JP5454407B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
(1)基板の有効領域の幅以上の長さに亘って形成された吐出口を有するノズルを基板の表面に沿ってスキャンする手法、
(2)基板を回転させた状態で、長さ寸法が数センチ程度のスリットからなる吐出口を有するノズルから現像液を吐出させながら当該ノズルを基板の周縁部から中央部まで移動させる手法、などが知られてる。
ここで特許文献1には、2つのカップを左右に並べ、これらカップの並びの両側に待機ポットを設け、1つの現像液ノズルにより2つのカップに搬入された基板に対して現像液を供給する装置が記載されている。またこの装置は、各カップごとにリンス用の純水ノズルが回動自在に配置されている。
また特許文献2には、2つのカップの中央にて現像液ノズルを待機させる構成が記載されている。
しかしながら特許文献1、2には、基板の種別(ロット)に応じて薬液の供給手法が異なる場合については何ら考慮されていない。また特許文献1のような構成では、基板の搬入のタイミングによっては、現像液ノズルが静止現像中の基板を跨いで移動するため、現像液ノズルから現像液が当該基板上に垂れて現像欠陥を引き起こす懸念がある。
これら第1の処理領域及び第2の処理領域に対応して夫々個別に設けられ、基板の全面に薬液を供給する第1の個別ノズル及び第2の個別ノズルと、
これら第1の個別ノズル及び第2の個別ノズルを待機位置と各処理領域における薬液吐出位置との間で夫々搬送するための第1の個別ノズル搬送機構及び第2の個別ノズル搬送機構と、
前記基板に薬液を供給するために前記第1の処理領域及び第2の処理領域に対して共通に使用される共有ノズルと、
この共有ノズルを、待機位置と、前記第1の処理領域における薬液吐出位置と、前記第2の処理領域における薬液吐出位置と、の間で搬送するための共有ノズル搬送機構と、を備え、
前記共有ノズルが各処理領域に対して拘束される時間は、前記個別ノズルが各処理領域に対して拘束される時間よりも短いことを特徴とする。
第1の処理領域及び第2の処理領域に一のロットの基板を交互に搬入する工程と、
前記第1の処理領域に対応して個別に設けられた第1の個別ノズルを、待機位置から当該処理領域の上方位置に搬送し、前記一のロットの基板の全面に薬液を供給して処理を行う工程と、
前記第2の処理領域に対応して個別に設けられた第2の個別ノズルを、当該処理領域の上方位置に搬送し、前記一のロットの基板の全面に薬液を供給して処理を行う工程と、
前記第1の処理領域及び第2の処理領域に他のロットの基板を交互に搬入する工程と、
前記第1の処理領域及び第2の処理領域にて共通に使用される共有ノズルを待機位置から第1の処理領域における薬液吐出位置に搬送して、前記他のロットの基板に薬液を供給する工程と、
前記共有ノズルを前記第2の処理領域における薬液吐出位置に搬送して、前記他のロットの基板に薬液を供給する工程と、を含み、
前記共有ノズルが各処理領域に対して拘束される時間は、前記個別ノズルが各処理領域に対して拘束される時間よりも短いことを特徴とする。
各ノズル41、5及び6の待機位置においては、各ノズル41、5及び6の先端部が嵌合され、排液口を備えたノズルバス47、57及び67が設けられている。
ここで液処理装置を含む、塗布、現像装置の一部の構成例を図8に示しておく。この例では、主搬送路301に沿って移動する移動体302を含むウエハ搬送機構303が設けられ、このウエハ搬送機構303は、鉛直軸回りに回転自在、昇降自在及び進退自在に構成されている。そして主搬送路301に沿って4つの液処理モジュール1、2、1’及び2’が一列に配置されている。液処理モジュール1’及び2’は液処理モジュール1、2と同一構成である。また主搬送路301における液処理モジュール1、2、1’及び2’とは反対側には、複数この例では6個の加熱モジュール304が主搬送路301に沿って配置されている。この加熱モジュール304の群は、露光後、現像前のウエハWを加熱する加熱モジュールと、現像後のウエハWを加熱する加熱モジュールとを含んでいる。ウエハ搬送機構303は、液処理モジュール1、2、1’、2’及び加熱モジュール304に対してウエハWの受け渡しを行う。305は他の処理ブロックとウエハWの受け渡しをするための受け渡しステージである。
今、図19は、外部のウエハ搬送機構より前記他のロットの基板であるウエハWが第1の処理モジュール1のスピンチャック11に搬入された状態を示している。ノズル搬送機構43により個別現像ノズル41が待機位置からウエハWの一端側に移動し、スピンチャック11を例えば500rpmで回転させる。当該ノズル41の水平方向の向きは、予めスリット状の吐出口402の長さ方向がウエハWの周縁部と中心部とを結ぶラインに一致するように設定されている。個別現像ノズル4から現像液を吐出しながらその吐出位置をウエハWの周縁から中心部に移動させて帯状に現像液を供給し、渦巻状に現像液の液盛を行う。この処理の様子は、図24に示されており、また図20は個別現像ノズル41がウエハWの中心部上に到達している状態を示している。
