JP5488777B2 - トリクロロシランの製造方法およびトリクロロシランの製造装置 - Google Patents
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Description
SiHCl3+H2 → Si+3HCl ・・・(1)
4SiHCl3 → Si+3SiCl4+2H2 ・・・(2)
SiCl4+H2 → SiHCl3+HCl ・・・(3)
SiHCl3 → SiCl2+HCl ・・・(5)
図1に示す製造装置に基づいて、1200℃の反応温度で生成した混合ガスを反応室2から冷却装置22に導入して冷却したときの、冷却装置出口の生成ガス温度とトリクロロシラン転換率の関係を図2に示した。トリクロロシラン転換率は反応室2に導入した原料のテトラクロロシランの導入量(STC量)に対するトリクロロシラン生成量(TCS量)のモル比(TCS量/STC量:%)である。
図1に示す製造装置に基づいて、1200℃の反応温度で生成した混合ガスを反応室2から冷却装置22に導入して冷却したときの、冷却装置出口の生成ガス温度とポリマー生成率の関係を図3に示した。ポリマー生成率は反応室2に導入した原料のテトラクロロシランの導入量(STC量)に対するポリマー生成量(ポリマ量)のモル比(ポリマ量/STC量%)である。
Claims (6)
- テトラクロロシランと水素とからなる原料ガスを反応室内に導入して900℃〜1900℃での転換反応によりトリクロロシランと塩化水素を含む反応生成ガスを生成する転換反応工程と、上記反応室から導出された上記反応生成ガスを300℃〜800℃まで急冷する冷却工程と、冷却された上記反応生成ガスと上記原料ガスとの間で熱交換を行い、該原料ガスを300℃〜800℃に予熱する予熱工程とを備えていることを特徴とするトリクロロシランの製造方法。
- 請求項1に記載するトリクロロシランの製造方法において、1200℃〜1900℃での転換反応により生成した反応生成ガスを300℃〜650℃まで急冷するトリクロロシランの製造方法。
- 請求項1または請求項2に記載するトリクロロシランの製造方法において、予熱した原料ガスを加熱する工程を有し、予熱後に加熱した原料ガスを反応室に導入するトリクロロシランの製造方法。
- テトラクロロシランと水素とからなる原料ガスを内部に導入し900℃〜1900℃での転換反応によりトリクロロシランと塩化水素を含む反応生成ガスを生成する反応室と、上記反応室から導出された上記反応生成ガスを300℃〜800℃にまで急冷する冷却手段と、冷却された上記反応生成ガスと原料ガスとの間で熱交換を行い、該原料ガスを300℃〜800℃に予熱する予熱手段とを備えていることを特徴とするトリクロロシランの製造装置。
- 請求項4に記載するトリクロロシランの製造装置において、1200℃〜1900℃での転換反応により生成した反応生成ガスを300℃〜650℃まで急冷するトリクロロシランの製造装置。
- 請求項4または請求項5に記載するトリクロロシランの製造装置において、予熱した原料ガスを加熱する手段を有し、予熱後に加熱した原料ガスを反応室に導入するトリクロロシランの製造装置。
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