2として正のパルスと負のパルスが生成される。第1の積分回路8は、この正のパルス及び負のパルスに対して一階積分を行うことで中間信号V3として正のパルスを生成する。そして、ヒステリシスコンパレータ12は、中間信号V3の信号レベルが正側に所定値(閾値)以上になった時点で伝達信号Voutをロウレベルからハイレベルに遷移させる。
また、伝達信号V1がハイレベルからロウレベルに遷移すると、当該遷移に応じて一次側コイルL1に流れる電流i1が減少する。そして、電流i1の減少に応じて受信信号V2として負のパルスと正のパルスが生成される。第1の積分回路8は、負のパルス及び正のパルスに対して一階積分を行うことで中間信号V3として負のパルスを生成する。そして、ヒステリシスコンパレータ12は、中間信号V3の信号レベルが負側に所定値(閾値)以上になった時点で伝達信号Voutをハイレベルからロウレベルに遷移させる。
このように、中間信号V3が伝達信号V1の一階微分に比例する場合、当該中間信号V3を受信する受信回路4としてヒステリシスコンパレータを用いることも可能である。また、実施の形態1では、積分回路に入力される受信信号V2が伝達信号V1の一階微分に比例するため、積分回路をそのままヒステリシスコンパレータ12に置き換えることも可能である。
ここで、上記実施の形態にかかる半導体装置の応用例について説明する。本発明にかかる半導体装置の応用例を示すブロック図を図14〜図17に示す。図14は、内部回路5としてゲートドライバを用い、送信回路としてMCU20を用いるものである。MCU20は、ゲートドライバが駆動するパワートランジスタQ1のための制御信号をシングルエンド信号として出力する。そして、半導体装置は、オンチップトランスフォーマと受信回路4を用いて当該制御信号を受信し、ゲートドライバによりパワートランジスタQ1を駆動する。そして、パワートランジスタは、コレクタと電源HVDDとの間に接続された負荷30を駆動する。また、MCU20は、電源VDD及び接地電源VSSに基づき動作するが、半導体装置は電源HVDD及び接地電源GNDに基づき動作する。
図15は、内部回路5としてゲートドライバを用い、送信回路としてMCU21を用いるものである。MCU21は、ゲートドライバが駆動するパワートランジスタQ1のための制御信号を差動信号として出力する。そして、半導体装置は、オンチップトランスフォーマと受信回路4を用いて当該制御信号を受信し、ゲートドライバによりパワートランジスタQ1を駆動する。そして、パワートランジスタは、コレクタと電源HVDDとの間に接続された負荷30を駆動する。また、MCU20は、電源VDD及び接地電源VSSに基づき動作するが、半導体装置は電源HVDD及び接地電源GNDに基づき動作する。
図16は、内部回路5としてMCUを用い、送信回路としてセンサ22を用いるものである。センサ22は、例えば、温度センサ、角速度センサなどであり、検出対象に応じた検出信号を出力する。そして、半導体装置は、オンチップトランスフォーマと受信回路4を用いて当該検出信号を受信し、MCUにより各種信号処理を行う。また、センサ22は、電源VDD及び接地電源VSSに基づき動作するが、半導体装置は電源LVDD及び接地電源GNDに基づき動作する。
図17は、内部回路5としてバッファ回路を用い、送信回路としてMCU20を用いるものである。MCU20は、図示しない制御対象回路のための制御信号をシングルエンド信号として出力する。そして、半導体装置は、オンチップトランスフォーマと受信回路4を用いて当該検出信号を受信し、バッファ回路を介して受信回路4が再生した制御信号RxOUTを他の回路に出力する。また、MCU20は、電源VDD及び接地電源VSSに基づき動作するが、半導体装置は電源LVDD及び接地電源GNDに基づき動作する。
このように、本発明にかかる半導体装置を用いることで、異なる電源電圧に基づき動作する送信回路から出力される信号をオンチップトランスフォーマを備える1チップ構成の半導体装置で受信し、各種制御又は信号処理を行うことが可能になる。また、本発明では、交流結合素子としてオンチップトランスフォーマを備えることで、コモンモード電圧の異なる信号や、扱うことができる信号振幅の異なる回路間での信号の送受信を可能とする。さらに、オンチップトランスフォーマにより信号振幅の変換が可能であるために、受信回路側から入力されるサージ電流や静電気による半導体装置の内部回路の破壊を防ぐことが可能になる。