現像方式としては、上述の方式に限られず、例えば共有現像ノズル5をウエハWの表面に近い位置例えば1mm程度離れた位置であってかつウエハWの直径上に設定し、現像液を吐出させながらウエハWを180度回転させて液盛を行う方式であってもよい。
D 現像液
1 第1の液処理モジュール
2 第2の液処理モジュール
3 筐体
41 個別現像ノズル
5 共有現像ノズル
6 洗浄ノズル
7 制御部
10、20 カップ体
11 スピンチャック
42、52、62 ノズルアーム
43、53、63 ノズル搬送機構
44、54、64 ガイド部材
45、55、65 配管
46、56 現像液供給系
66 洗浄液供給系
47、57、67 バス
Claims (10)
- 各々基板を水平に配置してノズルからの薬液により処理を行うために互いに横方向に配置された第1の処理領域及び第2の処理領域と、
これら第1の処理領域及び第2の処理領域に対応して夫々個別に設けられ、基板の全面に薬液を供給する第1の個別ノズル及び第2の個別ノズルと、
これら第1の個別ノズル及び第2の個別ノズルを待機位置と各処理領域における薬液吐出位置との間で夫々搬送するための第1の個別ノズル搬送機構及び第2の個別ノズル搬送機構と、
前記基板に薬液を供給するために前記第1の処理領域及び第2の処理領域に対して共通に使用される共有ノズルと、
この共有ノズルを、待機位置と、前記第1の処理領域における薬液吐出位置と、前記第2の処理領域における薬液吐出位置と、の間で搬送するための共有ノズル搬送機構と、を備え、
前記共有ノズルが各処理領域に対して拘束される時間は、前記個別ノズルが各処理領域に対して拘束される時間よりも短いことを特徴とする液処理装置。 - 前記共有ノズルの待機位置は、平面的に見て前記第1の処理領域及び第2の処理領域の間に設けられていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 共有ノズル及び個別ノズルから吐出される薬液は、現像液であり、
現像液を供給する手法が共有ノズル及び個別ノズルの間で異なることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。 - 共有ノズルは、基板の幅をカバーする長さに亘って形成された吐出口を備え、
基板の一端から他端に亘って移動させながら前記吐出口から現像液を基板に供給するノズルであることを特徴とする請求項3記載の液処理装置。 - 前記個別ノズルは、基板を回転させながら基板の周縁から中心部に薬液の吐出位置を移動させ、その後基板の中心部に薬液を供給するためのノズルであることを特徴とする請求項3または4記載の液処理装置。
- 前記共有ノズルとして、互に異なる種類の薬液を吐出する複数の共有ノズルを備えていることを特徴とする1ないし5のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記共有ノズル、第1の個別ノズル及び第2の個別ノズルは、第1の処理領域及び第2の処理領域の並び方向に沿って移動できるように構成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 各々基板を水平に配置してノズルからの薬液により処理を行うために左右に配置された第1の処理領域及び第2の処理領域を備えた液処理装置において、
第1の処理領域及び第2の処理領域に一のロットの基板を交互に搬入する工程と、
前記第1の処理領域に対応して個別に設けられた第1の個別ノズルを、待機位置から当該処理領域の上方位置に搬送し、前記一のロットの基板の全面に薬液を供給して処理を行う工程と、
前記第2の処理領域に対応して個別に設けられた第2の個別ノズルを、当該処理領域の上方位置に搬送し、前記一のロットの基板の全面に薬液を供給して処理を行う工程と、
前記第1の処理領域及び第2の処理領域に他のロットの基板を交互に搬入する工程と、
前記第1の処理領域及び第2の処理領域にて共通に使用される共有ノズルを待機位置から第1の処理領域における薬液吐出位置に搬送して、前記他のロットの基板に薬液を供給する工程と、
前記共有ノズルを前記第2の処理領域における薬液吐出位置に搬送して、前記他のロットの基板に薬液を供給する工程と、を含み、
前記共有ノズルが各処理領域に対して拘束される時間は、前記個別ノズルが各処理領域に対して拘束される時間よりも短いことを特徴とする液処理方法。 - 前記共有ノズルの待機位置は、平面的に見て前記第1の処理領域及び第2の処理領域の間に設けられていることを特徴とする請求項8記載の液処理方法。
- 共有ノズル及び個別ノズルから吐出される薬液は現像液であり、
現像液を供給する手法が共有ノズル及び個別ノズルの間で異なることを特徴とする請求項8または9記載の液処理方法。
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