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。例えば、オンチップトランスフォーマに代えて送信回路と受信回路との間に接続されるコンデンサを用いることも可能である。
1 半導体パッケージ
2 外部端子
3 半導体チップ
4 受信回路
5 内部回路
6 交流結合素子
7、10、11 トランスコンダクタンス増幅器
8、9 積分回路
9 積分回路
12 ヒステリシスコンパレータ
20、21 MCU
22 センサ
30 負荷
C、Co1、Co2 コンデンサ
L1 一次側コイル
L2 二次側コイル

Claims (8)

  1. 入力される伝達信号の電流変化に応じて電圧が変化する受信信号を生成する交流結合素子と、
    前記伝達信号から前記受信信号への微分階数に応じた数の積分演算を行い、前記受信信号から前記伝達信号を再生する受信回路と、有し、
    前記交流結合素子は、
    第1の入力端子に一端が接続され、第2の入力端子に他端が接続される一次側コイルと、
    前記受信回路に少なくとも一端が接続される二次側コイルと、
    前記一次側コイルの前記他端と前記第2の入力端子との間に接続される直流遮断用コンデンサと、有し、
    前記受信回路は、前記受信信号に対して一階積分を行った中間信号を生成する第1の積分回路と、前記中間信号に対してさらに一階積分を行って前記伝達信号を再生する第2の積分回路と、を有する半導体装置。
  2. 前記一次側コイルは、前記他端と前記第2の入力端子との間に終端抵抗が接続される請求項に記載の半導体装置。
  3. 前記一次側コイルは、半導体チップの表面に最も近い最上層配線に形成され、前記二次側コイルは、前記最上層配線の下層位置する配線層に形成される請求項又はに記載の半導体装置。
  4. 前記直流遮断用コンデンサは、半導体チップの表面に最も近い最上層配線に形成される配線により形成される第1の電極と第2の電極と、を有し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に形成される層間絶縁膜を誘電膜とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記第1の積分回路は、一方の入力端子が前記二次側コイルの前記一端に接続され、他方の入力端子が前記二次側コイルの他端に接続され、前記一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じた電流を出力するトランスコンダクタンス増幅器と、前記トランスコンダクタンス増幅器の出力に一端が接続され、他端が前記二次側コイルの前記他端に接続されるコンデンサとを有する請求項に記載の半導体装置。
  6. 前記第2の積分回路は、一方の入力端子が前記第1の積分回路の出力端子に接続され、他方の入力端子が前記二次側コイルの他端に接続され、前記一方の入力端子と前記他方の入力端子との間の電圧差に応じた電流を出力するトランスコンダクタンス増幅器と、前記トランスコンダクタンス増幅器の出力に一端が接続され、他端が前記二次側コイルの前記他端に接続されるコンデンサとを有する請求項に記載の半導体装置。
  7. 前記半導体装置は、前記受信回路が再生した前記伝達信号に基づき動作する内部回路を有し、前記内部回路は、前記伝達信号に応じた信号処理を行うマイクロコンピュータ、前記伝達信号に基づき別途設けられるパワートランジスタを駆動するゲートドライバ、又は前記伝達信号を別の回路に伝達するバッファ回路の少なくとも1つを含む請求項1乃至のいずれか1項に記載の半導体装置。
  8. 半導体装置間に設けられ、半導体装置間を交流的に結合するトランスフォーマを有し、前記トランスフォーマが、第1の入力端子に一端が接続され、第2の入力端子に他端が接続される一次側コイルと、一方の半導体装置に設けられた受信回路に少なくとも一端が接続される二次側コイルと、前記一次側コイルの前記他端と前記第2の入力端子との間に接続される直流遮断用コンデンサと、有する半導体装置における信号伝達方法であって、
    前記トランスフォーマにより送信回路から入力される伝達信号の電流変化に応じて電圧が変化する受信信号を前記受信回路側に生成し、
    前記受信回路により前記受信信号に対して一階積分を行った中間信号を生成し、
    前記受信回路により前記中間信号に対してさらに一階積分を行って前記伝達信号を再生する半導体装置の信号伝達方法。
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